JPH0957894A - 透明電極付き光学用シート - Google Patents
透明電極付き光学用シートInfo
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- JPH0957894A JPH0957894A JP7245497A JP24549795A JPH0957894A JP H0957894 A JPH0957894 A JP H0957894A JP 7245497 A JP7245497 A JP 7245497A JP 24549795 A JP24549795 A JP 24549795A JP H0957894 A JPH0957894 A JP H0957894A
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- acrylic resin
- transparent electrode
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- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明電極のパターン出しによっても土台とな
る硬化物層の表面が冒されない透明電極付き光学用シー
トを提供することを目的とする。 【解決手段】 表面にアクリル系樹脂硬化物層(2) を有
するプラスチックスシート(1) のアクリル系樹脂硬化物
層(2) 上に、耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合
物の薄層(3) を設け、さらにその薄層(3) の上から透明
電極(4) を設ける。アクリル系樹脂硬化物層(2) の例
は、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂組成物を
活性エネルギー線照射により硬化した層である。無機化
合物の薄層(3) の例は、ケイ素、スズ、インジウム、バ
ナジウム、タングステン、ニッケル、ニオブ、アルミニ
ウム、マグネシウムまたはモルブデンの酸化物またはイ
ンジウムの窒化物の薄層である。
る硬化物層の表面が冒されない透明電極付き光学用シー
トを提供することを目的とする。 【解決手段】 表面にアクリル系樹脂硬化物層(2) を有
するプラスチックスシート(1) のアクリル系樹脂硬化物
層(2) 上に、耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合
物の薄層(3) を設け、さらにその薄層(3) の上から透明
電極(4) を設ける。アクリル系樹脂硬化物層(2) の例
は、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂組成物を
活性エネルギー線照射により硬化した層である。無機化
合物の薄層(3) の例は、ケイ素、スズ、インジウム、バ
ナジウム、タングステン、ニッケル、ニオブ、アルミニ
ウム、マグネシウムまたはモルブデンの酸化物またはイ
ンジウムの窒化物の薄層である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の液
晶セルの電極基板、タッチパネル用透明導電性フィルム
をはじめとする種々の光学用途に適した透明電極付き光
学用シートに関するものである。
晶セルの電極基板、タッチパネル用透明導電性フィルム
をはじめとする種々の光学用途に適した透明電極付き光
学用シートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、光学用の基材シートとして、ポリ
カーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリ
エーテルスルホンフィルム、ポリスルホンフィルムなど
が使われている。これらのフィルムは、光等方性および
透明性が良好で、しかもある程度の耐熱性を有するから
である。
カーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリ
エーテルスルホンフィルム、ポリスルホンフィルムなど
が使われている。これらのフィルムは、光等方性および
透明性が良好で、しかもある程度の耐熱性を有するから
である。
【０００３】これらの基材シートのみでは耐透気性、耐
溶剤性、透明電極密着性などの性質が不足するので、こ
れらのフィルムの片面または両面に耐透気性樹脂層や架
橋性樹脂硬化物層を積層設置することも提案されてい
る。たとえば、本出願人の出願にかかる特開昭６３−７
１８２９号公報には、光等方性基材シート層／アンカー
コート層／耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層の層構
成の液晶表示パネル用電極基板が示されており、特開平
４−１５９５１８号公報には、光等方性基材シート層／
耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層の層構成の単位積
層シートの２枚以上を、架橋性樹脂硬化物層が両最外層
となるように接着剤層を介して貼着した構成を有する液
晶表示パネル用電極基板が示されている。
溶剤性、透明電極密着性などの性質が不足するので、こ
れらのフィルムの片面または両面に耐透気性樹脂層や架
橋性樹脂硬化物層を積層設置することも提案されてい
る。たとえば、本出願人の出願にかかる特開昭６３−７
１８２９号公報には、光等方性基材シート層／アンカー
コート層／耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層の層構
成の液晶表示パネル用電極基板が示されており、特開平
４−１５９５１８号公報には、光等方性基材シート層／
耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層の層構成の単位積
層シートの２枚以上を、架橋性樹脂硬化物層が両最外層
となるように接着剤層を介して貼着した構成を有する液
晶表示パネル用電極基板が示されている。
【０００４】基材シートを用いない光学用シートも提案
されている。たとえば、本出願人の出願にかかる特公平
７−２７１３４号公報（特開平１−５００２１号公報）
には、耐透気性合成樹脂フィルム層と架橋性樹脂硬化物
層との積層体同士が、それぞれの耐透気性合成樹脂フィ
ルム層面同士が対向する状態で接着剤層を介して積層一
体化した液晶表示パネル用電極基板が示されており、特
公平７−２７１３５号公報（特開平１−５００２２号公
報）には、耐透気性合成樹脂フィルム層の両面に架橋性
樹脂硬化物層を流延法により直接形成させた液晶表示パ
ネル用電極基板の製造法が示されている。
されている。たとえば、本出願人の出願にかかる特公平
７−２７１３４号公報（特開平１−５００２１号公報）
には、耐透気性合成樹脂フィルム層と架橋性樹脂硬化物
層との積層体同士が、それぞれの耐透気性合成樹脂フィ
ルム層面同士が対向する状態で接着剤層を介して積層一
体化した液晶表示パネル用電極基板が示されており、特
公平７−２７１３５号公報（特開平１−５００２２号公
報）には、耐透気性合成樹脂フィルム層の両面に架橋性
樹脂硬化物層を流延法により直接形成させた液晶表示パ
ネル用電極基板の製造法が示されている。
【０００５】基材シート上に、必要に応じ耐透気性樹脂
層を介して、活性エネルギー線硬化型樹脂硬化物層を設
けた光学用シートも知られている。たとえば、本出願人
の出願にかかる特開平５−１６２２２８号公報、特開平
５−１６２２２９号公報、特開平５−３０９７９４号公
報、特開平５−３１３１５０号公報を参照。また特開平
６−６４１０３号公報には、基材シート上に熱架橋性樹
脂層を介して活性エネルギー線硬化型樹脂硬化物層を設
けた光学用シートが示されている。
層を介して、活性エネルギー線硬化型樹脂硬化物層を設
けた光学用シートも知られている。たとえば、本出願人
の出願にかかる特開平５−１６２２２８号公報、特開平
５−１６２２２９号公報、特開平５−３０９７９４号公
報、特開平５−３１３１５０号公報を参照。また特開平
６−６４１０３号公報には、基材シート上に熱架橋性樹
脂層を介して活性エネルギー線硬化型樹脂硬化物層を設
けた光学用シートが示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上に述べたような光学
用シートを液晶セルの電極基板やタッチパネル用透明導
電性フィルムの用途に用いる場合は、最外層の硬化物層
（熱硬化型の架橋性樹脂硬化物層や活性エネルギー線硬
化型樹脂の硬化物層）の上からＩＴＯに代表される透明
電極をスパッタリングにより形成する。このときの透明
電極は、全面電極にする場合とパターン電極にする場合
とがあるが、後者の場合にはスパッタリングにより形成
した全面電極をパターン出しすることが必要となる。
用シートを液晶セルの電極基板やタッチパネル用透明導
電性フィルムの用途に用いる場合は、最外層の硬化物層
（熱硬化型の架橋性樹脂硬化物層や活性エネルギー線硬
化型樹脂の硬化物層）の上からＩＴＯに代表される透明
電極をスパッタリングにより形成する。このときの透明
電極は、全面電極にする場合とパターン電極にする場合
とがあるが、後者の場合にはスパッタリングにより形成
した全面電極をパターン出しすることが必要となる。
【０００７】パターン電極とするための全面電極のパタ
ーン出しは、常法に従い、レジスト被覆、露光、現像、
エッチング、硬化レジスト剥離の手順によりなされる
が、硬化物層が活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物層
である場合には、得られたパターンが必ずしもすっきり
とせず、ディスプレイに用いたときの鮮明度が不足する
傾向があった。
ーン出しは、常法に従い、レジスト被覆、露光、現像、
エッチング、硬化レジスト剥離の手順によりなされる
が、硬化物層が活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物層
である場合には、得られたパターンが必ずしもすっきり
とせず、ディスプレイに用いたときの鮮明度が不足する
傾向があった。
【０００８】そこで本発明者らは、パターン電極を形成
した硬化物層の表面をレーザー変位計を用いて詳細に観
察したところ、図２に概念図を示したように、パターン
電極間において、露出した活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化物層の表面が1/10μm のオーダーから数μm 程度ま
での凹凸になっていることが判明した。この原因は、レ
ジストがアクリル系の紫外線硬化型樹脂であり、一方活
性エネルギー線硬化型樹脂硬化物層も本質的には同質の
アクリル系の紫外線硬化型樹脂であるため、現像−エッ
チング−硬化レジスト剥離の一連の工程において土台と
なる硬化物層の表面が冒されることを免かれないためで
あると考えられる。
した硬化物層の表面をレーザー変位計を用いて詳細に観
察したところ、図２に概念図を示したように、パターン
電極間において、露出した活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化物層の表面が1/10μm のオーダーから数μm 程度ま
での凹凸になっていることが判明した。この原因は、レ
ジストがアクリル系の紫外線硬化型樹脂であり、一方活
性エネルギー線硬化型樹脂硬化物層も本質的には同質の
アクリル系の紫外線硬化型樹脂であるため、現像−エッ
チング−硬化レジスト剥離の一連の工程において土台と
なる硬化物層の表面が冒されることを免かれないためで
あると考えられる。
【０００９】本発明は、このような背景下において、透
明電極のパターン出しによっても土台となる硬化物層の
表面が冒されない透明電極付き光学用シートを提供する
ことを目的とするものである。
明電極のパターン出しによっても土台となる硬化物層の
表面が冒されない透明電極付き光学用シートを提供する
ことを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の透明電極付き光
学用シートは、表面にアクリル系樹脂硬化物層(2) を有
するプラスチックスシート(1) のアクリル系樹脂硬化物
層(2) 上に、耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合
物の薄層(3) を設け、さらにその薄層(3) の上から透明
電極(4) を設けてなるものである。
学用シートは、表面にアクリル系樹脂硬化物層(2) を有
するプラスチックスシート(1) のアクリル系樹脂硬化物
層(2) 上に、耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合
物の薄層(3) を設け、さらにその薄層(3) の上から透明
電極(4) を設けてなるものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。
【００１２】表面にアクリル系樹脂硬化物層(2) を設け
るためのプラスチックスシート(1)としては、基材シー
ト、基材シートの少なくとも片面に耐透気性樹脂層を設
けたシート、これらの基材シートまたはその上に設けた
耐透気性樹脂層の上からさらに前記アクリル系樹脂硬化
物層(2) 以外の架橋性樹脂硬化物層を設けたシート、基
材シートを有しないで耐透気性樹脂層と前記アクリル系
樹脂硬化物層(2) 以外の架橋性樹脂硬化物層とを含むシ
ート、前記アクリル系樹脂硬化物層(2) 以外の架橋性樹
脂硬化物層からなるシートなどが例示され、層間にはア
ンカーコーティング層が介在していてもよい。
るためのプラスチックスシート(1)としては、基材シー
ト、基材シートの少なくとも片面に耐透気性樹脂層を設
けたシート、これらの基材シートまたはその上に設けた
耐透気性樹脂層の上からさらに前記アクリル系樹脂硬化
物層(2) 以外の架橋性樹脂硬化物層を設けたシート、基
材シートを有しないで耐透気性樹脂層と前記アクリル系
樹脂硬化物層(2) 以外の架橋性樹脂硬化物層とを含むシ
ート、前記アクリル系樹脂硬化物層(2) 以外の架橋性樹
脂硬化物層からなるシートなどが例示され、層間にはア
ンカーコーティング層が介在していてもよい。
【００１３】ここで基材シートとしては、ポリカーボネ
ートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテル
スルホンフィルム、ポリスルホンフィルム、アモルファ
スポリオレフィンフィルムなどがあげられる。基材シー
トの厚みは任意であり、数μm から数１００μm あるい
はそれ以上とすることができる。
ートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテル
スルホンフィルム、ポリスルホンフィルム、アモルファ
スポリオレフィンフィルムなどがあげられる。基材シー
トの厚みは任意であり、数μm から数１００μm あるい
はそれ以上とすることができる。
【００１４】耐透気性樹脂層としては、ポリビニルアル
コールまたはその共重合変性物・グラフト物・ポリマー
アロイやエチレン含量１５〜５０モル％のエチレン−ビ
ニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系樹脂
層、塩化ビニリデン系樹脂層、高アクリロニトリル系樹
脂層などがあげられ、特に最初に述べたビニルアルコー
ル系樹脂層が重要である。耐透気性樹脂層の厚みは２〜
３０μm 程度（好ましくは５〜１５μm 程度）とするこ
とが多い。この耐透気性樹脂層は、通常は流延法により
形成される。
コールまたはその共重合変性物・グラフト物・ポリマー
アロイやエチレン含量１５〜５０モル％のエチレン−ビ
ニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系樹脂
層、塩化ビニリデン系樹脂層、高アクリロニトリル系樹
脂層などがあげられ、特に最初に述べたビニルアルコー
ル系樹脂層が重要である。耐透気性樹脂層の厚みは２〜
３０μm 程度（好ましくは５〜１５μm 程度）とするこ
とが多い。この耐透気性樹脂層は、通常は流延法により
形成される。
【００１５】アクリル系樹脂硬化物層(2) 以外の架橋性
樹脂硬化物層としては、たとえば、熱硬化型のフェノキ
シエーテル型架橋性樹脂硬化物層があげられる。
樹脂硬化物層としては、たとえば、熱硬化型のフェノキ
シエーテル型架橋性樹脂硬化物層があげられる。
【００１６】アクリル系樹脂硬化物層(2) としては、エ
ステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、シリコーンアクリレート、ポリイミドア
クリレート、ポリアミドイミドアクリレートをはじめと
する種々の活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物層があ
げられ、該硬化物層はポリイソシアネート化合物などを
配合したものであってもよい。アクリル系樹脂硬化物層
(2) の厚みに特に限定はないが、２〜３００μm あるい
はそれ以上、殊に２〜１００μm 、さらには２〜５０μ
m とすることが多い。
ステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、シリコーンアクリレート、ポリイミドア
クリレート、ポリアミドイミドアクリレートをはじめと
する種々の活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物層があ
げられ、該硬化物層はポリイソシアネート化合物などを
配合したものであってもよい。アクリル系樹脂硬化物層
(2) の厚みに特に限定はないが、２〜３００μm あるい
はそれ以上、殊に２〜１００μm 、さらには２〜５０μ
m とすることが多い。
【００１７】プラスチックスシート(1) 上へのアクリル
系樹脂硬化物層(2) の設置は、工業的には次のようにし
て行うことが特に望ましい。すなわち、わずかに間隙を
あけて並行に配置した１対のロールのうちの一方のロー
ルにプラスチックスシート(1) を供給し、また他方のロ
ールに鋳型フィルム(M) を供給し、これら両ロールの間
隙に向けて活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂組
成物を吐出すると共に、両ロールを互いに喰い込む方向
に回転させてプラスチックスシート(1) と鋳型フィルム
(M) との間に前記のアクリル系樹脂組成物が挟持される
ようにし、ついでその挟持された状態で活性エネルギー
線照射を行うことにより硬化させてアクリル系樹脂硬化
物層(2) となすのである。なお、一方のロールに供給す
るプラスチックスシート(1) は、予め鋳型フィルム(M)
上で流延により形成した鋳型フィルム(M) 付きのプラス
チックスシートであってもよい。
系樹脂硬化物層(2) の設置は、工業的には次のようにし
て行うことが特に望ましい。すなわち、わずかに間隙を
あけて並行に配置した１対のロールのうちの一方のロー
ルにプラスチックスシート(1) を供給し、また他方のロ
ールに鋳型フィルム(M) を供給し、これら両ロールの間
隙に向けて活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂組
成物を吐出すると共に、両ロールを互いに喰い込む方向
に回転させてプラスチックスシート(1) と鋳型フィルム
(M) との間に前記のアクリル系樹脂組成物が挟持される
ようにし、ついでその挟持された状態で活性エネルギー
線照射を行うことにより硬化させてアクリル系樹脂硬化
物層(2) となすのである。なお、一方のロールに供給す
るプラスチックスシート(1) は、予め鋳型フィルム(M)
上で流延により形成した鋳型フィルム(M) 付きのプラス
チックスシートであってもよい。
【００１８】ここで鋳型フィルム(M) としては、二軸延
伸ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）フ
ィルム、二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどのフィル
ムが好適に用いられる。この支持体フィルム表面の平滑
度は任意に選択できるので、表面粗度が± 0.1μm 以下
の極めて平滑度の高いものから、防眩性付与、入射光量
の増加などのために故意にランダムな微細凹凸やレンズ
状の微細凹凸を付したものまで、任意の平滑度ないし粗
度を有するものを用いることができる。
伸ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）フ
ィルム、二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどのフィル
ムが好適に用いられる。この支持体フィルム表面の平滑
度は任意に選択できるので、表面粗度が± 0.1μm 以下
の極めて平滑度の高いものから、防眩性付与、入射光量
の増加などのために故意にランダムな微細凹凸やレンズ
状の微細凹凸を付したものまで、任意の平滑度ないし粗
度を有するものを用いることができる。
【００１９】本発明においては、上記のプラスチックス
シート(1) の表面に設けたアクリル系樹脂硬化物層(2)
上に、耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合物の薄
層(3) を設ける。
シート(1) の表面に設けたアクリル系樹脂硬化物層(2)
上に、耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合物の薄
層(3) を設ける。
【００２０】耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合
物の薄層(3) の好適な例は、ケイ素、スズ、インジウ
ム、バナジウム、タングステン、ニッケル、ニオブ、ア
ルミニウム、マグネシウムまたはモルブデンの酸化物ま
たはインジウムの窒化物の薄層、さらに詳しくは、Si
O2、SiOx、SnO2、In2O3 、VO2 、WO3 、NiO 、Nb2O5 、
Al2O3 、MgO 、MoO3、InN の薄層である。
物の薄層(3) の好適な例は、ケイ素、スズ、インジウ
ム、バナジウム、タングステン、ニッケル、ニオブ、ア
ルミニウム、マグネシウムまたはモルブデンの酸化物ま
たはインジウムの窒化物の薄層、さらに詳しくは、Si
O2、SiOx、SnO2、In2O3 、VO2 、WO3 、NiO 、Nb2O5 、
Al2O3 、MgO 、MoO3、InN の薄層である。
【００２１】この無機化合物の薄層(3) は、スパッタリ
ング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、フォト
ＣＶＤ法などにより形成され、特にスパッタリング法が
好ましい。無機化合物の薄層(3) の厚みは、１０〜１０
００オングストローム、好ましくは１０〜３００オング
ストロームが適当である。ただし、透明性が損なわれな
い厚みとする。
ング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、フォト
ＣＶＤ法などにより形成され、特にスパッタリング法が
好ましい。無機化合物の薄層(3) の厚みは、１０〜１０
００オングストローム、好ましくは１０〜３００オング
ストロームが適当である。ただし、透明性が損なわれな
い厚みとする。
【００２２】この無機化合物の薄層(3) の上からは、透
明電極(4) が設けられる。透明電極(4) は、操作性、コ
スト、エッチング性などを総合考慮すると、事実上ＩＴ
Ｏ（インジウム−スズ複合酸化物）に限られる。透明電
極(4) の厚みは、１００〜１５００オングストローム程
度、好ましくは１５０〜１０００オングストローム、さ
らに好ましくは２００〜８００オングストロームが適当
である。
明電極(4) が設けられる。透明電極(4) は、操作性、コ
スト、エッチング性などを総合考慮すると、事実上ＩＴ
Ｏ（インジウム−スズ複合酸化物）に限られる。透明電
極(4) の厚みは、１００〜１５００オングストローム程
度、好ましくは１５０〜１０００オングストローム、さ
らに好ましくは２００〜８００オングストロームが適当
である。
【００２３】本発明の透明電極付き光学用シートは、上
述のように、プラスチックスシート(1) ／アクリル系樹
脂硬化物層(2) ／耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機
化合物の薄層(3) ／透明電極(4) の層構成を有するが、
用途によってはプラスチックスシート(1) の反対側の面
にも、無機化合物の薄層(3) 、さらには透明電極(4)を
設けることができる。
述のように、プラスチックスシート(1) ／アクリル系樹
脂硬化物層(2) ／耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機
化合物の薄層(3) ／透明電極(4) の層構成を有するが、
用途によってはプラスチックスシート(1) の反対側の面
にも、無機化合物の薄層(3) 、さらには透明電極(4)を
設けることができる。
【００２４】透明電極(4) のパターン出しをするとき
は、常法に従い、レジスト被覆、露光、現像、エッチン
グ、硬化レジスト剥離をこの順に実施する。このときの
処理液としては、たとえば、現像液としては炭酸ソー
ダ、炭酸カリウムなどのアルカリの稀薄水溶液、エッチ
ング液としては塩化第二鉄や塩化第二銅の水溶液あるい
は塩酸などの酸の水溶液、硬化エジスト剥離液としては
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの１〜５重量％
濃度の水溶液からなるアルカリ剥離液が用いられる。
は、常法に従い、レジスト被覆、露光、現像、エッチン
グ、硬化レジスト剥離をこの順に実施する。このときの
処理液としては、たとえば、現像液としては炭酸ソー
ダ、炭酸カリウムなどのアルカリの稀薄水溶液、エッチ
ング液としては塩化第二鉄や塩化第二銅の水溶液あるい
は塩酸などの酸の水溶液、硬化エジスト剥離液としては
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの１〜５重量％
濃度の水溶液からなるアルカリ剥離液が用いられる。
【００２５】上記構造を有する本発明の透明電極付き光
学用シートは、液晶表示素子を構成する液晶セルの電極
基板として特に有用であり、タッチパネル用の透明電極
付きフィルム（偏光板の上だけでなく偏光板の下に積層
して用いるものを含む）としても有用である。またこれ
らに限らず、透明電極を有する種々の用途の光学用シー
トとして用いることができる。
学用シートは、液晶表示素子を構成する液晶セルの電極
基板として特に有用であり、タッチパネル用の透明電極
付きフィルム（偏光板の上だけでなく偏光板の下に積層
して用いるものを含む）としても有用である。またこれ
らに限らず、透明電極を有する種々の用途の光学用シー
トとして用いることができる。
【００２６】次に作用について述べると、本発明の透明
電極付き光学用シートにあっては、プラスチックスシー
ト(1) のアクリル系樹脂硬化物層(2) 上に、耐酸耐アル
カリ性を有する透明な無機化合物の薄層(3) が設けら
れ、さらにその薄層(3) の上から透明電極(4) が設けら
れている。
電極付き光学用シートにあっては、プラスチックスシー
ト(1) のアクリル系樹脂硬化物層(2) 上に、耐酸耐アル
カリ性を有する透明な無機化合物の薄層(3) が設けら
れ、さらにその薄層(3) の上から透明電極(4) が設けら
れている。
【００２７】このように透明電極(4) の下に耐酸耐アル
カリ性を有する透明な無機化合物の薄層(3) が設けられ
ているので、アクリル系樹脂硬化物層(2) がパターン出
しのためのレジストと同系統の樹脂層であるにかかわら
ず、透明電極(4) のパターン出しによっても土台となる
アクリル系樹脂硬化物層(2) の表面が冒されず、またそ
のパターン出し工程や水洗工程においてシートのカール
を招くことがない。そして上記無機化合物の薄層(3) の
存在は、防湿性、防気性、透明電極密着性などの点でも
プラスに作用する。
カリ性を有する透明な無機化合物の薄層(3) が設けられ
ているので、アクリル系樹脂硬化物層(2) がパターン出
しのためのレジストと同系統の樹脂層であるにかかわら
ず、透明電極(4) のパターン出しによっても土台となる
アクリル系樹脂硬化物層(2) の表面が冒されず、またそ
のパターン出し工程や水洗工程においてシートのカール
を招くことがない。そして上記無機化合物の薄層(3) の
存在は、防湿性、防気性、透明電極密着性などの点でも
プラスに作用する。
【００２８】
【実施例】次に実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。なお表面粗度は、光の干渉を利用した非接触式表面
粗さ計にて測定したものである。
る。なお表面粗度は、光の干渉を利用した非接触式表面
粗さ計にて測定したものである。
【００２９】実施例１ 図１は本発明の透明電極付き光学用シートを製造する工
程を模式的に示した説明図である。
程を模式的に示した説明図である。
【００３０】基材フィルム(1a)の一例としての厚み１０
５μm 、レターデーション値６nmのポリカーボネートフ
ィルムの片面に、固形分５重量％の水溶性ポリエステル
ウレタン系アンカーコーティング剤を流延して乾燥、キ
ュアすることにより、厚み１μm のアンカーコーティン
グ層(ac)を形成させた。続いてそのアンカーコーティン
グ層(ac)の上から、ポリビニルアルコールのＮ−メチロ
ールアクリルアミド−アクリル酸グラフト共重合体の濃
度１２重量％の水溶液にメチロールメラミン系架橋剤
（住友化学工業株式会社製の「スミテックＭ−３」）を
固形分の重量比で１００：３の割合で配合した組成物を
流延し、７０〜９０℃で乾燥して、厚み８μm の耐透気
性樹脂層(1b)を形成させた。同様にして、光等方性基材
フィルム(1) の他の面にも厚み１μm のアンカーコーテ
ィング層(ac)および厚み８μm の耐透気性樹脂層(1b)を
形成させた。これにより、(1b)/(ac)/(1a)/(ac)/(1b)の
層構成を有する厚み１２３μm のプラスチックスシート
(1) が得られた。
５μm 、レターデーション値６nmのポリカーボネートフ
ィルムの片面に、固形分５重量％の水溶性ポリエステル
ウレタン系アンカーコーティング剤を流延して乾燥、キ
ュアすることにより、厚み１μm のアンカーコーティン
グ層(ac)を形成させた。続いてそのアンカーコーティン
グ層(ac)の上から、ポリビニルアルコールのＮ−メチロ
ールアクリルアミド−アクリル酸グラフト共重合体の濃
度１２重量％の水溶液にメチロールメラミン系架橋剤
（住友化学工業株式会社製の「スミテックＭ−３」）を
固形分の重量比で１００：３の割合で配合した組成物を
流延し、７０〜９０℃で乾燥して、厚み８μm の耐透気
性樹脂層(1b)を形成させた。同様にして、光等方性基材
フィルム(1) の他の面にも厚み１μm のアンカーコーテ
ィング層(ac)および厚み８μm の耐透気性樹脂層(1b)を
形成させた。これにより、(1b)/(ac)/(1a)/(ac)/(1b)の
層構成を有する厚み１２３μm のプラスチックスシート
(1) が得られた。
【００３１】鋳型フィルム(M) として、コロナ放電処理
していない高度の平滑面（表面粗度が平均で 0.006μm
、最大で0.04μm ）を有する厚み１００μm の二軸延
伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。
していない高度の平滑面（表面粗度が平均で 0.006μm
、最大で0.04μm ）を有する厚み１００μm の二軸延
伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。
【００３２】わずかに間隙をあけて並行に配置した１対
のロールのうちの一方のロールに上記のプラスチックス
シート(1) を供給し、また他方のロールに上記の鋳型フ
ィルム(M) をその平滑面が上面となるように供給した。
のロールのうちの一方のロールに上記のプラスチックス
シート(1) を供給し、また他方のロールに上記の鋳型フ
ィルム(M) をその平滑面が上面となるように供給した。
【００３３】続いてこれら両ロールの間隙に向けて、ノ
ンソルベントタイプの硬化性樹脂液であるエポキシアク
リレート系の高粘度の紫外線硬化型樹脂液の「ＴＵＲ−
９８０Ｌ」１００重量部に日本ポリウレタン工業株式会
社製のノンソルベントタイプの脂肪族ポリイソシアネー
ト「コロネートＨＫ」を５重量部配合したものを吐出す
ると共に、両ロールを互いに喰い込む方向に回転させて
両フィルム（プラスチックスシート(1) と鋳型フィルム
(M) ）間に上記の硬化性樹脂液が挟持されるようにし、
ついでその挟持された状態で、出力１２０W/cm、１灯、
ランプ距離１５０mm、積算光量１０００mJ/cm2の条件で
紫外線照射を行って硬化性樹脂液を硬化させることによ
り、厚み８μm のアクリル系樹脂硬化物層(2) となし、
さらに温度１３０℃で１０分間熱処理を行った。
ンソルベントタイプの硬化性樹脂液であるエポキシアク
リレート系の高粘度の紫外線硬化型樹脂液の「ＴＵＲ−
９８０Ｌ」１００重量部に日本ポリウレタン工業株式会
社製のノンソルベントタイプの脂肪族ポリイソシアネー
ト「コロネートＨＫ」を５重量部配合したものを吐出す
ると共に、両ロールを互いに喰い込む方向に回転させて
両フィルム（プラスチックスシート(1) と鋳型フィルム
(M) ）間に上記の硬化性樹脂液が挟持されるようにし、
ついでその挟持された状態で、出力１２０W/cm、１灯、
ランプ距離１５０mm、積算光量１０００mJ/cm2の条件で
紫外線照射を行って硬化性樹脂液を硬化させることによ
り、厚み８μm のアクリル系樹脂硬化物層(2) となし、
さらに温度１３０℃で１０分間熱処理を行った。
【００３４】これにより、(1)/(2)/(M) の層構成を有す
る積層フィルムが得られたので、今度はこの積層フィル
ムと上記鋳型フィルム(M) とを用いて、上記の操作を繰
り返した。これにより、(M)/(2)/(1)/(2)/(M) の層構成
を有する対称型の鋳型フィルム(M), (M)付き積層シート
が得られたので、爾後の適当な段階で鋳型フィルム(M),
(M)を剥離除去した。
る積層フィルムが得られたので、今度はこの積層フィル
ムと上記鋳型フィルム(M) とを用いて、上記の操作を繰
り返した。これにより、(M)/(2)/(1)/(2)/(M) の層構成
を有する対称型の鋳型フィルム(M), (M)付き積層シート
が得られたので、爾後の適当な段階で鋳型フィルム(M),
(M)を剥離除去した。
【００３５】このようにして得られた(2)/(1)/(2) の層
構成のシートの片面に、スパッタリング法によりSiO2層
を形成させ、厚み１００オングストロームの薄層(3) と
なした。続いてこの薄層(3) 上にスパッタリング法によ
りＩＴＯ層を形成させ、厚み６００オングストロームの
透明電極(4) を形成させた。これにより、(2)/(1)/(2)/
(3)/(4) の層構成を有する透明電極付き光学用シートが
得られた。
構成のシートの片面に、スパッタリング法によりSiO2層
を形成させ、厚み１００オングストロームの薄層(3) と
なした。続いてこの薄層(3) 上にスパッタリング法によ
りＩＴＯ層を形成させ、厚み６００オングストロームの
透明電極(4) を形成させた。これにより、(2)/(1)/(2)/
(3)/(4) の層構成を有する透明電極付き光学用シートが
得られた。
【００３６】次に、この透明電極付き光学用シートの透
明電極(4) 側の面に対し、常法に従い、レジスト被覆、
露光、現像、エッチング、硬化レジスト剥離をこの順に
行った。得られたパターン電極面を土井精密社製のレー
ザー変位計「トリン」を用いて詳細に観察したところ、
パターン電極間の露出したアクリル系樹脂硬化物層(2)
の表面は完全に平滑であり、凹凸に冒される現象はその
徴候すら認められなかった。またパターン出し工程や水
洗工程において、シートのカールも認められなかった。
明電極(4) 側の面に対し、常法に従い、レジスト被覆、
露光、現像、エッチング、硬化レジスト剥離をこの順に
行った。得られたパターン電極面を土井精密社製のレー
ザー変位計「トリン」を用いて詳細に観察したところ、
パターン電極間の露出したアクリル系樹脂硬化物層(2)
の表面は完全に平滑であり、凹凸に冒される現象はその
徴候すら認められなかった。またパターン出し工程や水
洗工程において、シートのカールも認められなかった。
【００３７】比較例１ 薄層(3) を形成することなく、(2)/(1)/(2) の層構成の
片面のアクリル系樹脂硬化物層(2) 上に直接ＩＴＯによ
る透明電極(4) を形成させたほかは実施例１を繰り返し
た。
片面のアクリル系樹脂硬化物層(2) 上に直接ＩＴＯによ
る透明電極(4) を形成させたほかは実施例１を繰り返し
た。
【００３８】得られた透明電極付き光学用シートの透明
電極(4) 側の面に対し、常法に従い、レジスト被覆、露
光、現像、エッチング、硬化レジスト剥離をこの順に行
った。得られたパターン電極面をレーザー変位計を用い
て詳細に観察したところ、パターン電極間の露出したア
クリル系樹脂硬化物層(2) の表面が1/10μm のオーダー
から数μm までの凹凸になっていることが判明した。ま
たパターン出し工程や水洗工程において、シートにカー
ルが認められた。
電極(4) 側の面に対し、常法に従い、レジスト被覆、露
光、現像、エッチング、硬化レジスト剥離をこの順に行
った。得られたパターン電極面をレーザー変位計を用い
て詳細に観察したところ、パターン電極間の露出したア
クリル系樹脂硬化物層(2) の表面が1/10μm のオーダー
から数μm までの凹凸になっていることが判明した。ま
たパターン出し工程や水洗工程において、シートにカー
ルが認められた。
【００３９】実施例２ 耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合物の薄層(3)
として、SiO2に代えて、SiOx、SnO2、In2O3 、VO2 、WO
3 、NiO 、Nb2O5 、Al2O3 、MgO 、MoO3、InNをスパッ
タリング法またはフォトＣＶＤ法により形成したほかは
実施例１を繰り返したところ、パターン電極間の露出し
たアクリル系樹脂硬化物層(2) の表面は完全に平滑であ
り、凹凸に冒される現象は認められなかった。またパタ
ーン出し工程や水洗工程において、シートのカールも認
められなかった。
として、SiO2に代えて、SiOx、SnO2、In2O3 、VO2 、WO
3 、NiO 、Nb2O5 、Al2O3 、MgO 、MoO3、InNをスパッ
タリング法またはフォトＣＶＤ法により形成したほかは
実施例１を繰り返したところ、パターン電極間の露出し
たアクリル系樹脂硬化物層(2) の表面は完全に平滑であ
り、凹凸に冒される現象は認められなかった。またパタ
ーン出し工程や水洗工程において、シートのカールも認
められなかった。
【００４０】実施例３ エポキシアクリレート系の高粘度の紫外線硬化型樹脂液
に代えて、エステルアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、シリコーンアクリレート、ポリイミドアクリレー
ト、ポリアミドイミドアクリレート系の高粘度の紫外線
硬化型樹脂液を用いたほかは実施例１を繰り返したとこ
ろ、パターン電極間の露出したアクリル系樹脂硬化物層
(2) の表面は完全に平滑であり、凹凸に冒される現象は
認められなかった。またパターン出し工程や水洗工程に
おいて、シートのカールも認められなかった。
に代えて、エステルアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、シリコーンアクリレート、ポリイミドアクリレー
ト、ポリアミドイミドアクリレート系の高粘度の紫外線
硬化型樹脂液を用いたほかは実施例１を繰り返したとこ
ろ、パターン電極間の露出したアクリル系樹脂硬化物層
(2) の表面は完全に平滑であり、凹凸に冒される現象は
認められなかった。またパターン出し工程や水洗工程に
おいて、シートのカールも認められなかった。
【００４１】
【発明の効果】本発明の透明電極付き光学用シートにあ
っては、透明電極(4) の下に耐酸耐アルカリ性を有する
透明な無機化合物の薄層(3) が設けられているので、ア
クリル系樹脂硬化物層(2) がパターン出しのためのレジ
ストと同系統の樹脂層であるにかかわらず、透明電極
(4) のパターン出しによっても土台となるアクリル系樹
脂硬化物層(2) の表面が冒されず、またそのパターン出
し工程や水洗工程においてシートのカールを招くことが
ない。そして上記無機化合物の薄層(3) の存在は、防湿
性、防気性、透明電極密着性などの点でもプラスに作用
する。
っては、透明電極(4) の下に耐酸耐アルカリ性を有する
透明な無機化合物の薄層(3) が設けられているので、ア
クリル系樹脂硬化物層(2) がパターン出しのためのレジ
ストと同系統の樹脂層であるにかかわらず、透明電極
(4) のパターン出しによっても土台となるアクリル系樹
脂硬化物層(2) の表面が冒されず、またそのパターン出
し工程や水洗工程においてシートのカールを招くことが
ない。そして上記無機化合物の薄層(3) の存在は、防湿
性、防気性、透明電極密着性などの点でもプラスに作用
する。
【図１】本発明の透明電極付き光学用シートを製造する
工程を模式的に示した説明図である。
工程を模式的に示した説明図である。
【図２】パターン電極を形成した硬化物層の表面を観察
したときの概念図である。
したときの概念図である。
(1) …プラスチックスシート、 (1a)…基材フィルム、 (1b)…耐透気性樹脂層、 (ac)…アンカーコーティング層、 (2) …アクリル系樹脂硬化物層、 (3) …耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合物の薄
層、 (4) …透明電極 (M) …鋳型フィルム
層、 (4) …透明電極 (M) …鋳型フィルム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ａ
Claims (4)
- 【請求項１】表面にアクリル系樹脂硬化物層(2) を有す
るプラスチックスシート(1) のアクリル系樹脂硬化物層
(2) 上に、耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合物
の薄層(3) を設け、さらにその薄層(3) の上から透明電
極(4) を設けてなる透明電極付き光学用シート。 - 【請求項２】アクリル系樹脂硬化物層(2) が、活性エネ
ルギー線硬化型のアクリル系樹脂組成物を活性エネルギ
ー線照射により硬化した層である請求項１記載の透明電
極付き光学用シート。 - 【請求項３】アクリル系樹脂硬化物層(2) が、わずかに
間隙をあけて並行に配置した１対のロールのうちの一方
のロールにプラスチックスシート(1) を供給し、また他
方のロールに鋳型フィルム(M) を供給し、これら両ロー
ルの間隙に向けて活性エネルギー線硬化型のアクリル系
樹脂組成物を吐出すると共に、両ロールを互いに喰い込
む方向に回転させてプラスチックスシート(1) と鋳型フ
ィルム(M) との間に前記のアクリル系樹脂組成物が挟持
されるようにし、ついでその挟持された状態で活性エネ
ルギー線照射を行うことにより硬化させた層である請求
項１記載の透明電極付き光学用シート。 - 【請求項４】耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合
物の薄層(3) が、ケイ素、スズ、インジウム、バナジウ
ム、タングステン、ニッケル、ニオブ、アルミニウム、
マグネシウムまたはモルブデンの酸化物またはインジウ
ムの窒化物の薄層である請求項１ないし３のいずれかに
記載の透明電極付き光学用シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7245497A JPH0957894A (ja) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | 透明電極付き光学用シート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7245497A JPH0957894A (ja) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | 透明電極付き光学用シート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0957894A true JPH0957894A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=17134555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7245497A Pending JPH0957894A (ja) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | 透明電極付き光学用シート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0957894A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6395863B2 (en) | 2000-02-02 | 2002-05-28 | Microtouch Systems, Inc. | Touch screen with polarizer and method of making same |
| WO2005100014A1 (ja) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Teijin Limited | 透明ガスバリア性積層フィルム |
| JP2012034363A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Pantech Co Ltd | 映像ディスプレイ装置及びその製造方法 |
| JP2013056546A (ja) * | 2000-04-20 | 2013-03-28 | Samsung Display Co Ltd | Ｔｇ基体上の平滑層及びバリア層 |
-
1995
- 1995-08-29 JP JP7245497A patent/JPH0957894A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6395863B2 (en) | 2000-02-02 | 2002-05-28 | Microtouch Systems, Inc. | Touch screen with polarizer and method of making same |
| JP2013056546A (ja) * | 2000-04-20 | 2013-03-28 | Samsung Display Co Ltd | Ｔｇ基体上の平滑層及びバリア層 |
| WO2005100014A1 (ja) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Teijin Limited | 透明ガスバリア性積層フィルム |
| JP2012034363A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Pantech Co Ltd | 映像ディスプレイ装置及びその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040218 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040330 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040721 |