JPH11111603A - 基板現像方法及びその装置 - Google Patents
基板現像方法及びその装置Info
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- JPH11111603A JPH11111603A JP9274205A JP27420597A JPH11111603A JP H11111603 A JPH11111603 A JP H11111603A JP 9274205 A JP9274205 A JP 9274205A JP 27420597 A JP27420597 A JP 27420597A JP H11111603 A JPH11111603 A JP H11111603A
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 各吐出孔の軌跡が異なるようにして、現像の
均一性を向上させることができる。 【解決手段】 基板Ｗを回転させるとともに現像液を供
給して現像処理を施す基板現像装置であって、基板Ｗを
回転自在に支持するスピンチャック１と、現像液を吐出
する８個の吐出孔１１ａを、基板Ｗの回転中心Ｐ１から
の距離がそれぞれ異なるように配置してなるノズル９
と、ノズル９を基板Ｗの半径方向に移動させる揺動駆動
機構１５とを備える。各吐出孔１１ａの回転中心Ｐ１か
らの距離がそれぞれ異なるので、基板Ｗ上における各吐
出孔１１ａの軌跡が重複せず、現像液の集中が防止でき
る。
均一性を向上させることができる。 【解決手段】 基板Ｗを回転させるとともに現像液を供
給して現像処理を施す基板現像装置であって、基板Ｗを
回転自在に支持するスピンチャック１と、現像液を吐出
する８個の吐出孔１１ａを、基板Ｗの回転中心Ｐ１から
の距離がそれぞれ異なるように配置してなるノズル９
と、ノズル９を基板Ｗの半径方向に移動させる揺動駆動
機構１５とを備える。各吐出孔１１ａの回転中心Ｐ１か
らの距離がそれぞれ異なるので、基板Ｗ上における各吐
出孔１１ａの軌跡が重複せず、現像液の集中が防止でき
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示器のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光
ディスク用の基板等（以下、単に基板と称する）に対し
て現像処理を施す基板現像方法及びその装置に係り、特
に、基板を回転させるとともに現像液を供給して現像処
理を行う技術に関する。
表示器のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光
ディスク用の基板等（以下、単に基板と称する）に対し
て現像処理を施す基板現像方法及びその装置に係り、特
に、基板を回転させるとともに現像液を供給して現像処
理を行う技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の基板現像装置として、例
えば、図９に示すノズルを備えたものが挙げられる。こ
のノズル１００は、図９（ａ）に示すようにその側面に
５個の吐出孔１０１（第１吐出孔１０１ａ〜第５吐出孔
１０１ｅ）が形成されており、図９（ｂ）の矢視断面図
に示すように各吐出孔１０１同士のなす角度が等しくな
るようにされている。
えば、図９に示すノズルを備えたものが挙げられる。こ
のノズル１００は、図９（ａ）に示すようにその側面に
５個の吐出孔１０１（第１吐出孔１０１ａ〜第５吐出孔
１０１ｅ）が形成されており、図９（ｂ）の矢視断面図
に示すように各吐出孔１０１同士のなす角度が等しくな
るようにされている。
【０００３】このように構成されたノズル１００から現
像液を供給して基板に現像処理を施すには、例えば、図
１０に示すように第１吐出孔１０１ａが基板Ｗの回転中
心Ｐの上方に位置するようにノズル１００を移動し、基
板Ｗを回転させつつ現像液を供給する。このように側面
に吐出孔１０１を有するノズル１００から現像液を吐出
すると、基板Ｗ面に被着されている露光済の塗布被膜に
与える衝撃を和らげることができる一方で、図中に二点
鎖線で示す同心円のように、回転中心Ｐから等距離に位
置する第２吐出孔１０１ｂと第５吐出孔１０１ｅおよび
第３吐出孔１０１ｃと第４吐出孔１０１ｄの直下付近に
現像液が集中的に吐出されることになる。つまり、これ
らの同心円状の部分には活性度の高い現像液が集中する
ため、他の部分に比べて現像度合いが進行し、基板面内
における現像の均一性が悪化するという問題がある。
像液を供給して基板に現像処理を施すには、例えば、図
１０に示すように第１吐出孔１０１ａが基板Ｗの回転中
心Ｐの上方に位置するようにノズル１００を移動し、基
板Ｗを回転させつつ現像液を供給する。このように側面
に吐出孔１０１を有するノズル１００から現像液を吐出
すると、基板Ｗ面に被着されている露光済の塗布被膜に
与える衝撃を和らげることができる一方で、図中に二点
鎖線で示す同心円のように、回転中心Ｐから等距離に位
置する第２吐出孔１０１ｂと第５吐出孔１０１ｅおよび
第３吐出孔１０１ｃと第４吐出孔１０１ｄの直下付近に
現像液が集中的に吐出されることになる。つまり、これ
らの同心円状の部分には活性度の高い現像液が集中する
ため、他の部分に比べて現像度合いが進行し、基板面内
における現像の均一性が悪化するという問題がある。
【０００４】そこで、このように同心円状に現像液が集
中することに起因する不都合を回避するために、基板Ｗ
を回転させるとともにノズル１００から現像液を供給
し、さらにノズル１００を基板Ｗの半径方向に移動させ
ることが行われる。
中することに起因する不都合を回避するために、基板Ｗ
を回転させるとともにノズル１００から現像液を供給
し、さらにノズル１００を基板Ｗの半径方向に移動させ
ることが行われる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来例の場合には、次のような問題がある。すなわ
ち、基板Ｗを回転させながらノズル１００を移動させた
場合には、図１０中に実線で示すようにノズル１００の
各吐出孔１０１ａ〜１０１ｅの軌跡が螺旋状になるが、
回転中心Ｐから等距離にある第２吐出孔１０１ｂと第５
吐出孔１０１ｅおよび第３吐出孔１０１ｃと第４吐出孔
１０１ｄの軌跡が類似した軌跡となり、近接した軌跡を
描くことになるので、この軌跡に沿って現像液が集中
し、現像の均一性をさほど改善することができないとい
う問題がある。
うな従来例の場合には、次のような問題がある。すなわ
ち、基板Ｗを回転させながらノズル１００を移動させた
場合には、図１０中に実線で示すようにノズル１００の
各吐出孔１０１ａ〜１０１ｅの軌跡が螺旋状になるが、
回転中心Ｐから等距離にある第２吐出孔１０１ｂと第５
吐出孔１０１ｅおよび第３吐出孔１０１ｃと第４吐出孔
１０１ｄの軌跡が類似した軌跡となり、近接した軌跡を
描くことになるので、この軌跡に沿って現像液が集中
し、現像の均一性をさほど改善することができないとい
う問題がある。
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、各吐出孔の軌跡が異なるようにして、
現像の均一性を向上させることができる基板現像方法及
びその装置を提供することを目的とする。
たものであって、各吐出孔の軌跡が異なるようにして、
現像の均一性を向上させることができる基板現像方法及
びその装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の基板現像方法は、基板を回転させ
るとともに現像液を供給して現像処理を施す基板現像方
法であって、複数個の吐出孔から現像液を同時に吐出さ
せ、基板の回転中心からの距離が各吐出孔ごとに異なる
ように配置した状態で、かつ、全ての吐出孔を一体的に
基板の半径方向に移動させるようにしたことを特徴とす
るものである。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の基板現像方法は、基板を回転させ
るとともに現像液を供給して現像処理を施す基板現像方
法であって、複数個の吐出孔から現像液を同時に吐出さ
せ、基板の回転中心からの距離が各吐出孔ごとに異なる
ように配置した状態で、かつ、全ての吐出孔を一体的に
基板の半径方向に移動させるようにしたことを特徴とす
るものである。
【０００８】また、請求項２に記載の基板現像装置は、
基板を回転させるとともに現像液を供給して現像処理を
施す基板現像装置であって、基板を回転自在に支持する
回転支持手段と、現像液を吐出する複数個の吐出孔を、
前記基板の回転中心からの距離がそれぞれ異なるように
配置してなる現像液供給手段と、前記現像液供給手段を
前記基板の半径方向に移動させる移動手段と、を備えて
いることを特徴とするものである。
基板を回転させるとともに現像液を供給して現像処理を
施す基板現像装置であって、基板を回転自在に支持する
回転支持手段と、現像液を吐出する複数個の吐出孔を、
前記基板の回転中心からの距離がそれぞれ異なるように
配置してなる現像液供給手段と、前記現像液供給手段を
前記基板の半径方向に移動させる移動手段と、を備えて
いることを特徴とするものである。
【０００９】また、請求項３に記載の基板現像装置は、
請求項２に記載の基板現像装置において、前記現像液供
給手段は、複数個の吐出孔が１つのノズルに形成されて
なることを特徴とするものである。
請求項２に記載の基板現像装置において、前記現像液供
給手段は、複数個の吐出孔が１つのノズルに形成されて
なることを特徴とするものである。
【００１０】
【作用】請求項１に記載の発明によれば、基板の回転中
心からの距離が異なるように各吐出孔を配置した状態で
現像液を吐出するので、現像液の集中が防止できる。さ
らに基板を回転させつつ全吐出孔を一体的に半径方向に
移動させることで現像液の集中を防止したまま基板全面
にわたって現像液を供給できる。
心からの距離が異なるように各吐出孔を配置した状態で
現像液を吐出するので、現像液の集中が防止できる。さ
らに基板を回転させつつ全吐出孔を一体的に半径方向に
移動させることで現像液の集中を防止したまま基板全面
にわたって現像液を供給できる。
【００１１】また、請求項２に記載の発明によれば、複
数個の吐出孔を回転中心からの距離が異なるように配置
してなる現像液供給手段より回転支持手段に支持された
基板に現像液を吐出するので、基板上における現像液の
集中を防止できる。さらに現像液供給手段を移動手段で
半径方向に移動させることによって、現像液の集中を防
止したまま基板全面にわたって現像液を供給できる。
数個の吐出孔を回転中心からの距離が異なるように配置
してなる現像液供給手段より回転支持手段に支持された
基板に現像液を吐出するので、基板上における現像液の
集中を防止できる。さらに現像液供給手段を移動手段で
半径方向に移動させることによって、現像液の集中を防
止したまま基板全面にわたって現像液を供給できる。
【００１２】また、請求項３に記載の発明によれば、複
数個の吐出孔が形成された１つのノズルを現像液供給手
段とすることで構成を簡単化できる。
数個の吐出孔が形成された１つのノズルを現像液供給手
段とすることで構成を簡単化できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は実施例に係る基板現像装置の
概略構成図であり、図２はノズルの移動動作を示す平面
図である。
実施例を説明する。図１は実施例に係る基板現像装置の
概略構成図であり、図２はノズルの移動動作を示す平面
図である。
【００１４】基板Ｗを水平姿勢で保持するスピンチャッ
ク１は、回転軸３を介して電動モータ５に連動連結され
ており、電動モータ５の回転によって基板Ｗを回転中心
Ｐ１周りに回転駆動する。なお、スピンチャック１と、
回転軸３と、電動モータ５とが本発明の回転支持手段に
相当する。
ク１は、回転軸３を介して電動モータ５に連動連結され
ており、電動モータ５の回転によって基板Ｗを回転中心
Ｐ１周りに回転駆動する。なお、スピンチャック１と、
回転軸３と、電動モータ５とが本発明の回転支持手段に
相当する。
【００１５】上記のスピンチャック１は、基板Ｗに吐出
された現像液が周囲に飛散するのを防止する飛散防止カ
ップ７によって囲われているとともに、その上方には現
像液を吐出するノズル９が配備されている。このノズル
９は本発明の現像液供給手段に相当するものであって、
ノズル先端部１１と、このノズル先端部１１を支持する
支持アーム１３とによって構成されているとともに、支
持アーム１３の基端部側に連動連結された揺動駆動機構
１５ごと昇降自在に構成されている。揺動駆動機構１５
は、ノズル先端部１１の下面に開口形成されて直線的に
配置されている８個の吐出孔１１ａのうちの先端側（回
転中心Ｐ１側）の１個が回転中心Ｐ１を通るように揺動
中心Ｐ２周りに支持アーム１３を揺動することによっ
て、ノズル先端部１１を基板Ｗの半径方向に移動させる
ようになっている。
された現像液が周囲に飛散するのを防止する飛散防止カ
ップ７によって囲われているとともに、その上方には現
像液を吐出するノズル９が配備されている。このノズル
９は本発明の現像液供給手段に相当するものであって、
ノズル先端部１１と、このノズル先端部１１を支持する
支持アーム１３とによって構成されているとともに、支
持アーム１３の基端部側に連動連結された揺動駆動機構
１５ごと昇降自在に構成されている。揺動駆動機構１５
は、ノズル先端部１１の下面に開口形成されて直線的に
配置されている８個の吐出孔１１ａのうちの先端側（回
転中心Ｐ１側）の１個が回転中心Ｐ１を通るように揺動
中心Ｐ２周りに支持アーム１３を揺動することによっ
て、ノズル先端部１１を基板Ｗの半径方向に移動させる
ようになっている。
【００１６】なお、上述した電動モータ５と、ノズル９
と、揺動駆動機構１５とは制御部１７に接続されてお
り、回転数や揺動速度、現像液の吐出タイミングや吐出
量などが統括的に制御されるようになっている。
と、揺動駆動機構１５とは制御部１７に接続されてお
り、回転数や揺動速度、現像液の吐出タイミングや吐出
量などが統括的に制御されるようになっている。
【００１７】図３に示すようにノズル先端部１１の下面
には、８個の吐出孔１１ａが開口形成されているととも
に、それらが直線的に配置されている。なお、説明の都
合上、８個の吐出孔１１ａの各々を区別する必要がある
ときには左端から第１吐出孔１１ａ1 〜第８吐出孔１１
ａ8 と称し、その必要がないときには単に吐出孔１１ａ
と称する。ノズル先端部１１に形成されている全ての吐
出孔１１ａ1 〜１１ａ 8 は、支持アーム１３内に形成さ
れている現像液を供給するための供給路１３ａと連通し
ており、全ての吐出孔１１ａから同時に現像液を吐出す
る。図３のＢ−Ｂ矢視断面図である図４に示すように、
吐出孔１１ａと供給路１３ａとは、ノズル先端部１１内
に形成されている貯留部１１ｂと傾斜流路１１ｃとを介
して連通しており、現像液に含まれている気泡に起因す
る流路断面積の減少により吐出に不具合が生じることを
防止できるように構成されている。
には、８個の吐出孔１１ａが開口形成されているととも
に、それらが直線的に配置されている。なお、説明の都
合上、８個の吐出孔１１ａの各々を区別する必要がある
ときには左端から第１吐出孔１１ａ1 〜第８吐出孔１１
ａ8 と称し、その必要がないときには単に吐出孔１１ａ
と称する。ノズル先端部１１に形成されている全ての吐
出孔１１ａ1 〜１１ａ 8 は、支持アーム１３内に形成さ
れている現像液を供給するための供給路１３ａと連通し
ており、全ての吐出孔１１ａから同時に現像液を吐出す
る。図３のＢ−Ｂ矢視断面図である図４に示すように、
吐出孔１１ａと供給路１３ａとは、ノズル先端部１１内
に形成されている貯留部１１ｂと傾斜流路１１ｃとを介
して連通しており、現像液に含まれている気泡に起因す
る流路断面積の減少により吐出に不具合が生じることを
防止できるように構成されている。
【００１８】上記の制御部１７は、電動モータ５の回転
数と、揺動駆動機構１５の揺動速度と、吐出孔１１ａか
らの現像液の吐出タイミングや吐出量などを統括的に制
御し、例えば、一定速度で電動モータ５を回転させつつ
全ての吐出孔１１ａから同時に現像液を吐出させた状態
で、図２に示すようにノズル９のノズル先端部１１を基
板Ｗの側方（図中の実線）から基板Ｗの回転中心Ｐ１の
上方（図中の二点鎖線）まで揺動させて現像液を基板Ｗ
の表面全体にわたって供給するようになっている。な
お、ノズル９の揺動方向としては、回転中心Ｐ１から基
板Ｗの端縁部方向としてもよい。
数と、揺動駆動機構１５の揺動速度と、吐出孔１１ａか
らの現像液の吐出タイミングや吐出量などを統括的に制
御し、例えば、一定速度で電動モータ５を回転させつつ
全ての吐出孔１１ａから同時に現像液を吐出させた状態
で、図２に示すようにノズル９のノズル先端部１１を基
板Ｗの側方（図中の実線）から基板Ｗの回転中心Ｐ１の
上方（図中の二点鎖線）まで揺動させて現像液を基板Ｗ
の表面全体にわたって供給するようになっている。な
お、ノズル９の揺動方向としては、回転中心Ｐ１から基
板Ｗの端縁部方向としてもよい。
【００１９】このとき図２から容易に判るように回転中
心Ｐ１から各吐出孔１１ａまでの距離がそれぞれ異なる
ので、第１吐出孔１１ａ1 〜第８吐出孔１１ａ8 の基板
Ｗ上における軌跡は、例えば、図５に示すようになる。
なお、この図では、図示の関係上、ノズル先端部１１に
形成されている複数個の吐出孔１１ａのうち両端に形成
されている第１吐出孔１１ａ1 と第８吐出孔１１ａ8 の
軌跡だけを菱形と正方形のドットで描いている。
心Ｐ１から各吐出孔１１ａまでの距離がそれぞれ異なる
ので、第１吐出孔１１ａ1 〜第８吐出孔１１ａ8 の基板
Ｗ上における軌跡は、例えば、図５に示すようになる。
なお、この図では、図示の関係上、ノズル先端部１１に
形成されている複数個の吐出孔１１ａのうち両端に形成
されている第１吐出孔１１ａ1 と第８吐出孔１１ａ8 の
軌跡だけを菱形と正方形のドットで描いている。
【００２０】この図５から明らかなように、直線的に配
置形成されている８個の吐出孔１１ａのうち両端にある
第１吐出孔１１ａ1 と第８吐出孔１１ａ8 の軌跡が重複
することが無いのと同様に、それらの間に形成されてい
る第２吐出孔１１ａ2 〜第７吐出孔１１ａ7 も軌跡が重
複することはないので、ノズル先端部１１に形成されて
いる第１吐出孔１１ａ1 〜第８吐出孔１１ａ8 の８個の
吐出孔１１ａは他のものと同一軌跡を描くことはない。
これによって基板Ｗ上に吐出される現像液の集中を防止
することができ、基板を回転させつつ全吐出孔１１ａを
一体的に半径方向に移動させることで現像液の集中を防
止したまま基板Ｗの表面全体にわたって均一に現像液を
供給することができる。したがって、基板Ｗの面内にお
ける現像処理を均一に施すことができる。
置形成されている８個の吐出孔１１ａのうち両端にある
第１吐出孔１１ａ1 と第８吐出孔１１ａ8 の軌跡が重複
することが無いのと同様に、それらの間に形成されてい
る第２吐出孔１１ａ2 〜第７吐出孔１１ａ7 も軌跡が重
複することはないので、ノズル先端部１１に形成されて
いる第１吐出孔１１ａ1 〜第８吐出孔１１ａ8 の８個の
吐出孔１１ａは他のものと同一軌跡を描くことはない。
これによって基板Ｗ上に吐出される現像液の集中を防止
することができ、基板を回転させつつ全吐出孔１１ａを
一体的に半径方向に移動させることで現像液の集中を防
止したまま基板Ｗの表面全体にわたって均一に現像液を
供給することができる。したがって、基板Ｗの面内にお
ける現像処理を均一に施すことができる。
【００２１】なお、上述した効果を得るためには、上記
のノズル先端部１１に限定されるものではなく、例え
ば、図６（ノズル先端部を下方から見た図）に示すよう
なノズル先端部２１であってもよい。
のノズル先端部１１に限定されるものではなく、例え
ば、図６（ノズル先端部を下方から見た図）に示すよう
なノズル先端部２１であってもよい。
【００２２】すなわち、上述したノズル先端部１１で
は、その下面に８個の吐出孔１１ａを直線的に配置する
ように形成したが、このノズル先端部２１ではその下面
に４個の吐出孔２１ａ1 ，２１ａ3 ，２１ａ5 ，２１ａ
7 を直線的に配置し、これらと互い違いに４個の吐出孔
２１ａ2 ，２１ａ4 ，２１ａ6 ，２１ａ8 を直線的に配
置している。このように構成したノズル先端部２１であ
っても、回転中心Ｐ１からの距離が各吐出孔２１ａごと
に異なるので、現像液の集中を防止できて上記の構成と
同様の効果を得ることができる。
は、その下面に８個の吐出孔１１ａを直線的に配置する
ように形成したが、このノズル先端部２１ではその下面
に４個の吐出孔２１ａ1 ，２１ａ3 ，２１ａ5 ，２１ａ
7 を直線的に配置し、これらと互い違いに４個の吐出孔
２１ａ2 ，２１ａ4 ，２１ａ6 ，２１ａ8 を直線的に配
置している。このように構成したノズル先端部２１であ
っても、回転中心Ｐ１からの距離が各吐出孔２１ａごと
に異なるので、現像液の集中を防止できて上記の構成と
同様の効果を得ることができる。
【００２３】また、その他に図７の側面図に示すような
ノズル先端部３１であっても上記と効果を奏する。
ノズル先端部３１であっても上記と効果を奏する。
【００２４】つまり、ノズル先端部３１の側面に８個の
吐出孔３１ａ（３１ａ1 〜３１ａ8）を形成する。この
構成であっても基板Ｗ上における現像液の集中を防止で
きて均一に現像液を供給することができる。
吐出孔３１ａ（３１ａ1 〜３１ａ8）を形成する。この
構成であっても基板Ｗ上における現像液の集中を防止で
きて均一に現像液を供給することができる。
【００２５】また、上述した実施例では、ノズル先端部
１１を基板Ｗの半径方向に揺動するようにしたが、図８
に示すように基板Ｗの半径方向に沿って直線的に移動す
るようにしてもよい。
１１を基板Ｗの半径方向に揺動するようにしたが、図８
に示すように基板Ｗの半径方向に沿って直線的に移動す
るようにしてもよい。
【００２６】なお、上記の説明では、複数個の吐出孔１
１ａ，２１ａ，３１ａをノズル先端部１１，２１，３１
に形成した現像液供給手段を例に採って説明している
が、本発明はこのような構成の他に、各々１つの吐出孔
を有する別体のノズルを複数本組み合わせ、各吐出孔
の、基板の回転中心からの距離がそれぞれ異なるように
した状態で、全てのノズルから同時に現像液を吐出させ
ながら基板の半径方向に同時に移動させるようにしても
よい。
１ａ，２１ａ，３１ａをノズル先端部１１，２１，３１
に形成した現像液供給手段を例に採って説明している
が、本発明はこのような構成の他に、各々１つの吐出孔
を有する別体のノズルを複数本組み合わせ、各吐出孔
の、基板の回転中心からの距離がそれぞれ異なるように
した状態で、全てのノズルから同時に現像液を吐出させ
ながら基板の半径方向に同時に移動させるようにしても
よい。
【００２７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の方法発明によれば、各吐出孔の軌跡が異なる
ようにすることにより、現像液の集中を防止したまま基
板全面にわたって現像液を供給できる。したがって、基
板面内における現像の均一性を向上させることができ
る。
１に記載の方法発明によれば、各吐出孔の軌跡が異なる
ようにすることにより、現像液の集中を防止したまま基
板全面にわたって現像液を供給できる。したがって、基
板面内における現像の均一性を向上させることができ
る。
【００２８】また、請求項２に記載の装置発明によれ
ば、請求項１に記載の方法発明を好適に実施できる。
ば、請求項１に記載の方法発明を好適に実施できる。
【００２９】また、請求項３に記載の装置発明によれ
ば、簡易な構成で基板面内における現像の均一性を向上
させることができる。
ば、簡易な構成で基板面内における現像の均一性を向上
させることができる。
【図１】実施例に係る基板現像装置の概略構成図であ
る。
る。
【図２】ノズルの移動動作を説明する平面図である。
【図３】ノズルを側面および下方から見た図である。
【図４】図３のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図５】ノズルの吐出孔が描く軌跡を示す平面図であ
る。
る。
【図６】ノズルの変形例を下方から見た図である。
【図７】ノズルの変形例を側面から見た図である。
【図８】ノズルの移動動作の変形例を示す平面図であ
る。
る。
【図９】従来例に係るノズルの側面図およびそのＡ−Ａ
矢視断面図である。
矢視断面図である。
【図１０】従来の現像液処理時における吐出孔の軌跡を
示す図である。
示す図である。
Ｗ … 基板 １ … スピンチャック（回転支持手段） ３ … 回転軸（回転支持手段） ５ … 電動モータ（回転支持手段） ７ … 飛散防止カップ ９ … ノズル（現像液供給手段） １１ … ノズル先端部 １１ａ … 吐出孔 １１ａ1 〜１１ａ8 … 第１吐出孔〜第８吐出孔 １３ … 支持アーム １５ … 揺動駆動機構（移動手段） １７ … 制御部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 光治 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 長田 直之 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内
Claims (3)
- 【請求項１】 基板を回転させるとともに現像液を供給
して現像処理を施す基板現像方法であって、 複数個の吐出孔から現像液を同時に吐出させ、基板の回
転中心からの距離が各吐出孔ごとに異なるように配置し
た状態で、かつ、全ての吐出孔を一体的に基板の半径方
向に移動させるようにしたことを特徴とする基板現像方
法。 - 【請求項２】 基板を回転させるとともに現像液を供給
して現像処理を施す基板現像装置であって、 基板を回転自在に支持する回転支持手段と、 現像液を吐出する複数個の吐出孔を、前記基板の回転中
心からの距離がそれぞれ異なるように配置してなる現像
液供給手段と、 前記現像液供給手段を前記基板の半径方向に移動させる
移動手段と、 を備えていることを特徴とする基板現像装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載の基板現像装置におい
て、前記現像液供給手段は、複数個の吐出孔が１つのノ
ズルに形成されてなることを特徴とする基板現像装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9274205A JPH11111603A (ja) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | 基板現像方法及びその装置 |
| US09/149,438 US5962070A (en) | 1997-09-25 | 1998-09-08 | Substrate treating method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9274205A JPH11111603A (ja) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | 基板現像方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11111603A true JPH11111603A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=17538509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9274205A Pending JPH11111603A (ja) | 1997-09-25 | 1997-10-07 | 基板現像方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11111603A (ja) |
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- 1997-10-07 JP JP9274205A patent/JPH11111603A/ja active Pending
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