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JPH0325407Y2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0325407Y2
JPH0325407Y2 JP998387U JP998387U JPH0325407Y2 JP H0325407 Y2 JPH0325407 Y2 JP H0325407Y2 JP 998387 U JP998387 U JP 998387U JP 998387 U JP998387 U JP 998387U JP H0325407 Y2 JPH0325407 Y2 JP H0325407Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
substrate
sheet
processing chamber
adhesive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP998387U
Other languages
Japanese (ja)
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JPS63119243U (en
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP998387U priority Critical patent/JPH0325407Y2/ja
Publication of JPS63119243U publication Critical patent/JPS63119243U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0325407Y2 publication Critical patent/JPH0325407Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この考案は、紫外線感応型粘着剤が塗布された
シート組立体に紫外線を含む光を照射して処理す
る粘着シート処理装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] This invention relates to an adhesive sheet processing apparatus that processes a sheet assembly coated with an ultraviolet-sensitive adhesive by irradiating it with light containing ultraviolet rays.

[従来の技術] 集積回路(IC)等の半導体装置の製造工程中
には、半導体ウエハをチツプ状に切断するダイシ
ング工程が存在する。このダイシング工程におい
て、半導体ウエハを保持する方法として、支持フ
レームの中心に半導体ウエハを配置し、粘着剤が
塗布されたシートにてこれらの下面を粘着して一
体としたシート組立体とし、この支持フレームを
固定して、カツターにてシートを残して半導体ウ
エハのみを切断することが行われる。この方法
は、チツプの欠けや飛散などが防止できる利点を
有するが、切断時の衝撃力などに耐えるために粘
着剤の粘着力は大きくなければならない。しか
し、反面において、切断後はチツプがシートから
容易に剥離されなければならないために、最近
は、紫外線を照射することにより粘着力が低下す
る性質を有する紫外線感応型粘着剤が用いられて
おり、この粘着剤が塗布されたシートにて半導体
ウエハを粘着して切断後に紫外線を照射してい
る。そして、不活性ガス雰囲気中で紫外線を照射
すると、粘着力の低下にさらに効果が有ることが
知られている。
[Prior Art] In the manufacturing process of semiconductor devices such as integrated circuits (ICs), there is a dicing process in which a semiconductor wafer is cut into chips. In this dicing process, the method of holding the semiconductor wafer is to place the semiconductor wafer in the center of the support frame, and use a sheet coated with adhesive to adhere the lower surfaces of the wafer to form an integrated sheet assembly. The frame is fixed and only the semiconductor wafer is cut using a cutter, leaving the sheet intact. This method has the advantage of preventing chips from chipping or scattering, but the adhesive must have a high adhesive strength in order to withstand the impact force during cutting. However, on the other hand, since the chips must be easily peeled off from the sheet after cutting, UV-sensitive adhesives have recently been used that have the property of decreasing adhesive strength when irradiated with UV rays. A semiconductor wafer is adhered to a sheet coated with this adhesive, and after being cut, it is irradiated with ultraviolet light. It is known that irradiation with ultraviolet rays in an inert gas atmosphere is more effective in reducing adhesive strength.

第2図は紫外線感応型粘着剤が塗布されたフイ
ルム1の上に半導体ウエハ2が粘着されたシート
組立体10にN2ガス雰囲気中で紫外線を照射し
て処理する従来の装置の概略を示したもので、3
はリング状の支持フレームであつて、シート組立
体10を搬送するときの吸着機構によつて吸着す
るためのものであり、4はシート組立体10を
N2ガス雰囲気にするためのカバーであり、5は
周辺部に4本の吸着パツト6を有する真空の吸着
機構であり、このシート組立体10をカバー4で
覆つている。従つて、このカバー4とシート組立
体10の搬入及び搬出機構5aとが干渉しないよ
うにする必要があるが、このためにカバー4を上
下に上げ、下げするための駆動機構4aが必要で
あつた。
FIG. 2 schematically shows a conventional apparatus for processing a sheet assembly 10, in which a semiconductor wafer 2 is adhered to a film 1 coated with an ultraviolet-sensitive adhesive, by irradiating ultraviolet rays in an N2 gas atmosphere. 3
4 is a ring-shaped support frame that is used to attract the seat assembly 10 by a suction mechanism when conveying the seat assembly 10;
This is a cover for creating an N 2 gas atmosphere, and 5 is a vacuum suction mechanism having four suction pads 6 around the periphery, and this sheet assembly 10 is covered with the cover 4. Therefore, it is necessary to prevent the cover 4 from interfering with the loading/unloading mechanism 5a of the seat assembly 10, but for this purpose, a drive mechanism 4a is required to raise and lower the cover 4 up and down. Ta.

[考案が解決しようとする問題点] 上記のように従来の装置では、カバーを上下に
駆動する機構と、シート組立体を搬送する機構と
の干渉を避けるために、処理装置全体が大型とな
つて広いスペースを必要とし、またシート組立体
を搬入、搬出する機構が複雑であるという問題点
があつた。
[Problems to be solved by the invention] As mentioned above, in the conventional apparatus, the entire processing apparatus becomes large in order to avoid interference between the mechanism that drives the cover up and down and the mechanism that conveys the sheet assembly. There were problems in that a large space was required for the seat assembly, and the mechanism for loading and unloading the seat assembly was complicated.

この考案はかかる従来の問題点を解決するため
になされたもので、半導体用などのウエハが紫外
線感応型粘着剤の塗布されたシートに粘着された
シート組立体を不活性ガス雰囲気中で処理する際
に、処理装置が小型となつて広いスペースを必要
とせず、シート組立体の搬入、搬出の効率も良い
粘着シート処理装置を提供することを目的とす
る。
This idea was made to solve such conventional problems, and the sheet assembly, in which a semiconductor wafer is adhered to a sheet coated with an ultraviolet-sensitive adhesive, is processed in an inert gas atmosphere. Another object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive sheet processing device that is small in size, does not require a large space, and is efficient in carrying in and out of sheet assemblies.

[問題点を解決するための手段] 上記の目的と達成するために、この考案の粘着
シート処理装置は、シート組立体を載置する基板
は処理室下部を構成し、かつ、この処理室下部内
に不活性ガス供給手段を具備し、前記搬送機構に
前記処理室上部を構成するカバーを併設した構造
を具備させたものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the adhesive sheet processing apparatus of this invention has a substrate on which a sheet assembly is placed, which constitutes a lower part of a processing chamber, and a lower part of this processing chamber. The apparatus is provided with an inert gas supply means therein, and the transport mechanism is provided with a cover constituting the upper part of the processing chamber.

[作用] 上記の構成を有することにより、不活性ガス供
給用の配管を基板に固定することができると共
に、一度の移動で搬送とカバー部分の移動が同時
にできる。
[Function] With the above configuration, the inert gas supply piping can be fixed to the substrate, and the conveyance and cover portion can be simultaneously moved in one movement.

[実施例] 第1図a,bは、この考案の一実施例を示す粘
着シート処理装置の主要部の概略構成を示す平面
図及び側面図である。
[Example] Figures 1a and 1b are a plan view and a side view showing a schematic configuration of the main parts of a pressure-sensitive adhesive sheet processing apparatus showing an example of this invention.

第1図において、7はパツト6の吸着時にパツ
ト6の可撓性を増大させるためのバネ、11はシ
ート組立体10に対して紫外線を含む光を照射す
るための灯体で、内部に照射光源であるランプ1
2、反射ミラー13を有している。また、14は
シート組立体10が処理される基板で、中央に光
を透過させるための透孔15が設けられており、
かつ、周辺部が光照射のための処理室下部を構成
するための枠体17で囲まれており、この枠体1
7の一部を貫通するN2ガス供給用の配管18が
設けられている。また、20は駆動部を構成し、
キヤツプの機能を有し処理室上部を構成するカバ
ーと一体形成された搬送アーム22と、レール2
1とからなり、この搬送アーム22は基板14に
載置されて処理室を形成する。23はモータMに
より駆動されるベルトで、24はコンベアのベル
トである。また、第1図と同一符号は同一又は相
当部分を示す。
In FIG. 1, 7 is a spring for increasing the flexibility of the part 6 when it is attracted, and 11 is a lamp for irradiating the sheet assembly 10 with light including ultraviolet rays, which irradiates the inside of the part 6. Lamp 1 as a light source
2. It has a reflecting mirror 13. Further, 14 is a substrate on which the sheet assembly 10 is processed, and a through hole 15 for transmitting light is provided in the center.
In addition, the peripheral portion is surrounded by a frame 17 for configuring the lower part of the processing chamber for light irradiation, and this frame 1
A pipe 18 for supplying N 2 gas is provided that penetrates a part of the pipe 7 . Further, 20 constitutes a driving section,
A transport arm 22 that functions as a cap and is integrally formed with a cover that constitutes the upper part of the processing chamber, and a rail 2
1, and this transfer arm 22 is placed on the substrate 14 to form a processing chamber. 23 is a belt driven by a motor M, and 24 is a conveyor belt. Further, the same reference numerals as in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts.

いま、ダイシング工程が終了した後、シート組
立体10を基板14に搬送する場合について説明
する。ベルト24上を移動してきたシート組立体
10は、処理室上部を構成する搬送アーム22に
より真空吸着のパツト6で吸着される。そしてモ
ータMの回転により、搬送アーム22がベルト2
3によりレール21上を移動してシート組立体1
0を基板14の中央部に載置する。処理室下部を
構成する基板14に載置されたシート組立体10
に対して、配管18からN2ガスを供給して、N2
ガス雰囲気にする。その後、灯体11から光処理
が行われ、シート組立体10におけるフイルム1
の粘着力は低下させられる。
Now, a case will be described in which the sheet assembly 10 is conveyed to the substrate 14 after the dicing process is completed. The sheet assembly 10 that has moved on the belt 24 is sucked by a vacuum suction pad 6 by the conveyor arm 22 that forms the upper part of the processing chamber. Then, due to the rotation of the motor M, the conveyor arm 22 is moved to the belt 2.
3 to move the seat assembly 1 on the rail 21.
0 is placed on the center of the substrate 14. Sheet assembly 10 placed on a substrate 14 constituting the lower part of the processing chamber
, by supplying N 2 gas from the pipe 18 to
Create a gas atmosphere. Thereafter, light processing is performed from the lamp body 11, and the film 1 in the sheet assembly 10 is
The adhesion of is reduced.

この実施例においては、処理室下部を構成する
基板14と、処理室上部を構成するカバーを併設
した搬送アーム22との重ね合せによつて光照射
のための処理室が構成されるので、特別にキヤツ
プの機能を有するカバーを設けて、それを上下動
させる必要はない。
In this embodiment, the processing chamber for light irradiation is constructed by overlapping the substrate 14 that forms the lower part of the processing chamber and the transport arm 22 with a cover that forms the upper part of the processing chamber. There is no need to provide a cover with the function of a cap and move it up and down.

[考案の効果] 以上説明したとおり、この考案の粘着シート処
理装置は、シート組立体を載置する基板は処理室
下部を構成し、かつ、この処理室下部内に不活性
ガス供給手段を具備し、前記搬送機構に前記処理
室上部を構成するカバーを併設した構造を有する
ので、カバーの上下動のための駆動機構及びその
ための駆動時間が不要になり、また、不活性ガス
供給用の配管が固定部である基板に設けてあるの
で装置が小型化して、コストは低減される。
[Effects of the invention] As explained above, in the adhesive sheet processing apparatus of this invention, the substrate on which the sheet assembly is placed constitutes the lower part of the processing chamber, and the lower part of the processing chamber is provided with an inert gas supply means. However, since the transport mechanism has a structure in which a cover constituting the upper part of the processing chamber is attached, there is no need for a drive mechanism for moving the cover up and down and the drive time required for it. is provided on the substrate, which is a fixed part, so the device can be made smaller and the cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図a,bは、この考案の一実施例を示す粘
着シート処理装置の主要部の概略構成を示す平面
図及び側面図、第2図は従来の粘着処理装置の概
略を説明するための図である。 図中、10:シート組立体、14:基板、1
7:枠体、18:配管、22:搬送アーム。
Figures 1a and b are a plan view and a side view showing a schematic configuration of the main parts of an adhesive sheet processing apparatus showing one embodiment of this invention, and Figure 2 is a diagram for explaining the outline of a conventional adhesive sheet processing apparatus. It is a diagram. In the figure, 10: sheet assembly, 14: substrate, 1
7: Frame body, 18: Piping, 22: Transfer arm.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 可視光から紫外光にまたがる範囲の波長の光を
放射するランプを内蔵した光照射器と、この光照
射器の上方に配置される透孔を有する基板と、光
を透過する材質からなり紫外線感応型粘着剤が塗
布されたシートに、半導体ウエハが粘着されたシ
ート組立体を前記基板に搬送する搬送機構とから
なる粘着シート処理装置において、前記基板は処
理室下部を構成し、かつ、この処理室下部内に不
活性ガス供給手段を具備し、前記搬送機構に前記
処理室上部を構成するカバーを併設したことを特
徴とする粘着シート処理装置。
An ultraviolet sensitive device consisting of a light irradiator with a built-in lamp that emits light with wavelengths ranging from visible light to ultraviolet light, a substrate with a through hole placed above the light irradiator, and a material that transmits light. In an adhesive sheet processing apparatus comprising a conveyance mechanism that conveys a sheet assembly in which a semiconductor wafer is adhered to a sheet coated with a mold adhesive to the substrate, the substrate constitutes a lower part of the processing chamber, and An adhesive sheet processing apparatus comprising an inert gas supply means in a lower part of the chamber, and a cover constituting an upper part of the processing chamber is attached to the transport mechanism.
JP998387U 1987-01-28 1987-01-28 Expired JPH0325407Y2 (en)

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JP998387U JPH0325407Y2 (en) 1987-01-28 1987-01-28

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JPS63119243U JPS63119243U (en) 1988-08-02
JPH0325407Y2 true JPH0325407Y2 (en) 1991-06-03

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ID=30795818

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JPS63119243U (en) 1988-08-02

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