JPH0940605A - 新規なフェニルプロピオン酸誘導体またはその塩およびそれらを含有する抗炎症剤もしくはシクロオキシゲナーゼ阻害剤 - Google Patents
新規なフェニルプロピオン酸誘導体またはその塩およびそれらを含有する抗炎症剤もしくはシクロオキシゲナーゼ阻害剤Info
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- JPH0940605A JPH0940605A JP7209319A JP20931995A JPH0940605A JP H0940605 A JPH0940605 A JP H0940605A JP 7209319 A JP7209319 A JP 7209319A JP 20931995 A JP20931995 A JP 20931995A JP H0940605 A JPH0940605 A JP H0940605A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 消化管障害などの副作用が少なく、長期投与
に耐え安全性の高い抗炎症・鎮痛・解熱作用、抗アレル
ギー作用などを有する化合物を提供する。 【解決手段】 一般式〔１〕 ［Ｒ1は置換されてもよいアルキル、アルケニル又はア
リール基を；Ｒ2は水素を；Ｒ3はヒドロキシル基又はＲ
2とＲ3が一緒になってオキソ基かヒドロキシイミノ基
を；Ｒ4は水素または置換されてもよいアルキル、アル
ケニル又はアリール基を；Ｒaは水素又はカルボキシル
保護基を；Ｒbは低級アルキル基を；波線はシスもしく
はトランス異性体またはその混合物を示す。］の新規な
フェニルプロピオン酸誘導体またはその塩およびそれら
を含有する抗炎症剤もしくはシクロオキシゲナーゼ阻害
剤。
に耐え安全性の高い抗炎症・鎮痛・解熱作用、抗アレル
ギー作用などを有する化合物を提供する。 【解決手段】 一般式〔１〕 ［Ｒ1は置換されてもよいアルキル、アルケニル又はア
リール基を；Ｒ2は水素を；Ｒ3はヒドロキシル基又はＲ
2とＲ3が一緒になってオキソ基かヒドロキシイミノ基
を；Ｒ4は水素または置換されてもよいアルキル、アル
ケニル又はアリール基を；Ｒaは水素又はカルボキシル
保護基を；Ｒbは低級アルキル基を；波線はシスもしく
はトランス異性体またはその混合物を示す。］の新規な
フェニルプロピオン酸誘導体またはその塩およびそれら
を含有する抗炎症剤もしくはシクロオキシゲナーゼ阻害
剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般式
【化２】 ［式中、Ｒ1は、置換されていてもよいアルキル、アル
ケニルまたはアリール基を；Ｒ2は、水素原子を；Ｒ
3は、ヒドロキシル基を示すかまたはＲ2とＲ3が一緒に
なってオキソ基またはヒドロキシイミノ基を；Ｒ4は、
水素原子または置換されていてもよいアルキル、アルケ
ニルもしくはアリール基を；Ｒaは、水素原子またはカ
ルボキシル保護基を；Ｒbは、低級アルキル基を；波線
は、シスもしくはトランス異性体またはその混合物を示
す。」で表される新規なフェニルプロピオン酸誘導体ま
たはその塩およびそれらを含有する抗炎症剤もしくはシ
クロオキシゲナーゼ阻害剤に関する。
ケニルまたはアリール基を；Ｒ2は、水素原子を；Ｒ
3は、ヒドロキシル基を示すかまたはＲ2とＲ3が一緒に
なってオキソ基またはヒドロキシイミノ基を；Ｒ4は、
水素原子または置換されていてもよいアルキル、アルケ
ニルもしくはアリール基を；Ｒaは、水素原子またはカ
ルボキシル保護基を；Ｒbは、低級アルキル基を；波線
は、シスもしくはトランス異性体またはその混合物を示
す。」で表される新規なフェニルプロピオン酸誘導体ま
たはその塩およびそれらを含有する抗炎症剤もしくはシ
クロオキシゲナーゼ阻害剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】フェニルプロピオン酸系化合物は、種々
の化合物が知られているが、本発明の化合物は、知られ
ていない。
の化合物が知られているが、本発明の化合物は、知られ
ていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】現在、アスピリン、イ
ンドメタシンに代表される多くの非ステロイド性抗炎症
剤（NSAIDs）は、リウマチを含む炎症性疾患の治療に使
用されている。これらのNSAIDsの主な作用機序は、シク
ロオキシゲナーゼ阻害によるプロスタグランジン類の生
合成抑制作用によるものである。アラキドン酸からシク
ロオキシゲナーゼにより産生されるプロスタグランジン
およびトロンボキサンは、血管透過性の亢進あるいは疼
痛の増強作用を有し、炎症反応に深く関与している。そ
れ故にこれらの炎症性メディエータの産生を抑制する薬
剤は抗炎症、鎮痛作用を有し、急性炎症および慢性関節
リウマチなどの慢性炎症に有効である。一方、現在使用
されているNSAIDsの多くは、その治療に必要な使用量と
副作用、特に潰瘍誘発作用を発現する使用量との間に大
きな差がなく、治療係数が低いため、より安全性の高い
NSAIDsの開発が望まれている。
ンドメタシンに代表される多くの非ステロイド性抗炎症
剤（NSAIDs）は、リウマチを含む炎症性疾患の治療に使
用されている。これらのNSAIDsの主な作用機序は、シク
ロオキシゲナーゼ阻害によるプロスタグランジン類の生
合成抑制作用によるものである。アラキドン酸からシク
ロオキシゲナーゼにより産生されるプロスタグランジン
およびトロンボキサンは、血管透過性の亢進あるいは疼
痛の増強作用を有し、炎症反応に深く関与している。そ
れ故にこれらの炎症性メディエータの産生を抑制する薬
剤は抗炎症、鎮痛作用を有し、急性炎症および慢性関節
リウマチなどの慢性炎症に有効である。一方、現在使用
されているNSAIDsの多くは、その治療に必要な使用量と
副作用、特に潰瘍誘発作用を発現する使用量との間に大
きな差がなく、治療係数が低いため、より安全性の高い
NSAIDsの開発が望まれている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】このような状況下におい
て、本発明者らは鋭意研究を行った結果、一般式［１］
で表される新規なフェニルプロピオン酸誘導体またはそ
の塩が、抗炎症・鎮痛・解熱作用、抗アレルギー作用な
どを有し、優れた治療効果を発揮し、かつ潰瘍誘発作用
が少ない安全性の高い化合物であることを見出し、本発
明を完成するに至った。以下、本発明化合物について詳
述する。
て、本発明者らは鋭意研究を行った結果、一般式［１］
で表される新規なフェニルプロピオン酸誘導体またはそ
の塩が、抗炎症・鎮痛・解熱作用、抗アレルギー作用な
どを有し、優れた治療効果を発揮し、かつ潰瘍誘発作用
が少ない安全性の高い化合物であることを見出し、本発
明を完成するに至った。以下、本発明化合物について詳
述する。
【０００５】
【発明の実施の形態】本明細書において、特にことわら
ない限り、アルキル基とは、たとえば、メチル、エチ
ル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチルおよびオクチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状
のＣ1-12アルキル基を；低級アルキル基とは、たとえ
ば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブ
チル、sec-ブチル、イソブチル、tert−ブチルおよびペ
ンチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルキル
基を；アルケニル基とは、たとえば、ビニル、アリル、
プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニ
ル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニルおよびオクテ
ニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ2-12アルケニル
基を；低級アルケニル基とは、たとえば、ビニル、アリ
ル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテ
ニルおよびペンテニルなどの直鎖状および分枝鎖状のＣ
2-6アルケニル基を；アリール基とは、たとえば、フェ
ニルおよびナフチルなどの基を；ハロゲン原子とは、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を；低
級アルコキシ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ、
n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブ
トキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシおよびペンチ
ルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルコ
キシ基を；低級アルコキシカルボニル基とは、たとえ
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プ
ロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−
ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−
ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニルおよび
ペンチルオキシカルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖
状のＣ1-6アルコキシカルボニル基を；シクロアルキル
基とは、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチルもしくはシクロヘキシルなどのＣ3-6シク
ロアルキル基を；アル低級アルキル基とは、たとえば、
ベンジル、ジフェニルメチル、トリチルおよびフェネチ
ル基などのアルＣ1-6アルキル基を；低級アルキリデン
基とは、たとえば、メチレン、エチリデン、プロピリデ
ンおよびイソプロピリデンなどのＣ1-6アルキリデン基
を；低級アルキルチオ基とは、たとえば、メチルチオ、
エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−
ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert
−ブチルチオおよびペンチルチオなどの直鎖状もしくは
分枝鎖状のＣ1-6アルキルチオ基を；ハロゲノ低級アル
キル基とは、たとえば、フルオロメチル、クロロメチ
ル、ブロモメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチ
ル、トリクロロメチル、クロロエチル、ジクロロエチ
ル、トリクロロエチルおよびクロロプロピルなどの直鎖
状もしくは分枝鎖状のハロゲノ−Ｃ1-6アルキル基を；
低級アルコキシ低級アルキル基とは、たとえば、メトキ
シメチル、エトキシメチル、n-プロポキシメチル、メト
キシエチルおよびエトキシエチルなどの直鎖状もしくは
分枝鎖状のＣ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アルキル基を；ヒド
ロキシ低級アルキル基とは、たとえば、ヒドロキシメチ
ル、ヒドロキシエチルおよびヒドロキシプロピルなどの
直鎖状もしくは分枝鎖状のヒドロキシ−Ｃ1-6アルキル
基を；アミノ低級アルキル基とは、たとえば、アミノメ
チル、アミノエチルおよびアミノプロピルなどのアミノ
−Ｃ1-6アルキル基を；低級アルコキシカルボニル低級
アルキル基とは、たとえば、メトキシカルボニルメチ
ル、エトキシカルボニルメチル、n-プロポキシカルボニ
ルメチル、メトキシカルボニルエチルおよびエトキシカ
ルボニルエチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6
アルコキシカルボニル−Ｃ1-6アルキル基を；環状アミ
ノ基とは、たとえば、飽和の環状アミノおよび不飽和の
環状アミノ基のいずれでもよく、また当該環内にさらに
１つまたはそれ以上の窒素原子、酸素原子、硫黄原子な
どの異種原子およびカルボニル炭素を含んでいてもよ
く、さらに単環であっても２−３環性であってもよく、
さらに具体的には、アジリジン−１−イル、アゼチジン
−１−イル、ピロリジン−１−イル、ピロリン−１−イ
ル、ピロール−１−イル、ジヒドロピリジン−１−イ
ル、ピペリジノ、ジヒドロアゼピン−１−イルおよびパ
ーヒドロアゼピン−１−イルなどの窒素原子１個を有す
る飽和または不飽和の単環式３−７員の環状アミノ基；
イミダゾール−１−イル、イミダゾリジン−１−イル、
イミダゾリン−１−イル、ピラゾリジン−１−イル、ピ
ペラジン−１−イル、１,４−ジヒドロピラジン−１−
イル、１,２−ジヒドロピリミジン−１−イル、ペルヒ
ドロピラジン−１−イルおよびホモピペラジン−１−イ
ルなどの窒素原子２個を有する飽和または不飽和の単環
式３−７員の環状アミノ基；１,２,４−トリアゾール−
１−イル、１,２,３−トリアゾール−１−イル、１,２
−ジヒドロ−１,２,４−トリアジン−１−イルおよびペ
ルヒドロ−Ｓ−トリアジン−１−イルなどの窒素原子３
個以上を有する飽和または不飽和の単環式３−７員の環
状アミノ基；オキサゾリジン−３−イル、イソオキサゾ
リジン−２−イル、モルホリノ、１,３−オキサゾリジ
ン−３−イル、チアゾリジン−１−イル、イソチアゾリ
ジン−１−イル、チオモルホリノ、ホモチオモルホリン
−１−イルおよび１,２,４−チアジアゾリン−２−イル
などの窒素原子以外に酸素原子および硫黄原子から選ば
れるヘテロ原子１−４個を有する飽和または不飽和の単
環式３−７員の環状アミノ基；イソインドリン−２−イ
ル、インドリン−１−イル、１Ｈ−インダゾール−１−
イル、プリン−７−イルおよびテトラヒドロキノリン−
１−イルなどの飽和または不飽和の２−３環性の環状ア
ミノ基；並びに５−アザスピロ［２.４］ヘプタン−５
−イル、２,８−ジアザビシクロ［４.３.０］ノナン−
８−イル、３−アザビシクロ［３.１.０］ヘキサン−３
−イル、２−オキサ−５,８−ジアザビシクロ［４.３.
０］ノナン−８−イル、２,８−ジアザスピロ［４.４］
ノナン−２−イルおよび７−アザビシクロ［２.２.１］
ヘプタン−７−イルなどのスピロ式または架橋式の飽和
または不飽和の５−12員の環状アミノ基を；低級アルキ
ルアミノ基とは、たとえば、メチルアミノ、エチルアミ
ノ、プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ
およびメチルエチルアミノなどのモノまたはジ−Ｃ1-6
アルキルアミノ基を；低級アルコキシイミノ基とは、た
とえば、メトキシイミノおよびエトキシイミノなどの直
鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルコキシイミノ基を；
低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、たとえば、メ
チルアミノメチル、メチルアミノエチル、エチルアミノ
メチル、メチルアミノプロピル、プロピルアミノエチ
ル、ジメチルアミノメチル、ジエチルアミノメチル、ジ
エチルアミノエチルおよびジメチルアミノプロピルなど
のモノまたはジ−Ｃ1-6アルキルアミノ−Ｃ1-6アルキル
基を意味する。
ない限り、アルキル基とは、たとえば、メチル、エチ
ル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチルおよびオクチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状
のＣ1-12アルキル基を；低級アルキル基とは、たとえ
ば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブ
チル、sec-ブチル、イソブチル、tert−ブチルおよびペ
ンチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルキル
基を；アルケニル基とは、たとえば、ビニル、アリル、
プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニ
ル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニルおよびオクテ
ニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ2-12アルケニル
基を；低級アルケニル基とは、たとえば、ビニル、アリ
ル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテ
ニルおよびペンテニルなどの直鎖状および分枝鎖状のＣ
2-6アルケニル基を；アリール基とは、たとえば、フェ
ニルおよびナフチルなどの基を；ハロゲン原子とは、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を；低
級アルコキシ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ、
n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブ
トキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシおよびペンチ
ルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルコ
キシ基を；低級アルコキシカルボニル基とは、たとえ
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プ
ロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−
ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−
ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニルおよび
ペンチルオキシカルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖
状のＣ1-6アルコキシカルボニル基を；シクロアルキル
基とは、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチルもしくはシクロヘキシルなどのＣ3-6シク
ロアルキル基を；アル低級アルキル基とは、たとえば、
ベンジル、ジフェニルメチル、トリチルおよびフェネチ
ル基などのアルＣ1-6アルキル基を；低級アルキリデン
基とは、たとえば、メチレン、エチリデン、プロピリデ
ンおよびイソプロピリデンなどのＣ1-6アルキリデン基
を；低級アルキルチオ基とは、たとえば、メチルチオ、
エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−
ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert
−ブチルチオおよびペンチルチオなどの直鎖状もしくは
分枝鎖状のＣ1-6アルキルチオ基を；ハロゲノ低級アル
キル基とは、たとえば、フルオロメチル、クロロメチ
ル、ブロモメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチ
ル、トリクロロメチル、クロロエチル、ジクロロエチ
ル、トリクロロエチルおよびクロロプロピルなどの直鎖
状もしくは分枝鎖状のハロゲノ−Ｃ1-6アルキル基を；
低級アルコキシ低級アルキル基とは、たとえば、メトキ
シメチル、エトキシメチル、n-プロポキシメチル、メト
キシエチルおよびエトキシエチルなどの直鎖状もしくは
分枝鎖状のＣ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アルキル基を；ヒド
ロキシ低級アルキル基とは、たとえば、ヒドロキシメチ
ル、ヒドロキシエチルおよびヒドロキシプロピルなどの
直鎖状もしくは分枝鎖状のヒドロキシ−Ｃ1-6アルキル
基を；アミノ低級アルキル基とは、たとえば、アミノメ
チル、アミノエチルおよびアミノプロピルなどのアミノ
−Ｃ1-6アルキル基を；低級アルコキシカルボニル低級
アルキル基とは、たとえば、メトキシカルボニルメチ
ル、エトキシカルボニルメチル、n-プロポキシカルボニ
ルメチル、メトキシカルボニルエチルおよびエトキシカ
ルボニルエチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6
アルコキシカルボニル−Ｃ1-6アルキル基を；環状アミ
ノ基とは、たとえば、飽和の環状アミノおよび不飽和の
環状アミノ基のいずれでもよく、また当該環内にさらに
１つまたはそれ以上の窒素原子、酸素原子、硫黄原子な
どの異種原子およびカルボニル炭素を含んでいてもよ
く、さらに単環であっても２−３環性であってもよく、
さらに具体的には、アジリジン−１−イル、アゼチジン
−１−イル、ピロリジン−１−イル、ピロリン−１−イ
ル、ピロール−１−イル、ジヒドロピリジン−１−イ
ル、ピペリジノ、ジヒドロアゼピン−１−イルおよびパ
ーヒドロアゼピン−１−イルなどの窒素原子１個を有す
る飽和または不飽和の単環式３−７員の環状アミノ基；
イミダゾール−１−イル、イミダゾリジン−１−イル、
イミダゾリン−１−イル、ピラゾリジン−１−イル、ピ
ペラジン−１−イル、１,４−ジヒドロピラジン−１−
イル、１,２−ジヒドロピリミジン−１−イル、ペルヒ
ドロピラジン−１−イルおよびホモピペラジン−１−イ
ルなどの窒素原子２個を有する飽和または不飽和の単環
式３−７員の環状アミノ基；１,２,４−トリアゾール−
１−イル、１,２,３−トリアゾール−１−イル、１,２
−ジヒドロ−１,２,４−トリアジン−１−イルおよびペ
ルヒドロ−Ｓ−トリアジン−１−イルなどの窒素原子３
個以上を有する飽和または不飽和の単環式３−７員の環
状アミノ基；オキサゾリジン−３−イル、イソオキサゾ
リジン−２−イル、モルホリノ、１,３−オキサゾリジ
ン−３−イル、チアゾリジン−１−イル、イソチアゾリ
ジン−１−イル、チオモルホリノ、ホモチオモルホリン
−１−イルおよび１,２,４−チアジアゾリン−２−イル
などの窒素原子以外に酸素原子および硫黄原子から選ば
れるヘテロ原子１−４個を有する飽和または不飽和の単
環式３−７員の環状アミノ基；イソインドリン−２−イ
ル、インドリン−１−イル、１Ｈ−インダゾール−１−
イル、プリン−７−イルおよびテトラヒドロキノリン−
１−イルなどの飽和または不飽和の２−３環性の環状ア
ミノ基；並びに５−アザスピロ［２.４］ヘプタン−５
−イル、２,８−ジアザビシクロ［４.３.０］ノナン−
８−イル、３−アザビシクロ［３.１.０］ヘキサン−３
−イル、２−オキサ−５,８−ジアザビシクロ［４.３.
０］ノナン−８−イル、２,８−ジアザスピロ［４.４］
ノナン−２−イルおよび７−アザビシクロ［２.２.１］
ヘプタン−７−イルなどのスピロ式または架橋式の飽和
または不飽和の５−12員の環状アミノ基を；低級アルキ
ルアミノ基とは、たとえば、メチルアミノ、エチルアミ
ノ、プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ
およびメチルエチルアミノなどのモノまたはジ−Ｃ1-6
アルキルアミノ基を；低級アルコキシイミノ基とは、た
とえば、メトキシイミノおよびエトキシイミノなどの直
鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルコキシイミノ基を；
低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、たとえば、メ
チルアミノメチル、メチルアミノエチル、エチルアミノ
メチル、メチルアミノプロピル、プロピルアミノエチ
ル、ジメチルアミノメチル、ジエチルアミノメチル、ジ
エチルアミノエチルおよびジメチルアミノプロピルなど
のモノまたはジ−Ｃ1-6アルキルアミノ−Ｃ1-6アルキル
基を意味する。
【０００６】一般式［１］の化合物の塩としては、通常
知られているアミノ基などの塩基性基またはヒドロキシ
ルもしくはカルボキシル基などの酸性基における塩が挙
げられる。塩基性基における塩としては、たとえば、塩
酸、臭化水素酸および硫酸などの鉱酸との塩；酒石酸、
ギ酸、フマル酸、マレイン酸、リンゴ酸、クエン酸、ト
リクロロ酢酸およびトリフルオロ酢酸などの有機カルボ
ン酸との塩；並びにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、p-トルエンスホン酸、メシチレンスルホン酸およ
びナフタレンスルホン酸などのスルホン酸との塩が、ま
た、酸性基における塩としては、たとえば、ナトリウム
およびカリウムなどのアルカリ金属との塩；カルシウム
およびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩；ア
ンモニウム塩；並びにリジン、アルギニンおよびオルニ
チンなどのアミノ酸、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ,Ｎ−ジメチル
アニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロカ
イン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−β−フェネチ
ルアミン、１−エフェナミン並びにＮ,Ｎ'−ジベンジル
エチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との塩などが挙
げられる。また、一般式［１］の化合物またはその塩に
おいて、異性体（たとえば、光学異性体、幾何異性体お
よび互変異性体など）が存在する場合、本発明は、それ
らの異性体を包含し、また、溶媒和物、水和物および種
々の形状の結晶を包含するものである。
知られているアミノ基などの塩基性基またはヒドロキシ
ルもしくはカルボキシル基などの酸性基における塩が挙
げられる。塩基性基における塩としては、たとえば、塩
酸、臭化水素酸および硫酸などの鉱酸との塩；酒石酸、
ギ酸、フマル酸、マレイン酸、リンゴ酸、クエン酸、ト
リクロロ酢酸およびトリフルオロ酢酸などの有機カルボ
ン酸との塩；並びにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、p-トルエンスホン酸、メシチレンスルホン酸およ
びナフタレンスルホン酸などのスルホン酸との塩が、ま
た、酸性基における塩としては、たとえば、ナトリウム
およびカリウムなどのアルカリ金属との塩；カルシウム
およびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩；ア
ンモニウム塩；並びにリジン、アルギニンおよびオルニ
チンなどのアミノ酸、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ,Ｎ−ジメチル
アニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロカ
イン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−β−フェネチ
ルアミン、１−エフェナミン並びにＮ,Ｎ'−ジベンジル
エチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との塩などが挙
げられる。また、一般式［１］の化合物またはその塩に
おいて、異性体（たとえば、光学異性体、幾何異性体お
よび互変異性体など）が存在する場合、本発明は、それ
らの異性体を包含し、また、溶媒和物、水和物および種
々の形状の結晶を包含するものである。
【０００７】Ｒaにおいて、カルボキシル基の保護基と
しては、たとえば、当該分野で通常使用されているもの
が挙げられ、これらは、接触還元、化学的還元またはそ
の他の緩和な条件下で処理すれば脱離する性質を有する
エステル形成基、生体内において容易に脱離するエステ
ル形成基または水もしくはアルコールで処理すれば容易
に脱離する性質を有する有機シリル、有機リンもしくは
有機スズ基など、その他の種々の公知エステル形成基が
挙げられ、具体的には、メチル、エチル、n−プロピ
ル、iso−プロピル、１,１−ジメチルプロピル、n−ブ
チルおよびtert−ブチルなどの低級アルキル基；フェニ
ルおよびナフチルなどのアリール基；ベンジル、ジフェ
ニルメチル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メト
キシベンジルおよびビス（ｐ−メトキシフェニル）メチ
ルなどのアル−低級アルキル基；アセチルメチル、ベン
ゾイルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ−ブロ
モベンゾイルメチルおよびｐ−メタンスルホニルベンゾ
イルメチルなどのアシル−低級アルキル基；２−テトラ
ヒドロピラニルおよび２−テトラヒドロフラニルなどの
含酸素複素環式基；２,２,２−トリクロロエチルなどの
ハロゲノ低級アルキル基；２−（トリメチルシリル）エ
チルなどの低級アルキルシリルアルキル基；アセトキシ
メチル、プロピオニルオキシメチルおよびピバロイルオ
キシメチルなどのアルキルカルボニルオキシアルキル
基；フタルイミドメチルおよびスクシンイミドメチルな
どの含窒素複素環式−低級アルキル基；シクロヘキシル
などのシクロアルキル基；メトキシメチル、メトキシエ
トキシメチルおよび２−（トリメチルシリル）エトキシ
メチルなどの低級アルコキシ低級アルキル基；ベンジル
オキシメチルなどのアル−低級アルコキシ低級アルキル
基；メチルチオメチルおよび２−メチルチオエチルなど
の低級アルキルチオ低級アルキル基；フェニルチオメチ
ルなどのアリールチオ低級アルキル基；１,１−ジメチ
ル−２−プロペニル、３−メチル−３−ブチニルおよび
アリルなどの低級アルケニル基並びにトリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエ
チルイソプロピルシリル、tert−ブチルジメチルシリ
ル、tert−ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチル
シリルおよびtert−ブチルメトキシフェニルシリルなど
の低級アルキル置換シリル基などが挙げられる。
しては、たとえば、当該分野で通常使用されているもの
が挙げられ、これらは、接触還元、化学的還元またはそ
の他の緩和な条件下で処理すれば脱離する性質を有する
エステル形成基、生体内において容易に脱離するエステ
ル形成基または水もしくはアルコールで処理すれば容易
に脱離する性質を有する有機シリル、有機リンもしくは
有機スズ基など、その他の種々の公知エステル形成基が
挙げられ、具体的には、メチル、エチル、n−プロピ
ル、iso−プロピル、１,１−ジメチルプロピル、n−ブ
チルおよびtert−ブチルなどの低級アルキル基；フェニ
ルおよびナフチルなどのアリール基；ベンジル、ジフェ
ニルメチル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メト
キシベンジルおよびビス（ｐ−メトキシフェニル）メチ
ルなどのアル−低級アルキル基；アセチルメチル、ベン
ゾイルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ−ブロ
モベンゾイルメチルおよびｐ−メタンスルホニルベンゾ
イルメチルなどのアシル−低級アルキル基；２−テトラ
ヒドロピラニルおよび２−テトラヒドロフラニルなどの
含酸素複素環式基；２,２,２−トリクロロエチルなどの
ハロゲノ低級アルキル基；２−（トリメチルシリル）エ
チルなどの低級アルキルシリルアルキル基；アセトキシ
メチル、プロピオニルオキシメチルおよびピバロイルオ
キシメチルなどのアルキルカルボニルオキシアルキル
基；フタルイミドメチルおよびスクシンイミドメチルな
どの含窒素複素環式−低級アルキル基；シクロヘキシル
などのシクロアルキル基；メトキシメチル、メトキシエ
トキシメチルおよび２−（トリメチルシリル）エトキシ
メチルなどの低級アルコキシ低級アルキル基；ベンジル
オキシメチルなどのアル−低級アルコキシ低級アルキル
基；メチルチオメチルおよび２−メチルチオエチルなど
の低級アルキルチオ低級アルキル基；フェニルチオメチ
ルなどのアリールチオ低級アルキル基；１,１−ジメチ
ル−２−プロペニル、３−メチル−３−ブチニルおよび
アリルなどの低級アルケニル基並びにトリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエ
チルイソプロピルシリル、tert−ブチルジメチルシリ
ル、tert−ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチル
シリルおよびtert−ブチルメトキシフェニルシリルなど
の低級アルキル置換シリル基などが挙げられる。
【０００８】Ｒ1およびＲ4におけるアルキル、アルケニ
ルおよびアリール基の置換基としては、たとえば、ハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよい
カルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシル
基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アリ
ール基、シクロアルキル基、低級アルケニル基、アル低
級アルキル基、低級アルキリデン基、メルカプト基、低
級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アル
コキシ低級アルキル基、保護されていてもよいヒドロキ
シ低級アルキル基、保護されていてもよいアミノ低級ア
ルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
保護されていてもよい環状アミノ基、保護されていても
よい低級アルキルアミノ基、低級アルコキシイミノ基、
低級アルキルカルボニルオキシ基および保護されていて
もよい低級アルキルアミノ低級アルキル基が挙げられ、
これら一種以上の置換基で置換されていてもよい。
ルおよびアリール基の置換基としては、たとえば、ハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよい
カルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシル
基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アリ
ール基、シクロアルキル基、低級アルケニル基、アル低
級アルキル基、低級アルキリデン基、メルカプト基、低
級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アル
コキシ低級アルキル基、保護されていてもよいヒドロキ
シ低級アルキル基、保護されていてもよいアミノ低級ア
ルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
保護されていてもよい環状アミノ基、保護されていても
よい低級アルキルアミノ基、低級アルコキシイミノ基、
低級アルキルカルボニルオキシ基および保護されていて
もよい低級アルキルアミノ低級アルキル基が挙げられ、
これら一種以上の置換基で置換されていてもよい。
【０００９】本発明化合物およびその製造中間体がヒド
ロキシル基、ヒドロキシ低級アルキル基、アミノ基、ア
ミノ低級アルキル基、環状アミノ基、低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキルアミノ低級アルキル基またはカルボ
キシル基を有する場合、これらの基は公知の保護基で保
護されていてもよい。
ロキシル基、ヒドロキシ低級アルキル基、アミノ基、ア
ミノ低級アルキル基、環状アミノ基、低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキルアミノ低級アルキル基またはカルボ
キシル基を有する場合、これらの基は公知の保護基で保
護されていてもよい。
【００１０】ここにおいて、ヒドロキシル基およびヒド
ロキシ低級アルキル基の保護基としては、通常ヒドロキ
シル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、た
とえば、ベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、４−ブロモベンジルオキシカルボ
ニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３,４
−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニ
ル、１,１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロ
ポキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ジフ
ェニルメトキシカルボニル、２,２,２−トリクロロエト
キシカルボニル、２,２,２−トリブロモエトキシカルボ
ニル、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル、
２−（フェニルスルホニル）エトキシカルボニル、２−
（トリフェニルホスホニオ）エトキシカルボニル、２−
フルフリルオキシカルボニル、１−アダマンチルオキシ
カルボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカ
ルボニル、Ｓ−ベンジルチオカルボニル、４−エトキシ
−１−ナフチルオキシカルボニル、８−キノリルオキシ
カルボニル、アセチル、ホルミル、クロロアセチル、ジ
クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロア
セチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、ピバ
ロイルおよびベンゾイルなどのアシル基；メチル、tert
−ブチル、２,２,２−トリクロロエチルおよび２−トリ
メチルシリルエチルなどの低級アルキル基；アリルなど
の低級アルケニル基；ベンジル、ｐ−メトキシベンジ
ル、３,４−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルお
よびトリチルなどのアル−低級アルキル基；テトラヒド
ロフリル、テトラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチ
オピラニルなどの含酸素および含硫黄複素環式基；メト
キシメチル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチ
ル、２−メトキシエトキシメチル、２,２,２−トリクロ
ロエトキシメチル、２−（トリメチルシリル）エトキシ
メチルおよび１−エトキシエチルなどの低級アルコキシ
−および低級アルキルチオ−低級アルキル基；メタンス
ルホニルおよびｐ−トルエンスルホニルなどのアルカン
−もしくはアレーン−スルホニル基；トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエ
チルイソプロピルシリル、tert−ブチルジメチルシリ
ル、tert−ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチル
シリルおよびtert−ブチルメトキシフェニルシリルなど
の低級アルキル置換シリル基などが挙げられる。
ロキシ低級アルキル基の保護基としては、通常ヒドロキ
シル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、た
とえば、ベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、４−ブロモベンジルオキシカルボ
ニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３,４
−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニ
ル、１,１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロ
ポキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ジフ
ェニルメトキシカルボニル、２,２,２−トリクロロエト
キシカルボニル、２,２,２−トリブロモエトキシカルボ
ニル、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル、
２−（フェニルスルホニル）エトキシカルボニル、２−
（トリフェニルホスホニオ）エトキシカルボニル、２−
フルフリルオキシカルボニル、１−アダマンチルオキシ
カルボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカ
ルボニル、Ｓ−ベンジルチオカルボニル、４−エトキシ
−１−ナフチルオキシカルボニル、８−キノリルオキシ
カルボニル、アセチル、ホルミル、クロロアセチル、ジ
クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロア
セチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、ピバ
ロイルおよびベンゾイルなどのアシル基；メチル、tert
−ブチル、２,２,２−トリクロロエチルおよび２−トリ
メチルシリルエチルなどの低級アルキル基；アリルなど
の低級アルケニル基；ベンジル、ｐ−メトキシベンジ
ル、３,４−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルお
よびトリチルなどのアル−低級アルキル基；テトラヒド
ロフリル、テトラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチ
オピラニルなどの含酸素および含硫黄複素環式基；メト
キシメチル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチ
ル、２−メトキシエトキシメチル、２,２,２−トリクロ
ロエトキシメチル、２−（トリメチルシリル）エトキシ
メチルおよび１−エトキシエチルなどの低級アルコキシ
−および低級アルキルチオ−低級アルキル基；メタンス
ルホニルおよびｐ−トルエンスルホニルなどのアルカン
−もしくはアレーン−スルホニル基；トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエ
チルイソプロピルシリル、tert−ブチルジメチルシリ
ル、tert−ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチル
シリルおよびtert−ブチルメトキシフェニルシリルなど
の低級アルキル置換シリル基などが挙げられる。
【００１１】また、アミノ基、アミノ低級アルキル基、
環状アミノ基、低級アルキルアミノ基および低級アルキ
ルアミノ低級アルキル基の保護基としては、通常アミノ
保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、
トリクロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、ｏ−ブロモベンジルオキシカル
ボニル、（モノ−、ジ−、トリ−）クロロアセチル、ト
リフルオロアセチル、フェニルアセチル、ホルミル、ア
セチル、ベンゾイル、tert−アミルオキシカルボニル、
tert−ブトキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキ
シカルボニル、３,４−ジメトキシベンジルオキシカル
ボニル、４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニ
ル、２−フルフリルオキシカルボニル、ジフェニルメト
キシカルボニル、１,１−ジメチルプロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、フタロイル、スクシニ
ル、アラニル、ロイシル、１−アダマンチルオキシカル
ボニルおよび８−キノリルオキシカルボニルなどのアシ
ル基；ベンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなど
のアル−低級アルキル基；２−ニトロフェニルチオおよ
び２,４−ジニトロフェニルチオなどのアリールチオ
基；メタンスルホニルおよびｐ−トルエンスルホニルな
どのアルカン−もしくはアレーン−スルホニル基；Ｎ,
Ｎ−ジメチルアミノメチレンなどのジ低級アルキルアミ
ノ−低級アルキリデン基；ベンジリデン、２−ヒドロキ
シベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−クロロベンジリ
デンおよび２−ヒドロキシ−１−ナフチルメチレンなど
のアル−低級アルキリデン基；３−ヒドロキシ−４−ピ
リジルメチレンなどの含窒素複素環式アルキリデン基；
シクロヘキシリデン、２−エトキシカルボニルシクロヘ
キシリデン、２−エトキシカルボニルシクロペンチリデ
ン、２−アセチルシクロヘキシリデンおよび３,３−ジ
メチル−５−オキソシクロヘキシリデンなどシクロアル
キリデン基；ジフェニルホスホリルおよびジベンジルホ
スホリルなどのジアリール−もしくはジアル−低級アル
キル−ホスホリル基；５−メチル−２−オキソ−２Ｈ−
１,３−ジオキソール−４−イル−メチルなどの含酸素
複素環式アルキル基並びにトリメチルシリルなどの低級
アルキル置換シリル基などが挙げられる。
環状アミノ基、低級アルキルアミノ基および低級アルキ
ルアミノ低級アルキル基の保護基としては、通常アミノ
保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、
トリクロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、ｏ−ブロモベンジルオキシカル
ボニル、（モノ−、ジ−、トリ−）クロロアセチル、ト
リフルオロアセチル、フェニルアセチル、ホルミル、ア
セチル、ベンゾイル、tert−アミルオキシカルボニル、
tert−ブトキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキ
シカルボニル、３,４−ジメトキシベンジルオキシカル
ボニル、４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニ
ル、２−フルフリルオキシカルボニル、ジフェニルメト
キシカルボニル、１,１−ジメチルプロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、フタロイル、スクシニ
ル、アラニル、ロイシル、１−アダマンチルオキシカル
ボニルおよび８−キノリルオキシカルボニルなどのアシ
ル基；ベンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなど
のアル−低級アルキル基；２−ニトロフェニルチオおよ
び２,４−ジニトロフェニルチオなどのアリールチオ
基；メタンスルホニルおよびｐ−トルエンスルホニルな
どのアルカン−もしくはアレーン−スルホニル基；Ｎ,
Ｎ−ジメチルアミノメチレンなどのジ低級アルキルアミ
ノ−低級アルキリデン基；ベンジリデン、２−ヒドロキ
シベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−クロロベンジリ
デンおよび２−ヒドロキシ−１−ナフチルメチレンなど
のアル−低級アルキリデン基；３−ヒドロキシ−４−ピ
リジルメチレンなどの含窒素複素環式アルキリデン基；
シクロヘキシリデン、２−エトキシカルボニルシクロヘ
キシリデン、２−エトキシカルボニルシクロペンチリデ
ン、２−アセチルシクロヘキシリデンおよび３,３−ジ
メチル−５−オキソシクロヘキシリデンなどシクロアル
キリデン基；ジフェニルホスホリルおよびジベンジルホ
スホリルなどのジアリール−もしくはジアル−低級アル
キル−ホスホリル基；５−メチル−２−オキソ−２Ｈ−
１,３−ジオキソール−４−イル−メチルなどの含酸素
複素環式アルキル基並びにトリメチルシリルなどの低級
アルキル置換シリル基などが挙げられる。
【００１２】さらに、カルボキシル基の保護基として
は、たとえば、当該分野で通常使用されているものが挙
げられ、これらは、接触還元、化学的還元またはその他
の緩和な条件下で処理すれば脱離する性質を有するエス
テル形成基、生体内において容易に脱離するエステル形
成基または水もしくはアルコールで処理すれば容易に脱
離する性質を有する有機シリル、有機リンもしくは有機
スズ基など、その他の種々の公知エステル形成基が挙げ
られ、具体的には、メチル、エチル、n−プロピル、iso
−プロピル、１,１−ジメチルプロピル、n−ブチルおよ
びtert−ブチルなどの低級アルキル基；フェニルおよび
ナフチルなどのアリール基；ベンジル、ジフェニルメチ
ル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベン
ジルおよびビス（ｐ−メトキシフェニル）メチルなどの
アル−低級アルキル基；アセチルメチル、ベンゾイルメ
チル、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ−ブロモベンゾ
イルメチルおよびｐ−メタンスルホニルベンゾイルメチ
ルなどのアシル−低級アルキル基；２−テトラヒドロピ
ラニルおよび２−テトラヒドロフラニルなどの含酸素複
素環式基；２,２,２−トリクロロエチルなどのハロゲノ
低級アルキル基；２−（トリメチルシリル）エチルなど
の低級アルキルシリルアルキル基；アセトキシメチル、
プロピオニルオキシメチルおよびピバロイルオキシメチ
ルなどのアルキルカルボニルオキシアルキル基；フタル
イミドメチルおよびスクシンイミドメチルなどの含窒素
複素環式−低級アルキル基；シクロヘキシルなどのシク
ロアルキル基；メトキシメチル、メトキシエトキシメチ
ルおよび２−（トリメチルシリル）エトキシメチルなど
の低級アルコキシ低級アルキル基；ベンジルオキシメチ
ルなどのアル−低級アルコキシ低級アルキル基；メチル
チオメチルおよび２−メチルチオエチルなどの低級アル
キルチオ低級アルキル基；フェニルチオメチルなどのア
リールチオ低級アルキル基；１,１−ジメチル−２−プ
ロペニル、３−メチル−３−ブチニルおよびアリルなど
の低級アルケニル基並びにトリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロ
ピルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−ブチ
ルジフェニルシリル、ジフェニルメチルシリルおよびte
rt−ブチルメトキシフェニルシリルなどの低級アルキル
置換シリル基などが挙げられる。
は、たとえば、当該分野で通常使用されているものが挙
げられ、これらは、接触還元、化学的還元またはその他
の緩和な条件下で処理すれば脱離する性質を有するエス
テル形成基、生体内において容易に脱離するエステル形
成基または水もしくはアルコールで処理すれば容易に脱
離する性質を有する有機シリル、有機リンもしくは有機
スズ基など、その他の種々の公知エステル形成基が挙げ
られ、具体的には、メチル、エチル、n−プロピル、iso
−プロピル、１,１−ジメチルプロピル、n−ブチルおよ
びtert−ブチルなどの低級アルキル基；フェニルおよび
ナフチルなどのアリール基；ベンジル、ジフェニルメチ
ル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベン
ジルおよびビス（ｐ−メトキシフェニル）メチルなどの
アル−低級アルキル基；アセチルメチル、ベンゾイルメ
チル、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ−ブロモベンゾ
イルメチルおよびｐ−メタンスルホニルベンゾイルメチ
ルなどのアシル−低級アルキル基；２−テトラヒドロピ
ラニルおよび２−テトラヒドロフラニルなどの含酸素複
素環式基；２,２,２−トリクロロエチルなどのハロゲノ
低級アルキル基；２−（トリメチルシリル）エチルなど
の低級アルキルシリルアルキル基；アセトキシメチル、
プロピオニルオキシメチルおよびピバロイルオキシメチ
ルなどのアルキルカルボニルオキシアルキル基；フタル
イミドメチルおよびスクシンイミドメチルなどの含窒素
複素環式−低級アルキル基；シクロヘキシルなどのシク
ロアルキル基；メトキシメチル、メトキシエトキシメチ
ルおよび２−（トリメチルシリル）エトキシメチルなど
の低級アルコキシ低級アルキル基；ベンジルオキシメチ
ルなどのアル−低級アルコキシ低級アルキル基；メチル
チオメチルおよび２−メチルチオエチルなどの低級アル
キルチオ低級アルキル基；フェニルチオメチルなどのア
リールチオ低級アルキル基；１,１−ジメチル−２−プ
ロペニル、３−メチル−３−ブチニルおよびアリルなど
の低級アルケニル基並びにトリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロ
ピルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−ブチ
ルジフェニルシリル、ジフェニルメチルシリルおよびte
rt−ブチルメトキシフェニルシリルなどの低級アルキル
置換シリル基などが挙げられる。
【００１３】本発明化合物中、Ｒ1が置換されていても
よい低級アルキル、低級アルケニルまたはアリール基
で、Ｒ2が水素原子で、Ｒ3がヒドロキシル基を示すかま
たはＲ2とＲ3が一緒になってオキソ基またはヒドロキシ
イミノ基で、Ｒ4が水素原子または置換されていてもよ
い低級アルキル、低級アルケニルもしくはアリール基
で、Ｒaが水素原子またはカルボキシル保護基で、Ｒbが
低級アルキルである化合物が好ましく、Ｒ1が低級アル
キル、低級アルケニルまたはフェニル基で、Ｒ2が水素
原子で、Ｒ3がヒドロキシル基を示すかまたはＲ2とＲ3
が一緒になってオキソ基またはヒドロキシイミノ基で、
Ｒ4が低級アルキル基で、Ｒaが水素原子またはカルボキ
シル保護基で、Ｒbが低級アルキルである化合物がさら
に好ましく、Ｒ1が低級アルキル基で、Ｒ2が水素原子
で；Ｒ3がヒドロキシル基を示すかまたはＲ2とＲ3が一
緒になってオキソ基またはヒドロキシイミノ基で、Ｒ4
が低級アルキル基で、Ｒaが水素原子またはカルボキシ
ル保護基で、Ｒbが低級アルキルである化合物がよりさ
らに好ましく、Ｒ1がメチルまたはエチル基で、Ｒ2が水
素原子かつＲ3がヒドロキシル基もしくはＲ2とＲ3が一
緒になってオキソ基またはヒドロキシイミノ基で、Ｒ4
がメチル基で、Ｒaが水素原子またはカルボキシル保護
基で、Ｒbが、メチル基である化合物がより一層さらに
好ましい。
よい低級アルキル、低級アルケニルまたはアリール基
で、Ｒ2が水素原子で、Ｒ3がヒドロキシル基を示すかま
たはＲ2とＲ3が一緒になってオキソ基またはヒドロキシ
イミノ基で、Ｒ4が水素原子または置換されていてもよ
い低級アルキル、低級アルケニルもしくはアリール基
で、Ｒaが水素原子またはカルボキシル保護基で、Ｒbが
低級アルキルである化合物が好ましく、Ｒ1が低級アル
キル、低級アルケニルまたはフェニル基で、Ｒ2が水素
原子で、Ｒ3がヒドロキシル基を示すかまたはＲ2とＲ3
が一緒になってオキソ基またはヒドロキシイミノ基で、
Ｒ4が低級アルキル基で、Ｒaが水素原子またはカルボキ
シル保護基で、Ｒbが低級アルキルである化合物がさら
に好ましく、Ｒ1が低級アルキル基で、Ｒ2が水素原子
で；Ｒ3がヒドロキシル基を示すかまたはＲ2とＲ3が一
緒になってオキソ基またはヒドロキシイミノ基で、Ｒ4
が低級アルキル基で、Ｒaが水素原子またはカルボキシ
ル保護基で、Ｒbが低級アルキルである化合物がよりさ
らに好ましく、Ｒ1がメチルまたはエチル基で、Ｒ2が水
素原子かつＲ3がヒドロキシル基もしくはＲ2とＲ3が一
緒になってオキソ基またはヒドロキシイミノ基で、Ｒ4
がメチル基で、Ｒaが水素原子またはカルボキシル保護
基で、Ｒbが、メチル基である化合物がより一層さらに
好ましい。
【００１４】本発明化合物中、代表的化合物としては、
以下の化合物が挙げられる。 ・２−［４−（２−メチル−３−オキソ−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−［２−（２−フルオロエチル）−３−オキ
ソ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−［２−（２−ヒドロキシエチル）−３−オ
キソ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシイミノ−１
−ブテニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−ベンゾイル−１−ブテニル）フェニ
ル］プロピオン酸 ・２−［４−［２−（４−フルオロベンゾイル）−１−
ブテニル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−［２−（４−クロロベンゾイル）−１−ブ
テニル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−３−オキソ−５−フェニル
−１,４−ペンタジエニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−５−フェ
ニル−１,４−ペンタジエニル）フェニル］プロピオン
酸 ・２−［４−［２−エチル−３−オキソ−４−（１Ｈ−
１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブテニル］
フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−［２−エチル−３−ヒドロキシ−４−（１
Ｈ−１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブテニ
ル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−４−フルオロ−３−オキソ
−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−４−フルオロ−３−ヒドロ
キシ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−［３−ヒドロキシ−２−（２−ヒドロキシ
エチル）−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−イソプロピル−３−オキソ−１−ブ
テニル）フェニル］プロピオン酸
以下の化合物が挙げられる。 ・２−［４−（２−メチル−３−オキソ−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−［２−（２−フルオロエチル）−３−オキ
ソ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−［２−（２−ヒドロキシエチル）−３−オ
キソ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシイミノ−１
−ブテニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−ベンゾイル−１−ブテニル）フェニ
ル］プロピオン酸 ・２−［４−［２−（４−フルオロベンゾイル）−１−
ブテニル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−［２−（４−クロロベンゾイル）−１−ブ
テニル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−３−オキソ−５−フェニル
−１,４−ペンタジエニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−５−フェ
ニル−１,４−ペンタジエニル）フェニル］プロピオン
酸 ・２−［４−［２−エチル−３−オキソ−４−（１Ｈ−
１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブテニル］
フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−［２−エチル−３−ヒドロキシ−４−（１
Ｈ−１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブテニ
ル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−４−フルオロ−３−オキソ
−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−エチル−４−フルオロ−３−ヒドロ
キシ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−［３−ヒドロキシ−２−（２−ヒドロキシ
エチル）−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸 ・２−［４−（２−イソプロピル−３−オキソ−１−ブ
テニル）フェニル］プロピオン酸
【００１５】・２−［４−（２−メチル−３−オキソ−
１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−［２−（２−フルオロエチル）−３−オキ
ソ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチルエス
テル ・２−［４−［２−（２−ヒドロキシエチル）−３−オ
キソ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチルエ
ステル ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシイミノ−１
−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（２−ベンゾイル−１−ブテニル）フェニ
ル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−［２−（４−フルオロベンゾイル）−１−
ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−［２−（４−クロロベンゾイル）−１−ブ
テニル］フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（２−エチル−３−オキソ−５−フェニル
−１,４−ペンタジエニル）フェニル］プロピオン酸メ
チルエステル ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−５−フェ
ニル−１,４−ペンタジエニル）フェニル］プロピオン
酸メチルエステル ・２−［４−［２−エチル−３−オキソ−４−（１Ｈ−
１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブテニル］
フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−［２−エチル−３−ヒドロキシ−４−（１
Ｈ−１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブテニ
ル］フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（２−エチル−４−フルオロ−３−オキソ
−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル ・２−［４−（２−エチル−４−フルオロ−３−ヒドロ
キシ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエ
ステル ・２−［４−［３−ヒドロキシ−２−（２−ヒドロキシ
エチル）−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチ
ルエステル ・２−［４−（２−イソプロピル−３−オキソ−１−ブ
テニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル
１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−［２−（２−フルオロエチル）−３−オキ
ソ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチルエス
テル ・２−［４−［２−（２−ヒドロキシエチル）−３−オ
キソ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチルエ
ステル ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシイミノ−１
−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（２−ベンゾイル−１−ブテニル）フェニ
ル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−［２−（４−フルオロベンゾイル）−１−
ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−［２−（４−クロロベンゾイル）−１−ブ
テニル］フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（２−エチル−３−オキソ−５−フェニル
−１,４−ペンタジエニル）フェニル］プロピオン酸メ
チルエステル ・２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−５−フェ
ニル−１,４−ペンタジエニル）フェニル］プロピオン
酸メチルエステル ・２−［４−［２−エチル−３−オキソ−４−（１Ｈ−
１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブテニル］
フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−［２−エチル−３−ヒドロキシ−４−（１
Ｈ−１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブテニ
ル］フェニル］プロピオン酸メチルエステル ・２−［４−（２−エチル−４−フルオロ−３−オキソ
−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル ・２−［４−（２−エチル−４−フルオロ−３−ヒドロ
キシ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエ
ステル ・２−［４−［３−ヒドロキシ−２−（２−ヒドロキシ
エチル）−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチ
ルエステル ・２−［４−（２−イソプロピル−３−オキソ−１−ブ
テニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル
【００１６】つぎに、本発明化合物の製造法について説
明する。一般式［１］のフェニルプロピオン酸誘導体ま
たはその塩は、たとえば、つぎに示す製造ルートにした
がって製造することができる。
明する。一般式［１］のフェニルプロピオン酸誘導体ま
たはその塩は、たとえば、つぎに示す製造ルートにした
がって製造することができる。
【００１７】
【化３】
【００１８】
【化４】
【００１９】
【化５】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ＲaおよびＲbは、前記し
たと同様の意味を有し、Ｒ5およびＲ6は、Ｒ4の置換基
として挙げられる基を；Ｘは、ハロゲン原子の意味を；
波線は、シスまたはトランス異性体またはその混合物
を；破線は、シンまたはアンチ異性体またはその混合物
の意味を示す。］
たと同様の意味を有し、Ｒ5およびＲ6は、Ｒ4の置換基
として挙げられる基を；Ｘは、ハロゲン原子の意味を；
波線は、シスまたはトランス異性体またはその混合物
を；破線は、シンまたはアンチ異性体またはその混合物
の意味を示す。］
【００２０】［製造法］一般式［４］の化合物は、たと
えば、一般式［２］の化合物を塩基の存在下に一般式
［３］の化合物と反応させることにより得ることができ
る。この反応で使用される一般式［３］の化合物の使用
量は、一般式［２］の化合物に対して１−５倍モルであ
ればよい。この反応に使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であればとくに限定されない
が、たとえば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ,
Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ジオキサン
およびテトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられ、
これらの溶媒は、一種または二種以上混合して使用して
もよい。この反応で使用される塩基としては、たとえ
ば、水素化ナトリウムおよび水素化カリウムなどのアル
カリ金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシドおよびカリウムtert−ブトキシドなどのアル
カリ金属アルコキシド；炭酸カリウムおよび炭酸ナトリ
ウムなどのアルカリ金属炭酸塩；並びに水酸化ナトリウ
ムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属など
が挙げられる。塩基の使用量は、一般式［２］の化合物
に対して、１−３倍モルであればよい。この反応は、通
常、-20−100℃で、30分−48時間実施すればよい。
えば、一般式［２］の化合物を塩基の存在下に一般式
［３］の化合物と反応させることにより得ることができ
る。この反応で使用される一般式［３］の化合物の使用
量は、一般式［２］の化合物に対して１−５倍モルであ
ればよい。この反応に使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であればとくに限定されない
が、たとえば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ,
Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ジオキサン
およびテトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられ、
これらの溶媒は、一種または二種以上混合して使用して
もよい。この反応で使用される塩基としては、たとえ
ば、水素化ナトリウムおよび水素化カリウムなどのアル
カリ金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシドおよびカリウムtert−ブトキシドなどのアル
カリ金属アルコキシド；炭酸カリウムおよび炭酸ナトリ
ウムなどのアルカリ金属炭酸塩；並びに水酸化ナトリウ
ムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属など
が挙げられる。塩基の使用量は、一般式［２］の化合物
に対して、１−３倍モルであればよい。この反応は、通
常、-20−100℃で、30分−48時間実施すればよい。
【００２１】一般式［６］の化合物は、たとえば、一般
式［４］の化合物を塩基の存在下に一般式［５］の化合
物と反応させることにより得ることができる。この反応
で使用される一般式［５］の化合物の使用量は、一般式
［４］の化合物に対して0.8−５倍モルであればよい。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないが、たとえ
ば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ,Ｎ−ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類；ジオキサンおよびテト
ラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼンおよびトル
エンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられ、これらの
溶媒は、一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応で使用される塩基としては、たとえば、水素化
ナトリウムおよび水素化カリウムなどのアルカリ金属水
素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
およびカリウムtert−ブトキシドなどのアルカリ金属ア
ルコキシド；炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどの
アルカリ金属炭酸塩；並びに水酸化ナトリウムおよび水
酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属などが挙げられ
る。塩基の使用量は、一般式［４］の化合物に対して、
0.8−３倍モルであればよい。この反応は、通常-20−10
0℃で、30分−48時間実施すればよい。
式［４］の化合物を塩基の存在下に一般式［５］の化合
物と反応させることにより得ることができる。この反応
で使用される一般式［５］の化合物の使用量は、一般式
［４］の化合物に対して0.8−５倍モルであればよい。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないが、たとえ
ば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ,Ｎ−ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類；ジオキサンおよびテト
ラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼンおよびトル
エンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられ、これらの
溶媒は、一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応で使用される塩基としては、たとえば、水素化
ナトリウムおよび水素化カリウムなどのアルカリ金属水
素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
およびカリウムtert−ブトキシドなどのアルカリ金属ア
ルコキシド；炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどの
アルカリ金属炭酸塩；並びに水酸化ナトリウムおよび水
酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属などが挙げられ
る。塩基の使用量は、一般式［４］の化合物に対して、
0.8−３倍モルであればよい。この反応は、通常-20−10
0℃で、30分−48時間実施すればよい。
【００２２】一般式［８］の化合物は、たとえば、一般
式［２］の化合物を塩基の存在下に、触媒の存在下ある
いは非存在下に一般式［５］の化合物と反応させること
により得ることができる。この反応に使用される触媒と
しては、ヨウ化カリウムなどが挙げられる。触媒の使用
量は、一般式［５］の化合物に対して0.01−２倍モルで
あればよい。この反応に使用される溶媒としては、反応
に悪影響を及ばさない溶媒であれば特に限定されない
が、たとえば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ,
Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；アセトンお
よびメチルエチルケトンなどのケトン類、ジオキサンお
よびテトラヒドロフランなどのエーテル類；並びにベン
ゼンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素類などが挙げ
られ、これらの溶媒は、一種又は二種以上混合して使用
してもよい。この反応で使用される塩基としては、たと
えば、水素化ナトリウムおよび水素化カリウムなどのア
ルカリ金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシドおよびカリウムtert-ブトキシドなどのア
ルカリ金属アルコキシド；炭酸カリウムおよび炭酸ナト
リウムなどのアルカリ金属塩；並びに水酸化ナトリウム
および水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属などが
挙げられる。塩基の使用量は、一般式［２］の化合物に
対して１−３倍モルであればよい。この反応は、通常-2
0−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
式［２］の化合物を塩基の存在下に、触媒の存在下ある
いは非存在下に一般式［５］の化合物と反応させること
により得ることができる。この反応に使用される触媒と
しては、ヨウ化カリウムなどが挙げられる。触媒の使用
量は、一般式［５］の化合物に対して0.01−２倍モルで
あればよい。この反応に使用される溶媒としては、反応
に悪影響を及ばさない溶媒であれば特に限定されない
が、たとえば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ,
Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；アセトンお
よびメチルエチルケトンなどのケトン類、ジオキサンお
よびテトラヒドロフランなどのエーテル類；並びにベン
ゼンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素類などが挙げ
られ、これらの溶媒は、一種又は二種以上混合して使用
してもよい。この反応で使用される塩基としては、たと
えば、水素化ナトリウムおよび水素化カリウムなどのア
ルカリ金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシドおよびカリウムtert-ブトキシドなどのア
ルカリ金属アルコキシド；炭酸カリウムおよび炭酸ナト
リウムなどのアルカリ金属塩；並びに水酸化ナトリウム
および水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属などが
挙げられる。塩基の使用量は、一般式［２］の化合物に
対して１−３倍モルであればよい。この反応は、通常-2
0−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００２３】一般式［６］の化合物は、一般式［８］の
化合物を塩基の存在下に一般式［３］の化合物と反応さ
せることにより得ることができる。この反応で使用され
る一般式［３］の化合物の使用量は、一般式［８］の化
合物に対して１−５倍モルであればよい。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、Ｎ,Ｎ−ジメ
チルホルムアミドおよびＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミド
などのアミド類；アセトンおよびメチルエチルケトンな
どのケトン類；ジオキサンおよびテトラヒドロフランな
どのエーテル類；ベンゼンおよびトルエンなどの芳香族
炭化水素類などが挙げられ、これらの溶媒は、一種又は
二種以上混合して使用してもよい。この反応で使用され
る塩基としては、たとえば、水素化ナトリウムおよび水
素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物；ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムtert
-ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド；炭酸カ
リウムおよび炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸
塩；並びに水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなど
の水酸化アルカリ金属などが挙げられる。塩基の使用量
は、一般式［８］の化合物に対して１−３倍モルであれ
ばよい。この反応は、通常−20−100℃で、30分−24時
間実施すればよい。
化合物を塩基の存在下に一般式［３］の化合物と反応さ
せることにより得ることができる。この反応で使用され
る一般式［３］の化合物の使用量は、一般式［８］の化
合物に対して１−５倍モルであればよい。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、Ｎ,Ｎ−ジメ
チルホルムアミドおよびＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミド
などのアミド類；アセトンおよびメチルエチルケトンな
どのケトン類；ジオキサンおよびテトラヒドロフランな
どのエーテル類；ベンゼンおよびトルエンなどの芳香族
炭化水素類などが挙げられ、これらの溶媒は、一種又は
二種以上混合して使用してもよい。この反応で使用され
る塩基としては、たとえば、水素化ナトリウムおよび水
素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物；ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムtert
-ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド；炭酸カ
リウムおよび炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸
塩；並びに水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなど
の水酸化アルカリ金属などが挙げられる。塩基の使用量
は、一般式［８］の化合物に対して１−３倍モルであれ
ばよい。この反応は、通常−20−100℃で、30分−24時
間実施すればよい。
【００２４】一般式［７］の化合物は、たとえば、一般
式［６］の化合物を選択的な脱エステル化反応ついで脱
炭酸反応に付することにより、得ることができる。
式［６］の化合物を選択的な脱エステル化反応ついで脱
炭酸反応に付することにより、得ることができる。
【００２５】脱エステル化反応は、プロテクティブ・グ
ループス・イン・オーガニック・シンセシス、第168-16
9頁（1981年）などに記載された方法、たとえば、溶媒
の存在下あるいは不存在下に酸を使用して行えばよい。
この反応に使用される酸としては、トリフルオロ酢酸あ
るいは臭化水素酸−酢酸などの酸が挙げられ、その使用
量は、一般式［６］の化合物に対して５−100倍モルで
あればよい。この反応に使用される溶媒としては、反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であればとくに限定されない
が、たとえば、酢酸およびギ酸などの有機酸類；ベンゼ
ンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリ
コールジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブなど
のエーテル類；並びに塩化メチレン、クロロホルムなど
のハロゲン化炭化水素類などが挙げられ、これらの溶媒
は、一種または二種以上混合して使用してもよい。この
反応は、通常、0−50℃で、30分−24時間実施すればよ
い。
ループス・イン・オーガニック・シンセシス、第168-16
9頁（1981年）などに記載された方法、たとえば、溶媒
の存在下あるいは不存在下に酸を使用して行えばよい。
この反応に使用される酸としては、トリフルオロ酢酸あ
るいは臭化水素酸−酢酸などの酸が挙げられ、その使用
量は、一般式［６］の化合物に対して５−100倍モルで
あればよい。この反応に使用される溶媒としては、反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であればとくに限定されない
が、たとえば、酢酸およびギ酸などの有機酸類；ベンゼ
ンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリ
コールジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブなど
のエーテル類；並びに塩化メチレン、クロロホルムなど
のハロゲン化炭化水素類などが挙げられ、これらの溶媒
は、一種または二種以上混合して使用してもよい。この
反応は、通常、0−50℃で、30分−24時間実施すればよ
い。
【００２６】脱炭酸反応は、たとえば、溶媒の存在下ま
たは不存在下に加熱することにより行えばよい。この反
応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であればとくに限定されないが、たとえば、ベン
ゼンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素類；クロロホ
ルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類
などが挙げられ、これらの溶媒は、一種または二種以上
混合して使用してもよい。この反応は、通常、30−120
℃で、30分−24時間実施すればよい。
たは不存在下に加熱することにより行えばよい。この反
応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であればとくに限定されないが、たとえば、ベン
ゼンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素類；クロロホ
ルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類
などが挙げられ、これらの溶媒は、一種または二種以上
混合して使用してもよい。この反応は、通常、30−120
℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００２７】一般式［1a］の化合物は、たとえば、一般
式［７］の化合物をハロゲン化剤を使用して、触媒の存
在下あるいは非存在下にハロゲン化反応、ついで、塩基
の存在下に脱ハロゲン化水素反応を行うことにより製造
することができる。ハロゲン化反応で使用されるハロゲ
ン化剤としては、Ｎ−ブロモスクシンイミドおよびＮ−
クロロスクシンイミドなどが挙げられる。その使用量
は、一般式［７］の化合物に対して、0.5−1.5倍モルで
あればよい。ハロゲン化反応に使用される触媒として
は、２,２−アゾビス（イソブチロニトリル）および過
酸化ベンゾイルなどを使用することができる。触媒の使
用量は、一般式［７］の化合物に対して、0.01−１倍モ
ルであればよい。ハロゲン化反応に使用される溶媒とし
ては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればとくに限
定されないが、たとえば、クロロホルム、四塩化炭素お
よびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素；ベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられ、これらの溶
媒は、一種または二種以上混合して使用してもよい。ハ
ロゲン化反応は、通常、50−100℃で、30分−８時間実
施すればよい。脱ハロゲン化水素反応に使用される塩基
としては、たとえば、トリエチルアミンおよび１,８−
ジアザビシクロ［５.４.０］ウンデク−７−エンなどの
有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ドおよびカリウムtert−ブトキシドなどのアルカリ金属
アルコキシド；炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなど
のアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウムおよび水酸化
カリウムなどの水酸化アルカリなどが挙げられる。塩基
の使用量は、一般式［７］の化合物に対して、１−３倍
モルであればよい。脱ハロゲン化水素反応に使用される
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば
特に限定されないが、たとえば、塩化メチレンおよびク
ロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼンおよ
びトルエンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられる。
脱ハロゲン化水素反応は、通常、０−50℃で、30分−24
時間実施すればよい。
式［７］の化合物をハロゲン化剤を使用して、触媒の存
在下あるいは非存在下にハロゲン化反応、ついで、塩基
の存在下に脱ハロゲン化水素反応を行うことにより製造
することができる。ハロゲン化反応で使用されるハロゲ
ン化剤としては、Ｎ−ブロモスクシンイミドおよびＮ−
クロロスクシンイミドなどが挙げられる。その使用量
は、一般式［７］の化合物に対して、0.5−1.5倍モルで
あればよい。ハロゲン化反応に使用される触媒として
は、２,２−アゾビス（イソブチロニトリル）および過
酸化ベンゾイルなどを使用することができる。触媒の使
用量は、一般式［７］の化合物に対して、0.01−１倍モ
ルであればよい。ハロゲン化反応に使用される溶媒とし
ては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればとくに限
定されないが、たとえば、クロロホルム、四塩化炭素お
よびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素；ベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられ、これらの溶
媒は、一種または二種以上混合して使用してもよい。ハ
ロゲン化反応は、通常、50−100℃で、30分−８時間実
施すればよい。脱ハロゲン化水素反応に使用される塩基
としては、たとえば、トリエチルアミンおよび１,８−
ジアザビシクロ［５.４.０］ウンデク−７−エンなどの
有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ドおよびカリウムtert−ブトキシドなどのアルカリ金属
アルコキシド；炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなど
のアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウムおよび水酸化
カリウムなどの水酸化アルカリなどが挙げられる。塩基
の使用量は、一般式［７］の化合物に対して、１−３倍
モルであればよい。脱ハロゲン化水素反応に使用される
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば
特に限定されないが、たとえば、塩化メチレンおよびク
ロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼンおよ
びトルエンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられる。
脱ハロゲン化水素反応は、通常、０−50℃で、30分−24
時間実施すればよい。
【００２８】一般式［1d］の化合物は、たとえば、一般
式［1a］の化合物を塩基あるいは酸の存在下に加水分解
反応に付すことにより得ることができる。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、水並びに水お
よび有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒と
しては、たとえば、メタノール、エタノール、アセト
ン、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが挙げら
れる。この反応に使用される塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属
などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［1a］の化
合物に対して１−50倍モルであればよい。この反応は、
通常０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。この反
応に使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸な
どが挙げられる。酸の使用量は、一般式［1a］の化合物
に対して１−100倍モルであればよい。この反応は、通
常０−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
式［1a］の化合物を塩基あるいは酸の存在下に加水分解
反応に付すことにより得ることができる。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、水並びに水お
よび有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒と
しては、たとえば、メタノール、エタノール、アセト
ン、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが挙げら
れる。この反応に使用される塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属
などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［1a］の化
合物に対して１−50倍モルであればよい。この反応は、
通常０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。この反
応に使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸な
どが挙げられる。酸の使用量は、一般式［1a］の化合物
に対して１−100倍モルであればよい。この反応は、通
常０−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００２９】一般式［1e］の化合物は、たとえば、一般
式［1d］の化合物を還元することにより得ることができ
る。この反応に使用される還元剤としては、水素化ホウ
素ナトリウムおよび水素化シアノホウ素ナトリウムなど
が挙げられ、その使用量は、一般式［1d］の化合物に対
して、0.2−５倍モルであればよい。この反応に使用さ
れる溶媒としては、メタノールおよびエタノールなどの
アルコール類；水および有機溶媒の混合溶媒などが挙げ
られる。有機溶媒としては、たとえば、メタノール、エ
タノール、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが
挙げられる。この反応は、通常、０−50℃で、30分−24
時間実施すればよい。
式［1d］の化合物を還元することにより得ることができ
る。この反応に使用される還元剤としては、水素化ホウ
素ナトリウムおよび水素化シアノホウ素ナトリウムなど
が挙げられ、その使用量は、一般式［1d］の化合物に対
して、0.2−５倍モルであればよい。この反応に使用さ
れる溶媒としては、メタノールおよびエタノールなどの
アルコール類；水および有機溶媒の混合溶媒などが挙げ
られる。有機溶媒としては、たとえば、メタノール、エ
タノール、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが
挙げられる。この反応は、通常、０−50℃で、30分−24
時間実施すればよい。
【００３０】一般式［1b］の化合物は、たとえば、一般
式［1a］の化合物を還元することにより得ることができ
る。この反応に使用される還元剤としては、水素化ホウ
素ナトリウムおよび水素化シアノホウ素ナトリウムなど
が挙げられ、その使用量は、一般式［1a］の化合物に対
して、0.2−５倍モルであればよい。この反応に使用さ
れる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であ
ればとくに限定されないが、たとえば、水並びに水およ
び有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒とし
ては、たとえば、メタノール、エタノール、ジオキサン
およびテトラヒドロフランなどが挙げられる。この反応
は、通常、０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。
式［1a］の化合物を還元することにより得ることができ
る。この反応に使用される還元剤としては、水素化ホウ
素ナトリウムおよび水素化シアノホウ素ナトリウムなど
が挙げられ、その使用量は、一般式［1a］の化合物に対
して、0.2−５倍モルであればよい。この反応に使用さ
れる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であ
ればとくに限定されないが、たとえば、水並びに水およ
び有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒とし
ては、たとえば、メタノール、エタノール、ジオキサン
およびテトラヒドロフランなどが挙げられる。この反応
は、通常、０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００３１】一般式［1e］の化合物は、たとえば、一般
式［1b］の化合物を塩基あるいは酸の存在下に加水分解
反応に付すことにより得ることができる。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、水並びに水お
よび有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒と
しては、たとえば、メタノール、エタノール、アセト
ン、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが挙げら
れる。この反応に使用される塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属
などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［1b］の化
合物に対して１−50倍モルであればよい。この反応は、
通常０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。この反
応に使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸な
どが挙げられる。酸の使用量は、一般式［1b］の化合物
に対して１−100倍モルであればよい。この反応は、通
常０−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
式［1b］の化合物を塩基あるいは酸の存在下に加水分解
反応に付すことにより得ることができる。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、水並びに水お
よび有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒と
しては、たとえば、メタノール、エタノール、アセト
ン、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが挙げら
れる。この反応に使用される塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属
などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［1b］の化
合物に対して１−50倍モルであればよい。この反応は、
通常０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。この反
応に使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸な
どが挙げられる。酸の使用量は、一般式［1b］の化合物
に対して１−100倍モルであればよい。この反応は、通
常０−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００３２】一般式［1c］の化合物は、たとえば、一般
式［1a］の化合物をヒドロキシアミン塩酸塩または／お
よび塩基の存在下あるいは非存在下に反応させることに
より得ることができる。この反応に使用される塩基とし
ては、たとえば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの
アルカリ金属炭酸塩；トリエチルアミン、ピリジンなど
の有機アミン類などが挙げられる。この反応に使用され
るヒドロキシアミン塩酸塩および塩基の使用量は、一般
式［1a］に対して１−５倍モルであればよい。この反応
に使用される溶媒としては、たとえば、Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミドおよびＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミドな
どのアミド類；メタノールおよびエタノールなどのアル
コール類；ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどの
エーテル類などが挙げられる。この反応は、通常、０−
100℃で、30分−24時間実施すればよい。
式［1a］の化合物をヒドロキシアミン塩酸塩または／お
よび塩基の存在下あるいは非存在下に反応させることに
より得ることができる。この反応に使用される塩基とし
ては、たとえば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの
アルカリ金属炭酸塩；トリエチルアミン、ピリジンなど
の有機アミン類などが挙げられる。この反応に使用され
るヒドロキシアミン塩酸塩および塩基の使用量は、一般
式［1a］に対して１−５倍モルであればよい。この反応
に使用される溶媒としては、たとえば、Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミドおよびＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミドな
どのアミド類；メタノールおよびエタノールなどのアル
コール類；ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどの
エーテル類などが挙げられる。この反応は、通常、０−
100℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００３３】一般式［1f］の化合物は、たとえば、一般
式［1c］の化合物を塩基あるいは酸の存在下に加水分解
反応に付すことにより得ることができる。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、水並びに水お
よび有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒と
しては、たとえば、メタノール、エタノール、アセト
ン、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが挙げら
れる。この反応に使用される塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属
などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［1c］の化
合物に対して１−50倍モルであればよい。この反応は、
通常０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。この反
応に使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸な
どが挙げられる。酸の使用量は、一般式［1c］の化合物
に対して１−100倍モルであればよい。この反応は、通
常０−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
式［1c］の化合物を塩基あるいは酸の存在下に加水分解
反応に付すことにより得ることができる。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、水並びに水お
よび有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒と
しては、たとえば、メタノール、エタノール、アセト
ン、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが挙げら
れる。この反応に使用される塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属
などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［1c］の化
合物に対して１−50倍モルであればよい。この反応は、
通常０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。この反
応に使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸な
どが挙げられる。酸の使用量は、一般式［1c］の化合物
に対して１−100倍モルであればよい。この反応は、通
常０−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００３４】一般式［1h］の化合物は、一般式［1g］の
化合物をハロゲン化剤と反応させることにより得ること
ができる。この反応に使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、
たとえば、塩化メチレン、１,２−ジクロロエタンおよ
びクロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサ
ンおよびテトラヒドロフランなどのエーテル類；メタノ
ールおよびエタノールなどのアルコール類；酢酸および
ギ酸などの有機カルボン酸などが挙げられ、これらの溶
媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。この
反応に使用されるハロゲン化剤としては、たとえば、塩
素、臭素、塩化スルフリル、ピリジニウムブロミド、パ
ーブロミドおよびフェニルトリメチルアンモニウムトリ
ブロミドなどが挙げられる。ハロゲン化剤の使用量は、
一般式［1g］の化合物に対して、好ましくは、0.5−３
倍モルであればよい。この反応は、通常、０−100℃、
好ましくは、０−50℃で、30分−48時間実施すればよ
い。
化合物をハロゲン化剤と反応させることにより得ること
ができる。この反応に使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、
たとえば、塩化メチレン、１,２−ジクロロエタンおよ
びクロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサ
ンおよびテトラヒドロフランなどのエーテル類；メタノ
ールおよびエタノールなどのアルコール類；酢酸および
ギ酸などの有機カルボン酸などが挙げられ、これらの溶
媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。この
反応に使用されるハロゲン化剤としては、たとえば、塩
素、臭素、塩化スルフリル、ピリジニウムブロミド、パ
ーブロミドおよびフェニルトリメチルアンモニウムトリ
ブロミドなどが挙げられる。ハロゲン化剤の使用量は、
一般式［1g］の化合物に対して、好ましくは、0.5−３
倍モルであればよい。この反応は、通常、０−100℃、
好ましくは、０−50℃で、30分−48時間実施すればよ
い。
【００３５】一般式［1i］の化合物は、一般式［1h］の
化合物を塩基存在下に一般式［９］の化合物を反応させ
ることにより得ることができる。この反応に使用される
塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムおよ
びtert−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド；
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸
塩；トリエチルアミンおよびピリジンなどの有機アミン
類などが挙げられる。この反応に使用される溶媒として
は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればとくに限定
されないが、たとえば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド
などのアミド類；ジオキサンおよびテトラヒドロフラン
などのエーテル類；並びに酢酸エチルなどのエステル類
などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混
合して使用してもよい。一般式［９］の化合物および塩
基の使用量は、一般式［1h］の化合物に対して、それぞ
れ0.5−５倍モルである。この反応は、通常、-30−100
℃で、30分−24時間実施すればよい。
化合物を塩基存在下に一般式［９］の化合物を反応させ
ることにより得ることができる。この反応に使用される
塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムおよ
びtert−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド；
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸
塩；トリエチルアミンおよびピリジンなどの有機アミン
類などが挙げられる。この反応に使用される溶媒として
は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればとくに限定
されないが、たとえば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド
などのアミド類；ジオキサンおよびテトラヒドロフラン
などのエーテル類；並びに酢酸エチルなどのエステル類
などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混
合して使用してもよい。一般式［９］の化合物および塩
基の使用量は、一般式［1h］の化合物に対して、それぞ
れ0.5−５倍モルである。この反応は、通常、-30−100
℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００３６】一般式［1j］の化合物は、たとえば、一般
式［1i］の化合物を塩基あるいは酸の存在下に加水分解
反応に付すことにより得ることができる。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、水並びに水お
よび有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒と
しては、たとえば、メタノール、エタノール、アセト
ン、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが挙げら
れる。この反応に使用される塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属
などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［1i］の化
合物に対して１−50倍モルであればよい。この反応は、
通常０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。この反
応に使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸な
どが挙げられる。酸の使用量は、一般式［1i］の化合物
に対して１−100倍モルであればよい。この反応は、通
常０−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
式［1i］の化合物を塩基あるいは酸の存在下に加水分解
反応に付すことにより得ることができる。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、水並びに水お
よび有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒と
しては、たとえば、メタノール、エタノール、アセト
ン、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが挙げら
れる。この反応に使用される塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属
などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［1i］の化
合物に対して１−50倍モルであればよい。この反応は、
通常０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。この反
応に使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸な
どが挙げられる。酸の使用量は、一般式［1i］の化合物
に対して１−100倍モルであればよい。この反応は、通
常０−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００３７】一般式［1k］の化合物は、たとえば、一般
式［1g］の化合物を塩基存在下に一般式［10］の化合物
と反応させることにより得ることができる。この反応に
使用される塩基としては、水酸化ナトリウムおよび水酸
化カリウムなどの水酸化アルカリ金属；ナトリウムメト
キシドおよびナトリウムエトキシドなどのアルカリ金属
アルコキシド；ピペリジンなどの有機アミン類などが挙
げられる。この反応に使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であればとくに限定されない
が、たとえば、メタノールおよびエタノールなどのアル
コール類；水などが挙げられ、これらの溶媒を一種また
は二種以上混合して使用してもよい。一般式［10］の化
合物および塩基の使用量は、一般式［1g］の化合物に対
して、それぞれ、0.8−５倍モルである。この反応は、
通常、-30−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
式［1g］の化合物を塩基存在下に一般式［10］の化合物
と反応させることにより得ることができる。この反応に
使用される塩基としては、水酸化ナトリウムおよび水酸
化カリウムなどの水酸化アルカリ金属；ナトリウムメト
キシドおよびナトリウムエトキシドなどのアルカリ金属
アルコキシド；ピペリジンなどの有機アミン類などが挙
げられる。この反応に使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であればとくに限定されない
が、たとえば、メタノールおよびエタノールなどのアル
コール類；水などが挙げられ、これらの溶媒を一種また
は二種以上混合して使用してもよい。一般式［10］の化
合物および塩基の使用量は、一般式［1g］の化合物に対
して、それぞれ、0.8−５倍モルである。この反応は、
通常、-30−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００３８】一般式［1l］の化合物は、たとえば、一般
式［1k］の化合物を塩基あるいは酸の存在下に加水分解
反応に付すことにより得ることができる。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、水並びに水お
よび有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒と
しては、たとえば、メタノール、エタノール、アセト
ン、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが挙げら
れる。この反応に使用される塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属
などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［1k］の化
合物に対して１−50倍モルであればよい。この反応は、
通常０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。この反
応に使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸な
どが挙げられる。酸の使用量は、一般式［1k］の化合物
に対して１−100倍モルであればよい。この反応は、通
常０−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
式［1k］の化合物を塩基あるいは酸の存在下に加水分解
反応に付すことにより得ることができる。この反応に使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ばさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、水並びに水お
よび有機溶媒の混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒と
しては、たとえば、メタノール、エタノール、アセト
ン、ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどが挙げら
れる。この反応に使用される塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属
などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［1k］の化
合物に対して１−50倍モルであればよい。この反応は、
通常０−50℃で、30分−24時間実施すればよい。この反
応に使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸な
どが挙げられる。酸の使用量は、一般式［1k］の化合物
に対して１−100倍モルであればよい。この反応は、通
常０−100℃で、30分−24時間実施すればよい。
【００３９】一般式［２］−［10］および［1a］−［1
l］の化合物またはそれらの塩において、ヒドロキシル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、アミノ基、アミノ低級
アルキル基、環状アミノ基、低級アルキルアミノ基、低
級アルキルアミノ低級アルキル基またはカルボキシル基
などの保護されうる基を有する化合物は、予め、これら
の基を通常の保護基で保護しておき、反応後、必要に応
じて自体公知の方法でこれらの保護基を脱離することも
できる。
l］の化合物またはそれらの塩において、ヒドロキシル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、アミノ基、アミノ低級
アルキル基、環状アミノ基、低級アルキルアミノ基、低
級アルキルアミノ低級アルキル基またはカルボキシル基
などの保護されうる基を有する化合物は、予め、これら
の基を通常の保護基で保護しておき、反応後、必要に応
じて自体公知の方法でこれらの保護基を脱離することも
できる。
【００４０】このようにして得られた一般式［２］−
［10］および［1a］−［1l］の化合物またはそれらの塩
は、たとえば、酸化、還元、転移、置換、ハロゲン化、
脱水または加水分解などの自体公知の反応に付すことに
よって、または、それらを適宜組み合わせることによっ
て、他の一般式［２］−［10］および［1a］−［1l］の
化合物またはその塩に誘導することができる。また、抽
出、晶出およびカラムクロマトグラフィーなどの常法に
したがって単離精製することができる。
［10］および［1a］−［1l］の化合物またはそれらの塩
は、たとえば、酸化、還元、転移、置換、ハロゲン化、
脱水または加水分解などの自体公知の反応に付すことに
よって、または、それらを適宜組み合わせることによっ
て、他の一般式［２］−［10］および［1a］−［1l］の
化合物またはその塩に誘導することができる。また、抽
出、晶出およびカラムクロマトグラフィーなどの常法に
したがって単離精製することができる。
【００４１】本発明化合物を医薬として使用する場合、
通常知られている方法で製剤化すればよく、通常製剤化
に使用される賦形剤、担体および希釈剤などの製剤補助
剤を適宜混合してもよく、これらは、常法にしたがっ
て、錠剤、カプセル剤、散剤、シロップ、顆粒剤、丸
剤、懸濁剤、乳剤、液剤、粉体製剤、坐剤、軟膏剤また
は注射剤などの形態で経口または非経口で投与すること
ができる。また、投与方法、投与量および投与回数は、
患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択すること
ができ、通常成人に対しては、１日当たり、約0.1−100
0mg／kg程度で、経口または非経口的投与（たとえば、
注射、点滴または直腸部位への投与など）により、これ
を１回または数回に分割して投与すればよい。
通常知られている方法で製剤化すればよく、通常製剤化
に使用される賦形剤、担体および希釈剤などの製剤補助
剤を適宜混合してもよく、これらは、常法にしたがっ
て、錠剤、カプセル剤、散剤、シロップ、顆粒剤、丸
剤、懸濁剤、乳剤、液剤、粉体製剤、坐剤、軟膏剤また
は注射剤などの形態で経口または非経口で投与すること
ができる。また、投与方法、投与量および投与回数は、
患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択すること
ができ、通常成人に対しては、１日当たり、約0.1−100
0mg／kg程度で、経口または非経口的投与（たとえば、
注射、点滴または直腸部位への投与など）により、これ
を１回または数回に分割して投与すればよい。
【００４２】つぎに、本発明の代表的化合物についての
薬理作用を説明する。 試験例１ カラゲニン足浮腫抑制作用 抗炎症作用のカラゲニン足浮腫抑制作用は、シー・エイ
・ウィンター(C.A.Winter)らの方法［プロシーディング
ス・オブ・ザ・ソサエティー・フォア・エキスペリメン
タル・バイオロジー・アンド・メディシン(Proceedings
of the Societyfor Experimental Biology and Medici
ne)第111巻、第544頁(1962年）］に準じて試験を行っ
た。一夜絶食した呑竜系雄性ラット（体重90−120ｇ）
を一群６−７匹使用し、0.5％メチルセルロース水溶液
(W/V)に懸濁させた被験化合物を10ml/kg体重の割合で経
口投与した。１時間後、１％カラゲニンを左後肢足蹠皮
下に0.1ml注射した。起炎後、３時間めに左後肢足容積
を測定し、注射前の容積から浮腫率を求め、下記の式に
より抑制率を求めた。 抑制率（％）＝（１−（被験化合物投与群浮腫率／対照
群平均浮腫率））×100 その結果を表１に示す。
薬理作用を説明する。 試験例１ カラゲニン足浮腫抑制作用 抗炎症作用のカラゲニン足浮腫抑制作用は、シー・エイ
・ウィンター(C.A.Winter)らの方法［プロシーディング
ス・オブ・ザ・ソサエティー・フォア・エキスペリメン
タル・バイオロジー・アンド・メディシン(Proceedings
of the Societyfor Experimental Biology and Medici
ne)第111巻、第544頁(1962年）］に準じて試験を行っ
た。一夜絶食した呑竜系雄性ラット（体重90−120ｇ）
を一群６−７匹使用し、0.5％メチルセルロース水溶液
(W/V)に懸濁させた被験化合物を10ml/kg体重の割合で経
口投与した。１時間後、１％カラゲニンを左後肢足蹠皮
下に0.1ml注射した。起炎後、３時間めに左後肢足容積
を測定し、注射前の容積から浮腫率を求め、下記の式に
より抑制率を求めた。 抑制率（％）＝（１−（被験化合物投与群浮腫率／対照
群平均浮腫率））×100 その結果を表１に示す。
【００４３】
【表１】 ──────────────────── 実施例No. 用量(mg/kg) 抑制率(%) ──────────────────── ３ 10 47 4(1) 10 38 ────────────────────
【００４４】試験例２ アジュバント関節炎抑制作用 アジュバント関節炎抑制作用は、アルツナイミッテル・
フォルシュング（Arzneimittel-Forchung）、第42(II)
巻、第７号、935-944頁に記載の方法に準じて試験し
た。ウィスター−ルイス系雄性ラット（体重190−230
g）を一群５匹使用し、アジュバントとして流動パラフ
ィンに結核菌（Mycobacterium tuberculosis）の乾燥死
菌を６mg/mlの割合で懸濁させたものを使用し、尾根部
皮内に0.1ml注射した。アジュバント処理後14日目に両
後肢腫脹容積により群分けし、１日１回連続４日間、被
験化合物を0.5％(W/V)メチルセルロース水溶液に懸濁さ
せたものを10ml/kg体重の割合で経口投与した。最終投
与の翌日に両後肢腫脹容積を測定し、下記の式により抑
制率を求めた。 抑制率（％）＝（１−（被験化合物投与群腫脹率／対照
群平均腫脹率））×100 その結果を表２に示す。
フォルシュング（Arzneimittel-Forchung）、第42(II)
巻、第７号、935-944頁に記載の方法に準じて試験し
た。ウィスター−ルイス系雄性ラット（体重190−230
g）を一群５匹使用し、アジュバントとして流動パラフ
ィンに結核菌（Mycobacterium tuberculosis）の乾燥死
菌を６mg/mlの割合で懸濁させたものを使用し、尾根部
皮内に0.1ml注射した。アジュバント処理後14日目に両
後肢腫脹容積により群分けし、１日１回連続４日間、被
験化合物を0.5％(W/V)メチルセルロース水溶液に懸濁さ
せたものを10ml/kg体重の割合で経口投与した。最終投
与の翌日に両後肢腫脹容積を測定し、下記の式により抑
制率を求めた。 抑制率（％）＝（１−（被験化合物投与群腫脹率／対照
群平均腫脹率））×100 その結果を表２に示す。
【００４５】
【表２】アジュバント関節炎抑制作用 ──────────────────── 実施例No. 用量(mg/kg) 抑制率(%) ──────────────────── ３ 10 43 4(1) 10 24 ７ 10 44 ９ 10 32 ────────────────────
【００４６】試験例３ 潰瘍誘発作用 一群７−８匹のウィスター系雄性ラット（体重180−230
g）を使用し、24時間絶食（水は自由に摂取させる）
後、0.5％(W/V)メチルセルロース水溶液に懸濁させた被
験化合物を10ml/kg体重の割合で経口投与した。さらに
絶食絶水下に24時間放置した後、頸椎脱臼により致死さ
せ、胃を摘出し、１％(V/V)ホルマリン溶液で30分間固
定した。この胃を大弯にそって切り開き、実体顕微鏡下
で胃粘膜上に発生した潰瘍を観察し、潰瘍の発現率を算
出した。その結果を表３に示す。
g）を使用し、24時間絶食（水は自由に摂取させる）
後、0.5％(W/V)メチルセルロース水溶液に懸濁させた被
験化合物を10ml/kg体重の割合で経口投与した。さらに
絶食絶水下に24時間放置した後、頸椎脱臼により致死さ
せ、胃を摘出し、１％(V/V)ホルマリン溶液で30分間固
定した。この胃を大弯にそって切り開き、実体顕微鏡下
で胃粘膜上に発生した潰瘍を観察し、潰瘍の発現率を算
出した。その結果を表３に示す。
【００４７】
【表３】
【００４８】試験例４ シクロオキシゲナーゼ活性阻害
作用 シクロオキシゲナーゼとしてヒツジ精嚢腺ミクロソーム
（エドマンテクノロジー社製）を使用する。これらによ
るアラキドン酸からPGE2への転換率を酵素活性とする。
シクロオキシゲナーゼ活性の測定条件は、プロカシーニ
（Procaccini）らの方法［バイオケミカル・ファーマコ
ロジー（Biochem.Pharmacol.）、第26巻、第1051-1057
頁（1977年）］に準じて行う。すなわち、最終濃度100
μg/mlのヒツジ精嚢腺ミクロソーム、５mMエピネフリ
ン、５mMグルタチオンを含む50mMトリス緩衝液（pH8.
0）0.5mlに、ジメチルスルホキシドに溶解させた被験化
合物を加えた後、37℃で、２分間前処置を行う。0.04μ
Ci[1-14Ｃ]アラキドン酸を含む10nmolアラキドン酸を添
加し（最終濃度20μM）、37℃で、４分間反応させる。
シクロオキシゲナーゼ活性の測定は、柳と小松の方法
［バイオケミカル・ファーマコロジー（Biochem.Pharma
col.）、第25巻、第937-941頁（1976年）］に準じて行
う。すなわち、反応液にn-ヘキサン／酢酸エチル（２：
１）の混合液２mlを加え、反応を停止させ、遠心分離に
よりアラキドン酸を有機層に抽出する。同様の抽出操作
を２回繰り返した後、水層にエタノール１mlを加え、攪
拌した後、遠心によって得られた上清全量を液体シンチ
レーションカウンター用バイアルに移し、PGE2分画とす
る。回収した有機層をアラキドン酸分画とし、その１ml
を液体シンチレーションカウンター用バイアルに分取す
る。それぞれの分画の放射活性を液体シンチレ−ション
カウンターで測定し、全放射活性のうちPGE2分画の放射
活性の割合を算出する。これをPGE2転換率とし、最終濃
度１％のジメチルスルホキシドのみを含むコントロール
に対する被験化合物による変換率の低下を、シクロオキ
シゲナーゼ活性阻害率で表わす。その結果を表４に示
す。
作用 シクロオキシゲナーゼとしてヒツジ精嚢腺ミクロソーム
（エドマンテクノロジー社製）を使用する。これらによ
るアラキドン酸からPGE2への転換率を酵素活性とする。
シクロオキシゲナーゼ活性の測定条件は、プロカシーニ
（Procaccini）らの方法［バイオケミカル・ファーマコ
ロジー（Biochem.Pharmacol.）、第26巻、第1051-1057
頁（1977年）］に準じて行う。すなわち、最終濃度100
μg/mlのヒツジ精嚢腺ミクロソーム、５mMエピネフリ
ン、５mMグルタチオンを含む50mMトリス緩衝液（pH8.
0）0.5mlに、ジメチルスルホキシドに溶解させた被験化
合物を加えた後、37℃で、２分間前処置を行う。0.04μ
Ci[1-14Ｃ]アラキドン酸を含む10nmolアラキドン酸を添
加し（最終濃度20μM）、37℃で、４分間反応させる。
シクロオキシゲナーゼ活性の測定は、柳と小松の方法
［バイオケミカル・ファーマコロジー（Biochem.Pharma
col.）、第25巻、第937-941頁（1976年）］に準じて行
う。すなわち、反応液にn-ヘキサン／酢酸エチル（２：
１）の混合液２mlを加え、反応を停止させ、遠心分離に
よりアラキドン酸を有機層に抽出する。同様の抽出操作
を２回繰り返した後、水層にエタノール１mlを加え、攪
拌した後、遠心によって得られた上清全量を液体シンチ
レーションカウンター用バイアルに移し、PGE2分画とす
る。回収した有機層をアラキドン酸分画とし、その１ml
を液体シンチレーションカウンター用バイアルに分取す
る。それぞれの分画の放射活性を液体シンチレ−ション
カウンターで測定し、全放射活性のうちPGE2分画の放射
活性の割合を算出する。これをPGE2転換率とし、最終濃
度１％のジメチルスルホキシドのみを含むコントロール
に対する被験化合物による変換率の低下を、シクロオキ
シゲナーゼ活性阻害率で表わす。その結果を表４に示
す。
【００４９】
【表４】 ─────────────── 実施例No. 阻害率(%) ─────────────── ７ 88 ───────────────
【００５０】
【実施例】つぎに本発明化合物の製造法を具体的に参考
例、実施例および製剤例を挙げて説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。なお、溶離液におけ
る混合比は、すべて用量比であり、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにおける担体は、シリカゲル60、70−
230メッシュ［slica gel 60、70-230mesh（メルク社
製）］を使用した。また、以下に使用される略号は、つ
ぎの意味を有する。 ＤＭＳＯ−ｄ6：重ジメチルスルホキシド
例、実施例および製剤例を挙げて説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。なお、溶離液におけ
る混合比は、すべて用量比であり、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにおける担体は、シリカゲル60、70−
230メッシュ［slica gel 60、70-230mesh（メルク社
製）］を使用した。また、以下に使用される略号は、つ
ぎの意味を有する。 ＤＭＳＯ−ｄ6：重ジメチルスルホキシド
【００５１】実施例１ ２−［４−（２−エチル−３−オキソブチル）フェニ
ル］プロピオン酸メチルエステル20.9gを四塩化炭素210
mlに溶解させ、Ｎ−ブロモスクシンイミド15.6gおよび
２,２'−アゾビス（イソブチロニトリル）0.10gを加
え、１時間加熱還流させる。不溶物を濾去した後、濾液
を冷水および冷飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られ
た残留物を塩化メチレン200mlに溶解させ、氷冷下、１,
８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデク−７−
エン18.2mlを滴下する。室温で20時間攪拌した後、水を
加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調製した後、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝20：１］で精製すれ
ば、無色油状物の２−［４−（２−エチル−３−オキソ
−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル13.5gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1740,1670 NMR(CDCl3)δ値：1.09(3H,t,J=7.5Hz),1.52(3H,d,J=7.5
Hz),2.42(3H,s),2.53(2H,q,J=7.5Hz),3.67(3H,s),3.75
(1H,q,J=7.5Hz),7.0−7.6(5H,m)
ル］プロピオン酸メチルエステル20.9gを四塩化炭素210
mlに溶解させ、Ｎ−ブロモスクシンイミド15.6gおよび
２,２'−アゾビス（イソブチロニトリル）0.10gを加
え、１時間加熱還流させる。不溶物を濾去した後、濾液
を冷水および冷飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られ
た残留物を塩化メチレン200mlに溶解させ、氷冷下、１,
８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデク−７−
エン18.2mlを滴下する。室温で20時間攪拌した後、水を
加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調製した後、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝20：１］で精製すれ
ば、無色油状物の２−［４−（２−エチル−３−オキソ
−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル13.5gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1740,1670 NMR(CDCl3)δ値：1.09(3H,t,J=7.5Hz),1.52(3H,d,J=7.5
Hz),2.42(3H,s),2.53(2H,q,J=7.5Hz),3.67(3H,s),3.75
(1H,q,J=7.5Hz),7.0−7.6(5H,m)
【００５２】実施例２ 実施例１と同様にして以下の化合物を得る。 2(1) ２−［４−（２−メチル−３−オキソ−１−ブテニル）
フェニル］プロピオン酸メチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735,1665 NMR(CDCl3)δ値：1.52(3H,d,J=7.5Hz),2.06(3H,s),2.43
(3H,s),3.67(3H,s),3.81(1H,q,J=7.5Hz),7.0−7.7(5H,
m) 2(2) ２−［４−（２−ベンゾイル−１−ブテニル）フェニ
ル］プロピオン酸メチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735,1650 NMR(CDCl3)δ値：1.16(3H,t,J=7.5Hz),1.52(3H,d,J=7.5
Hz),2.77(2H,q,J=7.5Hz),3.67(3H,s),3.5−4.0(1H,m),
6.9−8.1(10H,m)
フェニル］プロピオン酸メチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735,1665 NMR(CDCl3)δ値：1.52(3H,d,J=7.5Hz),2.06(3H,s),2.43
(3H,s),3.67(3H,s),3.81(1H,q,J=7.5Hz),7.0−7.7(5H,
m) 2(2) ２−［４−（２−ベンゾイル−１−ブテニル）フェニ
ル］プロピオン酸メチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735,1650 NMR(CDCl3)δ値：1.16(3H,t,J=7.5Hz),1.52(3H,d,J=7.5
Hz),2.77(2H,q,J=7.5Hz),3.67(3H,s),3.5−4.0(1H,m),
6.9−8.1(10H,m)
【００５３】実施例３ ２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテニル）
フェニル］プロピオン酸メチルエステル1.00gを１Ｎ水
酸化ナトリウム水溶液10mlおよびエタノール10mlに加
え、室温で１時間攪拌する。反応混合物に水および酢酸
エチルを加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調製した後、有機層
を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に
溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラ
フィー［溶離液；クロロホルム］で精製すれば、無色油
状物の２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸0.91gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1710,1665 NMR(CDCl3)δ値：1.09(3H,t,J=7.5Hz),1.55(3H,d,J=7.5
Hz),2.45(3H,s),2.60(2H,q,J=7.5Hz),3.75(1H,q,J=7.5H
z),7.0−7.9(5H,m),10.3(1H,bs)
フェニル］プロピオン酸メチルエステル1.00gを１Ｎ水
酸化ナトリウム水溶液10mlおよびエタノール10mlに加
え、室温で１時間攪拌する。反応混合物に水および酢酸
エチルを加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調製した後、有機層
を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に
溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラ
フィー［溶離液；クロロホルム］で精製すれば、無色油
状物の２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸0.91gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1710,1665 NMR(CDCl3)δ値：1.09(3H,t,J=7.5Hz),1.55(3H,d,J=7.5
Hz),2.45(3H,s),2.60(2H,q,J=7.5Hz),3.75(1H,q,J=7.5H
z),7.0−7.9(5H,m),10.3(1H,bs)
【００５４】実施例４ 実施例３と同様にして以下の化合物を得る。 4(1) ２−［４−（２−メチル−３−オキソ−１−ブテニル）
フェニル］プロピオン酸 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1710,1665 NMR(CDCl3)δ値：1.53(3H,d,J=7.5Hz),2.04(3H,s),2.45
(3H,s),3.80(1H,q,J=7.5Hz),7.0−7.8(5H,m),9.22(1H,b
s) 4(2) ２−［４−（２−ベンゾイル−１−ブテニル）フェニ
ル］プロピオン酸 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1700,1655 NMR(CDCl3)δ値：1.18(3H,t,J=7.5Hz),1.54(3H,d,J=7.5
Hz),2.78(2H,q,J=7.5Hz),3.79(1H,q,J=7.5Hz),6.8−8.1
(10H,m),9.8(1H,bs)
フェニル］プロピオン酸 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1710,1665 NMR(CDCl3)δ値：1.53(3H,d,J=7.5Hz),2.04(3H,s),2.45
(3H,s),3.80(1H,q,J=7.5Hz),7.0−7.8(5H,m),9.22(1H,b
s) 4(2) ２−［４−（２−ベンゾイル−１−ブテニル）フェニ
ル］プロピオン酸 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1700,1655 NMR(CDCl3)δ値：1.18(3H,t,J=7.5Hz),1.54(3H,d,J=7.5
Hz),2.78(2H,q,J=7.5Hz),3.79(1H,q,J=7.5Hz),6.8−8.1
(10H,m),9.8(1H,bs)
【００５５】実施例５ ２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテニル）
フェニル］プロピオン酸メチルエステル1.07gをテトラ
ヒドロフラン16mlおよび水４mlに加え、氷冷下、水素化
ホウ素ナトリウム0.32gを15分間を要して分割添加す
る。室温で６時間攪拌後、反応混合物を氷水および酢酸
エチルの混合物中に加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調製す
る。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝９：１］で精製すれ
ば、無色油状物の２−［４−（２−エチル−３−ヒドロ
キシ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエ
ステル1.00gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1740 NMR(CDCl3)δ値：1.10(3H,t,J=7.5Hz),1.37(3H,d,J=7.5
Hz),1.49(3H,d,J=7.5Hz),1.71(1H,bs),1.9−2.8(2H,m),
3.65(3H,s),3.71(1H,q,J=7.5Hz),4.42(1H,q,J=7.5Hz),
6.50(1H,s),6.7−7.4(4H,m)
フェニル］プロピオン酸メチルエステル1.07gをテトラ
ヒドロフラン16mlおよび水４mlに加え、氷冷下、水素化
ホウ素ナトリウム0.32gを15分間を要して分割添加す
る。室温で６時間攪拌後、反応混合物を氷水および酢酸
エチルの混合物中に加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調製す
る。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝９：１］で精製すれ
ば、無色油状物の２−［４−（２−エチル−３−ヒドロ
キシ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエ
ステル1.00gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1740 NMR(CDCl3)δ値：1.10(3H,t,J=7.5Hz),1.37(3H,d,J=7.5
Hz),1.49(3H,d,J=7.5Hz),1.71(1H,bs),1.9−2.8(2H,m),
3.65(3H,s),3.71(1H,q,J=7.5Hz),4.42(1H,q,J=7.5Hz),
6.50(1H,s),6.7−7.4(4H,m)
【００５６】実施例６ 実施例５と同様にして以下の化合物を得る。 ２−［４−（３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735 NMR(CDCl3)δ値：1.35(3H,d,J=7.5Hz),1.49(3H,d,J=7.5
Hz),1.86(1.5H,S),1.88(1.5H,s),1.7−2.0(1H,m),3.66
(3H,s),3.72(1H,q,J=7.5Hz),4.13(0.5H,q,J=7.5Hz),4.3
6(0.5H,q,J=7.5Hz),6.48(1H,s),7.0−7.4(4H,m)
ル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735 NMR(CDCl3)δ値：1.35(3H,d,J=7.5Hz),1.49(3H,d,J=7.5
Hz),1.86(1.5H,S),1.88(1.5H,s),1.7−2.0(1H,m),3.66
(3H,s),3.72(1H,q,J=7.5Hz),4.13(0.5H,q,J=7.5Hz),4.3
6(0.5H,q,J=7.5Hz),6.48(1H,s),7.0−7.4(4H,m)
【００５７】実施例７ ２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル0.84gを１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液8.4mlおよびエタノール8.4ml
に加え、室温で４時間攪拌する。反応混合物に水および
酢酸エチルを加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調整した後、有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー［溶離液；クロロホルム］で精製すれば、無
色油状物の２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−
１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸0.62gを得る。I
R(neat)cm-1：νC=O1715 NMR(CDCl3)δ値：1.08(3H,t,J=7.5Hz),1.36(3H,d,J=7.5
Hz),1.49(3H,d,J=7.5Hz),1.8−2.8(2H,m),3.73(1H,q,J=
7.5Hz),4.44(1H,q,J=7.5Hz),6.51(1H,s),6.86(2H,bs),
6.9−7.5(4H,m)
ル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル0.84gを１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液8.4mlおよびエタノール8.4ml
に加え、室温で４時間攪拌する。反応混合物に水および
酢酸エチルを加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調整した後、有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー［溶離液；クロロホルム］で精製すれば、無
色油状物の２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシ−
１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸0.62gを得る。I
R(neat)cm-1：νC=O1715 NMR(CDCl3)δ値：1.08(3H,t,J=7.5Hz),1.36(3H,d,J=7.5
Hz),1.49(3H,d,J=7.5Hz),1.8−2.8(2H,m),3.73(1H,q,J=
7.5Hz),4.44(1H,q,J=7.5Hz),6.51(1H,s),6.86(2H,bs),
6.9−7.5(4H,m)
【００５８】実施例８ 実施例７と同様にして以下の化合物を得る。 ２−［４−（３−ヒドロキシ−２−メチル−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸 IR(neat)cm-1：νC=O1710 NMR(CDCl3)δ値：1.34(3H,d,J=7.5Hz),1.50(3H,d,J=7.5
Hz),1.84(3H,s),3.73(1Hq,J=7.5Hz),4.39(1H,q,J=7.5H
z),6.48(1H,s),6.70(2H,bs),6.9−7.5(4H,m)
ル）フェニル］プロピオン酸 IR(neat)cm-1：νC=O1710 NMR(CDCl3)δ値：1.34(3H,d,J=7.5Hz),1.50(3H,d,J=7.5
Hz),1.84(3H,s),3.73(1Hq,J=7.5Hz),4.39(1H,q,J=7.5H
z),6.48(1H,s),6.70(2H,bs),6.9−7.5(4H,m)
【００５９】実施例９ （１）２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル0.50gを
エタノ−ル５mlに溶解させ、塩酸ヒドロキシルアミン0.
16gおよびピリジン0.19mlを加え、室温で20時間攪拌
し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物に水およ
び酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
pH7.0に調整し、有機層を分取する。得られた有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留
物をカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢
酸エチル＝10：１］で精製すれば無色油状物の２−［４
−（２−エチル−３−ヒドロキシイミノ−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル0.40gを得
る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735 NMR(CDCl3)δ値：1.15(3H,t,J=7.5Hz),1.51(3H,d,J=7.5
Hz),2.14(3H,s),2.57(2H,q,J=7.5Hz),3.67(3H,s),3.74
(1H,q,J=7.5Hz),6.80(1H,s),7.1−7.8(5H,m) （２）２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシイミノ
−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル0.26gを１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液2.6mlおよびエタ
ノ−ル2.6mlに加え、室温で１時間攪拌する。反応混合
物に水および酢酸エチルを加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調
整した後、有機層を分取する。得られた有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー［溶離液；クロロホルム］で精
製すれば無色結晶の２−［４−（２−エチル−３−ヒド
ロキシイミノ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸
0.16gを得る。 融点：123−124℃［再結晶溶媒：酢酸エチル−ヘキサン
混合溶媒］ IR(KBr)cm-1：νC=O1705 NMR(CDCl3)δ値：0.99(3H,t,J=7.5Hz),1.45(3H,d,J=7.5
Hz),2.06(3H,s),2.41(2H,q,J=7.5Hz),3.69(1H,q,J=7.5H
z),6.69(1H,s),7.0−7.7(4H,m),9.36(2H,bs)
ニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル0.50gを
エタノ−ル５mlに溶解させ、塩酸ヒドロキシルアミン0.
16gおよびピリジン0.19mlを加え、室温で20時間攪拌
し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物に水およ
び酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
pH7.0に調整し、有機層を分取する。得られた有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留
物をカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢
酸エチル＝10：１］で精製すれば無色油状物の２−［４
−（２−エチル−３−ヒドロキシイミノ−１−ブテニ
ル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル0.40gを得
る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735 NMR(CDCl3)δ値：1.15(3H,t,J=7.5Hz),1.51(3H,d,J=7.5
Hz),2.14(3H,s),2.57(2H,q,J=7.5Hz),3.67(3H,s),3.74
(1H,q,J=7.5Hz),6.80(1H,s),7.1−7.8(5H,m) （２）２−［４−（２−エチル−３−ヒドロキシイミノ
−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル0.26gを１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液2.6mlおよびエタ
ノ−ル2.6mlに加え、室温で１時間攪拌する。反応混合
物に水および酢酸エチルを加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調
整した後、有機層を分取する。得られた有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー［溶離液；クロロホルム］で精
製すれば無色結晶の２−［４−（２−エチル−３−ヒド
ロキシイミノ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸
0.16gを得る。 融点：123−124℃［再結晶溶媒：酢酸エチル−ヘキサン
混合溶媒］ IR(KBr)cm-1：νC=O1705 NMR(CDCl3)δ値：0.99(3H,t,J=7.5Hz),1.45(3H,d,J=7.5
Hz),2.06(3H,s),2.41(2H,q,J=7.5Hz),3.69(1H,q,J=7.5H
z),6.69(1H,s),7.0−7.7(4H,m),9.36(2H,bs)
【００６０】実施例10 （１）２−［４−（２−tert−ブトキシカルボニル−３
−オキソブチル）フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル11.8gをＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド20mlに溶解さ
せ、氷冷下、カリウムtert−ブトキシド0.74gを10分間
を要して分割添加し、同温度で10分間攪拌する。反応混
合物に氷冷下、１−アセトキシ−２−ブロモエタン1.10
gを添加し、室温で17時間攪拌する。反応混合物を氷水
および酢酸エチルの混合物中に加え、２Ｎ塩酸でpH1.5
に調整した後、有機層を分取する。得られた有機層を水
および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸
エチル＝10：1］で精製すれば、無色油状物の２−［４
−［２−（２−アセトキシエチル）−２−tert−ブトキ
シカルボニル−３−オキソブチル］フェニル］プロピオ
ン酸メチルエステル5.25gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1740,1710 NMR(CDCl3)δ値：1.44(9H,s),1.46(3H,d,J=7.5Hz),2.01
(3H,s),2.12(2H,t,J=7.5Hz),2.18(3H,s),3.18(2H,ABq,J
=14Hz),3.65(3H,s),3.68(1H,q,J=7.5Hz),4.10(2H,t,J=
7.5Hz),6.8−7.4(4H,m) （２）２−［４−［２−（２−アセトキシエチル）−２
−tert−ブトキシカルボニル−３−オキソブチル］フェ
ニル］プロピオン酸メチルエステル5.20gを塩化メチレ
ン21mlに溶解させ、トリフルオロ酢酸21mlを加え、室温
で20時間攪拌し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をトルエン50mlに加え、１時間加熱還流させる。反
応混合物に水を加え、有機層を分取する。得られた有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、無色油
状物の２−［４−［２−（２−アセトキシエチル）−３
−オキソブチル］フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル3.80gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1720 NMR(CDCl3)δ値：1.48(3H,d,J=7.5Hz),2.01(3H,s),2.03
(3H,s),1.7−2.3(2H,m),2.5−3.2(3H,m),3.65(3H,s),3.
70(1H,q,J=7.5Hz),4.04(2H,t,J=7.5Hz),6.9−7.5(4H,m) （３）２−［４−［２−（２−アセトキシエチル）−３
−オキソブチル］フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル3.70gを四塩化炭素37mlに溶解させ、Ｎ−ブロモスク
シンイミド2.47gおよび２,２'−アゾビス（イソブチロ
ニトリル）0.02gを加え、１時間加熱還流させる。不溶
物を濾去した後、冷水および冷飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をベンゼン37mlに溶解させ、
15−25℃で、１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７
−ウンデク−７−エン1.73mlを滴下する。室温で20時間
攪拌後、水を加え、２Ｎ塩酸でpH2.0に調製した後、有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝20：１］
で精製すれば、無色油状物の２−［４−［２−（２−ア
セトキシエチル）−３−オキソ−１−ブテニル］フェニ
ル］プロピオン酸メチルエステル2.27gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1665 NMR(CDCl3)δ値：1.52(3H,d,J=7.5Hz),1.97(3H,s),2.45
(3H,s),2.88(2H,t,J=7.5Hz),3.68(3H,s),3.77(1H,q,J=
7.5Hz),4.20(2H,t,J=7.5Hz),7.0−7.8(5H,m) （４）２−［４−［２−（２−アセトキシエチル）−３
−オキソ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチ
ルエステル2.00gをテトラヒドロフラン10mlおよび水5ml
の混合溶媒に溶解させ、室温で水素化ホウ素ナトリウム
0.12gを30分間を要して分割添加し、同温度で5.5時間攪
拌する。反応混合物を氷水および酢酸エチルの混合物中
に加え、２Ｎ塩酸でpH2.0に調整した後、有機層を分取
する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去すれば、無色油状物の２−［４−［２−（２−アセ
トキシエチル）−３−ヒドロキシ−１−ブテニル］フェ
ニル］プロピオン酸メチルエステル1.42gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735 NMR(CDCl3)δ値：1.38(3H,d,J=7.5Hz),1.49(3H,d,J=7.5
Hz),1.98(3H,s),2.29(1H,bs),2.65(2H,t,J=7.5Hz),3.66
(3H,s),3.73(1H,q,J=7.5Hz),4.23(2H,t,J=7.5Hz),4.43
(1H,q,J=7.5Hz),6.62(1H,s),7.0−7.7(4H,m) （５）２−［４−［２−（２−アセトキシエチル）−３
−ヒドロキシ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸
メチルエステル0.25gを１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液2.5
mlおよびエタノール2.5mlに加え、室温で２時間攪拌す
る。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、２Ｎ塩酸
でpH2.0に調整した後、有機層を分取する。得られた有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られ
た残留物をカラムクロマトグラフィー［溶離液；クロロ
ホルム：エタノール＝40：１］で精製すれば、無色油状
物の２−［４−［３−ヒドロキシ−２−（２−ヒドロキ
シエチル）−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸0.
15gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1710 NMR(DMSO-d6+D2O)δ値：1.25(3H,d,J=7.5Hz),1.38(3H,
d,J=7.5Hz),2.2−2.7(2H,m),3.2−3.9(3H,m),4.0−4.5
(1H,m),6.49(1H,s),7.0−7.5(4H,m)
−オキソブチル）フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル11.8gをＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド20mlに溶解さ
せ、氷冷下、カリウムtert−ブトキシド0.74gを10分間
を要して分割添加し、同温度で10分間攪拌する。反応混
合物に氷冷下、１−アセトキシ−２−ブロモエタン1.10
gを添加し、室温で17時間攪拌する。反応混合物を氷水
および酢酸エチルの混合物中に加え、２Ｎ塩酸でpH1.5
に調整した後、有機層を分取する。得られた有機層を水
および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸
エチル＝10：1］で精製すれば、無色油状物の２−［４
−［２−（２−アセトキシエチル）−２−tert−ブトキ
シカルボニル−３−オキソブチル］フェニル］プロピオ
ン酸メチルエステル5.25gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1740,1710 NMR(CDCl3)δ値：1.44(9H,s),1.46(3H,d,J=7.5Hz),2.01
(3H,s),2.12(2H,t,J=7.5Hz),2.18(3H,s),3.18(2H,ABq,J
=14Hz),3.65(3H,s),3.68(1H,q,J=7.5Hz),4.10(2H,t,J=
7.5Hz),6.8−7.4(4H,m) （２）２−［４−［２−（２−アセトキシエチル）−２
−tert−ブトキシカルボニル−３−オキソブチル］フェ
ニル］プロピオン酸メチルエステル5.20gを塩化メチレ
ン21mlに溶解させ、トリフルオロ酢酸21mlを加え、室温
で20時間攪拌し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をトルエン50mlに加え、１時間加熱還流させる。反
応混合物に水を加え、有機層を分取する。得られた有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、無色油
状物の２−［４−［２−（２−アセトキシエチル）−３
−オキソブチル］フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル3.80gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1720 NMR(CDCl3)δ値：1.48(3H,d,J=7.5Hz),2.01(3H,s),2.03
(3H,s),1.7−2.3(2H,m),2.5−3.2(3H,m),3.65(3H,s),3.
70(1H,q,J=7.5Hz),4.04(2H,t,J=7.5Hz),6.9−7.5(4H,m) （３）２−［４−［２−（２−アセトキシエチル）−３
−オキソブチル］フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル3.70gを四塩化炭素37mlに溶解させ、Ｎ−ブロモスク
シンイミド2.47gおよび２,２'−アゾビス（イソブチロ
ニトリル）0.02gを加え、１時間加熱還流させる。不溶
物を濾去した後、冷水および冷飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をベンゼン37mlに溶解させ、
15−25℃で、１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７
−ウンデク−７−エン1.73mlを滴下する。室温で20時間
攪拌後、水を加え、２Ｎ塩酸でpH2.0に調製した後、有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝20：１］
で精製すれば、無色油状物の２−［４−［２−（２−ア
セトキシエチル）−３−オキソ−１−ブテニル］フェニ
ル］プロピオン酸メチルエステル2.27gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1665 NMR(CDCl3)δ値：1.52(3H,d,J=7.5Hz),1.97(3H,s),2.45
(3H,s),2.88(2H,t,J=7.5Hz),3.68(3H,s),3.77(1H,q,J=
7.5Hz),4.20(2H,t,J=7.5Hz),7.0−7.8(5H,m) （４）２−［４−［２−（２−アセトキシエチル）−３
−オキソ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチ
ルエステル2.00gをテトラヒドロフラン10mlおよび水5ml
の混合溶媒に溶解させ、室温で水素化ホウ素ナトリウム
0.12gを30分間を要して分割添加し、同温度で5.5時間攪
拌する。反応混合物を氷水および酢酸エチルの混合物中
に加え、２Ｎ塩酸でpH2.0に調整した後、有機層を分取
する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去すれば、無色油状物の２−［４−［２−（２−アセ
トキシエチル）−３−ヒドロキシ−１−ブテニル］フェ
ニル］プロピオン酸メチルエステル1.42gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735 NMR(CDCl3)δ値：1.38(3H,d,J=7.5Hz),1.49(3H,d,J=7.5
Hz),1.98(3H,s),2.29(1H,bs),2.65(2H,t,J=7.5Hz),3.66
(3H,s),3.73(1H,q,J=7.5Hz),4.23(2H,t,J=7.5Hz),4.43
(1H,q,J=7.5Hz),6.62(1H,s),7.0−7.7(4H,m) （５）２−［４−［２−（２−アセトキシエチル）−３
−ヒドロキシ−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸
メチルエステル0.25gを１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液2.5
mlおよびエタノール2.5mlに加え、室温で２時間攪拌す
る。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、２Ｎ塩酸
でpH2.0に調整した後、有機層を分取する。得られた有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られ
た残留物をカラムクロマトグラフィー［溶離液；クロロ
ホルム：エタノール＝40：１］で精製すれば、無色油状
物の２−［４−［３−ヒドロキシ−２−（２−ヒドロキ
シエチル）−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸0.
15gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1710 NMR(DMSO-d6+D2O)δ値：1.25(3H,d,J=7.5Hz),1.38(3H,
d,J=7.5Hz),2.2−2.7(2H,m),3.2−3.9(3H,m),4.0−4.5
(1H,m),6.49(1H,s),7.0−7.5(4H,m)
【００６１】実施例11 （１）２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテ
ニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル3.00gを
テトラヒドロフラン30mlに溶解させ、フェニルトリメチ
ルアンモニウムトリブロミド5.20gを加え、室温で20時
間撹拌する。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、
４Ｎ塩酸でpH2.0に調整した後、有機層を分取する。得
られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー［溶離
液；トルエン：ヘキサン＝２：１］で精製すれば、無色
油状物の２−［４−（４−ブロモ−２−エチル−３−オ
キソ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエ
ステル2.91gを得る。 IR(neat)cｍ-1:νc=0 1735,1665 NMR(CDCl3)δ値:1.12(3H,t,J=7.5H),1.52(3H,d,J=7.5H
z),2.59(2H,q,J=7.5Hz),3.68(3H,s),3.77(1H,q,J=7.5H
z),4.31(2H,s),7.1−7.7(5H,m) （２）２−［４−（４−ブロモ−２−エチル−３−オキ
ソ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエス
テル1.05gを酢酸エチル20mlに溶解させ、この溶液に１,
２,４−トリアゾール0.26gおよび無水炭酸カリウム0.51
gを加え、１時間加熱還流させる。反応混合液に水を加
え、４Ｎ塩酸でpH2.0に調整した後、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
［溶離液；クロロホルム：エタノール＝50：１］で精製
すれば無色油状物の２−［４−［２−エチル−３−オキ
ソ−４−（１Ｈ−１,２,４−トリアゾール−１−イル）
−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル0.39gを得る。 IR(neat)cｍ-1:νc=0 1730,1680 NMR(CDCl3)δ値:1.13(3H,t,J=7.5H),1.53(3H,d,J=7.5H
z),2.60(2H,q,J=7.5Hz),3.69(3H,s),3.78(1H,q,J=7.5H
z),5.51(2H,s),7.2−7.7(5H,m),7.98(1H,s),8.21(1H,s) （３）２−［４−［２−エチル−３−オキソ−４−（１
Ｈ−１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブテニ
ル］フェニル］プロピオン酸メチルエステル0.35gをジ
オキサン3.5mlおよび６Ｎ塩酸3.5mlに加え、30分間加熱
還流させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物を
エタノールおよび酢酸エチルの混合溶媒で再結晶すれば
無色結晶の２−［４−［２−エチル−３−オキソ−４−
（１Ｈ−１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブ
テニル］フェニル］プロピオン酸塩酸塩0.21gを得る。 融点:201−202℃ IR(KBr)cｍ-1:νc=0 1720,1680 NMR(DMSO-d6)δ値:1.07(3H,t,J=7.5H),1.41(3H,d,J=7.5
Hz),2.2−2.8(2H,m),3.80(1H,q,J=7.5Hz),5.94(2H,s),
7.3−7.8(4H,m),7.84(1H,s),8.39(1H,s),8.66(2H,bs),
9.01(1H,s)
ニル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル3.00gを
テトラヒドロフラン30mlに溶解させ、フェニルトリメチ
ルアンモニウムトリブロミド5.20gを加え、室温で20時
間撹拌する。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、
４Ｎ塩酸でpH2.0に調整した後、有機層を分取する。得
られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー［溶離
液；トルエン：ヘキサン＝２：１］で精製すれば、無色
油状物の２−［４−（４−ブロモ−２−エチル−３−オ
キソ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエ
ステル2.91gを得る。 IR(neat)cｍ-1:νc=0 1735,1665 NMR(CDCl3)δ値:1.12(3H,t,J=7.5H),1.52(3H,d,J=7.5H
z),2.59(2H,q,J=7.5Hz),3.68(3H,s),3.77(1H,q,J=7.5H
z),4.31(2H,s),7.1−7.7(5H,m) （２）２−［４−（４−ブロモ−２−エチル−３−オキ
ソ−１−ブテニル）フェニル］プロピオン酸メチルエス
テル1.05gを酢酸エチル20mlに溶解させ、この溶液に１,
２,４−トリアゾール0.26gおよび無水炭酸カリウム0.51
gを加え、１時間加熱還流させる。反応混合液に水を加
え、４Ｎ塩酸でpH2.0に調整した後、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
［溶離液；クロロホルム：エタノール＝50：１］で精製
すれば無色油状物の２−［４−［２−エチル−３−オキ
ソ−４−（１Ｈ−１,２,４−トリアゾール−１−イル）
−１−ブテニル］フェニル］プロピオン酸メチルエステ
ル0.39gを得る。 IR(neat)cｍ-1:νc=0 1730,1680 NMR(CDCl3)δ値:1.13(3H,t,J=7.5H),1.53(3H,d,J=7.5H
z),2.60(2H,q,J=7.5Hz),3.69(3H,s),3.78(1H,q,J=7.5H
z),5.51(2H,s),7.2−7.7(5H,m),7.98(1H,s),8.21(1H,s) （３）２−［４−［２−エチル−３−オキソ−４−（１
Ｈ−１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブテニ
ル］フェニル］プロピオン酸メチルエステル0.35gをジ
オキサン3.5mlおよび６Ｎ塩酸3.5mlに加え、30分間加熱
還流させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物を
エタノールおよび酢酸エチルの混合溶媒で再結晶すれば
無色結晶の２−［４−［２−エチル−３−オキソ−４−
（１Ｈ−１,２,４−トリアゾール−１−イル）−１−ブ
テニル］フェニル］プロピオン酸塩酸塩0.21gを得る。 融点:201−202℃ IR(KBr)cｍ-1:νc=0 1720,1680 NMR(DMSO-d6)δ値:1.07(3H,t,J=7.5H),1.41(3H,d,J=7.5
Hz),2.2−2.8(2H,m),3.80(1H,q,J=7.5Hz),5.94(2H,s),
7.3−7.8(4H,m),7.84(1H,s),8.39(1H,s),8.66(2H,bs),
9.01(1H,s)
【００６２】実施例12 ２−［４−（２−エチル−３−オキソ−１−ブテニル）
フェニル］プロピオン酸メチルエステル1.00gをエタノ
ール10mlに溶解させ、ベンズアルデヒド0.39mlおよび水
酸化ナトリウム0.08gを加え、室温で20時間撹拌する。
反応混合物に水および酢酸エチルを加え、４Ｎ塩酸でpH
2.0に調整した後、有機層を分取する。得られた有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー［溶離液；クロロホル
ム］で精製すれば、無色結晶の２−［４−（２−エチル
−３−オキソ−５−フェニル−１,４−ペンタジエニ
ル）フェニル］プロピオン酸0.40gを得る。 融点:148−150℃［再結晶溶媒：イソプロピルエーテ
ル］ IR(KBr)cｍ-1:νc=0 1730,1645 NMR(CDCl3)δ値:1.15(3H,t,J=7.5H),1.55(3H,d,J=7.5H
z),2.70(2H,q,J=7.5Hz),3.80(1H,q,J=7.5Hz),7.0−8.9
(13H,m)
フェニル］プロピオン酸メチルエステル1.00gをエタノ
ール10mlに溶解させ、ベンズアルデヒド0.39mlおよび水
酸化ナトリウム0.08gを加え、室温で20時間撹拌する。
反応混合物に水および酢酸エチルを加え、４Ｎ塩酸でpH
2.0に調整した後、有機層を分取する。得られた有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー［溶離液；クロロホル
ム］で精製すれば、無色結晶の２−［４−（２−エチル
−３−オキソ−５−フェニル−１,４−ペンタジエニ
ル）フェニル］プロピオン酸0.40gを得る。 融点:148−150℃［再結晶溶媒：イソプロピルエーテ
ル］ IR(KBr)cｍ-1:νc=0 1730,1645 NMR(CDCl3)δ値:1.15(3H,t,J=7.5H),1.55(3H,d,J=7.5H
z),2.70(2H,q,J=7.5Hz),3.80(1H,q,J=7.5Hz),7.0−8.9
(13H,m)
【００６３】参考例１ アセト酢酸tert−ブチルエステル50.0mlをＮ,Ｎ−ジメ
チルホルムアミド250mlに溶解させ、この溶液に氷冷
下、カリウムtert−ブトキシド37.2gを30分間を要して
分割添加し、同温度で15分間攪拌する。得られた混合物
に20−30℃で、ヨウ化エチル28.9mlを15分間を要して滴
下し、同温度で20時間攪拌する。反応混合物を氷水およ
び酢酸エチルの混合物中に加え、６Ｎ塩酸でpH2.Oに調
製した後、有機層を分取する。得られた有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝50：１］で精製すれば、無色油状物のα−エチルア
セト酢酸tert−ブチルエステル41.9gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1740,1715 NMR(CDCl3)δ値：0.93(3H,t,J=7.5Hz),1.47(9H,s),1.5
−2.1(2H,m),2.21(3H,s),3.24(1H,t,J=7.5Hz)
チルホルムアミド250mlに溶解させ、この溶液に氷冷
下、カリウムtert−ブトキシド37.2gを30分間を要して
分割添加し、同温度で15分間攪拌する。得られた混合物
に20−30℃で、ヨウ化エチル28.9mlを15分間を要して滴
下し、同温度で20時間攪拌する。反応混合物を氷水およ
び酢酸エチルの混合物中に加え、６Ｎ塩酸でpH2.Oに調
製した後、有機層を分取する。得られた有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝50：１］で精製すれば、無色油状物のα−エチルア
セト酢酸tert−ブチルエステル41.9gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1740,1715 NMR(CDCl3)δ値：0.93(3H,t,J=7.5Hz),1.47(9H,s),1.5
−2.1(2H,m),2.21(3H,s),3.24(1H,t,J=7.5Hz)
【００６４】参考例２ 参考例１と同様にして以下の化合物を得る。 2(1) α−メチルアセト酢酸tert−ブチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735,1720 NMR(CDCl3)δ値：1.29(3H,d,J=7.5Hz),1.47(9H,s),2.23
(3H,s),3.40(1H,q,J=7.5Hz) 2(2) α−エチルベンゾイル酢酸tert−ブチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735,1685 NMR(CDCl3)δ値：0.99(3H,t,J=7.5Hz),1.35(9H,s),1.7
−2.3(2H,m),4.08(1H,t,J=7.5Hz),7.3−7.7(3H,m),7.9
−8.2(2H,m)
(3H,s),3.40(1H,q,J=7.5Hz) 2(2) α−エチルベンゾイル酢酸tert−ブチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735,1685 NMR(CDCl3)δ値：0.99(3H,t,J=7.5Hz),1.35(9H,s),1.7
−2.3(2H,m),4.08(1H,t,J=7.5Hz),7.3−7.7(3H,m),7.9
−8.2(2H,m)
【００６５】参考例３ ２−（４−クロロメチルフェニル）プロピオン酸メチル
エステル20.0gをアセトン200mlに溶解させ、アセト酢酸
tert−ブチルエステル17.2ml、無水炭酸カリウム14.3g
およびヨウ化カリウム17.2gを加え、17時間加熱還流さ
せる。不溶物を濾去した後、減圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物に水および酢酸エチルを加え、有機層を
分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶
媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝10：１］で精製
すれば、無色油状物の２−［４−（２−tert−ブトキシ
カルボニル−３−オキソブチル）フェニル］プロピオン
酸メチルエステル24.2gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1720,1710 NMR(CDCl3)δ値：1.32(9H,s),1.46(3H,d,J=7.5Hz),2.18
(3H,s),3.09(2H,d,J=7.5Hz),3.63(3H,s),3.4−3.9(2H,
m),7.0−7.4(4H,m)
エステル20.0gをアセトン200mlに溶解させ、アセト酢酸
tert−ブチルエステル17.2ml、無水炭酸カリウム14.3g
およびヨウ化カリウム17.2gを加え、17時間加熱還流さ
せる。不溶物を濾去した後、減圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物に水および酢酸エチルを加え、有機層を
分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶
媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝10：１］で精製
すれば、無色油状物の２−［４−（２−tert−ブトキシ
カルボニル−３−オキソブチル）フェニル］プロピオン
酸メチルエステル24.2gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1720,1710 NMR(CDCl3)δ値：1.32(9H,s),1.46(3H,d,J=7.5Hz),2.18
(3H,s),3.09(2H,d,J=7.5Hz),3.63(3H,s),3.4−3.9(2H,
m),7.0−7.4(4H,m)
【００６６】参考例４ α−エチルアセト酢酸tert−ブチルエステル24.0gをＮ,
Ｎ−ジメチルホルムアミド125mlに溶解させ、20−30℃
で、カリウムtert-ブトキシド14.5gを30分間を要して分
割添加し、同温度で15分間攪拌する。得られた混合物に
20−30℃で、２−（４−クロロメチルフェニル）プロピ
オン酸メチルエステル24.9gを15分間を要して滴下し、
同温度で20時間攪拌する。反応混合物を氷水および酢酸
エチルの混合物中に加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調製した
後、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラム
クロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝
20：１］で精製すれば、無色油状物の２−［４−（２−
tert-ブトキシカルボニルー２−エチル−３−オキソブ
チル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル38.0gを
得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1710 NMR(CDCl3)δ値：0.86(3H,t,J=7.5Hz),1.41(9H,s),1.1
−2.1(5H,m),2.12(3H,s),3.13(2H,ABq,J=14Hz),3.63(3
H,s),3.3−3.9(1H,m),6.7−7.4(4H,m)
Ｎ−ジメチルホルムアミド125mlに溶解させ、20−30℃
で、カリウムtert-ブトキシド14.5gを30分間を要して分
割添加し、同温度で15分間攪拌する。得られた混合物に
20−30℃で、２−（４−クロロメチルフェニル）プロピ
オン酸メチルエステル24.9gを15分間を要して滴下し、
同温度で20時間攪拌する。反応混合物を氷水および酢酸
エチルの混合物中に加え、６Ｎ塩酸でpH2.0に調製した
後、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラム
クロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝
20：１］で精製すれば、無色油状物の２−［４−（２−
tert-ブトキシカルボニルー２−エチル−３−オキソブ
チル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル38.0gを
得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1735,1710 NMR(CDCl3)δ値：0.86(3H,t,J=7.5Hz),1.41(9H,s),1.1
−2.1(5H,m),2.12(3H,s),3.13(2H,ABq,J=14Hz),3.63(3
H,s),3.3−3.9(1H,m),6.7−7.4(4H,m)
【００６７】参考例５ 参考例４と同様にして以下の化合物を得る。 5(1) ２−［４−（２−tert−ブトキシカルボニル−２−メチ
ル−３−オキソブチル）フェニル］プロピオン酸メチル
エステル IR(neat)cm-1：νC=O1740,1715 NMR(CDCl3)δ値：1.24(3H,s),1.43(9H,s),1.46(3H,d,J=
7.5Hz),2.17(3H,s),3.11(2H,ABq,J=14Hz),3.64,(3H,s),
3.70(1H,q,J=7.5Hz),6.9−7.4(4H,m） 5(2) ２−［４−（２−ベンゾイル−２−tert−ブトキシカル
ボニルブチル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1740,1680 NMR(CDCl3)δ値：0.88(3H,t,J=7.5Hz),1.25(9H,s),1.44
(3H,d,J=7.5Hz),2.00(2H,q,J=7.5Hz),3.36(2H,s),3.62
(3H,s),3.71(1H,q,J=7.5Hz),6.8−7.6(7H,m),7.7−8.2
(2H,m)
ル−３−オキソブチル）フェニル］プロピオン酸メチル
エステル IR(neat)cm-1：νC=O1740,1715 NMR(CDCl3)δ値：1.24(3H,s),1.43(9H,s),1.46(3H,d,J=
7.5Hz),2.17(3H,s),3.11(2H,ABq,J=14Hz),3.64,(3H,s),
3.70(1H,q,J=7.5Hz),6.9−7.4(4H,m） 5(2) ２−［４−（２−ベンゾイル−２−tert−ブトキシカル
ボニルブチル）フェニル］プロピオン酸メチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1740,1680 NMR(CDCl3)δ値：0.88(3H,t,J=7.5Hz),1.25(9H,s),1.44
(3H,d,J=7.5Hz),2.00(2H,q,J=7.5Hz),3.36(2H,s),3.62
(3H,s),3.71(1H,q,J=7.5Hz),6.8−7.6(7H,m),7.7−8.2
(2H,m)
【００６８】参考例６ ２−［４−（２−tert−ブトキシカルボニル−２−エチ
ル−３−オキソブチル）フェニル］プロピオン酸メチル
エステル37.7gを塩化メチレン30mlに溶解させ、トリフ
ルオロ酢酸30mlを加え、室温で20時間攪拌する。減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物にトルエン100mlを加
え、１時間加熱還流させる。反応混合物に水を加え、有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝20：１］
で精製すれば、無色油状物の２−［４−（２−エチル−
３−オキソブチル）フェニル］プロピオン酸メチルエス
テル21.0gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1740,1710 NMR(CDCl3)δ値：0.88(3H,t,J=7.5Hz),1.47(3H,d,J=7.5
Hz),1.2−1.9(2H,m),2.02(3H,s),2.3−3.2(3H,m),3.65
(3H,s),3.70(1H,q,J=7.5Hz),6.7−7.4(4H,m)
ル−３−オキソブチル）フェニル］プロピオン酸メチル
エステル37.7gを塩化メチレン30mlに溶解させ、トリフ
ルオロ酢酸30mlを加え、室温で20時間攪拌する。減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物にトルエン100mlを加
え、１時間加熱還流させる。反応混合物に水を加え、有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝20：１］
で精製すれば、無色油状物の２−［４−（２−エチル−
３−オキソブチル）フェニル］プロピオン酸メチルエス
テル21.0gを得る。 IR(neat)cm-1：νC=O1740,1710 NMR(CDCl3)δ値：0.88(3H,t,J=7.5Hz),1.47(3H,d,J=7.5
Hz),1.2−1.9(2H,m),2.02(3H,s),2.3−3.2(3H,m),3.65
(3H,s),3.70(1H,q,J=7.5Hz),6.7−7.4(4H,m)
【００６９】参考例７ 参考例６と同様にして以下の化合物を得る。 7(1) ２−［４−（２−メチル−３−オキソブチル）フェニ
ル］プロピオン酸メチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735,1710 NMR(CDCl3)δ値：1.09(3H,d,J=7.5Hz),1.47(3H,d,J=7.5
Hz),2.09(3H,s),2.2−3.2(3H,m),3.65(3H,s),3.5−3.9
(1H,m),6.9−7.4(4H,m) 7(2) ２−［４−（２−ベンゾイルブチル）フェニル］プロピ
オン酸メチルエステルIR(neat)cm-1：νC=O1735,1680 NMR(CDCl3)δ値：0.87(3H,t,J=7.5Hz),1.43(3H,d,J=7.5
Hz),1.2−2.2(2H,m),2.5−3.3(2H,m),3.61(3H,s),3.4−
4.0(2H,m),7.0−7.6(7H,m),7.7−8.2(2H,m)
ル］プロピオン酸メチルエステル IR(neat)cm-1：νC=O1735,1710 NMR(CDCl3)δ値：1.09(3H,d,J=7.5Hz),1.47(3H,d,J=7.5
Hz),2.09(3H,s),2.2−3.2(3H,m),3.65(3H,s),3.5−3.9
(1H,m),6.9−7.4(4H,m) 7(2) ２−［４−（２−ベンゾイルブチル）フェニル］プロピ
オン酸メチルエステルIR(neat)cm-1：νC=O1735,1680 NMR(CDCl3)δ値：0.87(3H,t,J=7.5Hz),1.43(3H,d,J=7.5
Hz),1.2−2.2(2H,m),2.5−3.3(2H,m),3.61(3H,s),3.4−
4.0(2H,m),7.0−7.6(7H,m),7.7−8.2(2H,m)
【００７０】製剤例１ 以下の成分を使用して硬ゼラチンカプセルを調製する。 実施例３の化合物 50mg 乳糖 114.5mg コーンスターチ 20mg ヒドロキシプロピルセルロース 2mg 軽質無水ケイ酸 1.5mg カルボキシメチルセルロース 10mg カルシウム（ＥＣＧ ５０５）ステアリン酸マグネシウム 2mg ───────────────────────────────── 計 200mg 以上を１カプセル分の材料として常法により硬カプセル
に充填する。
に充填する。
【００７１】製剤例２ 以下の成分を使用して錠剤を調製する。 実施例３の化合物 25mg 乳糖 49mg 微結晶セルロース 36mg ヒドロキシプロピルセルロース 1mg カルボキシメチルセルロース 6.6mg カルシウム（ＥＣＧ ５０５）ステアリン酸マグネシウム 1.2mg タルク 1.2mg ───────────────────────────────── 計 120mg 以上を１錠分の材料として常法により錠剤とする。
【００７２】製剤例３ 以下の成分を使用して錠剤を調製する。 実施例３の化合物 50mg 乳糖 74mg 微結晶セルロース 55mg ヒドロキシプロピルセルロース 2mg カルボキシメチルセルロース 15mg カルシウム（ＥＣＧ ５０５）ステアリン酸マグネシウム 2mg タルク 2mg ───────────────────────────────── 計 200mg 以上を１錠分の材料として常法により錠剤とする。
【００７３】製剤例４ 以下の成分を使用して錠剤を調製する。 実施例３の化合物 100mg 乳糖 49mg 微結晶セルロース 55mg ヒドロキシプロピルセルロース 2mg カルボキシメチルセルロース 15mg カルシウム（ＥＣＧ ５０５）ステアリン酸マグネシウム 2mg タルク 2mg ───────────────────────────────── 計 225mg 以上を１錠分の材料として常法により錠剤とする。
【００７４】製剤例５ 以下の成分を使用して錠剤を調製する。 実施例３の化合物 200mg 微結晶セルロース 100mg グリコール酸ナトリウムデンプン 30mg ステアリン酸マグネシウム 3mg ───────────────────────────────── 計 333mg 以上を１錠分の材料として常法により錠剤とする。
【００７５】
【発明の効果】本発明化合物の新規なフェニルプロピオ
ン酸誘導体およびその塩は、消化管障害などの副作用が
少ない長期投与に耐えうる安全性の高い、抗炎症・鎮痛
・解熱作用、抗アレルギー作用などを有する化合物であ
り、医薬品として有用である。
ン酸誘導体およびその塩は、消化管障害などの副作用が
少ない長期投与に耐えうる安全性の高い、抗炎症・鎮痛
・解熱作用、抗アレルギー作用などを有する化合物であ
り、医薬品として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 59/48 Ｃ０７Ｃ 59/48 59/84 59/84 69/732 9546−4Ｈ 69/732 Ｚ 69/738 9546−4Ｈ 69/738 Ｚ Ｃ０７Ｄ 249/08 ５２０ Ｃ０７Ｄ 249/08 ５２０ Ｃ１２Ｎ 9/99 Ｃ１２Ｎ 9/99
Claims (6)
- 【請求項１】 【化１】 ［式中、Ｒ1は、置換されていてもよいアルキル、アル
ケニルまたはアリール基を；Ｒ2は、水素原子を；Ｒ
3は、ヒドロキシル基を示すかまたはＲ2とＲ3が一緒に
なってオキソ基またはヒドロキシイミノ基を；Ｒ4は、
水素原子または置換されていてもよいアルキル、アルケ
ニルもしくはアリール基を；Ｒaは、水素原子またはカ
ルボキシル保護基を；Ｒbは、低級アルキル基を；波線
は、シスもしくはトランス異性体またはその混合物を示
す。］で表されるフェニルプロピオン酸誘導体またはそ
の塩。 - 【請求項２】Ｒ1が、置換されていてもよい低級アルキ
ル、低級アルケニルまたはアリール基でＲ4が、水素原
子または置換されていてもよい低級アルキル、低級アル
ケニルもしくはアリール基である請求項１に記載のフェ
ニルプロピオン酸誘導体またはその塩。 - 【請求項３】Ｒ1が、低級アルキル、低級アルケニルま
たはフェニル基で、Ｒ4が、低級アルキル基である請求
項２に記載のフェニルプロピオン酸誘導体またはその
塩。 - 【請求項４】Ｒ1が、低級アルキル基で、Ｒ4が、低級ア
ルキル基である請求項３に記載のフェニルプロピオン酸
誘導体またはその塩。 - 【請求項５】請求項１−４のいずれか１項に記載のフェ
ニルプロピオン酸誘導体またはその塩を有効成分として
含有する抗炎症剤。 - 【請求項６】請求項１−４のいずれか１項に記載のフェ
ニルプロピオン酸誘導体またはその塩を有効成分として
含有するシクロオキシゲナーゼ阻害剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7209319A JPH0940605A (ja) | 1995-07-26 | 1995-07-26 | 新規なフェニルプロピオン酸誘導体またはその塩およびそれらを含有する抗炎症剤もしくはシクロオキシゲナーゼ阻害剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7209319A JPH0940605A (ja) | 1995-07-26 | 1995-07-26 | 新規なフェニルプロピオン酸誘導体またはその塩およびそれらを含有する抗炎症剤もしくはシクロオキシゲナーゼ阻害剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0940605A true JPH0940605A (ja) | 1997-02-10 |
Family
ID=16570986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7209319A Pending JPH0940605A (ja) | 1995-07-26 | 1995-07-26 | 新規なフェニルプロピオン酸誘導体またはその塩およびそれらを含有する抗炎症剤もしくはシクロオキシゲナーゼ阻害剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0940605A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003155231A (ja) * | 2001-11-20 | 2003-05-27 | Kikkoman Corp | 医薬及び抗アレルギー剤 |
| WO2009089082A1 (en) * | 2008-01-04 | 2009-07-16 | Abbott Laboratories | Trpa1 antagonists |
| US9751850B2 (en) | 2008-01-04 | 2017-09-05 | Abbvie Inc. | TRPA1 antagonists |
-
1995
- 1995-07-26 JP JP7209319A patent/JPH0940605A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003155231A (ja) * | 2001-11-20 | 2003-05-27 | Kikkoman Corp | 医薬及び抗アレルギー剤 |
| WO2009089082A1 (en) * | 2008-01-04 | 2009-07-16 | Abbott Laboratories | Trpa1 antagonists |
| JP2011509260A (ja) * | 2008-01-04 | 2011-03-24 | アボット・ラボラトリーズ | Ｔｒｐａ１アンタゴニスト |
| US9108905B2 (en) | 2008-01-04 | 2015-08-18 | Abbvie Inc. | TRPA1 antagonists |
| US9751850B2 (en) | 2008-01-04 | 2017-09-05 | Abbvie Inc. | TRPA1 antagonists |
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