JPH11165864A

JPH11165864A - 基板搬送装置及び基板処理装置

Info

Publication number: JPH11165864A
Application number: JP9347360A
Authority: JP
Inventors: Yoshiki Kida; 佳己木田
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-12-03
Filing date: 1997-12-03
Publication date: 1999-06-22

Abstract

(57)【要約】【課題】迅速な基板の受け渡しを可能にすること。【解決手段】搬送ユニット４１は、一対のアーム部材
４５、４６からなる。各アーム部材４５、４６は、ガイ
ド４３に設けたリニアモータによって水平方向にそれぞ
れ独立して移動可能になっている。予め、アーム部材４
５、４６をウェハＷの直径よりもわずかに近接した受渡
位置から互いに離間した待機位置まで移動させる。次
に、ウェハＷの吸着を解除するとともに支持ピンの上昇
を開始する。これにより、露光済みウェハＷが持ち上げ
られる。次に、支持ピンがアーム部材４５、４６よりも
高い位置まで十分に上昇した段階で、アーム部材４５、
４６を待機位置から互いにウェハＷの直径よりもわずか
に近接した受渡位置まで移動させる。次に、支持ピンを
降下させ、支持ピンからアーム部材４５、４６すなわち
搬送ユニット４１側にウェハＷを渡すことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウェハや
液晶ガラス基板等の基板を搬送する基板搬送装置及びこ
れを備える基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図８は、従来の基板搬送装置の構造を説
明する図である。図８（ａ）は、平面図であり、図８
（ｂ）は、アーム部分の正面図である。基板搬送装置を
構成するロードアーム１２とアンロードアーム１３は、
互いに干渉することなく共にアームガイド１４に案内さ
れてアームガイドの長手方向に往復移動可能になってい
る。また、各アーム１２、１３はそれぞれ一対の基板支
持部１２ａ、１３ａを備えており、これらの先端には、
ウェハ吸着部１２ｂ、１３ｂが形成されている。

【０００３】ロードアーム１２によって図示の位置に搬
送されてきた未処理のウェハＷは、ウェハ吸着部１２ｂ
による吸着が解除されて、図示を省略するＸＹステージ
側のピンに受け渡される。移載を完了したロードアーム
１２は、後退して別のウェハＷを取りに行く。なお、ピ
ンに受け渡されたウェハＷは、ピンの降下に伴ってＸＹ
ステージの載置テーブル上に吸着保持され、ＸＹステー
ジとともに別の場所に移動して露光等の所定の処理が施
される。

【０００４】アンロードアーム１３は、ウェハＷの処理
中或いは処理直後に図示の待機位置まで移動する。処理
済みのウェハＷがＸＹステージとともに図示の位置に来
ると、ピンとともにウェハＷが上昇する。そして、ウェ
ハＷが基板支持部１３ａよりも高い位置に移動した段階
で、アンロードアーム１３を図中のロードアーム１２で
示した受渡位置まで移動させてウェハＷを受け取る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
基板搬送装置では、アンロードアーム１３の待機位置
は、ウェハ吸着部１３ｂとウェハＷとが干渉しないよう
に、アームをウェハＷから距離ｄ以上離しておかなけれ
ばならない。さらに、例えばウェハＷをアンロードアー
ム１３で受け取る際に、アンロードアーム１３を待機位
置Ａから受渡位置Ｂまで移動させる必要があり、この間
の移動に要する時間に起因してウェハＷの搬送や処理の
スループットが低下するという問題がある。

【０００６】そこで、この発明は、迅速な基板の受け渡
しを可能にする基板搬送装置及びこれを備える基板処理
装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
解決するためのものであり、以下に実施形態に示した各
図面を用いて説明する。

【０００８】本発明の基板搬送装置は、基板（Ｗ）を搬
送する装置において、前記基板の周辺部のうち少なくと
も２箇所の周辺部を支持して、前記基板をステージ
（７）に搬送する搬送アーム（４５，４６，１４５，１
４６）を有することを特徴とする。

【０００９】また、好ましい態様によれば、前記搬送ア
ームが、前記基板の周辺部のうち、前記基板の搬送方向
（ＣＤ）における一方の周辺部の裏面を支持する第１支
持部（４５ｅ）と、前記第１支持部に設けられ、前記基
板の一方の周辺部の側面に対向する第１対向部（４５
ｆ）とを有する第１アーム（４５）と、前記基板の周辺
部のうち、前記基板の搬送方向における他方の周辺部の
裏面を支持する第２支持部（４６ｅ）と、前記第２支持
部に設けられ、前記基板の他方の周辺部の側面に対向す
る第２対向部（４６ｆ）とを有する第２アーム（４６）
と、前記第１アームと前記第２アームとをそれぞれ互い
に、接近及び離間するように駆動する駆動機構（４３，
４３ａ，４５ａ，４６ａ，）とを備えることを特徴とす
る。

【００１０】また、好ましい態様によれば、前記搬送ア
ーム（１４５，１４６）が、前記基板が載置されるステ
ージ（７）の基板支持位置（７１）の周辺部に設けられ
た切欠部（７１ａ）に挿入し前記基板（Ｗ）の裏面を支
持する支持部（１４５ｃ，１４６ｃ）を有することを特
徴とする。

【００１１】また、本発明の基板処理装置によれば、基
板を支持するテーブル（７１）と、前記テーブル（７
１）に前記基板を搬送するアーム（１４５，１４６）と
を備える装置において、前記テーブル周辺に設けられた
切欠部（７１ａ）と、前記アームに設けられ、前記切欠
部（７１ａ）に挿入し前記基板（Ｗ）の裏面を支持する
支持部（１４５ｃ，１４６ｃ）とを有する。

【００１２】また、好ましい態様によれば、前記支持部
（１４５ｃ，１４６ｃ）が、前記基板の周辺部のうち、
少なくとも２箇所の裏面を支持することを特徴とする。

【００１３】また、好ましい態様によれば、前記搬送ア
ーム（１４５，１４６）が、前記支持部として前記基板
の周辺部のうち前記基板の搬送方向（ＣＤ）における一
方の周辺部の裏面を支持する第１支持部（１４５ｃ）
と、前記第１支持部に設けられ、前記基板の一方の周辺
部の側面に対向する第１対向部（１４５ｆ）とを有する
第１アーム（１４５）と、前記支持部として前記基板の
周辺部のうち前記基板の搬送方向における他方の周辺部
の裏面を支持する第２支持部（１４６ｃ）と、前記第２
支持部に設けられ、前記基板の他方の周辺部の側面に対
向する第２対向部（１４６ｆ）とを有する第２アームと
（１４６）、前記第１アーム（１４５）と前記第２アー
ム（１４６）とをそれぞれ互いに、接近及び離間するよ
うに駆動する駆動機構（１４３，１４８，１４９）とを
備え、前記第１及び第２アームにそれぞれ設けた第１及
び第２支持部（１４５ｃ，１４６ｃ）が、前記切欠部
（７１ａ）に挿入可能であることを特徴とする。

【００１４】また、好ましい態様によれば、前記基板処
理装置が感光基板にマスクパターンを転写する露光装置
であることを特徴とする。

【００１５】また、別の態様の基板搬送装置は、基板
（Ｗ）を搬送するとともに基板載置台（７）との間で前
記基板を受け渡す基板搬送装置であって、前記基板の周
辺部分のうち、前記基板の搬送方向（ＣＤ）において略
対向する一対の対向部分の一方を下方から支持する第１
支持部（４５ｅ）と、当該第１支持部に立設された第１
立設部（４５ｆ）とを有する第１アーム（４５）と、前
記一対の対向部分の他方を下方から支持する第２支持部
（４６ｅ）と、当該第２支持部に立設されるとともに前
記第１立設部と協動して前記基板の水平方向への移動を
阻止する第２立設部（４６ｆ）とを有する第２アーム
（４６）と、前記基板の搬送に際して前記第１及び第２
アームの間隔を保って当該第１及び第２アームを移動さ
せ、前記基板の受け渡しに際して当該第１及び第２アー
ムの間隔を変化させるアーム駆動装置（４３，４３ａ，
４５ａ，４６ａ，）とを備えることを特徴とする。

【００１６】また、好ましい態様によれば、前記第１及
び第２支持部（４５ｅ，４６ｅ）が、それぞれ前記基板
の周辺部分と同一形状の部材であることを特徴とする。

【００１７】また、好ましい態様によれば、前記第１及
び第２アームの少なくとも一方が、当該アーム上に前記
基板が支持されているか否かを検出する基板センサ（４
５ｄ，４６ｄ）をさらに備えることを特徴とする。

【００１８】また、好ましい態様によれば、前記第１及
び第２アームの間隔及び位置を検出する位置センサ（４
７）をさらに備えることを特徴とする。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施形態
について説明する。図１は、実施形態の基板搬送装置を
組み込んだ基板処理装置である露光装置の平面構造を示
す図である。図示のように、この露光装置は、チャンバ
１内に収容され、不図示のカセットからウェハＷを取り
出す第１搬送部３と、この第１搬送部３との間でウェハ
Ｗの受け渡しを行う第２搬送部４と、第２搬送部４から
受け取ったウェハＷの芯出し及び回転位置調整を行うア
ライメント部５と、第２搬送部４から受け取ったウェハ
Ｗを露光光学系６の直下の露光位置等に移動させるＸＹ
ステージ７とを備える。

【００２０】第１搬送部３は、ウェハＷを吸着支持して
搬送するアーム３１と、アーム３１を鉛直方向に昇降移
動させる昇降駆動部３２と、昇降駆動部３２を案内して
アーム３１を水平移動させるガイド３３とを備える。

【００２１】第２搬送部４は、鉛直方向の高さ位置が異
なる一対の搬送ユニット４１、４２と、これらの搬送ユ
ニット４１、４２を案内して水平移動させるガイド４３
とを備える。なお、両搬送ユニット４１、４２は、それ
ぞれ一対のアームからなり、一対のアームを一体として
ウェハＷを保持してガイド４３に沿って移動するととも
に、必要時には一対のアームの間隔を調整してウェハＷ
の受け渡しを行えるようになっている。

【００２２】アライメント部５は、詳細な説明は省略す
るが、ウェハＷの中心位置を割り出すための中心センサ
やウェハＷの回転位置を割り出すためのオリフラセンサ
を備える。

【００２３】ＸＹステージ７は、ウェハＷを吸着保持す
るための載置テーブル７１を備える。載置テーブル７１
の中心には、ウェハＷ裏面を３点支持して鉛直方向に昇
降させる支持ピン７２が配置されている。なお、ＸＹス
テージ７は、モータ７３及びねじ機構７４からなる一対
の駆動装置に駆動されて水平面内で２次元的に移動可能
となっている。

【００２４】図２は、第２搬送部４の要部を説明するも
のである。第２搬送部４に設けた搬送ユニット４１は、
一対のアーム部材４５、４６からなる。各アーム部材４
５、４６は、ガイド４３に設けたリニアモータによって
水平方向にそれぞれ独立して移動可能になっている。す
なわち、各アーム部材４５、４６の根元には、コイル４
５ａ、４６ａが巻き付けてあり、各コイル４５ａ、４６
ａへの供給電流を調節することにより、ガイド４３内部
に設けた磁石４３ａに沿って両アーム部材４５、４６を
移動させることができる。

【００２５】両アーム部材４５、４６の先端側は、ウェ
ハＷの縁と同一形状を有する基板保持部４５ｃ、４６ｃ
となっており、ウェハＷの搬送時や受け渡し時に、対向
する縁部分の裏面を協働して保持するようになってい
る。基板保持部４５ｃ、４６ｃの根元側には、ウェハＷ
の有無をウェハＷの重みから検出する感圧センサからな
るウェハセンサ４５ｄ、４６ｄが設けられている。尚、
基板保持部４５ｃ、４６ｃの形状は、同一形状に限ら
ず、ウェハＷの縁を保持できれば、いかなる形状でもよ
い。

【００２６】なお、両アーム部材４５、４６が所望の位
置に移動したか否かを正確に判別するための装置とし
て、ガイド４３の側面には、一対の位置センサ４７が設
けられている。各位置センサ４７の上面側には、一対の
投受光部４７ａ、４７ｂが設けられている。両位置セン
サ４７は、両アーム部材４５、４６よりも下側に配置さ
れており、両アーム部材４５、４６の裏面に設けたミラ
ー４５ｈ、４６ｈは、両アーム部材４５、４６が図示の
ように配置される待機位置において投受光部４７ａと対
向し、両アーム部材４５、４６が互いに近接する受渡位
置において投受光部４７ｂと対向する。両アーム部材４
５、４６が水平方向に移動する際には、各位置センサ４
７が両アーム部材４５、４６よりも下側に配置されてい
るので、互いの干渉を防止することができる。位置セン
サ４７の投受光部４７ａ、４７ｂから出射した光は、そ
の上方にミラー４５ｈ、４６ｈがあるときは、このミラ
ー４５ｈ、４ｈで反射され、各投受光部４７ａ、４７ｂ
に入射する。各投受光部４７ａ、４７ｂの検出出力を監
視しておけば、両アーム部材４５、４６の位置が図示の
待機位置と互いに近接した受渡位置とのいずれかにある
かを検出することができ、両アーム部材４５、４６を目
的位置に移動させることができる。

【００２７】なお、搬送ユニット４２は、詳細な説明は
省略するが、搬送ユニット４１と同一構造を有してい
る。ただし、両者４１、４２は、高さ位置が異なってお
り、相互の干渉を回避している。

【００２８】図３は、アーム部材４５、４６によるウェ
ハＷの保持を説明する図である。図３（ａ）は、基板保
持部４５ｃ、４６ｃに保持されたウェハＷを側方からみ
た図であり、図３（ｂ）は、基板保持部４５ｃに保持さ
れたウェハＷを上方からみた図である。基板保持部４５
ｃ、４６ｃは、ウェハＷの縁と同一形状を有するととも
にウェハＷ周辺部の裏面を下方から支持する本体部分４
５ｅ、５６ｅと、これら本体部分４５ｅ、５６ｅの外縁
側に立設されてウェハＷの水平方向の移動を制限する移
動制限部４５ｆ、４６ｆとを備える。例えばウェハＷが
支持ピン７２（図１参照）によって上昇した際に、アー
ム部材４５、４６すなわち基板保持部４５ｃ、４６ｃを
適宜移動させて、本体部分４５ｅ、４６ｅがウェハＷ周
辺部の裏面直下に移動するようにする。その後、支持ピ
ン７２を降下させてウェハＷが所定位置まで降下する
と、ウェハＷの対向する縁部分が本体部分４５ｅ、４６
ｅによって下方から支持される。これにより、ウェハＷ
は水平に支持される。また、基板保持部４５ｃ、４６ｃ
が互いの間隔（相対距離）を保って一体的にＣＤ方向に
搬送されるとき、対向する移動制限部４５ｆ、４６ｆが
ウェハＷの移動を阻止して、ウェハＷの落下や位置ずれ
を防止する。

【００２９】図４は、図１に示す第２搬送部４、ＸＹス
テージ７等の制御装置等を説明するブロック図である。
主制御部８０は、露光装置全体を統括制御する。この主
制御部８０の制御下に、ステージ制御部８１とアーム制
御部８２が設けられている。

【００３０】ステージ制御部８１は、図示を省略する位
置計測機構からの位置情報を監視しつつステージ駆動装
置８３を介してモータ７３を適宜駆動し、図１のＸＹス
テージ７を所望の位置に移動させる。また、ステージ制
御部８１は、ピン駆動装置８４を介して支持ピン７２を
適宜上下駆動し、載置テーブル７１上のウェハＷを適所
まで上昇させ、アーム部材４５、４６との間でウェハＷ
を受け渡す。

【００３１】アーム制御部８２は、上アーム駆動装置８
５を介して図２のアーム部材４５の間隔や並進移動を制
御し、下アーム駆動装置８６を介してアーム部材４６の
間隔や並進移動を制御する。この際、位置センサ４７や
ウェハセンサ４５ｄ、４６ｄの検出出力がモニタされて
両アーム部材４５、４６の誤動作等を防止している。

【００３２】以下、図１の露光装置の動作について説明
する。外部から搬入されて来たウェハＷは、第１搬送部
３から第２搬送部４に受け渡された後、アライメント部
５に搬送されて芯出し及び回転位置調整が行われる。ア
ライメントが終了したウェハＷは、第２搬送部４からＸ
Ｙステージ７に受け渡されて露光光学系６の直下で所定
のアライメント及び露光処理が行われる。露光処理を終
了したウェハＷは、再度第２搬送部４に受け渡された
後、第１搬送部３に戻されて、装置外に搬出される。

【００３３】以下、第２搬送部４とＸＹステージ７との
間でのウェハＷ交換のシーケンスを詳細に説明する。こ
のウェハＷ交換のシーケンスでは、露光処理の終了した
ウェハＷをＸＹステージ７の載置テーブル７１から回収
し、未露光のウェハＷを載置テーブル７１に載置する。

【００３４】まず、図１に示すように、ウェハＷを載せ
たＸＹステージ７をウェハ交換位置へ移動させる。この
際、アンロード用の搬送ユニット４１もウェハ交換位置
へ移動させる。搬送ユニット４１がウェハ交換位置に移
動したときには、アーム部材４５、４６がウェハＷの直
径よりもわずかに近接した受渡位置から互いに離間した
待機位置まで移動している（図５（ａ）参照）。次に、
載置テーブル７１を動作させてウェハＷの吸着を解除す
るとともに支持ピンを７２の上昇を開始する。これによ
り、載置テーブル７１上の露光済みウェハＷが持ち上げ
られる。次に、支持ピン７２がアーム部材４５、４６よ
りも高い位置まで十分に上昇した段階で、アーム部材４
５、４６を待機位置から互いにウェハＷの直径よりもわ
ずかに近接した受渡位置まで移動させる（図５（ｂ）参
照）。次に、支持ピン７２を降下させ、支持ピン７２か
らアーム部材４５、４６すなわち搬送ユニット４１側に
ウェハＷを渡す。次に、露光済みのウェハＷを載置した
搬送ユニット４１と未露光のウェハＷを載置したロード
用の搬送ユニット４２を入れ替える。この際、搬送ユニ
ット４２のアーム部材は、受渡位置に配置される。次
に、載置テーブル７１を動作させて支持ピンを７２の上
昇を開始する。支持ピン７２が搬送ユニット４２よりも
高い位置まで上昇すると、搬送ユニット４２から支持ピ
ン７２側にウェハＷが渡される。搬送ユニット４２のア
ーム部材を受渡位置から待機位置に移動させる。次に、
支持ピン７２を降下させ、載置テーブル７１上にウェハ
Ｗを吸着保持する。以上の工程において、アーム部材４
５、４６に設けた基板保持部４５ｃ、４６ｃがウェハＷ
の縁部分を支持するので、アーム部材４５、４６は、待
機位置から受渡位置、或いは受渡位置から待機位置まで
迅速に移動することができ、ウェハＷの搬送を迅速なも
のとすることができる。また、この際、ウェハＷを吸着
していないので、さらにウェハＷの受け渡しが迅速なも
のとなる。

【００３５】図６は、図２に示す搬送ユニット４１の変
形例を説明する図である。図６（ａ）は、搬送ユニット
１４１の平面図であり、図６（ｂ）は、搬送ユニット１
４１の側面図である。この搬送ユニット１４１は、一対
のアーム部材１４５、１４６を備える。両アーム部材１
４５、１４６の根元側には、それぞれ昇降装置１４８，
１４９が設けられており、両アーム部材１４５、１４６
を同期して昇降させることができるようになっている。
また、両昇降装置１４８、１４９は、ガイド１４３に沿
って独立してＣＤ方向に移動可能にもなっている。昇降
装置１４８、１４９は、制御回路１５０によって、昇降
（紙面と垂直な方向）とＣＤ方向との移動を制御する。

【００３６】アーム部材１４５、１４６の先端には、ウ
ェハＷの対向する一対の周辺部を支持する支持部１４５
ｃ、１４６ｃが設けられていて、その上面には、ウェハ
Ｗの裏面を吸着保持する吸着部１４５ｇ、１４６ｇが形
成されている。ウェハＷを載置した載置テーブル７１に
は、互いに対向した対向部に一対の切欠７１ａが設けら
れている。切欠７１ａは、アーム部材１４５、１４６の
先端（支持部１４５ｃ、１４６ｃ）が挿入可能なように
支持部１４５ｃ、１４６ｃの形状よりも大きく形成され
ている。つまり、両アーム部材１４５、１４６を載置テ
ーブル７１を挟む位置に配置するとともにウェハＷの直
径よりも離間させて載置テーブル７１の上面（ウェハＷ
の下面）よりも下側まで移動させる。そして、両アーム
部材１４５、１４６を近接させると、両支持部１４５
ｃ、１４６ｃが載置テーブル７１の一対の切欠７１ａに
挿入される。この状態で、支持部１４５ｃ、１４６ｃが
ウェハＷの裏面を吸着保持し、そして、両アーム部材１
４５、１４６を同期して上昇させると、てウェハＷを安
全に上昇させることができる。この際、両支持部１４５
ｃ、１４６ｃが離間した待機位置と両支持部１４５ｃ、
１４６ｃが近接した受渡位置との間で移動量が少ないの
で、ウェハＷの受渡動作が迅速なものとなる。

【００３７】即ち、図１に示すような支持ピン７２を使
うことなく、載置テーブル７１に対するウェハＷの受け
渡しを行うことができる。また、このような構成による
と、ウェハＷの上下動機構及びステージに対するウェハ
Ｗの位置決めも行うことができる。

【００３８】本実施の形態では、載置テーブル７１に切
欠７１ａを形成したが、載置テーブル７１の載置面をウ
ェハＷの大きさより小さく構成してもよい。即ち、載置
テーブル７１にウェハＷを載置した際、ウェハＷの周辺
部のみが浮いた状態になる。この構成にした場合、図２
に示すウェハＷの縁と同一形状を有する基板保持部４５
ｃ、４６ｃを用いてもよい。

【００３９】図７は、図６のアーム部材１４５、１４６
を変形したものである。この場合、吸着部１４５ｇ、１
４６ｇの代わりに、両支持部１４５ｃ、１４６ｃの外側
に移動制限部１４５ｆ、１４６ｆを立設してウェハＷの
水平方向の移動を制限している。

【００４０】以上、実施形態に即してこの発明を説明し
たが、この発明は上記実施形態に限定されるものではな
い。例えば、上記実施形態では、一対のアーム部材４
５、４６でウェハＷを保持しているが、アーム部材４５
にウェハＷを吸着する吸着部を設ければ、単一のアーム
部材４５のみでウェハＷを搬送し、載置テーブル７１と
の間でウェハＷを交換することが可能となる。

【００４１】また、３つ以上のアーム部材でウェハＷを
搬送し、載置テーブル７１にウェハＷを載置することも
可能である。

【００４２】尚、本実施の形態は、露光装置で説明した
が、パターン検査装置、欠陥検査装置等、その他の装置
にも適用することが可能である。

【００４３】

【発明の効果】本発明の基板搬送装置では、搬送アーム
が前記基板の周辺部のうち少なくとも２箇所の周辺部を
支持して前記基板をステージに搬送するので、基板を受
け取る前に搬送アームと基板との相対的な上下動を許容
する待機位置からわずかに搬送アームを水平移動させる
だけで基板の受け渡しが可能になる受渡位置まで搬送ア
ームを移動させることができる。また、基板を渡した後
に基板の受渡位置からわずかに搬送アームを水平移動さ
せるだけで搬送アームと基板との相対的上下動を許容す
る待機位置まで搬送アームを移動させることができる。
よって、基板の受け渡しの動作が迅速なものとなる。

【００４４】また、好ましい態様によれば、前記搬送ア
ームが、前記基板の搬送方向における一方の周辺部の裏
面を支持する第１支持部と前記基板の一方の周辺部の側
面に対向する第１対向部とを有する第１アームと、前記
基板の搬送方向における他方の周辺部の裏面を支持する
第２支持部と前記基板の他方の周辺部の側面に対向する
第２対向部とを有する第２アームと、前記第１アームと
前記第２アームとをそれぞれ互いに接近及び離間するよ
うに駆動する駆動機構とを備えるので、簡単な構造及び
動作で迅速に基板を受け渡し、確実に基板を保持して搬
送することができる。

【００４５】また、好ましい態様によれば、前記搬送ア
ームが、前記基板が載置されるステージの基板支持位置
の周辺部に設けられた切欠部に挿入可能であるとともに
上昇した際に前記ステージ上の基板の裏面を支持する支
持部を有するので、搬送アームの動作のみで迅速な基板
の受け渡しが可能になる。

【００４６】また、本発明の基板処理装置によれば、前
記テーブル周辺に設けられた切欠部と、前記アームに設
けられ、前記切欠部に挿入可能であるとともに上昇した
際に前記テーブル上の基板の裏面を支持する支持部とを
有するので、搬送アームの動作のみで迅速な基板の受け
渡しが可能になる。

【００４７】また、好ましい態様によれば、前記支持部
が、前記基板の周辺部のうち、少なくとも２箇所の裏面
を支持するので基板の支持が安定する。

【００４８】また、好ましい態様によれば、前記搬送ア
ームが、前記基板の搬送方向における一方の周辺部の裏
面を支持する第１支持部と前記基板の一方の周辺部の側
面に対向する第１対向部とを有する第１アームと、前記
基板の搬送方向における他方の周辺部の裏面を支持する
第２支持部と前記基板の他方の周辺部の側面に対向する
第２対向部とを有する第２アームと、前記第１アームと
前記第２アームとをそれぞれ互いに接近及び離間するよ
うに駆動する駆動機構とを備え、前記第１及び第２アー
ムにそれぞれ設けた第１及び第２支持部が前記切欠部に
挿入可能であるので、簡単な構造及び動作で迅速に基板
を受け渡し、基板を確実に保持して搬送することができ
る。

【００４９】また、別の態様の基板搬送装置によれば、
前記基板の周辺部分のうち一対の対向部分の一方を下方
から支持する第１支持部とこれに立設された第１立設部
とを有する第１アームと、前記一対の対向部分の他方を
下方から支持する第２支持部とこれに立設されるととも
に前記第１立設部と協動して前記基板の水平方向への移
動を阻止する第２立設部とを有する第２アームと、前記
基板の搬送に際して前記第１及び第２アームの間隔を保
って当該第１及び第２アームを移動させ前記基板の受け
渡しに際して当該第１及び第２アームの間隔を変化させ
るアーム駆動装置とを備えるので、基板を受け取る前に
第１及び第２アームを離間させた待機位置からわずかに
第１及び第２アームを近接させるだけで第１及び第２ア
ームを受渡位置に移動させることができる。また、基板
を渡した後に第１及び第２アームを受渡位置からわずか
に離間させて待機位置まで移動させることができる。よ
って、簡単な構造及び動作で迅速に基板を受け渡し、基
板を確実に保持して搬送することができる。

【００５０】また、好ましい態様によれば、前記第１及
び第２支持部がそれぞれ前記基板の周辺部分と同一形状
の部材であるので、基板の支持がより安定なものとな
る。

【００５１】また、好ましい態様によれば、前記第１及
び第２アームの少なくとも一方が当該アーム上に前記基
板が支持されているか否かを検出する基板センサをさら
に備えるので、基板の保持が確実なものとなる。

【００５２】また、好ましい態様によれば、前記第１及
び第２アームの間隔及び位置を検出する位置センサをさ
らに備えるので、基板の保持が確実なものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態である露光装置の構造を説
明する平面図である。

【図２】図１の第２搬送部の構造を説明する平面図であ
る。

【図３】一対のアーム部材によるウェハの支持を説明す
る図である。

【図４】図１の装置の制御機構の要部を説明する図であ
る。

【図５】載置テーブルに設けた支持ピンと一対のアーム
部材との間でのウェハの受け渡しを説明する図である。

【図６】図２に示す第２搬送部の変形例を示す平面図及
び側面図である。

【図７】図６に示す第２搬送部の変形例を示す側面図で
ある。

【図８】従来の搬送装置を説明する図である。

【符号の説明】

３第１搬送部４第２搬送部５アライメント部６露光光学系７ＸＹステージ４１、４２搬送ユニット４３ガイド４５、４６アーム部材４５ｄ、４６ｄウェハセンサ４５ｅ、４６ｅ本体部分４５ｆ、４６ｆ移動制限部４７位置センサ７１載置テーブル７２支持ピンＷウェハ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を搬送する搬送装置において、前記基板の周辺部のうち少なくとも２箇所の周辺部を支
持して、前記基板をステージに搬送する搬送アームを有
することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】前記搬送アームは、前記基板の周辺部のうち、前記基板の搬送方向における
一方の周辺部の裏面を支持する第１支持部と、前記第１
支持部に設けられ、前記基板の一方の周辺部の側面に対
向する第１対向部とを有する第１アームと、前記基板の周辺部のうち、前記基板の搬送方向における
他方の周辺部の裏面を支持する第２支持部と、前記第２
支持部に設けられ、前記基板の他方の周辺部の側面に対
向する第２対向部とを有する第２アームと、前記第１アームと前記第２アームとをそれぞれ互いに、
接近及び離間するように駆動する駆動機構とを備えるこ
とを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項３】前記搬送アームは、前記基板が載置され
るステージの基板支持位置の周辺部に設けられた切欠部
に挿入し、前記基板の裏面を支持する支持部を有するこ
とを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項４】基板を支持するテーブルと、前記テーブ
ルに前記基板を搬送するアームとを備える基板処理装置
において、前記テーブル周辺に設けられた切欠部と、前記アームに
設けられ、前記切欠部に挿入し、前記基板の裏面を支持
する支持部とを有する基板処理装置。
【請求項５】前記支持部は、前記基板の周辺部のう
ち、少なくとも２箇所の裏面を支持することを特徴とす
る請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】前記搬送アームは、前記支持部として前記基板の周辺部のうち前記基板の搬
送方向における一方の周辺部の裏面を支持する第１支持
部と、前記第１支持部に設けられ、前記基板の一方の周
辺部の側面に対向する第１対向部とを有する第１アーム
と、前記支持部として前記基板の周辺部のうち前記基板の搬
送方向における他方の周辺部の裏面を支持する第２支持
部と、前記第２支持部に設けられ、前記基板の他方の周
辺部の側面に対向する第２対向部とを有する第２アーム
と、前記第１アームと前記第２アームとをそれぞれ互いに、
接近及び離間するように駆動する駆動機構とを備え、前記第１及び第２アームにそれぞれ設けた第１及び第２
支持部は、前記切欠部に挿入可能であることを特徴とす
る請求項４記載の基板処理装置。
【請求項７】前記基板処理装置は、感光基板にマスク
パターンを転写する露光装置であることを特徴とする請
求項４から請求項６のいずれか記載の露光装置。
【請求項８】基板を搬送するとともに基板載置台との
間で前記基板を受け渡す基板搬送装置において、前記基板の周辺部分のうち、前記基板の搬送方向におい
て略対向する一対の対向部分の一方を下方から支持する
第１支持部と、当該第１支持部に立設された第１立設部
とを有する第１アームと、前記一対の対向部分の他方を下方から支持する第２支持
部と、当該第２支持部に立設されるとともに前記第１立
設部と協動して前記基板の水平方向への移動を阻止する
第２立設部とを有する第２アームと、前記基板の搬送に際して前記第１及び第２アームの間隔
を保って当該第１及び第２アームを移動させ、前記基板
の受け渡しに際して当該第１及び第２アームの間隔を変
化させるアーム駆動装置とを備えることを特徴とする基
板搬送装置。
【請求項９】前記第１及び第２支持部は、それぞれ前
記基板の周辺部分と同一形状の部材であることを特徴と
する請求項２、６、８のいずれか記載の基板搬送装置。
【請求項１０】前記第１及び第２アームの少なくとも
一方は、当該アーム上に前記基板が支持されているか否
かを検出する基板センサをさらに備えることを特徴とす
る請求項２、６、８のいずれか記載の基板搬送装置。
【請求項１１】前記第１及び第２アームの間隔及び位
置を検出する位置センサをさらに備えることを特徴とす
る請求項８記載の基板搬送装置。