JPH11203877A - Semiconductor integrated circuit and design method thereof - Google Patents
Semiconductor integrated circuit and design method thereofInfo
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- JPH11203877A JPH11203877A JP749598A JP749598A JPH11203877A JP H11203877 A JPH11203877 A JP H11203877A JP 749598 A JP749598 A JP 749598A JP 749598 A JP749598 A JP 749598A JP H11203877 A JPH11203877 A JP H11203877A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 特別なチューニング処理を施す事なくワード
線選択タイミングに対するセンスアンプ活性化タイミン
グを最適化する。
【解決手段】 選択タイミングがワード線選択タイミン
グに同期されるダミーメモリセル(110)を有し、メ
モリセルからのデータ読み出し動作に同期するデータ線
のレベル変化タイミングをダミーデータ線(DBL)上
で模擬する。位相比較回路(130)は、ダミーメモリ
セルの選択動作を介してダミーデータ線に与えられる変
化と、センスアンプ活性化信号(VDL)の変化との位
相差に応じて、カウンタ(95)にアップカウント又は
ダウンカウントを指示し、そのカウント値を受ける可変
遅延回路(94)は前記位相差を相殺するようにセンス
アンプ活性化信号による活性化タイミングの時期をずら
すように制御する。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To optimize a sense amplifier activation timing with respect to a word line selection timing without performing a special tuning process. SOLUTION: A dummy memory cell (110) whose selection timing is synchronized with a word line selection timing, and a level change timing of a data line synchronized with a data read operation from the memory cell is set on a dummy data line (DBL). Simulate. The phase comparison circuit (130) increases the value of the counter (95) according to the phase difference between the change applied to the dummy data line through the operation of selecting the dummy memory cell and the change in the sense amplifier activation signal (VDL). A variable delay circuit (94) for instructing a count or a down count and receiving the count value controls the activation timing by the sense amplifier activation signal to be shifted so as to cancel the phase difference.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、メモリを含む半導
体集積回路、さらには、メモリセルからのデータ読み出
し動作に同期するデータ線のレベル変化タイミングに対
するセンスアンプ活性化タイミングを最適化する技術に
関し、例えばSRAM(Static Random Access Memor
y:スタティック・ランダム・アクセスメモリ)や、S
RAMから成るキャッシュメモリを含むマイクロコンピ
ュータなどのデータ処理装置に適用して有効な技術に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit including a memory, and more particularly to a technique for optimizing a sense amplifier activation timing with respect to a data line level change timing synchronized with a data read operation from a memory cell. For example, SRAM (Static Random Access Memor)
y: static random access memory) or S
The present invention relates to a technology effective when applied to a data processing device such as a microcomputer including a cache memory composed of a RAM.
【0002】[0002]
【従来の技術】SRAMにおいて、相補データ線(ビッ
ト線)は、データ読み出し開始前に、例えば電源電圧近
傍の電圧にプリチャージされている。ワード線が選択レ
ベルにされると、それに選択端子が結合されたメモリセ
ルの記憶情報に従って相補データ線の電圧が相補的に変
化される。これによって得られる相補データ線の電位差
がセンスアンプで検出され且つ増幅されて、読み出しデ
ータの論理値が確定される。このとき、センスアンプの
活性化タイミングは、メモリセルの記憶情報に従って相
補データ線が相補的に変化を開始した直後が最適であ
る。それよりもセンスアンプの活性化タイミングが早け
れば、センスアンプは一旦誤ったデータを出力する事に
もなり、読み出しデータの論理値確定が不所望に遅れ、
そのタイミングのずれが著しい場合には、マイクロプロ
セッサ等によるデータアクセスに誤動作を生ずる虞が有
る。逆に、遅過ぎれば、センスアンプの動作が毎回遅
れ、これに従ってデータの高速読み出しを実現すること
ができない。2. Description of the Related Art In an SRAM, a complementary data line (bit line) is precharged to a voltage near a power supply voltage before data reading is started. When the word line is set to the selection level, the voltage of the complementary data line is complementarily changed according to the storage information of the memory cell to which the selection terminal is coupled. The potential difference between the complementary data lines thus obtained is detected and amplified by the sense amplifier, and the logical value of the read data is determined. At this time, the timing for activating the sense amplifier is optimal immediately after the complementary data line starts changing complementarily according to the storage information of the memory cell. If the activation timing of the sense amplifier is earlier than that, the sense amplifier may output erroneous data once, and the logical value determination of the read data is undesirably delayed,
If the timing shift is remarkable, a malfunction may occur in data access by a microprocessor or the like. On the contrary, if it is too late, the operation of the sense amplifier is delayed every time, and accordingly, high-speed reading of data cannot be realized.
【0003】ワード線選択から相補データ線のレベル変
化に至る動作遅延時間は、相補ビット線の負荷若しくは
メモリセルアレイの規模に影響される。従って、SRA
Mの記憶容量を変えて品種展開する場合、メモリセルア
レイの規模に応じて、タイミング発生回路によるセンス
アンプ活性化タイミング等をチューニングし、或いは、
記憶容量が大きな場合にも適用できるように、ワード線
選択タイミングに対してセンスアンプ活性化タイミング
に冗長なマージンを予め確保することができる。An operation delay time from a word line selection to a level change of a complementary data line is affected by a load on a complementary bit line or a scale of a memory cell array. Therefore, SRA
When the product type is developed by changing the storage capacity of M, the timing for activating the sense amplifier by the timing generation circuit is tuned according to the scale of the memory cell array, or
A redundant margin can be secured in advance at the sense amplifier activation timing with respect to the word line selection timing so that the present invention can be applied even when the storage capacity is large.
【0004】尚、SRAMについて記載された文献の例
としては昭和59年11月30日株式会社オーム社発行
の「LSIハンドブック」第500頁〜第505頁があ
る。As an example of a document describing SRAM, there is “LSI Handbook”, pages 500 to 505, issued by Ohm Co., Ltd. on November 30, 1984.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、記憶容
量を相違させてメモリを品種展開するとき、個々のメモ
リ毎にタイミング発生回路によるセンスアンプ活性化タ
イミング等をチューニングする場合には、ユーザの要求
仕様に即座に答えることができない。それに対し、ワー
ド線選択タイミングに対してセンスアンプ活性化タイミ
ングに冗長なマージンを予め確保することで対処しよう
とすれば、本来高速アクセス可能な記憶容量の小さな品
種に対しても高速アクセスが犠牲になってしまう。However, when memory types are developed with different storage capacities, when tuning the sense amplifier activation timing or the like by a timing generation circuit for each individual memory, the specification required by the user is required. Cannot be answered immediately. On the other hand, if an attempt is made to secure a redundant margin in advance to the sense amplifier activation timing with respect to the word line selection timing, high speed access is sacrificed even for a product having a small storage capacity that can be accessed at high speed. turn into.
【0006】本発明の目的は、タイミング発生回路によ
るセンスアンプ活性化タイミング等をチューニングする
ことなくワード線選択タイミングに対するセンスアンプ
活性化タイミングを最適化できる半導体集積回路を提供
することにある。An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit which can optimize the sense amplifier activation timing with respect to the word line selection timing without tuning the sense amplifier activation timing or the like by the timing generation circuit.
【0007】本発明の別の目的は、ワード線選択タイミ
ングに対してセンスアンプ活性化タイミングに冗長なマ
ージンを予め確保することなく、ワード線選択タイミン
グに対するセンスアンプ活性化タイミングを最適化でき
る半導体集積回路を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of optimizing a sense amplifier activation timing with respect to a word line selection timing without previously securing a redundant margin for a sense amplifier activation timing with respect to a word line selection timing. It is to provide a circuit.
【0008】本発明の他の目的は、ワード線選択タイミ
ングに対するセンスアンプ活性化タイミングをメモリセ
ルアレイの回路規模に依存して最適化する事が容易な半
導体集積回路の設計方法を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a method of designing a semiconductor integrated circuit which can easily optimize a sense amplifier activation timing with respect to a word line selection timing depending on a circuit size of a memory cell array. .
【0009】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application.
【0011】〔1〕半導体集積回路は1個の半導体基板
にメモリ(1)を含む。このメモリは、選択端子がワー
ド線(WL)に接続されると共にデータ端子がデータ線
(BL,BLb)に接続された複数個のメモリセル
(5)を有するメモリセルアレイと、前記メモリセルア
レイのワード線を駆動するワードドライバ回路(3u)
と、前記メモリセルアレイのデータ線を選択するカラム
スイッチ回路(6)と、前記カラムスイッチ回路で選択
されたデータ線のデータを増幅するセンスアンプ回路
(7)と、それぞれクロック信号(CLK)に同期する
ワード線選択用クロック信号(φ1)とセンスアンプ活
性化用クロック信号(φ3)を生成するタイミング発生
回路(93)とを含む。更にこのメモリは、選択タイミ
ングが前記ワード線選択タイミングに同期されるダミー
メモリセル(110)を有し前記メモリセルからのデー
タ読み出し動作に同期する前記データ線のレベル変化タ
イミングを前記ダミーメモリセルが接続されるダミーデ
ータ線(DBL,DBLb)上で模擬するダミーメモリ
セルアレイと、前記ワード線選択用クロック信号を入力
して前記ダミーメモリセルの選択信号(123)を形成
するダミーメモリセル選択回路(12u)と、前記ワー
ド線選択タイミングに対するセンスアンプ活性化の目標
タイミングを補償するタイミング補償回路(94,9
5,130)とを有する。前記タイミング補償回路は、
前記センスアンプ活性化用クロック信号を入力してセン
スアンプ活性化信号(VDL)を形成する可変遅延回路
(94)を有する。該可変遅延回路は、前記ダミーデー
タ線(DBL)上で模擬されるレベル変化タイミングに
対する前記センスアンプ活性化信号(VDL)の早遅に
基づいて前記センスアンプ活性化用クロック信号(φ
3)に対する前記センスアンプ活性化信号(VDL)の
遅延時間を可変とする。[1] A semiconductor integrated circuit includes a memory (1) on one semiconductor substrate. This memory includes a memory cell array having a plurality of memory cells (5) each having a selection terminal connected to a word line (WL) and a data terminal connected to a data line (BL, BLb), and a word in the memory cell array. Word driver circuit for driving lines (3u)
A column switch circuit (6) for selecting a data line of the memory cell array; a sense amplifier circuit (7) for amplifying data on a data line selected by the column switch circuit; and a clock signal (CLK), respectively. And a timing generation circuit (93) for generating a sense amplifier activation clock signal (φ3). Further, this memory has a dummy memory cell (110) whose selection timing is synchronized with the word line selection timing, and the dummy memory cell determines a level change timing of the data line which is synchronized with a data read operation from the memory cell. A dummy memory cell array simulating on the connected dummy data lines (DBL, DBLb), and a dummy memory cell selection circuit () for receiving the word line selection clock signal and forming the dummy memory cell selection signal (123). 12u) and a timing compensating circuit (94, 9) for compensating the target timing of the sense amplifier activation with respect to the word line selection timing.
5,130). The timing compensation circuit includes:
A variable delay circuit (94) for receiving the sense amplifier activation clock signal and forming a sense amplifier activation signal (VDL); The variable delay circuit is configured to control the sense amplifier activation clock signal (φ) based on early or late of the sense amplifier activation signal (VDL) with respect to a level change timing simulated on the dummy data line (DBL).
The delay time of the sense amplifier activation signal (VDL) with respect to 3) is made variable.
【0012】上記より、ワード線選択動作によるデータ
線の変化をダミーデータ線の変化によって模擬する事
で、センスアンプ活性化タイミングを決定するから、ク
ロック信号(CLK)の周波数、デバイスプロセス上の
ばらつき等に影響されずに、センスアンプ活性化タイミ
ングを最適化することができる。したがって、誤動作を
防止でき、さらに、センスアンプ活性化タイミングに対
して過大なタイミングマージンを見込まなくてもよい。
従って、メモリ全体としてアクセス動作の高速化を達成
できる。As described above, the change of the data line due to the word line selection operation is simulated by the change of the dummy data line to determine the sense amplifier activation timing. Therefore, the frequency of the clock signal (CLK) and the variation in the device process are varied. The timing for activating the sense amplifier can be optimized without being affected by the above. Therefore, a malfunction can be prevented, and an excessive timing margin for the sense amplifier activation timing need not be expected.
Therefore, the speed of the access operation can be increased in the entire memory.
【0013】〔2〕前記タイミング補償回路は、前記セ
ンスアンプ活性化タイミングと前記ダミーデータ線上で
模擬されるレベル変化タイミングとの早遅を検出する位
相比較回路(130)と、前記位相比較回路の比較結果
に従ってアップ/ダウンカウントを行うカウンタ(9
5)とを更に有し、前記可変遅延回路(94)は、前記
カウンタの計数値の大小に応じて前記センスアンプ活性
化信号(VDL)の遅延時間を可変とするように構成で
きる。位相比較回路は、ダミーメモリセルの選択動作を
介してダミーデータ線に与えられる変化と、センスアン
プ活性化信号の変化との位相差に応じて、カウンタにア
ップカウント又はダウンカウントを指示し、そのカウン
ト値を受ける可変遅延回路は前記位相差を相殺するよう
にセンスアンプ活性化信号による活性化タイミングの時
期をずらすように制御する。このように、可変遅延回
路、位相比較回路、及びカウンタは負帰還ループを構成
しており、上記位相差相殺動作をトレーニング動作とし
てを行なう事によって、センスアンプ活性化信号の変化
とダミーデータ線の変化との位相をほぼ揃えて安定化さ
せることができる。そのようなトレーニング動作はメモ
リにクロック信号を投入した直後に行なえば十分であ
る。[2] The timing compensating circuit includes: a phase comparing circuit (130) for detecting early or late between the sense amplifier activating timing and a level change timing simulated on the dummy data line; Counter (9) that counts up / down according to the comparison result
5), and the variable delay circuit (94) can be configured to make the delay time of the sense amplifier activation signal (VDL) variable according to the magnitude of the count value of the counter. The phase comparison circuit instructs the counter to up-count or down-count in accordance with the phase difference between the change applied to the dummy data line through the operation of selecting the dummy memory cell and the change in the sense amplifier activation signal. The variable delay circuit receiving the count value controls so as to shift the timing of the activation timing by the sense amplifier activation signal so as to cancel the phase difference. As described above, the variable delay circuit, the phase comparison circuit, and the counter form a negative feedback loop. By performing the phase difference canceling operation as a training operation, the change in the sense amplifier activation signal and the dummy data line The phase with the change can be almost aligned and stabilized. It is sufficient that such a training operation be performed immediately after the clock signal is supplied to the memory.
【0014】〔3〕前記半導体集積回路はメモリ単体の
LSI(Large Scale Integrated Circuits)であって
もよい。また、前記メモリと共に、命令を実行する中央
処理装置(202)を含んだマイクロコンピュータ又は
マイクロプロセッサのような論理LSI(201)であ
ってもよい。このとき、前記中央処理装置が前記メモリ
をアドレシングするためのアドレス信号を生成する。[3] The semiconductor integrated circuit may be an LSI (Large Scale Integrated Circuits) composed of a single memory. In addition, the memory may be a logic LSI (201) such as a microcomputer or a microprocessor including a central processing unit (202) for executing an instruction. At this time, the central processing unit generates an address signal for addressing the memory.
【0015】〔4〕前記タイミング発生回路に対してダ
ミーメモリセル選択回路をワードドライバ回路よりもY
方向遠端に配置し、前記ダミーメモリセル選択回路から
出力されるダミーワード線選択信号を受けるダミーメモ
リセルをタイミング発生回路に対してメモリセルアレイ
よりもY方向及びX方向遠端に配置し、前記位相比較回
路をタイミング発生回路に対してセンスアンプ回路より
もX方向遠端に配置することができる。したがって、ワ
ード線選択用クロック信号(φ1)及びセンスアンプ活
性化信号(VDL)を生成するためのタイミング発生回
路(93)を起点に、ダミーワード線選択からダミーデ
ータ線に変化が現れるまでの動作遅延時間と、センスア
ンプ活性化信号(VDL)が伝達経路最遠端に伝達され
るまでの動作遅延時間とは、記憶容量に応じたレイアウ
ト構成毎に、常に最大とされるようになる。よって、セ
ンスアンプ活性化タイミングは、メモリの記憶容量若し
くはレイアウト構成に従って、自動的に最適化される。
センスアンプ活性化タイミングに関し、設計上の個別的
なチューニング処理を要しない。[4] For the timing generation circuit, the dummy memory cell selection circuit is more Y than the word driver circuit.
A dummy memory cell disposed at a far end in the direction, and receiving a dummy word line selection signal output from the dummy memory cell selection circuit, disposed at a far end in the Y and X directions relative to the memory cell array with respect to the timing generation circuit; The phase comparison circuit can be arranged farther in the X direction than the sense amplifier circuit with respect to the timing generation circuit. Therefore, starting from the timing generation circuit (93) for generating the word line selection clock signal (φ1) and the sense amplifier activation signal (VDL), the operation from the dummy word line selection to the change in the dummy data line appears. The delay time and the operation delay time until the sense amplifier activation signal (VDL) is transmitted to the farthest end of the transmission path are always maximized for each layout configuration according to the storage capacity. Therefore, the sense amplifier activation timing is automatically optimized according to the storage capacity of the memory or the layout configuration.
Regarding the sense amplifier activation timing, there is no need for individual tuning processing in design.
【0016】〔5〕所望とする記憶容量に応じて上記
〔4〕の構成を持つメモリの品種展開をするための設計
方法では、前記メモリの記憶容量とデータ入出力ビット
数とを決定する第1処理と、前記第1処理で決定された
記憶容量及びデータ入出力ビット数を満足させて、前記
メモリセルアレイを構成するためのメモリセルアレイ単
位ユニットと、前記ワードドライバ回路を構成するため
のワードドライバ回路単位ユニットと、前記カラムスイ
ッチ回路及び前記センスアンプ回路を構成するためのカ
ラム単位ユニットと、前記ダミーメモリセルアレイを構
成するためのダミーメモリセルアレイ単位ユニットとの
レイアウトを決定する第2処理と、を含む。前記〔4〕
で説明したレイアウト規則を満足する事により、記憶容
量に応じてメモリの品種展開を行なう場合にも、夫々異
なる記憶容量で展開されたメモリにおけるセンスアンプ
活性化タイミングを最適に規定できる。このとき、前述
の通り、遅延時間を最適化するために設計上特別なチュ
ーニングを要しない。自動的に最適化されるから、記憶
容量に応じて品種展開される半導体集積回路の設計期間
の短縮に寄与できる。[5] In the design method for developing the type of memory having the configuration of [4] in accordance with the desired storage capacity, the design method for determining the storage capacity of the memory and the number of data input / output bits is as follows. 1 process, a memory cell array unit for configuring the memory cell array by satisfying the storage capacity and the number of data input / output bits determined in the first process, and a word driver for configuring the word driver circuit A second process of determining a layout of a circuit unit, a column unit for configuring the column switch circuit and the sense amplifier circuit, and a dummy memory cell array unit for configuring the dummy memory cell array. Including. The above [4]
By satisfying the layout rules described in (1), the sense amplifier activation timing in the memories developed with different storage capacities can be optimally defined even when the memory type is developed according to the storage capacities. At this time, as described above, no special tuning is required in design to optimize the delay time. Since the optimization is automatically performed, it is possible to contribute to shortening the design period of a semiconductor integrated circuit that is developed in accordance with the storage capacity.
【0017】〔6〕既に設計された、メモリセルアレイ
単位ユニット、ワードドライバ回路単位ユニット、カラ
ム単位ユニット、及びダミーメモリセルアレイ単位ユニ
ットの設計データを用いて前記第2処理を行うことがで
きる。[6] The second processing can be performed using the design data of the memory cell array unit, word driver circuit unit, column unit, and dummy memory cell array unit already designed.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】《SRAM》図1には本発明の一
例に係るSRAMのブロック図が示される。同図に示さ
れるSRAM1は、特に制限されないが、CMOS集積
回路製造技術によって単結晶シリコンのような1個の半
導体基板に形成されている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS << SRAM >> FIG. 1 shows a block diagram of an SRAM according to an example of the present invention. Although not particularly limited, the SRAM 1 shown in FIG. 1 is formed on one semiconductor substrate such as single crystal silicon by a CMOS integrated circuit manufacturing technique.
【0019】同図に示されるSRAM1は、記憶容量を
増減する品種展開が容易な回路構成を採用してある。換
言すれば、そのような品種展開を容易化する設計方法に
よって設計されている。The SRAM 1 shown in FIG. 1 employs a circuit configuration for increasing or decreasing the storage capacity and easy to develop. In other words, it is designed by a design method that facilitates such kind development.
【0020】同図に示されるSRAM1は、メモリセル
アレイを構成するためのメモリセルアレイ単位ユニット
2u、ワードドライバ回路を構成するためのワードドラ
イバ回路単位ユニット3u、及びカラムスイッチ回路及
びセンスアンプ回路を構成するためのカラム単位ユニッ
ト4uを、メモリセルアレイの回路規模を決定するため
の設計単位として、設計されたものである。The SRAM 1 shown in FIG. 1 forms a memory cell array unit 2u for forming a memory cell array, a word driver circuit unit 3u for forming a word driver circuit, a column switch circuit and a sense amplifier circuit. Is designed as a design unit for determining the circuit scale of the memory cell array.
【0021】前記メモリセルアレイ単位ユニット2uは
マトリクス配置されたメモリセル(MC)5と、メモリ
セルの選択端子に接続されたワード線WLとメモリセル
のデータ入出力端子に接続された相補データ線BL、B
Lbとを有して構成される。図1に示されるワード線
は、特に制限されないが、主副ワード線構造を有し、メ
モリセルの選択端子はポリシリコンから成るサブワード
線に接続され、複数本のサブワード線はアルミニウム配
線から成るメインワード線に接続されている。相補デー
タ線BL,BLbは代表的に一対が図示されているが実
際には、予め決められた一定数だけ設けられている。The memory cell array unit 2u includes memory cells (MC) 5 arranged in a matrix, word lines WL connected to select terminals of the memory cells, and complementary data lines BL connected to data input / output terminals of the memory cells. , B
Lb. Although the word line shown in FIG. 1 is not particularly limited, it has a main / sub word line structure, a selection terminal of a memory cell is connected to a sub word line made of polysilicon, and a plurality of sub word lines are made of a main line made of aluminum wiring. Connected to word line. Although a pair of the complementary data lines BL and BLb is shown as a representative, actually, a predetermined number of the data lines are provided.
【0022】前記カラム単位ユニット4uは相補データ
線BL、BLbを選択的に相補共通データ線CD、CD
bに導通させるカラムスイッチ回路6と、相補共通デー
タ線CD,CDbの電位差を検出して増幅するセンスア
ンプ回路7と、センスアンプ回路7の出力を外部に出力
する出力バッファ回路8とを有する。The column unit 4u selectively connects the complementary data lines BL and BLb to the complementary common data lines CD and CD.
b, a sense amplifier circuit 7 for detecting and amplifying the potential difference between the complementary common data lines CD and CDb, and an output buffer circuit 8 for outputting the output of the sense amplifier circuit 7 to the outside.
【0023】前記ワードドライバ回路単位ユニット3u
は、一つのメモリセルアレイ単位ユニット2uのワード
線の数に対応する数のワードドライバを有する。ワード
ドライバは、直列2段の駆動用インバータ30,31
と、ゲート電極が入力端子P1に共通接続されたpチャ
ンネル型MOSトランジスタQp1及びnチャンネル型
MOSトランジスタQn2を有する。MOSトランジス
タQp1は初段インバータ30の入力と電源端子Vdd
との間に配置され、MOSトランジスタQn2は入力端
子P2と前記初段インバータ30の入力との間に配置さ
れている。前記MOSトランジスタQp1,Qn2はワ
ード線選択用のデコード論理の一部を構成し、前記入力
端子P1,P2には後述するプリデコード信号が供給さ
れる。尚、本明細書で参照する図面において、pチャン
ネル型MOSトランジスタにはその基体ゲートに矢印を
付してnチャンネル型MOSトランジスタと区別してい
る。The word driver circuit unit 3u
Have a number of word drivers corresponding to the number of word lines of one memory cell array unit 2u. The word driver is a series of two-stage drive inverters 30, 31
And a p-channel MOS transistor Qp1 and an n-channel MOS transistor Qn2 whose gate electrodes are commonly connected to the input terminal P1. The MOS transistor Qp1 is connected between the input of the first-stage inverter 30 and the power supply terminal Vdd.
, And the MOS transistor Qn2 is arranged between the input terminal P2 and the input of the first-stage inverter 30. The MOS transistors Qp1 and Qn2 constitute a part of decode logic for selecting a word line, and a predecode signal described later is supplied to the input terminals P1 and P2. In the drawings referred to in this specification, the p-channel MOS transistor is distinguished from the n-channel MOS transistor by adding an arrow to the base gate thereof.
【0024】SRAM1は、それ必要なメモリセルアレ
イの規模(記憶容量)に従って前記メモリセルアレイ単
位ユニット2uの行方向への配置数と列方向への配置数
とが決定される。ワードドライバ回路単位ユニット3u
の数は、前記メモリセルアレイ単位ユニット2uの配置
行数に応じた数とされる。前記カラム単位ユニット4u
は、前記メモリセルアレイ単位ユニット2uの配置列数
に応じた数とされる。In the SRAM 1, the number of the memory cell array unit 2u arranged in the row direction and the number of the memory cell array unit 2u arranged in the column direction are determined in accordance with the required scale (storage capacity) of the memory cell array. Word driver circuit unit 3u
Is a number corresponding to the number of arranged rows of the memory cell array unit 2u. The column unit 4u
Is a number corresponding to the number of arranged columns of the memory cell array unit 2u.
【0025】制御ユニット9uは、アドレスバッファ9
0、ロウプリデコーダ91、カラムデコーダ92、タイ
ミングジェネレータ93、可変遅延回路94、及びカウ
ンタ95を有する。The control unit 9u includes an address buffer 9
0, a row predecoder 91, a column decoder 92, a timing generator 93, a variable delay circuit 94, and a counter 95.
【0026】前記タイミングジェネレータ93は外部か
ら供給されるクロック信号CLKに基づいて、ワード線
選択タイミングを決定するクロック信号(ワード線選択
用クロック信号)φ1、カラム選択タイミングを決定す
るクロック信号(カラム選択用クロック信号)及びセン
スアンプの活性化タイミングの生成に利用されるクロッ
ク信号(センスアンプ活性化用クロック信号)φ3を出
力する。タイミングジェネレータ93は、外部から与え
られるクロック信号CLKの変化サイクルに同期して自
動的にクロック信号φ1,φ2,φ3を生成して出力す
る。The timing generator 93 has a clock signal (word line selection clock signal) φ1 for determining a word line selection timing and a clock signal (column selection clock) for determining a column selection timing based on an externally supplied clock signal CLK. Clock signal) and a clock signal (sense amplifier activation clock signal) φ3 used for generating the activation timing of the sense amplifier. Timing generator 93 automatically generates and outputs clock signals φ1, φ2, φ3 in synchronization with a change cycle of clock signal CLK supplied from the outside.
【0027】前記アドレスバッファ90は外部から供給
されるロウアドレス信号10R,カラムアドレス信号1
0Cを内部相補アドレス信号に変換する。前記個々のロ
ウプリデコーダ91は、特に制限されないが、ロウアド
レス信号10Rに対応される2ビットの内部相補アドレ
ス信号に対してノア論理を採って、プリデコード信号を
生成する。ロウプリデコーダ91のデコード動作はクロ
ック信号φ1に同期される。複数個のロウプリデコーダ
91で形成されるプリデコード信号が前記複数個のワー
ドドライバ3uに割り振られて供給され、これによって
ワード線選択動作が行なわれる。The address buffer 90 has a row address signal 10R and a column address signal 1 supplied from outside.
0C is converted to an internal complementary address signal. Each row predecoder 91 generates a predecode signal by taking a NOR logic with respect to a 2-bit internal complementary address signal corresponding to the row address signal 10R, although there is no particular limitation. The decoding operation of row predecoder 91 is synchronized with clock signal φ1. A predecode signal formed by a plurality of row predecoders 91 is allocated to and supplied to the plurality of word drivers 3u, whereby a word line selecting operation is performed.
【0028】前記カラムデコーダ92は、カラムアドレ
ス信号10Cに対応される内部相補アドレス信号をデコ
ードしてカラムスイッチ回路6の選択信号を生成する。The column decoder 92 decodes an internal complementary address signal corresponding to the column address signal 10C to generate a selection signal for the column switch circuit 6.
【0029】可変遅延回路94は前記クロック信号φ3
を入力し、このクロック信号φ3にカウンタ95の6ビ
ットの計数データS32,S16,S8,S4,S2,
S1に応じた遅延を与えてセンスアンプ活性化信号VD
Lを生成する。この例に従えば、前記カウンタ95は6
ビットのバイナリカウンタである。カウンタ95は図示
を省略するクロック信号をインクリメント又はデクリメ
ントする。アップ信号UPがアサートされる状態ではイ
ンクリメント動作(アップカウント動作)が行なわれ、
ダウン信号DNがアサートされる状態ではデクリメント
動作(ダウンカウント動作)が行なわれる。The variable delay circuit 94 receives the clock signal φ3
Is input to the clock signal φ3, and the 6-bit count data S32, S16, S8, S4, S2,
By giving a delay according to S1, the sense amplifier activation signal VD
Generate L. According to this example, the counter 95 is 6
It is a binary counter of bits. The counter 95 increments or decrements a clock signal (not shown). When the up signal UP is asserted, an increment operation (up count operation) is performed,
When the down signal DN is asserted, a decrement operation (down count operation) is performed.
【0030】前記可変遅延回路94の一例は図2に示さ
れる。同図に示される可変遅延回路94は、クロック信
号φ3の通過ゲート数を制御して遅延時間を可変にする
第1の回路部分94Aと、出力回路の動作電流を制御す
ることによって遅延時間を可変にする第2の回路部分9
4Bとを有する。An example of the variable delay circuit 94 is shown in FIG. The variable delay circuit 94 shown in the figure includes a first circuit portion 94A for controlling the number of gates through which the clock signal φ3 passes to make the delay time variable, and a variable delay time by controlling the operation current of the output circuit. The second circuit part 9
4B.
【0031】第1の回路部分94Aは、クロック信号φ
3の伝達経路にクロックドインバータ(インバータ、p
チャンネル型MOSトランジスタ及びnチャンネル型M
OSトランジスタによって図示されている)CIV1〜
CIV6及びインバータIV1〜IV4を有する。クロ
ック信号φ3の伝達経路は上位2ビットの前記計数デー
タS32,S16によって選択される。すなわち、クロ
ック信号φ3は、S32,S16=1,1でクロックド
インバータCIV1を通り、 S32,S16=1,0
でインバータIV1及びクロックドインバータCIC
2,CIV3を通り、 S32,S16=0,1でイン
バータIV1,IV2及びクロックドインバータCIC
4,CIV5、CIV3を通り、 S32,S16=
0,0でインバータIV1〜IV4及びクロックドイン
バータCIC6,CIV5、CIV3を通る。計数デー
タS32,S16の値が大きいほどクロック信号φ3の
伝達経路に介在されるインバータ及びクロックドインバ
ータの数が少なくされ、遅延時間が小さくされる。The first circuit portion 94A receives the clock signal φ.
The clocked inverter (inverter, p
Channel type MOS transistor and n-channel type M
CIV1 (illustrated by OS transistors)
CIV6 and inverters IV1 to IV4. The transmission path of the clock signal φ3 is selected by the upper two bits of the count data S32 and S16. That is, the clock signal φ3 passes through the clocked inverter CIV1 at S32, S16 = 1, 1, and S32, S16 = 1, 0
Inverter IV1 and clocked inverter CIC
2, CIV3, S32, S16 = 0, 1, inverters IV1, IV2 and clocked inverter CIC
4, CIV5, CIV3, S32, S16 =
At 0,0, it passes through inverters IV1 to IV4 and clocked inverters CIC6, CIV5, CIV3. As the values of the count data S32 and S16 are larger, the number of inverters and clocked inverters interposed in the transmission path of the clock signal φ3 is reduced, and the delay time is reduced.
【0032】第2の回路部分94Bは、第1の回路部分
94Aからの出力をクロックドインバータCIV7,イ
ンバータIV5,クロックドインバータCIV8の直列
回路を通してセンスアンプ活性化信号VDLを出力す
る。前記クロックドインバータCIV7,CIV8の動
作電流はnチャンネル型制御MOSトランジスタQn5
〜Qn8のコンダクタンスに比例して大きくされる。前
記MOSトランジスタQn8,Qn7,Qn6,Qn5
のゲート電極には下位側4ビットの前記計数データS
8,S4,S2,S1が供給される。The second circuit portion 94B outputs an output from the first circuit portion 94A through a series circuit of a clocked inverter CIV7, an inverter IV5, and a clocked inverter CIV8 to output a sense amplifier activation signal VDL. The operating current of the clocked inverters CIV7 and CIV8 is n-channel type control MOS transistor Qn5.
To Qn8 in proportion to the conductance. The MOS transistors Qn8, Qn7, Qn6, Qn5
The lower 4 bits of the count data S
8, S4, S2, S1 are supplied.
【0033】図2の例に従えば、可変遅延回路94は、
6ビットの計数データS32,S16,S8,S4,S
2,S1の値が大きくなるほどセンスアンプ活性化信号
VDLの遅延時間が小さくされる。According to the example of FIG. 2, the variable delay circuit 94
6-bit count data S32, S16, S8, S4, S
2. As the value of S1 increases, the delay time of the sense amplifier activation signal VDL decreases.
【0034】前記アップ信号UP及びダウン信号DNは
位相比較回路130が生成する。位相比較回路130
は、前記センスアンプ活性化信号VDLのレベル変化と
ダミーデータ線DBLのレベル変化との位相差を検出
し、ダミーデータ線のレベル変化に対してセンスアンプ
活性化信号VDLの変化が遅い場合にはアップ信号UP
をアサートし、速い場合にはダウン信号DNをアサート
する。ダミーデータ線DBLにはダミーメモリセル11
0からの読み出し信号が与えられる。図3には位相比較
回路130の一例論理回路図が示される。The up signal UP and the down signal DN are generated by a phase comparison circuit 130. Phase comparison circuit 130
Detects the phase difference between the level change of the sense amplifier activation signal VDL and the level change of the dummy data line DBL, and if the change of the sense amplifier activation signal VDL is slower than the level change of the dummy data line, Up signal UP
Is asserted, and if fast, the down signal DN is asserted. The dummy memory cell 11 is connected to the dummy data line DBL.
A read signal from 0 is provided. FIG. 3 shows an example logic circuit diagram of the phase comparison circuit 130.
【0035】前記ダミーメモリセル110は、ダミーメ
モリセルアレイを構成するためのダミーメモリセルアレ
イ単位ユニット11uに含まれている。ダミーメモリセ
ルアレイ単位ユニットは、メモリセルアレイ単位ユニッ
ト2uの一対のビット線に係る構成と電気的に等価な構
成を有し、ワードドライバ回路単位ユニット3uから最
も離れた位置に設けられたメモリセル単位ユニット2u
の隣の領域に配置されている。BLD,BLDbは一対
のダミーデータ線、110はダミーメモリセル、DWL
はダミーワード線である。ダミーメモリセル110は、
図4に例示されるように、その記憶情報が固定される点
がメモリセル5と相違される。例えば、CMOSスタテ
ィックラッチにおけるCMOSインバータ110Aの入
力が電源電圧Vddに結合され、ダミーメモリセル11
0はそれが選択されたとき、そのCMOSインバータ1
10Aがローレベル、CMOSインバータ110Bがハ
イレベルを出力しようとする。尚、ダミーデータ線DB
L,DBLbのプリチャージ回路及びイコライズ回路は
図示を省略してある。The dummy memory cell 110 is included in a dummy memory cell array unit 11u for forming a dummy memory cell array. The dummy memory cell array unit has a configuration electrically equivalent to the configuration related to the pair of bit lines of the memory cell array unit 2u, and is provided at a position farthest from the word driver circuit unit 3u. 2u
Are arranged in the area next to the. BLD, BLDb are a pair of dummy data lines, 110 is a dummy memory cell, DWL
Is a dummy word line. The dummy memory cell 110 is
As illustrated in FIG. 4, the memory information is different from the memory cell 5 in that the storage information is fixed. For example, the input of the CMOS inverter 110A in the CMOS static latch is coupled to the power supply voltage Vdd, and the dummy memory cell 11
0 indicates that when it is selected, its CMOS inverter 1
10A tries to output a low level, and the CMOS inverter 110B tries to output a high level. Incidentally, the dummy data line DB
The illustration of the precharge circuit and the equalize circuit of L and DBLb is omitted.
【0036】ダミーメモリセルアレイ単位ユニット11
uは、記メモリセルアレイ単位ユニット2uの配置列数
に応じた数とされる。前記ダミーデータ線DBL,DB
Lbは各ダミーメモリセルアレイ単位ユニット11u間
で共通接続され、一方のダミーデータ線DBLはCMO
Sインバータ131で論理反転されて位相比較回路13
0に供給される。位相比較回路130及びCMOSイン
バータ131は位相比較ユニット13uに含まれ、前記
カラム単位ユニット4uに並設されている。Dummy memory cell array unit 11
u is a number corresponding to the number of arranged columns of the memory cell array unit 2u. The dummy data lines DBL, DB
Lb is commonly connected between the dummy memory cell array unit units 11u, and one dummy data line DBL is connected to the CMO
The logic is inverted by the S inverter 131 and the phase comparison circuit 13
0 is supplied. The phase comparison circuit 130 and the CMOS inverter 131 are included in the phase comparison unit 13u, and are arranged in parallel with the column unit 4u.
【0037】前記ダミーワード線DWLは、位相比較回
路130から最も離れた位置でダミーデータ線DBL,
DBLbに結合するダミーメモリセル110だけに対応
してダミーワード線選択信号123が供給される。それ
以外のダミーワード線DWLには接地端子Vssを介し
て非選択レベルが常時供給されている。The dummy word line DWL is located at a position farthest from the phase comparison circuit 130.
Dummy word line selection signal 123 is supplied corresponding to only dummy memory cell 110 coupled to DBLb. The other dummy word lines DWL are always supplied with the non-selection level via the ground terminal Vss.
【0038】前記ダミーワード線選択信号123はダミ
ーワード線選択ユニット12uで生成され、これは、ダ
ミーワードドライバ122、ダミーロウプリデコーダ1
21、及びカウンタ120を有する。前記ダミーワード
ドライバ122及びダミーロウプリデコーダ121は、
前記ワードドライバユニット3u及びロウプリデコーダ
91と同じ回路構成を有する。前記カウンタ120は2
ビットカウンタであり、前記クロック信号CLKを計数
する。ダミープリデコーダ121はタイミング信号φ1
によるロウプリデコーダ91の動作タイミングに同期し
て前記カウンタ120の2ビット出力が1,1のとき
に、ダミーワード線選択信号123を選択レベルに変化
させる。したがって、ダミーワード線選択信号123
は、クロック信号CLKに同期するワード線選択タイミ
ングの4回に1回の割合で選択レベルにされる。The dummy word line selection signal 123 is generated by the dummy word line selection unit 12u, and is generated by the dummy word driver 122, the dummy row predecoder 1
21 and a counter 120. The dummy word driver 122 and the dummy row predecoder 121
It has the same circuit configuration as the word driver unit 3u and the row predecoder 91. The counter 120 is 2
It is a bit counter that counts the clock signal CLK. The dummy predecoder 121 outputs the timing signal φ1
When the 2-bit output of the counter 120 is 1, 1 in synchronization with the operation timing of the row predecoder 91, the dummy word line selection signal 123 is changed to the selection level. Therefore, dummy word line selection signal 123
Is set to the selection level once every four times of the word line selection timing synchronized with the clock signal CLK.
【0039】次に上記SRAMにおけるセンスアンプ活
性化タイミングの生成動作について説明する。SRAM
にクロック信号CLKが供給されると、これに同期し
て、タイミングジェネレータ93はクロック信号φ1、
φ2、φ3を出力し、カウンタ120は計数動作を繰り
返す。これにより、ダミーワード線選択信号123はク
ロック信号CLKに同期するワード線選択タイミングの
4回に1回の割合で選択レベルにされ、その都度、ダミ
ーメモリセル110の選択動作を介してダミーデータ線
DBLがハイレベルからローレベルへの変化を繰り返
す。この変化はインバータ131を介して位相比較回路
130の一方の入力端子に与えられる。位相比較回路1
30の他方の入力端子にはセンスアンプ活性化信号VD
Lの反転レベルが与えられ、双方の信号のローレベルへ
の変化の位相差を検出する。ダミーデータ線のレベル変
化に対してセンスアンプ活性化信号の変化が遅い場合に
はアップ信号UPをアサートし、速い場合にはダウン信
号DNをアサートする。カウンタ95はアップ信号UP
によってアップカウント(インクリメント)を行ない、
ダウン信号DNによってダウンカウント(デクリメン
ト)を行なう。可変遅延回路94、位相比較回路13
0、及びカウンタ95は負帰還ループを構成しており、
上記動作(トレーニング動作)を行なう事によって、セ
ンスアンプ活性化信号VDLの変化とダミーデータ線D
BLの変化との位相がほぼ揃って安定化される。Next, the operation of generating the sense amplifier activation timing in the SRAM will be described. SRAM
, The timing generator 93 synchronizes with the clock signal CLK to supply the clock signal φ 1,
The counter 120 outputs φ2 and φ3, and the counter 120 repeats the counting operation. As a result, the dummy word line selection signal 123 is set to the selection level once every four times of the word line selection timing synchronized with the clock signal CLK. Each time, the dummy data line is selected through the dummy memory cell 110 selection operation. DBL repeatedly changes from high level to low level. This change is applied to one input terminal of the phase comparison circuit 130 via the inverter 131. Phase comparison circuit 1
30 has a sense amplifier activation signal VD
The inverted level of L is provided, and the phase difference between the transition of both signals to low level is detected. When the change of the sense amplifier activating signal is slow with respect to the level change of the dummy data line, the up signal UP is asserted, and when it is fast, the down signal DN is asserted. The counter 95 outputs an up signal UP
Up count (increment) by
Down count (decrement) is performed by the down signal DN. Variable delay circuit 94, phase comparison circuit 13
0 and the counter 95 constitute a negative feedback loop,
By performing the above operation (training operation), the change of the sense amplifier activating signal VDL and the dummy data line D
The phase with the change in BL is stabilized almost completely.
【0040】前記ダミーデータ線DBLのハイレベルか
らローレベルへの変化は、どのメモリセルのワード線選
択動作よりもわずかに遅れる。ダミーワード線選択ユニ
ット12uはどのロウプリデコーダ91に対してもタイ
ミングジェネレータ93から列方向最遠端に配置され、
ダミーワード線選択信号123で選択されるダミーメモ
リセル110はどのメモリセル5よりも行方向の最遠端
に配置されているからである。したがって、前記トレー
ニング期間を経た時、センスアンプ活性化信号VDLに
よるセンスアンプ活性化タイミングは、ワード線選択タ
イミングに対して最適化される。この様子は、図5の
(B)に示されており、ワード線選択によって相補ビッ
ト線がメモリセルの記憶情報に従って相補的にレベル変
化を開始した直後に、センスアンプが活性化される。同
図(A)のようにセンスアンプ活性化タイミングが早過
ぎたり、同図(C)のようにセンスアンプ活性化タイミ
ングが遅すぎたりする事態が防止される。The change from the high level to the low level of the dummy data line DBL is slightly delayed from the operation of selecting the word line of any memory cell. The dummy word line selection unit 12u is arranged at the farthest end in the column direction from the timing generator 93 for any row predecoder 91,
This is because the dummy memory cell 110 selected by the dummy word line selection signal 123 is located farthest in the row direction than any of the memory cells 5. Therefore, after the training period, the sense amplifier activation timing by the sense amplifier activation signal VDL is optimized with respect to the word line selection timing. This state is shown in FIG. 5B, and the sense amplifier is activated immediately after the complementary bit line starts to change the level complementarily in accordance with the storage information of the memory cell due to the word line selection. This prevents the sense amplifier activation timing from being too early as shown in FIG. 3A or the sense amplifier activation timing being too late as shown in FIG.
【0041】上記作用から明らかなように、ワード線選
択動作による相補ビット線の変化をダミーデータ線の変
化によって模擬する事で、センスアンプ活性化タイミン
グを決定するから、クロック信号CLKの周波数、SR
AMのデバイスプロセス上のばらつき等に影響されず
に、当該センスアンプ活性化タイミングを最適化するこ
とができる。したがって、誤動作を防止でき、さらに、
センスアンプ活性化タイミングに対して過大なタイミン
グマージンを見込まなくてもよい。上記により、SRA
M全体としてメモリアクセス動作の高速化を達成でき
る。As is apparent from the above operation, the sense amplifier activation timing is determined by simulating the change of the complementary bit line due to the word line selection operation by the change of the dummy data line, so that the frequency of the clock signal CLK, SR
The sense amplifier activation timing can be optimized without being affected by variations in the AM device process. Therefore, malfunction can be prevented, and
It is not necessary to expect an excessive timing margin with respect to the sense amplifier activation timing. From the above, SRA
As a whole, the speed of the memory access operation can be increased as a whole.
【0042】《SRAMの品種展開》次に上記SRAM
の品種展開の手法について説明する。必要な記憶容量に
応じてSRAM1を品種展開する場合、所要の記憶容量
に応じて、前記ワードドライバ回路単位ユニット(B
0)3u、メモリセルアレイ単位ユニット(D0)2
u、カラム単位ユニット(C0)4u、及びダミーメモ
リセルアレイ単位ユニット(X1)11uの数を決定す
る。制御ユニット(A0)9u、位相比較ユニット(X
0)13u、ダミーワード線選択ユニット(X2)12
uは記憶容量に拘わらず夫々1個づつ採用する。例えば
図6には比較的大きな記憶容量(ワード・ビット数大)
でSRAMを展開する時の各ユニットのレイアウト構成
の一例が示され、図7には最小の記憶容量(ワード・ビ
ット数小)でSRAMを展開する時の各ユニットのレイ
アウト構成の一例が示される。<< Development of SRAM Type >> Next, the above SRAM
Will be described. If the SRAM 1 is developed in accordance with the required storage capacity, the word driver circuit unit (B) may be used in accordance with the required storage capacity.
0) 3u, memory cell array unit (D0) 2
u, the number of column unit (C0) 4u, and the number of dummy memory cell array unit (X1) 11u are determined. The control unit (A0) 9u and the phase comparison unit (X
0) 13u, dummy word line selection unit (X2) 12
u is adopted one by one regardless of the storage capacity. For example, FIG. 6 shows a relatively large storage capacity (large number of words and bits).
FIG. 7 shows an example of a layout configuration of each unit when the SRAM is developed, and FIG. 7 shows an example of a layout configuration of each unit when the SRAM is developed with the minimum storage capacity (the number of words and bits is small). .
【0043】図6と図7のレイアウト構成において、記
憶容量の大小に拘わらず、制御ユニット(A0)9uに
対してダミーワード線選択ユニット(X2)12uは列
方向最遠端に配置され、ダミーワード線選択信号123
を受けるダミーメモリセルアレイ単位ユニット(X1)
11uは制御ユニット(A0)9uに対して列方向及び
行方向最遠端に配置され、前記位相比較ユニット(X
0)13uは制御ユニット(A0)9uに対して行方向
最遠端に配置されている。したがって、クロック信号φ
1、センスアンプ活性化信号VDLとを生成する制御ユ
ニット(A0)9uを起点に、ダミーワード線選択から
ダミーデータ線に変化が現れるまでの動作遅延時間と、
センスアンプ活性化信号VDLが伝達経路最遠端に伝達
されるまでの動作遅延時間とは、記憶容量に従ったレイ
アウト構成毎に、常に最大とされるようになる。したが
って、そのレイアウト構成により、センスアンプ活性化
タイミングは自動的に最適化される。In the layout configuration of FIGS. 6 and 7, the dummy word line selection unit (X2) 12u is arranged at the farthest end in the column direction with respect to the control unit (A0) 9u, regardless of the storage capacity. Word line selection signal 123
Memory cell array unit (X1) receiving the
11u is arranged at the farthest end in the column direction and the row direction with respect to the control unit (A0) 9u, and the phase comparison unit (X
0) 13u is arranged at the farthest end in the row direction with respect to the control unit (A0) 9u. Therefore, the clock signal φ
1. Starting from the control unit (A0) 9u that generates the sense amplifier activation signal VDL, an operation delay time from the selection of the dummy word line to the appearance of a change in the dummy data line;
The operation delay time until the sense amplifier activation signal VDL is transmitted to the farthest end of the transmission path is always maximized for each layout configuration according to the storage capacity. Therefore, the sense amplifier activation timing is automatically optimized by the layout configuration.
【0044】例えば、図8は図6に対応される大きな記
憶容量を持つ時のレイアウト構成においてクロック信号
CLKに対するセンスアンプ活性化信号VDLの変化を
示し、図9は図7に対応される小さな記憶容量を持つ時
のレイアウト構成においてクロック信号CLKに対する
センスアンプ活性化信号VDLの変化を示す。センスア
ンプ活性化タイミングは記憶容量の大きなSRAMに対
応される図8の方が遅れている(T1>T2)。時間T
1,T2は夫々異なる記憶容量で展開されたSRAMに
おける最適化されたセンスアンプ活性化タイミングを規
定する。その時間は、前述の通り、遅延時間を最適化す
るために設計上特別なチューニングを要しない。自動的
に最適化される。For example, FIG. 8 shows a change in the sense amplifier activation signal VDL with respect to the clock signal CLK in a layout configuration having a large storage capacity corresponding to FIG. 6, and FIG. 9 shows a small storage corresponding to FIG. FIG. 14 shows a change in a sense amplifier activation signal VDL with respect to a clock signal CLK in a layout configuration having a capacitance. The activation timing of the sense amplifier is delayed in FIG. 8 corresponding to the SRAM having a large storage capacity (T1> T2). Time T
Reference numerals 1 and T2 define optimized sense amplifier activation timings in SRAMs developed with different storage capacities. As described above, no special tuning is required for the design in order to optimize the delay time. Optimized automatically.
【0045】図6及び図7に代表されるように所要の記
憶容量でSRAMを展開する時の設計方法は、図10に
示す手順で行なう事ができる。その手順は、メモリ容量
を決定する処理(S1)、メモリセルアレイの設計単位
を決定する処理(S2)、設計単位の回路設計及びレイ
アウト設計処理(S3)、そして設計単位のデータを用
いたメモリ全体のレイアウト設計処理(S4)を有す
る。As shown in FIGS. 6 and 7, a design method for developing an SRAM with a required storage capacity can be performed in accordance with the procedure shown in FIG. The procedure includes a process of determining a memory capacity (S1), a process of determining a design unit of a memory cell array (S2), a circuit design and layout design process of a design unit (S3), and an entire memory using data of a design unit. Layout design processing (S4).
【0046】メモリ容量を決定する処理(S1)は、ユ
ーザの要求仕様に応じたメモリ全体の記憶容量とデータ
入出力ビット数とを決定することである。メモリセルア
レイの設計単位を決定する処理(S2)では、メモリ全
体の記憶容量やデータ入出力ビット数を満足させるよう
に、前記ワードドライバ回路単位ユニット(B0)3
u、メモリセルアレイ単位ユニット(D0)2u、カラ
ム単位ユニット(C0)4u、及びダミーメモリセルア
レイ単位ユニット(X1)11uの数、換言すれば、個
々の回路の規模を決定することである。これに基づい
て、前記ワードドライバ回路単位ユニット(B0)3
u、メモリセルアレイ単位ユニット(D0)2u、カラ
ム単位ユニット(C0)4u、及びダミーメモリセルア
レイ単位ユニット(X1)11u等の設計単位の回路設
計及びレイアウト設計処理(S3)が行なわれる。この
処理(S3)は、制御ユニット(A0)9u、位相比較
ユニット(X0)13u、ダミーワード線選択ユニット
(X2)12uに対しても行なわれる。尚、前記設計単
位の回路が既にライブラリなどで提供されている場合に
は、設計単位回路を新たに開発することなく、そのライ
ブラリデータを流用する事ができる。The processing for determining the memory capacity (S1) is to determine the storage capacity of the entire memory and the number of data input / output bits according to the specification required by the user. In the process of determining the design unit of the memory cell array (S2), the word driver circuit unit (B0) 3 is used to satisfy the storage capacity of the entire memory and the number of data input / output bits.
u, the number of memory cell array unit (D0) 2u, the number of column unit (C0) 4u, and the number of dummy memory cell array unit (X1) 11u, in other words, the size of each circuit is determined. Based on this, the word driver circuit unit (B0) 3
u, the memory cell array unit (D0) 2u, the column unit (C0) 4u, and the dummy memory cell array unit (X1) 11u, etc. The circuit design and layout design processing (S3) are performed. This processing (S3) is also performed on the control unit (A0) 9u, the phase comparison unit (X0) 13u, and the dummy word line selection unit (X2) 12u. If the circuit of the design unit is already provided in a library or the like, the library data can be used without newly developing a design unit circuit.
【0047】そして、設計単位のデータを用いたメモリ
全体のレイアウト設計処理(S4)が行なわれる。レイ
アウト設計処理では図6及び図7で説明した前記レイア
ウト規則を満足させる。Then, a layout design process (S4) for the entire memory using the data of the design unit is performed. In the layout design process, the layout rules described with reference to FIGS. 6 and 7 are satisfied.
【0048】《マイクロコンピュータ》図11には前記
SRAM1を用いたマイクロコンピュータ(シングルチ
ップマイクロプロセッサ、シングルチップマイクロコン
トローラ)のブロック図が示される。同図に示されるマ
イクロコンピュータ(MPU)201は、例えば公知の
半導体集積回路製造技術によって単結晶シリコンのよう
な1個の半導体基板(半導体チップ)に形成される。こ
のマイクロコンピュータ1は、特に制限されないが、ロ
ーカルバスL−bus、内部バスI−bus、及びペリ
フェラルバスP−busなどを有する。それらバスはデ
ータ、アドレス、制御信号の各信号線群を備えている。<< Microcomputer >> FIG. 11 is a block diagram of a microcomputer (single-chip microprocessor, single-chip microcontroller) using the SRAM 1. A microcomputer (MPU) 201 shown in FIG. 1 is formed on one semiconductor substrate (semiconductor chip) such as single crystal silicon by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique, for example. Although not particularly limited, the microcomputer 1 includes a local bus L-bus, an internal bus I-bus, a peripheral bus P-bus, and the like. These buses are provided with data, address, and control signal lines.
【0049】ローカルバスL−busには、特に制限さ
れないが、中央処理装置(CPU)202、ディジタル
・シグナル・プロセッサ(DSP)203、キャッシュ
メモリ(CACHE)204及びクロックパルスジェネ
レータ(CPG)214が結合される。キャッシュメモ
リ204は他方において内部バスI−busに結合さ
れ、当該内部バスI−busにはライトバックバッファ
(WBBUF)206及びバスコントローラ(BSC)
207が接続される。バスコントローラ207は、外部
入出力回路(EXIF)209及び前記ペリフェラルバ
スP−busに接続される。外部入出力回路209は、
アドレス、データ及び制御信号の各信号線群を備えた外
部バスEX−busなどにインタフェース可能になされ
る。外部バスEX−busには外部メモリ(EMEM)
220が代表的に示されている。前記ペリフェラルバス
P−busには、周辺モジュールとして、例えば、ダイ
レクトメモリアクセスコントローラ(DMAC)20
8、及びその他の周辺回路(PMD)210が結合され
ている。The local bus L-bus includes, but is not limited to, a central processing unit (CPU) 202, a digital signal processor (DSP) 203, a cache memory (CACHE) 204, and a clock pulse generator (CPG) 214. Is done. The cache memory 204 is coupled on the other hand to an internal bus I-bus, which has a write-back buffer (WBBUF) 206 and a bus controller (BSC).
207 are connected. The bus controller 207 is connected to the external input / output circuit (EXIF) 209 and the peripheral bus P-bus. The external input / output circuit 209 is
It is possible to interface with an external bus EX-bus having signal lines for address, data and control signals. External memory (EMEM) for external bus EX-bus
220 is representatively shown. The peripheral bus P-bus includes, for example, a direct memory access controller (DMAC) 20 as a peripheral module.
8 and other peripheral circuits (PMD) 210 are coupled.
【0050】前記マイクロコンピュータ1は、クロック
パルスジェネレータ(CPG)214から出力されるク
ロック信号215に同期動作される。前記CPU202
及びDMAC208がバスマスタモジュールを構成す
る。前記その他の周辺回路210は、特に制限されない
が、シリアルコミュニケーションインタフェースコント
ローラ、リアルタイムクロック回路及びタイマ回路等と
される。周辺回路210は前記バスコントローラ207
を介してCPU202又はDMAC208によってアク
セスされる。The microcomputer 1 is operated in synchronization with a clock signal 215 output from a clock pulse generator (CPG) 214. The CPU 202
And DMAC 208 constitute a bus master module. The other peripheral circuits 210 are, but not limited to, a serial communication interface controller, a real-time clock circuit, a timer circuit, and the like. The peripheral circuit 210 is connected to the bus controller 207.
Via the CPU 202 or the DMAC 208.
【0051】前記CPU202は、特に制限されない
が、汎用レジスタや算術論理演算器で代表される演算部
と、プログラムカウンタなどの制御用レジスタ群、そし
て命令のフェッチや解読並びに命令実行手順を制御した
り演算制御を行う命令制御部などを有する。前記CPU
202は外部メモリ220などから命令をフェッチし、
その命令を命令デコーダにて解読することにより、当該
命令に応じたデータ処理を行う。CPU202はDSP
203のためにデータフェッチを行なうだけでなく、D
SP203のための固定小数点命令を含む全ての命令を
フェッチする。Although not particularly limited, the CPU 202 controls an arithmetic unit represented by a general-purpose register and an arithmetic and logic unit, a control register group such as a program counter, and fetches and decodes an instruction, and controls an instruction execution procedure. An instruction control unit for performing arithmetic control is provided. The CPU
202 fetches an instruction from an external memory 220 or the like,
By decoding the instruction with an instruction decoder, data processing according to the instruction is performed. CPU 202 is a DSP
In addition to performing a data fetch for 203,
Fetch all instructions including fixed point instructions for SP203.
【0052】前記バスコントローラ207は、CPU2
02やDMAC208によるアクセス対象回路(アクセ
ス対象とされるアドレスエリア)に応じて、アクセスデ
ータサイズ、アクセスタイム、ウェイトステートの挿入
制御などを行なって、バスサイクルを制御する。The bus controller 207 includes a CPU 2
The bus cycle is controlled by controlling access data size, access time, insertion of a wait state, and the like according to an access target circuit (address area to be accessed) by the DMAC 02 or the DMAC 208.
【0053】特に制限されないが、キャッシュメモリ2
04に前記SRAM1が適用される。キャッシュメモリ
204がセットアソシアティブ形式とされる場合、SR
AM1はキャッシュメモリ204の各ウェイを構成する
アドレスアレイ及びデータアレイに用いられている。マ
イクロコンピュータ201において、内蔵キャッシュメ
モリ204はある程度の記憶容量が確保される事によっ
てCPU202によるメモリアクセス速度を高速化する
事ができるが、その分、マイクロコンピュータのチップ
サイズを大きくする。キャッシュメモリ204の記憶容
量をどの程度にするかは、チップサイズ、マイクロコン
ピュータの用途等に応じて決定される。このとき、SR
AM1は記憶容量に対する品種展開が考慮され、センス
アンプ活性化タイミングは自動的に最適化されるので、
ユーザの要求仕様に応ずるマイクロコンピュータの設計
期間短縮、データ処理速度の高速化などに寄与できる。Although not particularly limited, the cache memory 2
04 is applied to the SRAM 1. If the cache memory 204 is set associative, the SR
AM1 is used for an address array and a data array which constitute each way of the cache memory 204. In the microcomputer 201, the memory access speed of the CPU 202 can be increased by securing a certain amount of storage capacity of the built-in cache memory 204, but the chip size of the microcomputer is correspondingly increased. The storage capacity of the cache memory 204 is determined according to the chip size, the use of the microcomputer, and the like. At this time, SR
AM1 is automatically optimized for the sense amplifier activation timing in consideration of the product development for the storage capacity.
This can contribute to shortening the design period of the microcomputer that meets the specifications required by the user and increasing the data processing speed.
【0054】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々変更可能であることは言うまでもない。Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, it is needless to say that the present invention is not limited to the embodiment and can be variously modified without departing from the gist of the invention. No.
【0055】例えば、SRAMのメモリセルはCMOS
スタティック型に限定されず、抵抗負荷型であってもよ
い。また、SRAMの制御形式はないぶ動作をコマンド
形式で与える所謂シンクロナスSRAMと同様の形式に
する事も可能である。また、SRAMを内蔵した半導体
集積回路はマイクロコンピュータに限定されず、その他
の論理LSIであってもよい。For example, the memory cell of the SRAM is CMOS
It is not limited to the static type, but may be a resistance load type. Further, the control format of the SRAM may be the same as that of a so-called synchronous SRAM which gives an operation in a command format. Further, the semiconductor integrated circuit incorporating the SRAM is not limited to the microcomputer, but may be another logic LSI.
【0056】[0056]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
【0057】〔1〕ワード線選択動作によるデータ線の
変化をダミーデータ線の変化によって模擬する事で、セ
ンスアンプ活性化タイミングを決定するから、クロック
信号(CLK)の周波数、デバイスプロセス上のばらつ
き等に影響されずに、センスアンプ活性化タイミングを
最適化することができる。したがって、誤動作を防止で
き、さらに、センスアンプ活性化タイミングに対して過
大なタイミングマージンを見込まなくてもよい。従っ
て、メモリ全体としてアクセス動作の高速化を達成でき
る。[1] The change in the data line due to the word line selection operation is simulated by the change in the dummy data line to determine the sense amplifier activation timing. Therefore, the variation in the frequency of the clock signal (CLK) and the device process The timing for activating the sense amplifier can be optimized without being affected by the above. Therefore, a malfunction can be prevented, and an excessive timing margin for the sense amplifier activation timing need not be expected. Therefore, the speed of the access operation can be increased in the entire memory.
【0058】〔2〕前記タイミング補償回路を、位相比
較回路と、カウンタ、及び記可変遅延回路で構成する
と、位相比較回路は、ダミーメモリセルの選択動作を介
してダミーデータ線に与えられる変化と、センスアンプ
活性化信号の変化との位相差に応じて、カウンタにアッ
プカウント又はダウンカウントを指示し、そのカウント
値を受ける可変遅延回路は前記位相差を相殺するように
センスアンプ活性化信号による活性化タイミングの時期
をずらすように制御する。可変遅延回路、位相比較回
路、及びカウンタは負帰還ループを構成するから、上記
位相差相殺動作をトレーニング動作としてを行なうこと
によって、センスアンプ活性化信号の変化とダミーデー
タ線の変化との位相をほぼ揃えて安定化させる動作を容
易化できる。[2] When the timing compensating circuit is constituted by a phase comparing circuit, a counter, and a variable delay circuit, the phase comparing circuit is capable of controlling a change given to a dummy data line through a dummy memory cell selecting operation. In response to a phase difference from the change in the sense amplifier activation signal, the counter instructs an up-count or a down-count, and a variable delay circuit receiving the count value uses a sense amplifier activation signal so as to cancel the phase difference. The activation timing is controlled so as to be shifted. Since the variable delay circuit, the phase comparison circuit, and the counter form a negative feedback loop, by performing the phase difference canceling operation as a training operation, the phase of the change of the sense amplifier activation signal and the change of the dummy data line can be changed. The operation of stabilizing almost the same can be facilitated.
【0059】〔3〕前記タイミング発生回路に対してダ
ミーメモリセル選択回路をワードドライバ回路よりもY
方向遠端に配置し、前記ダミーメモリセル選択回路から
出力されるダミーワード線選択信号を受けるダミーメモ
リセルをタイミング発生回路に対してメモリセルアレイ
よりもY方向及びX方向遠端に配置し、前記位相比較回
路をタイミング発生回路に対してセンスアンプ回路より
もX方向遠端に配置する規則を採用すれば、ワード線選
択用クロック信号(φ1)及びセンスアンプ活性化信号
(VDL)を生成するためのタイミング発生回路(9
3)を起点に、ダミーワード線選択からダミーデータ線
に変化が現れるまでの動作遅延時間と、センスアンプ活
性化信号(VDL)が伝達経路最遠端に伝達されるまで
の動作遅延時間とを、記憶容量に応じたレイアウト毎
に、常に最大とすることができ、よって、メモリの記憶
容量若しくはレイアウト構成に従って、センスアンプ活
性化タイミングを自動的に最適化する設計を極めて容易
化できる。上記レイアウト規則を満足する事により、記
憶容量に応じてメモリの品種展開を行なう場合にも、夫
々異なる記憶容量で展開されたメモリにおけるセンスア
ンプ活性化タイミングを最適に規定できる。このとき、
前述の通り、遅延時間を最適化するために設計上特別な
チューニングを要しない。自動的に最適化されるから、
記憶容量に応じて品種展開される半導体集積回路の設計
期間の短縮に寄与できる。[3] The dummy memory cell selection circuit is more Y than the word driver circuit for the timing generation circuit.
A dummy memory cell disposed at a far end in the direction, and receiving a dummy word line selection signal output from the dummy memory cell selection circuit, disposed at a far end in the Y and X directions relative to the memory cell array with respect to the timing generation circuit; If the rule of arranging the phase comparison circuit at the far end in the X direction relative to the timing generation circuit with respect to the sense amplifier circuit is adopted, the clock signal for selecting a word line (φ1) and the sense amplifier activation signal (VDL) are generated. Timing generation circuit (9
Starting from 3), the operation delay time from the selection of the dummy word line to the change in the dummy data line and the operation delay time from when the sense amplifier activation signal (VDL) is transmitted to the farthest end of the transmission path are defined. The maximum can always be maximized for each layout according to the storage capacity, so that the design for automatically optimizing the sense amplifier activation timing according to the storage capacity or the layout configuration of the memory can be greatly facilitated. By satisfying the above layout rule, even when the type of memory is developed according to the storage capacity, the sense amplifier activation timing in the memories developed with different storage capacities can be optimally defined. At this time,
As described above, no special tuning is required in design to optimize the delay time. Automatically optimized.
This can contribute to shortening the design period of a semiconductor integrated circuit that is developed in accordance with the storage capacity.
【図1】本発明の一例に係るSRAMのブロック図であ
る。FIG. 1 is a block diagram of an SRAM according to an example of the present invention.
【図2】前記可変遅延回路の一例を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of the variable delay circuit.
【図3】位相比較回路の一例を示す論理回路図である。FIG. 3 is a logic circuit diagram illustrating an example of a phase comparison circuit.
【図4】ダミーメモリセルの一例を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a dummy memory cell.
【図5】ワード線選択タイミングに対するセンスアンプ
活性化タイミングの関係の一例を示すタイミング図であ
る。FIG. 5 is a timing chart showing an example of a relationship between a sense amplifier activation timing and a word line selection timing.
【図6】比較的大きな記憶容量でSRAMを展開する時
の各ユニットのレイアウト構成の一例を示す説明図であ
る。FIG. 6 is an explanatory diagram showing an example of a layout configuration of each unit when an SRAM is developed with a relatively large storage capacity.
【図7】最小の記憶容量でSRAMを展開する時の各ユ
ニットのレイアウト構成の一例を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example of a layout configuration of each unit when an SRAM is developed with a minimum storage capacity.
【図8】図6に対応される大きな記憶容量を持つ時のレ
イアウト構成においてクロック信号に対するセンスアン
プ活性化タイミング信号の変化時期を示すタイミング図
である。8 is a timing chart showing a change timing of a sense amplifier activation timing signal with respect to a clock signal in a layout configuration having a large storage capacity corresponding to FIG. 6;
【図9】図7に対応される小さな記憶容量を持つ時のレ
イアウト構成においてクロック信号に対するセンスアン
プ活性化タイミング信号の変化時期を示すタイミング図
である。9 is a timing chart showing a change timing of a sense amplifier activation timing signal with respect to a clock signal in a layout configuration having a small storage capacity corresponding to FIG. 7;
【図10】所要の記憶容量でSRAMを展開する時の設
計方法の手順の一例を示すフローチャートである。FIG. 10 is a flowchart illustrating an example of a procedure of a design method when an SRAM is developed with a required storage capacity.
【図11】SRAMをキャッシュメモリに適用したマイ
クロコンピュータの一例を示すブロック図である。FIG. 11 is a block diagram illustrating an example of a microcomputer in which an SRAM is applied to a cache memory.
1 SRAM 2u メモリセルアレイ単位ユニット BL,BLb 相補データ線 WL ワード線 3u ワードドライバ回路単位ユニット 4u カラム単位ユニット 5 メモリセル 6 カラムスイッチ回路 7 センスアンプ回路 8 出力バッファ回路 9u 制御ユニット 11u ダミーメモリセルアレイ単位ユニット 12u ダミーワード線選択ユニット 13u 位相比較ユニット 93 タイミングジェネレータ CLK クロック信号 φ1 ワード線選択用クロック信号 φ2 カラム選択用クロック信号 φ3 センスアンプ活性化用クロック信号 94 可変遅延回路 95 カウンタ 110 ダミーメモリセル DBL,DBLb ダミーデータ線 DWL ダミーワード線 123 ダミーワード線選択信号 201 マイクロコンピュータ 202 中央処理装置 204 キャッシュメモリ Reference Signs List 1 SRAM 2u memory cell array unit BL, BLb complementary data line WL word line 3u word driver circuit unit 4u column unit 5 memory cell 6 column switch circuit 7 sense amplifier circuit 8 output buffer circuit 9u control unit 11u dummy memory cell array unit 12u Dummy word line selection unit 13u Phase comparison unit 93 Timing generator CLK clock signal φ1 Word line selection clock signal φ2 Column selection clock signal φ3 Sense amplifier activation clock signal 94 Variable delay circuit 95 Counter 110 Dummy memory cell DBL, DBLb Dummy data line DWL Dummy word line 123 Dummy word line selection signal 201 Microcomputer 202 Central processing unit 204 Flash memory
Claims (7)
データ端子がデータ線に接続された複数個のメモリセル
を有するメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの
ワード線を駆動するワードドライバ回路と、前記メモリ
セルアレイのデータ線を選択するカラムスイッチ回路
と、前記カラムスイッチ回路で選択されたデータ線のデ
ータを増幅するセンスアンプ回路と、それぞれクロック
信号に同期するワード線選択用クロック信号とセンスア
ンプ活性化用クロック信号を生成するタイミング発生回
路とを含むメモリが1個の半導体基板に形成されて成る
半導体集積回路において、 選択タイミングが前記ワード線選択タイミングに同期さ
れるダミーメモリセルを有し前記メモリセルからのデー
タ読み出し動作に同期する前記データ線のレベル変化タ
イミングを前記ダミーメモリセルが接続されるダミーデ
ータ線上で模擬するダミーメモリセルアレイと、 前記ワード線選択用クロック信号を入力して前記ダミー
メモリセルの選択信号を形成するダミーメモリセル選択
回路と、 前記ワード線選択タイミングに対するセンスアンプ活性
化の目標タイミングを補償するタイミング補償回路とを
設け、 前記タイミング補償回路は、前記センスアンプ活性化用
クロック信号を入力しうてセンスアンプ活性化信号を形
成する可変遅延回路を有し、 該可変遅延回路は、前記ダミーデータ線上で模擬される
レベル変化タイミングに対する前記センスアンプ活性化
信号の早遅に基づいて前記センスアンプ活性化用クロッ
ク信号に対する前記センスアンプ活性化信号の遅延時間
を可変とするものであることを特徴とする半導体集積回
路。A memory cell array having a plurality of memory cells each having a selection terminal connected to a word line and a data terminal connected to the data line; a word driver circuit for driving a word line of the memory cell array; A column switch circuit for selecting a data line of the memory cell array, a sense amplifier circuit for amplifying data of the data line selected by the column switch circuit, a word line selecting clock signal synchronized with a clock signal, and a sense amplifier activation A memory including a timing generating circuit for generating a clock signal for use in a semiconductor integrated circuit, comprising: a dummy memory cell whose selection timing is synchronized with the word line selection timing. Level of the data line synchronized with the data read operation from A dummy memory cell array that simulates the conversion timing on a dummy data line to which the dummy memory cell is connected; a dummy memory cell selection circuit that receives the word line selection clock signal to form a selection signal for the dummy memory cell; A timing compensation circuit for compensating a target timing of sense amplifier activation with respect to the word line selection timing, wherein the timing compensation circuit forms a sense amplifier activation signal by inputting the sense amplifier activation clock signal; A variable delay circuit, wherein the variable delay circuit activates the sense amplifier with respect to the sense amplifier activation clock signal based on an early or late of the sense amplifier activation signal with respect to a level change timing simulated on the dummy data line. Variable delay time of the The semiconductor integrated circuit according to claim.
アンプ活性化タイミングと前記ダミーデータ線上で模擬
されるレベル変化タイミングとの早遅を検出する位相比
較回路と、前記位相比較回路の比較結果に従ってアップ
/ダウンカウントを行うカウンタとを更に有し、前記可
変遅延回路は、前記カウンタの計数値の大小に応じて前
記センスアンプ活性化信号の遅延時間を可変とするもの
であることを特徴とする請求項1記載の半導体集積回
路。2. The timing compensating circuit according to claim 1, wherein the timing compensating circuit is configured to detect whether the sense amplifier activation timing is earlier or later than a level change timing simulated on the dummy data line. And a counter that counts down / counts down, wherein the variable delay circuit changes the delay time of the sense amplifier activation signal in accordance with the count value of the counter. Item 2. The semiconductor integrated circuit according to item 1.
メモリセル選択回路は前記ワードドライバ回路よりもY
方向遠端に配置され、前記ダミーメモリセル選択回路か
ら出力されるダミーワード線選択信号を受けるダミーメ
モリセルはタイミング発生回路に対してメモリセルアレ
イよりもY方向及びX方向遠端に配置され、前記位相比
較回路はタイミング発生回路に対してセンスアンプ回路
よりもX方向遠端に配置されて成るものであることを特
徴とする請求項2記載の半導体集積回路。3. The timing generation circuit according to claim 1, wherein the dummy memory cell selection circuit is more Y than the word driver circuit.
A dummy memory cell arranged at a far end in the direction and receiving a dummy word line selection signal output from the dummy memory cell selection circuit is arranged at a far end in the Y direction and the X direction relative to the memory cell array with respect to the timing generation circuit; 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the phase comparison circuit is arranged farther in the X direction than the sense amplifier circuit with respect to the timing generation circuit.
セルであることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1
項に記載の半導体集積回路。4. The memory cell according to claim 1, wherein said memory cell is a static memory cell.
A semiconductor integrated circuit according to the item.
み、該中央処理装置が前記メモリをアドレシングするた
めのアドレス信号を生成するものであることを特徴とす
る請求項1乃至4の何れか1項に記載の半導体集積回
路。5. The apparatus according to claim 1, further comprising a central processing unit for executing an instruction, wherein said central processing unit generates an address signal for addressing said memory. A semiconductor integrated circuit according to the item.
する方法であって、 前記メモリの記憶容量とデータ入出力ビット数とを決定
する第1処理と、 前記第1処理で決定された記憶容量及びデータ入出力ビ
ット数を満足させて、前記メモリセルアレイを構成する
ためのメモリセルアレイ単位ユニットと、前記ワードド
ライバ回路を構成するためのワードドライバ回路単位ユ
ニットと、前記カラムスイッチ回路及び前記センスアン
プ回路を構成するためのカラム単位ユニットと、前記ダ
ミーメモリセルアレイを構成するためのダミーメモリセ
ルアレイ単位ユニットとのレイアウトを決定する第2処
理と、を含むことを特徴とする半導体集積回路の設計方
法。6. The method for designing a semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein the first processing determines a storage capacity of the memory and the number of data input / output bits, and the first processing determines the first processing. A memory cell array unit for configuring the memory cell array, a word driver circuit unit for configuring the word driver circuit, the column switch circuit and the sense, satisfying storage capacity and the number of data input / output bits; A method for designing a semiconductor integrated circuit, comprising: a column unit for forming an amplifier circuit; and a second process for determining a layout of the dummy memory cell array unit for forming the dummy memory cell array. .
ユニット、ワードドライバ回路単位ユニット、カラム単
位ユニット、及びダミーメモリセルアレイ単位ユニット
の設計データを用いて前記第2処理を行うものであるこ
とを特徴とする請求項6記載の半導体集積回路の設計方
法。7. The second process is performed by using previously designed design data of a memory cell array unit, a word driver circuit unit, a column unit, and a dummy memory cell array unit. The method for designing a semiconductor integrated circuit according to claim 6.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP749598A JPH11203877A (en) | 1998-01-19 | 1998-01-19 | Semiconductor integrated circuit and design method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP749598A JPH11203877A (en) | 1998-01-19 | 1998-01-19 | Semiconductor integrated circuit and design method thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11203877A true JPH11203877A (en) | 1999-07-30 |
Family
ID=11667365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP749598A Pending JPH11203877A (en) | 1998-01-19 | 1998-01-19 | Semiconductor integrated circuit and design method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11203877A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2010157279A (en) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Toshiba Corp | Semiconductor memory apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040625 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040706 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040906 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050726 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051122 |