JPH0985632A - 研磨フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 テープ状フィルムによってヘッドクリーニン
グを行うについて、厚い支持体の特性に対応した研磨層
を得る。 【解決手段】 支持体２の表面に研磨層３を設け、支持
体２の厚みが３０〜１００μｍであり、研磨層３の中心
線平均表面粗さＲａが０．０１〜０．１μｍである。こ
の範囲の表面粗さによって、長波長信号を記録する磁気
ヘッドの汚れを良好に除去し得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、主に磁気信号が１
０μｍ／ビット以上の波長を有する磁気記録の記録また
は再生を行う磁気ヘッドの表面の汚れを除去するために
用いる研磨フィルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】上記のような磁気ヘッドの例としては、
乳剤感光式の写真フィルムに磁性層を設けて撮影情報等
を記録するカメラに内蔵した磁気ヘッドがあげられる。
また、このような磁気ヘッドのクリーニング用に使用す
る写真フィルムまたはクリーニング専用のクリーニング
フィルムが、特開平６−１４８７９８号に見られるよう
に提案されている。

【０００３】その他、従来よりビデオ、オーディオ、情
報機器等における磁気ヘッド用に各種クリーニングテー
プ、クリーニングディスク等が用いられているが、これ
らは磁気テープと同様に薄い支持体にクリーニング層が
形成されたもの（特開昭５４−９７００１，特開昭６１
−１２３０１２，特公平３−７３０４７等参照）、円板
状支持体にクリーニング層が形成されたもの（特開昭６
１−２２７２１６等参照）である。

【０００４】

【本発明が解決しようとする課題】しかして、上記のよ
うな各種クリーニング材料では、記録波長が１０μｍ／
ビット以上の長波長信号を記録再生する磁気ヘッドにお
けるヘッド汚れを良好に除去することは困難である。

【０００５】すなわち、上記のように長波長の汚れは、
短波長信号記録の場合よりも汚れ量が極めて多い状態で
ないと気がつかない。このために、磁気ヘッドクリーニ
ングには特別の配慮が必要で、特に研磨量を最小限にし
てかつクリーニング力を高める必要がある。

【０００６】本発明は上記従来技術の問題点に鑑みなさ
れたものであって、長波長信号を記録再生する磁気ヘッ
ドの汚れの除去に好適な研磨フィルムを提供せんとする
ものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨フィルムは、支持体の表面に研磨層を設けてな
り、上記支持体の厚みが３０〜１００μｍであり、研磨
層の中心線平均表面粗さＲａ（ＪＩＳ−Ｂ−Ｒ０６０１
−１９８２）が０．０１〜０．１μｍであることを特徴
とする。

【０００８】また、上記研磨フィルムは、フィルム面に
配列された穿孔を有するか、研磨層中に抗磁力Ｈｃが１
９７５０〜２３７０００Ａ／ｍの磁性体を全研磨層の１
〜４５重量％含有している。この研磨層の磁性体は、分
散工程または塗布工程において磁化してなり、ビット間
隔が１０μｍ以上の磁気信号を記録してあり、さらに、
磁気信号を支持体面側から記録しているものが望まし
い。

【０００９】上記研磨層の中心線平均表面粗さＲａが
０．０１〜０．１μｍである際に、そのＲｐ（平均線か
らの最大突起の高さ）が０．０２〜０．１μｍであるこ
とが好ましい。

【００１０】この研磨層の中心線平均表面粗さＲａは、
分散時間の調整、分散用バインダーの種類で調整するこ
とができる。つまり、分散時間を延長すればＲａは低下
させることができるが、Ｒｐを低下させることは困難で
ある。また、分散性に適したバインダーを選定すると、
同一分散時間でもＲａを下げることができる。ＲａとＲ
ｐの両立は分散条件、バインダー種類や添加量、メイン
研磨剤よりも小さなアルミナ粉末の添加等によって達成
できる。

【００１１】なお、上記Ｒａの測定は、三次元表面検査
機（小坂研究所製）を使用し、針先０．１ｒφ、針先荷
重１０mg、掃引速度０．２５mm／sec 、掃引距離０．１
mmで求める。

【００１２】

【発明の効果】上記のような本発明によれば、支持体の
厚みが３０〜１００μｍであり研磨層のＲａが０．０１
〜０．１μｍであることで、記録波長が１０μｍ／ビッ
ト以上の長波長信号を記録再生する磁気ヘッドにおける
ヘッド汚れを、研磨量を最小限にして高いクリーニング
力で良好に除去することができる。

【００１３】また、さらにその効果を高める方法とし
て、フィルム面に穿孔を設けると特に汚れの激しいとき
に顕著な効果を発揮する。研磨層中に抗磁力が１９７５
０〜２３７０００Ａ／ｍの磁性体を全研磨層の１〜４５
重量％含有させて磁気信号を観察しながら研磨すると、
過剰研磨を防止できる。また、研磨層の磁性体を分散工
程または塗布工程の段階で磁化させると研磨効果が高ま
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨フィルムの
実施の形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。図
１は本例の研磨フィルムの使用形態を概略的に示し、図
２は研磨フィルムの一例の構造を、図３は他例の構造を
示す概略図である。

【００１５】本例の研磨フィルム１は、厚みが３０〜１
００μｍの支持体２の片面に研磨層３を有し、この研磨
層３は研磨剤４と磁性体および結合剤（バインダー）で
構成される。この研磨層３の中心線平均表面粗さＲａが
０．０１〜０．１μｍに形成されている。

【００１６】また、上記研磨フィルム１は、写真フィル
ムの形状（例えば幅２４mm、長さ１〜２ｍ）に設けら
れ、支持体２における研磨層３と反対側の面（図２参
照）または同じ側の面（図３参照）には、感光乳剤が塗
布された乳剤層５が設けられている。なお、上記研磨層
３は、図２のように乳剤層５のない面に形成するとき
は、その全面または上下部分にのみ形成され、図３のよ
うに乳剤層５を設けた面に形成するときは、その上部分
及び／又は下部分のみに形成される。また、研磨フィル
ム１の上縁および下縁には所定間隔で穿孔７（パーフォ
レーション）が形成されている。

【００１７】この研磨フィルム１は、フィルムカートリ
ッジ１０内にそのスプール１１に巻き取られて収納され
る。このフィルムカートリッジ１０はカメラ２０（全体
は示していない）に装填されて、その撮影操作に応じて
フィルムカートリッジ１０から研磨フィルム１が引き出
され、カメラ２０に内蔵されている磁気ヘッド２１に研
磨層３が摺接して、その表面のクリーニングを行う。な
お、研磨フィルム１としては、上記乳剤層５は必須では
なく、乳剤層５を有さない支持体２に研磨層３を形成し
てもよい。

【００１８】このカメラ２０の磁気ヘッド２１は、通常
の使用状態では磁気記録面を有する写真フィルムが撮影
に応じて摺接し、撮影情報等を記録するものであり、そ
の磁気信号は１０μｍ／ビット以上の波長を有する磁気
記録を行うように構成されている。

【００１９】上記磁気ヘッド２１の研磨において、研磨
層３の磁性体に記録した磁気信号に基づく研磨は、研磨
フィルム１の磁性体に信号（例えば６４０Ｈｚの音声）
を記録し、磁気ヘッド２１を研磨しながら再生し、所望
の再生出力が得られたところで研磨を停止するように行
う。これにより、過度に研磨することを防止でき、当初
磁気ヘッド２１が汚れている場合は、スペーシングロス
により再生出力が落ちるが、研磨清掃の時間に伴い再生
出力が回復する。回復したところで研磨や清掃を止めれ
ばよい。

【００２０】なお、上記研磨層３の磁性体は分散工程ま
たは塗布工程において磁化して、ビット間隔が１０μｍ
以上の磁気信号を、支持体面側から記録している。

【００２１】前記研磨層における研磨剤は、主にアルミ
ナが用いられるが、その他に、酸化クロム、炭化珪素、
ダイヤモンド粒子等を単独または混合して用いることが
できる。

【００２２】本発明の研磨層に適用可能な研磨剤として
は、平均粒子サイズが０．０５μｍから５００μｍの酸
化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダ
イヤモンド、γ−アルミナ、α・γ−アルミナ、熔融ア
ルミナ、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモン
ド、ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄
鉱）、ガーネット、珪石、窒化珪素、窒化硼素、炭化モ
リブデン、炭化硼素、炭化タングステン、チタンカーバ
イド等で、主としてモース硬度６以上の材料が１内至４
種迄の組合わせで使用される。これらの併用される研磨
剤のｐＨは２〜１０のものが使用され、特に好ましくは
５〜１０のものが用いられる。これらの研磨剤は研磨層
の主たる構成物質として用いられる。

【００２３】上記研磨層に使用し得る磁性体（強磁性微
粉末）としては、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｃｏ含有（被着，変
性，ドープ）のγ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、Ｃｏ含有
（被着，変性，ドープ）のＦｅ₃ Ｏ₄ 、γ−ＦｅＯx 、
Ｃｏ含有（被着，変性，ドープ）のγ−ＦｅＯx （Ｘ＝
１．３３〜１．５０）、ＣｒＯ₂ 、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｆｅ−
Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合
金など、公知の強磁性微粉末が使用でき、具体的には、
特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２
号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１
３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７
５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４
２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８
５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１
０３０７号、特公昭４８−２９２８０号、特公昭４８−
３９６３９号、特公昭５８−２９６０５号、特公昭６０
−４４２５４号、特開昭５９−１２６６０５号、米国特
許３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００
１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号な
どに記載されている。

【００２４】これら強磁性微粉末の粒子サイズは約０．
００５〜１μｍの長さで、軸長／軸幅の比は、１／１〜
５０／１程度である。また、これらの強磁性体微粉末の
比表面積は１〜８０ｍ² ／ｇより好ましくは２０〜７０
ｍ² ／ｇ、抗磁力（Ｈｃ）は１９７５０〜２３７０００
Ａ／ｍ、含水率は０．１〜２．０重量％、ｐＨは３〜１
１（５ｇ磁性体／１００ｇ水）である。これらの強磁性
微粉末の表面に、後に述べる表面処理剤、分散剤、潤滑
剤、帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先だっ
て溶剤中で含浸させて、吸着させてもよい。このほか１
００００ｐｐｍ以下の量で記載以外の元素（Ｓｒ，Ｐ
ｂ，Ｍｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｎａ，Ｃａ，Ｋ，Ｔｉ，
Ｃｕ，Ｚｎ，Ｓ等）を磁気特性向上のためあるいは不純
物として含む。特に金属強磁性微粉末は焼結防止剤とし
てＡｌまたはＳｉ化合物を粒子表面に含みその量は金属
成分の１〜１０重量％である。

【００２５】またその他の磁性体としては、板状六方晶
のバリウムフェライト、変性バリウムフェライトおよび
変性ストロンチウムフェライトなども使用できる。バリ
ウムフェライトの粒子サイズは約０．００１〜１μｍの
直径で厚みが直径の１／２〜１／２０である。バリウム
フェライトの比重は４〜６ｇ／ｃｃで、比表面積は１ｍ
² ／ｇ〜７０ｍ² ／ｇである。これらバリウムフェライ
トは必要に応じて希土類元素を１０ｗｔ％以下の量で含
み、その余のアルカリ金属、アルカリ土類金属を磁気特
性向上のためあるいは不純物として含む。これらの磁性
体の表面には後に述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等
をそれぞれの目的の為に分散に先立って溶剤中で含浸さ
せて、吸着させてもよい。

【００２６】特に磁性体として、鉄、コバルトあるいは
ニッケルを含む強磁性合金粉末を用いるとその効果が顕
著であって、その比表面積が３５ｍ² ／ｇ以上、抗磁力
が１９７５０〜２３７０００Ａ／ｍ、より好ましくは３
００００〜１４２２００Ａ／ｍ強磁性合金粉末を使用す
ることが好ましい。この強磁性合金粉末の詳細な例とし
ては、強磁性合金粉末中の金属分が６０重量％以上であ
り、そして金属分の７０重量％以上が少なくとも１種類
の強磁性金属あるいは合金（例えば、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎ
ｉ，Ｆｅ−Ｃｏ，Ｆｅ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｆｅ）であり、該金属分の４０重量％以下、より好ま
しくは２０重量％以下の範囲内で他の成分（例えば、Ａ
ｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｓｃ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｕ，Ｚ
ｎ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，
Ｂａ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，Ｈｇ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｌ
ａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｂ，Ｐ）を含むことのある合金
や、窒化鉄や炭化鉄等を挙げることができる。また、上
記強磁性金属が少量の水、水酸化物または酸化物、アル
カリ金属元素（Ｎａ，Ｋ等）、アルカリ土類金属元素
（Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ）を含むものなどであってもよい。
これらの強磁性金属粉末の製造方法は既に公知であり、
本発明で用いる磁性体の代表例である強磁性合金粉末に
ついてもこれら公知の方法に従って製造することができ
る。

【００２７】すなわち、強磁性合金微粉末の製造方法の
例としては、下記の方法を挙げることができる。（ａ）
複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）を水素などの還元
性気体で還元する方法、（ｂ）酸化鉄を水素などの還元
性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得
る方法、（ｃ）金属カルボニル化合物を熱分解する方
法、（ｄ）強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウ
ム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添
加して還元する方法、（ｅ）水銀陰極を用い強磁性金属
粉末を電解祈出させたのち水銀と分離する方法、（ｆ）
金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方
法がある。

【００２８】強磁性微粉末を使用する場合に、その形状
にとくに制限はないが通常は針状、粒状、サイコロ状、
米粒状および板状のものなどが使用される。この強磁性
合金粉末の比表面積（Ｓ_BET ）は４０ｍ² ／ｇ以上であ
ることが好ましく、さらに４５ｍ² ／ｇ以上のものを使
用することが特に好ましい。これら強磁性体の抗磁力
（Ｈｃ）は７９０００〜１５８０００Ａ／ｍがより好ま
しい。またこれら強磁性体のσｓは１００〜２００ｅｍ
ｕ／ｇが好ましい。結晶子サイズは１５０〜３００Ａが
好ましい。これらの強磁性合金微粉末の例示は、特開昭
５３−７０３９７号、特開昭５８−１１９６０９号、特
開昭５８−１３０４３５号、特開昭５９−８０９０１
号、特開昭５９−１６９０３号、特開昭５９−４１４５
３号、特公昭６１−３７７６１号、米国特許４４４７２
６４号、米国特許４７９１０２１号、米国特許４９３１
１９８号の公報等に記載されている。これら強磁性体
は、研磨剤１００重量部あたり、５〜４００重量部で使
用される。これより少ないと磁性を得ることが出来な
い。また多いと研磨能が低減する。

【００２９】上記研磨層に使用できるバインダーとして
は、無機塩が０．１ｗｔ％以下のものを使用することが
できる。研磨層に使用されるバインダーとしては塩化ビ
ニル系樹脂、ウレタン樹脂及びポリイソシアネート以外
に、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線硬
化型樹脂、防黴樹脂やこれらの混合物を使用することが
できる。

【００３０】熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃
以下、平均分子量が１００００〜３０００００、重合度
が約５０〜２０００程度のものでより好ましくは２００
〜７００程度であり、例えば、アクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリ
デン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、
メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタ
クリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリル
酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマー、
ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリア
ミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアクリロ
ニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロー
ス誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロー
スダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロ
ースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセルロ
ース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メチル
エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アセ
チルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合体、ポ
リエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロビニル
エーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各
種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が
使用される。

【００３１】特に塩化ビニル系樹脂としては、例えば塩
化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビ
ニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体等
が挙げられ、中でも、塩化ビニルの共重合体である−
（ＣＨＣｌＣＨ₂ ）_n −（ＣＨＸＣＨ₂ ）_m −（Ｘはそ
の末端又は途中に、−ＳＯ₃ Ｎａ，−ＳＯ₃ Ｈ，−ＰＯ
₄ Ｈ等の極性基を有する有機基）を基本単位とするもの
が研磨層の強度および研磨剤粒子の分散性の面で望まし
い。塩化ビニル系樹脂の中でも特に望ましいのは、分散
性、塗布膜強度の点から日本ゼオン社製のＭＲ１１０、
４００Ｘ１１０Ａ等である。

【００３２】また熱硬化性樹脂または反応型樹脂として
は塗布液の状態では２０００００以下の分子量であり、
塗布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等
の反応により分子量は無限大のものとなる。また、これ
らの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化ま
たは溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフェ
ノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボ
ネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹
脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬化樹
脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメ
ラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネー
トプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジ
イソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポ
リオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルム
アルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオー
ル／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物、
ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等
である。

【００３３】特にウレタン系樹脂としては、特に制限さ
れず従来よりバインダー樹脂として公知のものを使用す
ることができる。例えば、１００％モジュラスが５０〜
３００Ｋｇ／ｍｍ² のものが、ガラス転移温度（Ｔg ）
は、−３０〜５０℃であるものが研磨剤を研磨層に保持
する性能、また塗膜に適度の弾性を付与するので望まし
い。

【００３４】具体的には大日本インキ（株）社製のＣ−
７２０９、パンデックス、日本ポリウレタン（株）社製
のＮ−２３０１、Ｎ−２３０２、Ｎ−２３０４、Ｎ−３
１０７、東洋紡（株）社製のＵＲ−８２００、ＵＲ−８
３００、ＵＲ−８６００等が挙げられ、中でも研磨剤粒
子の分散を促進させるための極性基を分子内に有するも
のが好ましい。これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂は、官能基としてカルボン酸（ＣＯＯＭ）、
スルフィン酸、スルフェン酸、スルホン酸（ＳＯ
₃ Ｍ）、燐酸（ＰＯ（ＯＭ）（ＯＭ））、ホスホン酸、
硫酸（ＯＳＯ₃ Ｍ）、及びこれらのエステル基等の酸性
基（ＭはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、炭化水
素基）、アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノアル
コールの硫酸または燐酸エステル類、スルフォベタイ
ン、ホスホベタイン、アルキルベタイン型等の両性類
基、アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基等また、
水酸基、アルコキシル基、チオール基、アルキルチオ
基、ハロゲン基（Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）、シリル基、シ
ロキサン基、エポキシ基、イソシアナト基、シアノ基、
ニトリル基、オキソ基、アクリル基、フォスフィン基を
通常１種以上６種以内含んでも良い。そして各々の官能
基は樹脂１ｇあたり１×１０^-6ｅｑ〜１×１０^-2ｅｑ含
むことが研磨剤粒子の分散の促進、研磨層塗布膜の強度
の向上のために含んでも良い。

【００３５】前記研磨層の研磨剤とバインダー樹脂との
混合割合は、重量比で研磨剤１００重量部に対してバイ
ンダー樹脂５〜７００重量部の範囲で使用される。

【００３６】本発明に用いられるポリイソシアネートと
しては、特に制限されず従来よりバインダー樹脂として
公知のものを使用することができる。例えば、トリレン
ジイソシアネート、４・４’−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート、ナフチレン−１・５−ジイソシ
アネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネー
ト類、また当該イソシアネート類とポリアルコールとの
生成物、イソシアネート類の縮合に依って生成した２〜
１０量体のポリイソシアネート、ポリイソシアネートと
ポリウレタンとの生成物で末端官能基がイソシアネート
等が挙げられ、中でもイソシアネート基（−ＮＣＯ）を
１分子内中に３個以上あると架橋が三次元的になされる
ので望ましい。

【００３７】これらポリイソシアネート類の平均分子量
は１００〜２００００のものが好適である。これらポリ
イソシアネートの市販されている商品名としては、コロ
ネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロ
ネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴ
Ｌ（日本ポリウレタン株製）、タケネートＤ−１０２、
タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケ
ネートＤ−２０２、タケネート３００Ｓ、タケネート５
００（武田薬品株製）、スミジュールＴ−８０、スミジ
ュール４４Ｓ、スミジュールＰＦ、スミジュールＬ、ス
ミジュールＮ、デスモジュールＬ、デスモジュールＩ
Ｌ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、デスモジ
ュールＴ６５、デスモジュール１５、デスモジュール
Ｒ、デスモジュールＲＦ、デスモジュールＳＬ、デスモ
ジュールＺ４２７３（住友バイエル社製）等があり、こ
れらを単独もしくは硬化反応性の差を利用して二つ若し
くはそれ以上の組み合わせによって使用することができ
る。また、硬化反応を促進する目的で、水酸基（ブタン
ジオール、ヘキサンジオール、分子量が１０００〜１０
０００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モノメチル
アミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等）を有す
る化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルアセトネート
等の触媒を併用することもできる。これらの水酸基やア
ミノ基を有する化合物は多官能である事が望ましい。

【００３８】上記のポリイソシアネートの中でも特に望
ましいのは、３次元的架橋密度を促進向上させるため、
３官能ポリイソシアネートが好ましく、日本ポリウレタ
ン社製のコロネート３０４０等が挙げられる。

【００３９】その他、研磨層には各種の機能を持った化
合物が添加剤として添加される。例えば、分散剤、潤滑
剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防黴剤、着色剤、溶剤等
が加えられる。

【００４０】分散剤、分散助剤はバインダーへの研磨剤
の分散を助ける目的で加えることがある。分散剤、分散
助剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２
〜４０個の脂肪酸（Ｒ₁ ＣＯＯＨ、Ｒ₁ は炭素数１〜３
９個のアルキル基，フェニル基，アラルキル基）、前記
の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＮＨ
₄ ⁺ 等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ
等）、Ｃｕ、Ｐｂ等から成る金属石鹸（オレイン酸
銅）、脂肪酸アミド；レシチン（大豆油レシチン）等が
使用される。この他に炭素数４〜４０の高級アルコール
（ブタノール，オクチルアルコール，ミリスチルアルコ
ール，ステアリルアルコール）及びこれらの硫酸エステ
ル、スルホン酸、フェニルスルホン酸、アルキルスルホ
ン酸、スルホン酸エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジ
エステル、燐酸トリエステル、アルキルホスホン酸、フ
ェニルホスホン酸、アミン化合物等も使用可能である。
また、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイ
ド、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸
エステル等も使用可能である。これらの分散剤は通常一
種類以上で用いられ、一種類の分散剤はバインダー１０
０重量部に対して０．００５〜２０重量部の範囲で添加
される。これら分散剤の使用方法は、強磁性微粉末や非
磁性微粉末の表面に予め被着させても良く、また分散途
中で添加してもよい。

【００４１】粉末状潤滑剤としては、グラファイト、二
硫化モリブデン、窒化硼素、弗化黒鉛、炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化錫、二硫化タングステン等の無機微粉末、アクリル
スチレン系樹脂微粉末、ベンゾグアナミン系樹脂微粉
末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレフイン系樹脂微粉
末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポリアミド系樹脂微粉
末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリフッカエチレン系樹
脂微粉末等の樹脂微粉末等がある。

【００４２】研磨層には、さらに摩擦係数の低減、塗布
膜の弾性のコントロールという効果を期待して以下のよ
うな有機化合物系潤滑剤を添加することもできる。その
際の添加量としては、研磨剤粒子に対して重量百分比で
０．０１〜１０重量％、望ましくは０．０５〜５重量％
である。

【００４３】この有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ンオイル（ジアルキルポリシロキサン，ジアルコキシポ
リシロキサン，フェニルポリシロキサン，フルオロアル
キルポリシロキサン（信越化学製ＫＦ９６、ＫＦ６９
等））、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス，ポリプロ
ピレン等）、ポリグリコール（エチレングリコール，ポ
リエチレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等
の有機酸および有機酸エステル化合物、トリアザインド
リジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベ
ンゾトリアジン、ベンゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素
・硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素数１０〜４
０の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一価のアルコ
ールもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四
価のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つもし
くは２つ以上とから成る脂肪酸エステル類、炭素数１０
個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して
炭素数が１１〜７０個と成る一価〜六価のアルコールか
ら成る脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の脂肪酸或い
は脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族ア
ルコール類も使用できる。

【００４４】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２
エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス、
等が有り単独若しくは組み合わせ使用できる。

【００４５】帯電防止剤としては、研磨層には被研削物
との間で発生する静電気による静電破壊を防止する目的
でカーボンブラックを含有させることが好ましい。カー
ボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カ
ラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いる事がで
きる。これらカーボンブラックはフィルムの帯電防止
剤、遮光剤、摩擦係数調節剤、耐久性向上を目的として
使用される。これらカーボンブラックの米国における略
称の具体例をしめすとＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＩＩＳＡＦ、
Ｔ、ＨＡＦ、ＳＰＦ、ＦＦ、ＦＥＦ、ＨＭＦ、ＧＰＦ、
ＡＰＦ、ＳＲＦ、ＭＰＦ、ＥＣＦ、ＳＣＦ、ＣＦ、Ｆ
Ｔ、ＭＴ、ＨＣＣ、ＨＣＦ、ＭＣＦ、ＬＦＦ、ＲＣＦ等
があり、米国のＡＳＴＭ規格のＤ−１７６５−８２ａに
分類されているものを使用することができる。これらの
カーボンブラックの中、本発明の目的を有効に達成する
ためには、上記の中でも粒径が前記の条件に適合するフ
ァーネスブラックが望ましい。

【００４６】本発明に使用されるこれらカーボンブラッ
クの平均粒子径は、５〜１０００ｎｍ（電子顕微鏡）、
窒素吸着法比表面積は１０〜８００ｍ² ／ｇ、ｐＨは４
〜１１（ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−１９８２法）、ジブ
チルフタレート（ＤＢＰ）吸油量は１０〜８００ｍｌ／
１００ｇ（ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−１９８２法）であ
る。本発明に使用されるカーボンブラックの平均粒子径
は、塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で５〜１００ｎ
ｍのカーボンブラックを、また塗布膜の強度を制御する
ときに５０〜１０００ｎｍのカーボンブラックを用い
る。

【００４７】また、カーボンブラックの種類と添加量は
研磨フィルムの目的に応じて使い分けられる。また、こ
れらのカーボンブラックを、後述の分散剤などで表面処
理したり、樹脂でグラフト化して使用してもよい。ま
た、カーボンブラックを製造するときの炉の温度を２０
００℃以上で処理して表面の一部をグラファイト化した
ものも使用できる。また、特殊なカーボンブラックとし
て中空カーボンブラックを使用することもできる。これ
らのカーボンブラックは研磨層の場合無機粉末１００重
量部に対して０．１〜１００重量部で用いることが望ま
しい。使用可能なカーボンブラックは、例えば『カーボ
ンブラック便覧』カーボンブラック協会編（昭和４６年
発行）を参考にすることが出来る。本発明で使用するア
ルミナ以外の粉体に付いても各々の粉体は、Ｎａ含有率
が０．１ｗｔ％以下である事が好ましい。

【００４８】またカーボンブラック以外の帯電防止剤と
してはグラファイト、変成グラファイト、カーボンブラ
ックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アンチモン、酸化
錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン、等の導電性
粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキレンオキサ
イド系、グリセリン系、グリシドール系、多価アルコー
ル、多価アルコールエステル、アルキルフェノールＥＯ
付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキルアミン
類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、
エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそ
のほかの複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類
等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸、ホ
スホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エステ
ル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活
性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノアルコ
ールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型
等の両性界面活性剤等が使用される。

【００４９】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、小田良平他著『界面活性剤の合
成とその応用』（槙書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイ
リ著『サーフエス アクティブ エージェンツ』（イン
ターサイエンス パブリケーション コーポレイテッド
１９８５年版）；Ｔ．Ｐ．シスリー著『エンサイクロペ
ディア オブ サーフエスアクティブ エージェンツ、
第２巻』（ケミカルパブリシュカンパニー１９６４年
版）；『界面活性剤便覧』第六刷（産業図書株式会社、
昭和４１年１２月２０日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』
幸書房（１９６８）等の成書に記載されている。これら
の界面活性剤は単独または混合して添加しても良い。こ
れらは帯電防止剤として用いられるものであるが、時と
してそのほかの目的、例えば分散、潤滑性の改良、塗布
助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用され
る場合もある。

【００５０】酸化防止剤としては、一般的に防錆剤とし
てしられているアルキルフェノール、ベンゾトリアジ
ン、テトラアザインデン、スルファミド、グアニジン、
核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキノン、ＥＤＴＡ等の
金属キレート剤、錆どめ剤であるナフテン酸、アルケニ
ルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォスフェート等、油性
剤として知られているナタネ油、ラウリルアルコール
等、極圧剤であるジベンジルスルフィド、トリクレジル
フォスフェート、トリブチルホスファイト等が用いられ
る。これらは清浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下
剤、泡どめ剤等としても用いられる。これらの潤滑剤は
バインダー１００重量部に対して０．０１〜３０重量部
の範囲で添加される。

【００５１】また防黴材としては、２−（４−チアゾリ
ル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロジクロロメ
チルチオ）−フタルイミド、１０・１０’−オキシビス
フェノキサルシン、２・４・５・６テトラクロロイソフ
タロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルスルホン、ト
リヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト酸、フェニ
ルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル錫）、サルチ
ルアニライド等がある。このようなものは、例えば「微
生物災害と防止技術」１９７２年工学図書、「化学と工
業」３２、９０４（１９７９）等に於いて示されてい
る。

【００５２】着色剤としては、フタロシアニン色素、シ
アニン色素、キレート色素など染料や顔料に用いる工業
用色素を用いる事が出来る。

【００５３】溶剤は分散、混練、塗布の際に使用し、任
意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラ
ヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなど
のアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、
酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステル系；ジ
エチルエーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコ
ールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル
系；ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロ
ルベンゼン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水
素）；メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩
化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジク
ロルベンゼン等の塩素化炭化水素、Ｎ・Ｎ−ジメチルホ
ルムアルデヒド、ヘキサン、水等が使用できる。またこ
れら溶媒は通常任意の比率で２種以上で用いる。また１
重量％以下の量で微量の不純物（その溶媒自身の重合
物、水分、原料成分等）を含んでもよい。これらの溶剤
は塗布液合計固形分１００重量部に対して１００〜２０
０００重量部で用いられる。好ましい塗布液の固形分率
は１〜７０重量％である。

【００５４】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて有機溶媒に溶解・混練・分散し、塗布溶液として
支持体上に塗布・乾燥、裁断、クリーニングする。

【００５５】溶解、分散、混練の方法には特に制限はな
く、また各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒
等）、溶解、分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜
８０℃）などは適宜設定することができる。研磨塗料の
調製には通常の撹拌機、分散機、混練機、例えば、二本
ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミ
ル、トロンミル、サンドグラインダー、ツェグバリ（Ｓ
ｚｅｇｖａｒｉ）アトライター、高速インペラー、高速
ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダ
ー、高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダー、イ
ンテンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー、ディス
パーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し出し
機、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機など
を用いることができる。通常溶解、分散・混練にはこれ
らの機械を複数備え、連続的に処理を行う。混練分散に
関する技術の詳細は、Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テー、
シー、パットン）“Ｐａｉｎｔ Ｆｌｏｗ ａｎｄ Ｐ
ｉｇｍｅｎｔ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ”（ペイント フ
ロー アンド ピグメント ディスパージョン）１９６
４年Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ社発行（ジョ
ン ウイリー アンド サンズ）や田中信一著『工業材
料』２５巻３７（１９７７）などや当該書籍の引用文献
に記載されている。これら分散、混練の補助材料として
分散・混練を効率よく進めるため、球相当径で１０ｃｍ
φ〜０．０５ｍｍφの径のスチールボール、スチールビ
ーズ、セラミツクビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマー
ビーズを用いることが出来る。またこれら材料は球形に
限らない。また、米国特許第２５８１４１４号及び同第
２８５５１５６号などの明細書にも記載がある。本発明
においても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載
された方法に準じて混練分散を行い研磨層塗料を調製す
ることができる。

【００５６】支持体上へ研磨層塗布液を設ける方法とし
ては、塗布、噴霧などがある。塗布の場合塗布液の粘度
を１〜２００００センチストークス（２５℃）に調整
し、エアードクターコーター、ブレードコーター、エア
ナイフコーター、スクイズコーター、含浸コーター、リ
バースロールコーター、トランスファーロールコータ
ー、グラビアコーター、キスコーター、キヤストコータ
ー、スプレイコーター、ロッドコーター、正回転ロール
コーター、カーテンコーター、押出コーター、バーコー
ター、リップコータ等が利用出来、その他の方法も可能
であり、これらの具体的説明は朝倉書店発行の『コーテ
イング工学』２５３頁〜２７７頁（昭和４６．３．２
０．発行）等に詳細に記載されている。また所望の液の
塗布の前に下塗り層あるいは支持体との密着力向上のた
めにコロナ放電処理等を行っても良い。また研磨層と磁
性層を多層で構成したいときは、同時多層塗布、逐次多
層塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭５
７−１２３５３２号公報、特公昭６２−３７４５１号公
報、特開昭５９−１４２７４１号公報、特開昭５９−１
６５２３９号公報の明細書等にしめされている。

【００５７】このような方法により支持体上に３０〜１
００μｍほどで研磨塗布層を設けた後、直ちに２０〜１
３０℃で乾燥させる処理を施したのち、形成した研磨塗
布層を０．１〜１００μｍ厚みに乾燥する。このときの
支持体の搬送速度は、通常１０ｍ／分〜９００ｍ／分で
おこなわれ、複数の乾燥ゾーンで乾燥温度を２０℃〜１
３０℃で制御し塗布膜の残留溶剤量を０．１〜４０ｍｇ
／ｍ² とする。また必要により同様の手順でその余の層
を設けてもよく、引き続き表面平滑化加工を施したりし
て、所望の形状に裁断し本発明の研磨フィルムを製造す
る。これらの製造方法は粉体の予備処理・表面処理、混
練・分散、塗布・配向・乾燥、平滑処理、熱処理、ＥＢ
処理、表面クリーニング処理、裁断、巻き取りの工程を
連続して行うことが望ましい。

【００５８】このように作成した研磨フィルムを裁断し
たあと所望のプラスチックや金属のリールに巻き取る。
巻き取る直前ないしはそれ以前の工程において研磨フィ
ルムをバーニシュおよびまたはクリーニングすることが
望ましい。バーニツシュは研磨フィルムの表面粗度と研
磨力を制御するために具体的にはサファイア刃、剃刀
刃、超硬材料刃、ダイアモンド刃、セラミックス刃のよ
うな硬い材料により研磨フィルム表面の突起部分をそぎ
おとし均一にもしくは平滑にする。これら材料のモース
硬度は８以上が好ましいが特に制限はなく突起を除去で
きるものであれば良い。これら材料の形状は特に刃であ
る必要はなく、角型、丸型、ホイール（回転する円筒形
状の周囲にこれらの材質を付与しても良い）のような形
状でも使用できる。また研磨フィルムのクリーニング
は、研磨フィルム表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する
目的で研磨フィルム表層を不織布などで研磨層をワイピ
ングすることにより行う。このようなワイピングの材料
としては例えば日本バイリーン製の各種バイリーンや東
レ製のトレシー、エクセーヌ、商品名キムワイプ、また
不織布はナイロン製不織布、ポリエステル製不織布、レ
ーヨン製不織布、アクリロニトリル製不織布、混紡不織
布など、ティッシュペーパー等が使用できる。

【００５９】本発明の研磨フィルムの層構成は、支持
体、研磨層に加えて、各層間の剥離防止層即ち下塗層を
設けることができる。

【００６０】支持体は、素材としてポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル
類、ポリプロピレン等ポリオレフイン類、セルロースト
リアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロー
ス誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂類、ポリカ
ーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、
ポリフェニルスルホン、ポリベンゾオキサゾール等のプ
ラスチックの他にアルミニウム、銅等の金属、ガラス等
のセラミックス等も使用出来る。これらの支持体は塗布
に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処理、下塗処
理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処理、アルカリ処理
を行ってもよい。これら支持体に関しては、例えば西独
特許３３３８８５４Ａ、特開昭５９−１１６９２６号、
特開昭６１−１２９７３１号公報、米国特許明細書４３
８８３６８号；三石幸夫著、『繊維と工業』３１巻 ｐ
５０〜５５、１９７５年などに記載されている。研磨フ
ィルムの場合これら支持体の中心線平均表面粗さは０．
００１〜１．５μｍ（カットオフ値０．２５ｍｍ）が好
ましい。支持体は厚み３０〜１００μｍが望ましく、４
０〜９０μｍが特に望ましい。また支持体の長手もしく
は幅方向のいずれかのヤング率が４００Ｋｇ／ｍｍ² 以
上であることが望ましい。

【００６１】本発明の研磨フィルムの製法に関しては、
更に特公昭５６−２６８９０号等に記載されている磁気
記録媒体のものを参考にできる。

【００６２】

【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を示
し、その研磨特性を評価する。なお実施例中の「部」と
あるのは「重量部」のことである。

【００６３】＜実施例１〜５＞支持体として厚さ９０μ
ｍのポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を使用し、こ
の支持体上にポリエステルポリウレタン樹脂からなる下
塗り層を０．１μｍの層厚に塗布する。その上に、サン
ドグラインダーを使用してガラスビーズ分散媒で下記の
組成を４時間分散し調整した研磨層用塗布液を、乾燥後
の厚さが５μｍとなるようにバーコート塗布し、乾燥す
ることによって研磨フィルムのサンプルを作成した。

【００６４】研磨層における研磨剤（アルミナ）と磁性
体（酸化鉄）の比率を変更するとともに表面粗さＲａを
調整して各実施例を構成するものであり、平均粒子サイ
ズが０．３μｍの研磨剤比率を実施例１で９５％、実施
例２で９０％、実施例３で８０％、実施例４で５０％、
実施例５で２０％に設定し、表面粗さＲａはそれぞれ
０．０４μｍ、０．０４μｍ、０．０３μｍ、０．０２
μｍ、０．０２μｍに調整してなる。

【００６５】作成した研磨フィルムによる研磨テストお
よび再生出力の測定結果を、表１に示す。研磨テスト
は、磁気ヘッドの研磨量を時間換算し、相対値を示し
た。再生出力の測定は、６４０Ｈｚを記録し、その再生
出力を調べたものである。

【００６６】＜比較例１〜４＞表１には比較例１から４
のテスト結果も同様に示す。この比較例は、前記実施例
と同様の支持体に下塗り層を塗布し、これに同様の組成
の塗布液を塗布するものであるが、その研磨剤の粒子サ
イズ、研磨剤比率を変更し、平均粒子サイズが１．５μ
ｍのアルミナを比較例１で９９％、比較例２で１５％と
し、表面粗さＲａはそれぞれ０．４μｍ、０．２μｍに
調整してなる。

【００６７】 〔塗布液組成〕 研磨剤粒子（アルミナ、モース硬度９、粒径 0.3μｍ）： Ｘ部 磁性体Ｃｏ被着γ酸化鉄(S_BET 45ｍ² /g，Hc 54000A/m)： Ｙ部 バインダー樹脂（ポリエステル樹脂、スルホン酸ナトリウム １×10^-3当量／ｇ樹脂含有、Mw 70000）： １０部 ポリイソシアネート（トリメチロールプロパン（１モル） のＴＤＩ（３モル）付加物）： ２部 潤滑剤（オレイン酸／オレイン酸オレイル）： ０．１部 希釈剤（メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝２／１）： ２００部 希釈剤（トルエン／ＭＩＢＫ）： １５０部 添加剤（カーボンブラック）： １部

【００６８】

【表１】

【００６９】上記表１の結果、研磨剤粒子サイズが大き
く表面粗さＲａが大きく表面が粗面となっている比較例
による研磨フィルムでは、研磨量が過大となって良好な
クリーニング作用が得られていない。これに対して本発
明の適度の表面粗さＲａによるものでは、良好な研磨性
が得られ、短時間でクリーニングが完了する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の１つの実施の形態における研磨フィル
ムの使用例を示す斜視図

【図２】一例の研磨フィルムの構造を示す概略図

【図３】他例の研磨フィルムの構造を示す概略図

【符号の説明】

１ 研磨フィルム ２ 支持体 ３ 研磨層 ４ 研磨剤 ５ 乳剤層 ７ 穿孔 10 フィルムカートリッジ 11 スプール 20 カメラ 21 磁気ヘッド

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体の表面に研磨層を設けてなる研磨
   フィルムにおいて、上記支持体の厚みが３０〜１００μ
   ｍであり、研磨層の中心線平均表面粗さＲａが０．０１
   〜０．１μｍであることを特徴とする研磨フィルム。
2. 【請求項２】 フィルム面に配列された穿孔を有するこ
   とを特徴とする請求項１に記載の研磨フィルム。
3. 【請求項３】 前記研磨層中に、抗磁力Ｈｃが１９７５
   ０〜２３７０００Ａ／ｍの磁性体を、全研磨層の１〜４
   ５重量％含有させたことを特徴とする請求項１に記載の
   研磨フィルム。
4. 【請求項４】 前記研磨層を分散工程または塗布工程に
   おいて磁化したことを特徴とする請求項３に記載の研磨
   フィルム。
5. 【請求項５】 ビット間隔が１０μｍ以上の磁気信号を
   記録してあることを特徴とする請求項３または４に記載
   の研磨フィルム。
6. 【請求項６】 磁気信号を支持体面側から記録したこと
   を特徴とする請求項３，４または５に記載の研磨フィル
   ム。