JPH0910714A - 現像残滓の超音波洗浄方法 - Google Patents
現像残滓の超音波洗浄方法Info
- Publication number
- JPH0910714A JPH0910714A JP6644593A JP6644593A JPH0910714A JP H0910714 A JPH0910714 A JP H0910714A JP 6644593 A JP6644593 A JP 6644593A JP 6644593 A JP6644593 A JP 6644593A JP H0910714 A JPH0910714 A JP H0910714A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- residue
- substrate
- ultrasonic
- glass substrate
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ガラス板や金属板等の基板面に塗布された感光
材の現像処理において、処理後に基板面に残留する残滓
を残滓残りなく容易に除去することにある。 【構成】ガラス基板１等の基板面に付着する残滓３個所
に水若しくは適宜溶媒を用いた仲介液２１を介して超音
波発振ホーン先端部１１を接近させ、付着する前記残滓
３を超音波振動により除去する現像残滓の超音波洗浄方
法。
材の現像処理において、処理後に基板面に残留する残滓
を残滓残りなく容易に除去することにある。 【構成】ガラス基板１等の基板面に付着する残滓３個所
に水若しくは適宜溶媒を用いた仲介液２１を介して超音
波発振ホーン先端部１１を接近させ、付着する前記残滓
３を超音波振動により除去する現像残滓の超音波洗浄方
法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトエッチング、パ
ターンエッチング等のフォトファブリケーションにおい
て、ガラス板、金属板等の基板に塗布された感光膜を露
光現像処理する場合に、基板面に現像除去できずに残留
する感光膜等の不必要な残滓を超音波により洗浄除去す
るための現像残滓の超音波洗浄方法に関する。
ターンエッチング等のフォトファブリケーションにおい
て、ガラス板、金属板等の基板に塗布された感光膜を露
光現像処理する場合に、基板面に現像除去できずに残留
する感光膜等の不必要な残滓を超音波により洗浄除去す
るための現像残滓の超音波洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えばフォトファブリケーション
によるカラーフィルターの着色パターンのパターン形成
として、ガラス基板上にスピンコーティング法（高速回
転スピナーによる回転塗布法）等の回転塗布法、ディピ
ング塗布法（引上げ塗布法）などにより感光性の着色剤
を塗布して乾燥させた後に、該着色剤の乾燥塗布膜に所
定のフィルターパターンを露光して現像処理することに
より、着色パターンを形成することが行われている。
によるカラーフィルターの着色パターンのパターン形成
として、ガラス基板上にスピンコーティング法（高速回
転スピナーによる回転塗布法）等の回転塗布法、ディピ
ング塗布法（引上げ塗布法）などにより感光性の着色剤
を塗布して乾燥させた後に、該着色剤の乾燥塗布膜に所
定のフィルターパターンを露光して現像処理することに
より、着色パターンを形成することが行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記ガラス基板上に回
転塗布法やディッピング塗布法によって感光性着色剤を
塗布した場合には、そのガラス基板と感光性着色剤（カ
ラーフォトレジスト液）の液体表面張力等の関係から特
にガラス基板の端縁部における着色剤の膜厚が厚くなる
傾向がある。
転塗布法やディッピング塗布法によって感光性着色剤を
塗布した場合には、そのガラス基板と感光性着色剤（カ
ラーフォトレジスト液）の液体表面張力等の関係から特
にガラス基板の端縁部における着色剤の膜厚が厚くなる
傾向がある。
【０００４】これを適宜パターン露光した後に、現像液
にて現像処理（水洗処理を含む）すると、図３に示すよ
うに、ガラス基板１面には、必要とする画像パターン４
の他に、ガラス基板１の周辺端部２に膜厚の厚い着色剤
が現像除去しきれずに残滓３として残留する場合があ
る。
にて現像処理（水洗処理を含む）すると、図３に示すよ
うに、ガラス基板１面には、必要とする画像パターン４
の他に、ガラス基板１の周辺端部２に膜厚の厚い着色剤
が現像除去しきれずに残滓３として残留する場合があ
る。
【０００５】そのため従来は手作業によって、その残滓
を研磨シートあるいは剃刀やカッターナイフで削り取っ
たり、小型ドリル等の回転研磨用工具を用いて研磨によ
って除去するのが実情であるが、残滓が完全には除去し
きれなかったり、その削り滓が粉体となって飛散した
り、基板側に再度付着するなどの不都合があった。
を研磨シートあるいは剃刀やカッターナイフで削り取っ
たり、小型ドリル等の回転研磨用工具を用いて研磨によ
って除去するのが実情であるが、残滓が完全には除去し
きれなかったり、その削り滓が粉体となって飛散した
り、基板側に再度付着するなどの不都合があった。
【０００６】本発明は、ガラス板や金属板等の基板面に
塗布された感光材の現像処理等において、処理後に基板
面に残留する残滓を、残滓残りなく容易に除去すること
にある。
塗布された感光材の現像処理等において、処理後に基板
面に残留する残滓を、残滓残りなく容易に除去すること
にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス基板等
の基板に付着する残滓の付着個所に、水、若しくは適宜
溶媒を用いた仲介液を介して超音波発振ホーン先端部を
接近させ、付着する前記残滓を超音波振動により除去す
ることを特徴とする現像残滓の超音波洗浄方法である。
の基板に付着する残滓の付着個所に、水、若しくは適宜
溶媒を用いた仲介液を介して超音波発振ホーン先端部を
接近させ、付着する前記残滓を超音波振動により除去す
ることを特徴とする現像残滓の超音波洗浄方法である。
【０００８】
【実施例】本発明の現像残滓の超音波洗浄方法を、以下
に詳細に説明すれば、図１（ａ）は、本発明方法の一実
施例を説明する側面図である。
に詳細に説明すれば、図１（ａ）は、本発明方法の一実
施例を説明する側面図である。
【０００９】適宜現像処理後のガラス基板１の上面に
は、必要とする所定の画像パターン４が形成されてお
り、その基板１の端部２等には、現像処理によって現像
除去しきれなかった残滓３が付着している。
は、必要とする所定の画像パターン４が形成されてお
り、その基板１の端部２等には、現像処理によって現像
除去しきれなかった残滓３が付着している。
【００１０】この残滓３の発生している個所、例えば、
図１（ａ）においてはガラス基板１の端部２，２におけ
る残滓３発生個所に、まず、液供給ノズル等の液供給手
段Ｂより、水若しくは適宜無機溶媒、又は、有機溶媒等
の仲介液２１を供給して、残滓３を仲介液２１によって
浸漬する。
図１（ａ）においてはガラス基板１の端部２，２におけ
る残滓３発生個所に、まず、液供給ノズル等の液供給手
段Ｂより、水若しくは適宜無機溶媒、又は、有機溶媒等
の仲介液２１を供給して、残滓３を仲介液２１によって
浸漬する。
【００１１】続いて、仲介液２１の供給されている間
に、ガラス基板１の前記端部２の近傍に超音波発振手段
Ａを用いてその超音波発振ホーン１２を接近させ、その
先端部にある超音波を発振する超音波発振ホーン先端部
１１を、前記端部２の残滓３を浸漬している仲介液２１
内に差し入れて、残滓３の真上相当部に、例えば、０．
３ｍｍ〜２．０ｍｍ程度（あるいは仲介液２１の液面よ
り超音波発振ホーン先端部１１が離脱しない程度）の間
隔（ギャップ）をあけて位置決め設定する。なお超音波
発振ホーン先端部１１は、なるべく画像パターン４に対
して十分距離をおいて位置決め設定する。
に、ガラス基板１の前記端部２の近傍に超音波発振手段
Ａを用いてその超音波発振ホーン１２を接近させ、その
先端部にある超音波を発振する超音波発振ホーン先端部
１１を、前記端部２の残滓３を浸漬している仲介液２１
内に差し入れて、残滓３の真上相当部に、例えば、０．
３ｍｍ〜２．０ｍｍ程度（あるいは仲介液２１の液面よ
り超音波発振ホーン先端部１１が離脱しない程度）の間
隔（ギャップ）をあけて位置決め設定する。なお超音波
発振ホーン先端部１１は、なるべく画像パターン４に対
して十分距離をおいて位置決め設定する。
【００１２】なお、本発明方法に使用する超音波発振手
段Ａは、図１（ａ）に示すように、超音波発振ホーン１
２と、該超音波発振ホーン１２の発振出力を増幅調整す
る発振ブースター１３と、発振用の電気信号を音波に変
換するコンバータ１４と、該コンバータ１４に発振用の
電気信号を出力する発振回路部１５とを備えた公知の発
振手段を用いて行なうことができる。
段Ａは、図１（ａ）に示すように、超音波発振ホーン１
２と、該超音波発振ホーン１２の発振出力を増幅調整す
る発振ブースター１３と、発振用の電気信号を音波に変
換するコンバータ１４と、該コンバータ１４に発振用の
電気信号を出力する発振回路部１５とを備えた公知の発
振手段を用いて行なうことができる。
【００１３】続いて、差し入れられた上記超音波発振ホ
ーン先端部１１より超音波振動ｓを発振させ、発振する
超音波振動ｓは、該仲介液２１を介して端部２の残滓３
に伝達され、固形状態の該残滓３を超音波振動させて、
その振動ｓにより残滓３をガラス基板１面より剥離さ
せ、又は、微粒子状態に粉砕して破壊し、ガラス基板１
より遊離させて、ガラス基板１を洗浄除去する。なお、
発振所要時間は３秒〜１０秒程度が適当であるがこれに
限定されるものではない。
ーン先端部１１より超音波振動ｓを発振させ、発振する
超音波振動ｓは、該仲介液２１を介して端部２の残滓３
に伝達され、固形状態の該残滓３を超音波振動させて、
その振動ｓにより残滓３をガラス基板１面より剥離さ
せ、又は、微粒子状態に粉砕して破壊し、ガラス基板１
より遊離させて、ガラス基板１を洗浄除去する。なお、
発振所要時間は３秒〜１０秒程度が適当であるがこれに
限定されるものではない。
【００１４】下記に、本発明方法の一実施例における超
音波振動手段Ａの残滓洗浄除去における設定条件を記
す。 条件； 発振ブースター出力 １：１ 又は１：２ 超音波発振ホーン出力音波周波数 ２０ｋＨｚ，４０ｋＨｚ ギャップ ０．５〜１．５ｍｍ 発振所要時間 ５秒
音波振動手段Ａの残滓洗浄除去における設定条件を記
す。 条件； 発振ブースター出力 １：１ 又は１：２ 超音波発振ホーン出力音波周波数 ２０ｋＨｚ，４０ｋＨｚ ギャップ ０．５〜１．５ｍｍ 発振所要時間 ５秒
【００１５】ガラス基板１より遊離した残滓３は、仲介
液２１中に分散あるいは溶解し、仲介液２１とともに洗
浄廃液として適宜排出される。
液２１中に分散あるいは溶解し、仲介液２１とともに洗
浄廃液として適宜排出される。
【００１６】なお、超音波発振ホーン先端部１１は画像
パターン４部分より離間する位置に設定してあるため、
画像パターン４部分は超音波の振動ｓの影響は受けず剥
離は生じない。図１（ｂ）は、端部２に残留していた残
滓３を洗浄除去した後のガラス基板１の側断面である。
パターン４部分より離間する位置に設定してあるため、
画像パターン４部分は超音波の振動ｓの影響は受けず剥
離は生じない。図１（ｂ）は、端部２に残留していた残
滓３を洗浄除去した後のガラス基板１の側断面である。
【００１７】本発明方法においては、必要とする画像パ
ターン４が超音波発振ホーン先端部１１の振動ｓの影響
を受けないように、仲介液２１の浸漬領域を制御するこ
とが必要であるが、その浸漬領域は、できるかぎり画像
パターン４に掛からないように設定して供給することが
のぞましい。
ターン４が超音波発振ホーン先端部１１の振動ｓの影響
を受けないように、仲介液２１の浸漬領域を制御するこ
とが必要であるが、その浸漬領域は、できるかぎり画像
パターン４に掛からないように設定して供給することが
のぞましい。
【００１８】また、本発明方法に使用する仲介液２１
は、水溶媒若しくはアルカリ性溶媒、酸性溶媒等の水性
無機溶媒、又は水性、油性の有機溶媒等が使用でき、残
滓３を溶解可能な溶媒であることが適当である。
は、水溶媒若しくはアルカリ性溶媒、酸性溶媒等の水性
無機溶媒、又は水性、油性の有機溶媒等が使用でき、残
滓３を溶解可能な溶媒であることが適当である。
【００１９】図２（ａ）は、本発明方法における液供給
手段Ｂによる仲介液２１の供給領域設定の一実施例を示
すもので、矩形状のガラス基板１の一辺の端部２に付着
する残滓３のみが仲介液２１によって浸漬するように、
水平面（Ｘ−Ｙ面）に対して、矩形状のガラス基板１の
角隅部１ａを他の角隅部より低く傾斜（Ｘ方向に対する
傾斜角度θx ，Ｙ方向に対するθy ）するように配置
し、該ガラス基板１の他の角隅部１ｂの上側に液供給手
段Ｂを設定し、該角隅部１ｂから角隅部１ａに向かって
仲介液２１を流下させて、画像パターン４が仲介液２１
によって浸漬されないようにして液供給領域を設定した
場合を示すものである。
手段Ｂによる仲介液２１の供給領域設定の一実施例を示
すもので、矩形状のガラス基板１の一辺の端部２に付着
する残滓３のみが仲介液２１によって浸漬するように、
水平面（Ｘ−Ｙ面）に対して、矩形状のガラス基板１の
角隅部１ａを他の角隅部より低く傾斜（Ｘ方向に対する
傾斜角度θx ，Ｙ方向に対するθy ）するように配置
し、該ガラス基板１の他の角隅部１ｂの上側に液供給手
段Ｂを設定し、該角隅部１ｂから角隅部１ａに向かって
仲介液２１を流下させて、画像パターン４が仲介液２１
によって浸漬されないようにして液供給領域を設定した
場合を示すものである。
【００２０】図２（ｂ）は、水平面（Ｘ−Ｙ面）に対し
て、矩形状のガラス基板１の一辺の端部２に付着する残
滓３のみが仲介液２１によって浸漬するように、そのガ
ラス基板１の一辺を挟む両角隅部１ａ，１ｂを平行に設
定し、その他の角隅部より低く傾斜するようにガラス基
板１を配置し、両角隅部１ａ，１ｂが挟む一辺に仲介液
２１を流下させるようにしたものである。
て、矩形状のガラス基板１の一辺の端部２に付着する残
滓３のみが仲介液２１によって浸漬するように、そのガ
ラス基板１の一辺を挟む両角隅部１ａ，１ｂを平行に設
定し、その他の角隅部より低く傾斜するようにガラス基
板１を配置し、両角隅部１ａ，１ｂが挟む一辺に仲介液
２１を流下させるようにしたものである。
【００２１】なお本発明方法における仲介液２１の供給
は、上記のような液供給ノズル等による送流供給方式に
よる供給の他に、洗浄槽方式を採用することは可能であ
り、槽内に貯溜若しくは循環供給される仲介液２１内
に、ガラス基板１の端部２に付着する残滓３部分を浸漬
した後、超音波発振ホーン先端部１１を該仲介液２１内
に差し入れて洗浄除去するようにしてもよい。
は、上記のような液供給ノズル等による送流供給方式に
よる供給の他に、洗浄槽方式を採用することは可能であ
り、槽内に貯溜若しくは循環供給される仲介液２１内
に、ガラス基板１の端部２に付着する残滓３部分を浸漬
した後、超音波発振ホーン先端部１１を該仲介液２１内
に差し入れて洗浄除去するようにしてもよい。
【００２２】次に、本発明の他の実施例を説明すれば、
図３（ａ）、超音波発振手段Ａの超音波発振ホーン１２
の振動するホーン先端部１１の側面１１ａに、図３
（ｂ）、ガラス基板１の端部２の側面部に付着する残滓
３を仲介液２１を介して当てがい、接触させることによ
って、ガラス基板１側面部に付着する残滓３を除去する
ものである。なお、ガラス基板１の端部２側面部に付着
する残滓３は、図３（ａ）に示すように、ホーン先端部
１１の側面１１ａの領域１１ｂに接触させる。
図３（ａ）、超音波発振手段Ａの超音波発振ホーン１２
の振動するホーン先端部１１の側面１１ａに、図３
（ｂ）、ガラス基板１の端部２の側面部に付着する残滓
３を仲介液２１を介して当てがい、接触させることによ
って、ガラス基板１側面部に付着する残滓３を除去する
ものである。なお、ガラス基板１の端部２側面部に付着
する残滓３は、図３（ａ）に示すように、ホーン先端部
１１の側面１１ａの領域１１ｂに接触させる。
【００２３】
【作用】本発明の現像残滓の超音波洗浄方法は、基板１
における残滓３の付着する個所のみに、水若しくは適宜
溶媒を用いた仲介液２１を介して超音波発振ホーン先端
部１１を接近させて洗浄除去するようにしたので、現像
除去しきれずに付着する固体状の残滓３部分のみが洗浄
除去されて、基板１の必要とする画像パターン４は超音
波振動によって破損することがなく、洗浄除去残りなく
正確に短時間で能率的に洗浄できる。
における残滓３の付着する個所のみに、水若しくは適宜
溶媒を用いた仲介液２１を介して超音波発振ホーン先端
部１１を接近させて洗浄除去するようにしたので、現像
除去しきれずに付着する固体状の残滓３部分のみが洗浄
除去されて、基板１の必要とする画像パターン４は超音
波振動によって破損することがなく、洗浄除去残りなく
正確に短時間で能率的に洗浄できる。
【００２４】また、本発明方法における除去された残滓
は仲介液中に取り込まれるので、従来のように粉体とな
って飛散したり、基板側に再度付着することがない。
は仲介液中に取り込まれるので、従来のように粉体とな
って飛散したり、基板側に再度付着することがない。
【００２５】
【発明の効果】本発明の現像残滓の超音波洗浄方法は、
ガラス、金属、プラスチック等の基板面に塗布された感
光材の現像処理後において、基板面に残留する現像残滓
を残滓残りなく、短時間で能率的に洗浄除去できる効果
がある。
ガラス、金属、プラスチック等の基板面に塗布された感
光材の現像処理後において、基板面に残留する現像残滓
を残滓残りなく、短時間で能率的に洗浄除去できる効果
がある。
【図１】（ａ）は、本発明の現像残滓の超音波洗浄方法
を説明する概要斜視図であり、（ｂ）は、洗浄後の基板
の側面図である。
を説明する概要斜視図であり、（ｂ）は、洗浄後の基板
の側面図である。
【図２】（ａ）は、本発明の現像残滓の超音波洗浄方法
の一実施例を説明する概要斜視図であり、（ｂ）は、他
の実施例を説明する概要斜視図である。
の一実施例を説明する概要斜視図であり、（ｂ）は、他
の実施例を説明する概要斜視図である。
【図３】（ａ）は、本発明の現像残滓の超音波洗浄方法
のその他の実施例を説明する概要斜視図であり、（ｂ）
は、概要側面図である。
のその他の実施例を説明する概要斜視図であり、（ｂ）
は、概要側面図である。
【図４】現像処理後において現像残滓の付着する一般的
なガラス基板の平面図である。
なガラス基板の平面図である。
Ａ…超音波発振手段 Ｂ…仲介液供給手段 ｓ…超音波
振動 １…基板 １ａ，１ｂ…角隅部 ２…端部 ３…残滓
４…画像パターン １１…超音波発振ホーン先端部 １１ａ…側面 １１ｂ
…当接領域 １２…超音波発振ホーン １３…発振ブースター １４
…コンバータ １５…発振回路部 ２１…仲介液
振動 １…基板 １ａ，１ｂ…角隅部 ２…端部 ３…残滓
４…画像パターン １１…超音波発振ホーン先端部 １１ａ…側面 １１ｂ
…当接領域 １２…超音波発振ホーン １３…発振ブースター １４
…コンバータ １５…発振回路部 ２１…仲介液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 須井 淳 東京都港区港南３−５−16 ラップマスタ ーエスエフティー株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】ガラス基板等の基板に付着する残滓付着個
所に、水、若しくは適宜溶媒を用いた仲介液を介して超
音波発振ホーン先端部を接近させ、付着する前記残滓を
超音波振動により除去することを特徴とする現像残滓の
超音波洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6644593A JP3288464B2 (ja) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | 現像残滓の超音波洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6644593A JP3288464B2 (ja) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | 現像残滓の超音波洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0910714A true JPH0910714A (ja) | 1997-01-14 |
| JP3288464B2 JP3288464B2 (ja) | 2002-06-04 |
Family
ID=13315985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6644593A Expired - Fee Related JP3288464B2 (ja) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | 現像残滓の超音波洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3288464B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19859023B4 (de) * | 1998-12-21 | 2005-12-15 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Trennung von Schichten und Bauteilen |
| JP2007212450A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-08-23 | Seiko Instruments Inc | 近接場光発生素子の製造方法 |
| US7287537B2 (en) * | 2002-01-29 | 2007-10-30 | Akrion Technologies, Inc. | Megasonic probe energy director |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12032286B2 (en) * | 2019-06-17 | 2024-07-09 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Method for producing multi-layered type microchannel device using photosensitive resin laminate |
-
1993
- 1993-03-25 JP JP6644593A patent/JP3288464B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19859023B4 (de) * | 1998-12-21 | 2005-12-15 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Trennung von Schichten und Bauteilen |
| US7287537B2 (en) * | 2002-01-29 | 2007-10-30 | Akrion Technologies, Inc. | Megasonic probe energy director |
| JP2007212450A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-08-23 | Seiko Instruments Inc | 近接場光発生素子の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3288464B2 (ja) | 2002-06-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3635762A (en) | Ultrasonic cleaning of a web of film | |
| JPH0910714A (ja) | 現像残滓の超音波洗浄方法 | |
| US5876875A (en) | Acoustic wave enhanced developer | |
| TWI233763B (en) | Method of manufacturing a circuit board | |
| JP3836603B2 (ja) | 配向膜印刷版剥離洗浄装置と剥離方法 | |
| JP3271885B2 (ja) | 印刷用プラスチックマスクの作製方法及びそのマスクを用いたペースト印刷方法 | |
| JPH0513396A (ja) | 半導体装置の洗浄方法 | |
| JPS5919329A (ja) | 洗浄方法とその装置 | |
| JPH0581314B2 (ja) | ||
| JPH05136045A (ja) | 現像方法 | |
| JP2004055629A (ja) | レジスト除去方法及び装置 | |
| JP3292761B2 (ja) | 印刷装置および印刷方法 | |
| JP2000208463A (ja) | 異物除去方法及び異物除去装置 | |
| KR100407292B1 (ko) | 피가공물체 표면처리방법 | |
| JP2012244023A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
| JP2002169271A (ja) | レチクル洗浄方法および洗浄装置 | |
| KR20000042115A (ko) | 포토마스킹의 현상 방법 및 그 장치 | |
| JPH0562960A (ja) | 液処理槽および液処理装置 | |
| JPH09122612A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPS63309947A (ja) | レジストパタ−ンの現像方法 | |
| JP2003155523A (ja) | 積層基板切粉からの金属回収方法及び装置 | |
| JPH08220773A (ja) | 感光性樹脂印刷版の製版方法および製版機 | |
| JPH1128432A (ja) | 超音波洗浄機 | |
| JP2004330036A (ja) | 微小球体の表面処理方法 | |
| JPH03212930A (ja) | レジスト現像装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |