JPH0881475A - Cyclohexanecarbaldehyde compound and method for producing silacyclohexane type liquid crystal compound using the same - Google Patents
Cyclohexanecarbaldehyde compound and method for producing silacyclohexane type liquid crystal compound using the sameInfo
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- JPH0881475A JPH0881475A JP7198007A JP19800795A JPH0881475A JP H0881475 A JPH0881475 A JP H0881475A JP 7198007 A JP7198007 A JP 7198007A JP 19800795 A JP19800795 A JP 19800795A JP H0881475 A JPH0881475 A JP H0881475A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 シクロヘキサンカルバルデヒド化合物及びそ
れを誘導してシラシクロヘキサン型液晶化合物を製造す
る。
【構成】 下記一般式(I)で表されるシクロヘキサン
カルバルデヒド化合物。
但し、Arはフェニル基又はトリル基、RはAr、炭素
数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜10のモノ
又はジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状ア
ルキル基又は炭素数2〜7のアルコキシアルキル基を表
す。(57) [Abstract] [Purpose] A cyclohexanecarbaldehyde compound and a silacyclohexane type liquid crystal compound are produced by deriving the compound. [Structure] A cyclohexanecarbaldehyde compound represented by the following general formula (I). However, Ar is a phenyl group or a tolyl group, R is Ar, a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a mono- or difluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms. Alternatively, it represents an alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、シクロヘキサンカルバ
ルデヒド化合物及びそれを用いてシラシクロヘキサン型
液晶化合物を製造する方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a cyclohexanecarbaldehyde compound and a method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示素子は、液晶物質が持つ光学異
方性及び誘電異電性を利用したものであり、その表示様
式によってTN型(ねじれネマチック型)、STN型
(超ねじれネマチック型)、SBE型(超複屈折型)、
DS型(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP型
(整列相の変形型)、PD型(ポリマー分散型)及びO
MI型(光学的モード干渉型)など各種の方式がある。
最も一般的なディスプレイデバイスはシャット−ヘルフ
リッヒ効果に基づき、ねじれネマチック構造を有するも
のである。2. Description of the Related Art A liquid crystal display element utilizes optical anisotropy and dielectric anisotropy of a liquid crystal material, and depending on its display mode, TN type (twisted nematic type), STN type (super twisted nematic type). , SBE type (super birefringence type),
DS type (dynamic scattering type), guest-host type, DAP type (aligned phase deformation type), PD type (polymer dispersion type) and O
There are various types such as MI type (optical mode interference type).
The most common display device is based on the Schut-Helfrich effect and has a twisted nematic structure.
【0003】これらの液晶表示に用いられる液晶物質に
要求される性質は、その表示方式によって若干異なる
が、液晶温度範囲が広いこと、水分、空気、光、熱、電
界等に対して安定であること等は、いずれの表示方式に
おいても共通して要求される。さらに、液晶材料は、低
粘度であり、かつセル中において短いアドレス時間、低
い閾値電圧及び高いコントラストを与えることが望まれ
る。The properties required for the liquid crystal substances used for these liquid crystal displays are slightly different depending on the display system, but they are stable against a wide range of liquid crystal temperature, moisture, air, light, heat, electric field and the like. Things are commonly requested in any display method. Furthermore, it is desired that the liquid crystal material has a low viscosity and provides a short addressing time, a low threshold voltage and a high contrast in the cell.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】近年、液晶ディスプレ
ーの用途が拡大するにつれて、液晶材料に要求される特
性も益々高度な厳しいものになりつつある。特に、駆動
電圧の低電圧化、車載用ニーズに対応した広域温度範囲
化、低温性能の向上等、従来の液晶物質の特性を更に上
回るものが望まれるようになってきた。With the recent widespread use of liquid crystal displays, the properties required of liquid crystal materials are becoming more and more severe. In particular, it has been desired to further improve the characteristics of conventional liquid crystal substances, such as lowering of driving voltage, wide temperature range corresponding to vehicle needs, and improvement of low temperature performance.
【0005】このような観点から、発明者らは、液晶物
質の向上を目的として分子中にケイ素原子を含有する新
規な液晶化合物を開発し、先に出願した。From these viewpoints, the present inventors have developed a novel liquid crystal compound containing a silicon atom in the molecule for the purpose of improving a liquid crystal substance, and filed an application for it.
【0006】本発明は、これらのシラシクロヘキサン型
液晶化合物を製造する際の有用な合成中間体であるシク
ロヘキサンカルバルデヒド化合物及びその誘導体である
シラシクロヘキサン型液晶化合物を製造する方法を提供
することを目的とするものである。The object of the present invention is to provide a method for producing a cyclohexanecarbaldehyde compound which is a useful synthetic intermediate for producing these silacyclohexane type liquid crystal compounds and a silacyclohexane type liquid crystal compound which is a derivative thereof. It is what
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式(II)[Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides a compound represented by the general formula (II):
【化16】 (式中において、Rはフェニル基、トリル基、炭素数1
〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜10のモノ又は
ジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状アルキ
ル基又は炭素数2〜7のアルコキシアルキル基、Xは
R、OR基、CN、F、Cl、Br、CF3、OCF3、
OCHF2、OCHFCl、OCF2Cl、CF2Cl、
−(O)m−CY1=CX1CX2(mは0又は1、Y1及
びX1はH、F又はCl、X2はF又はClを表す。)又
は−O−(CH2)r−(CF2)s−X3(r及びsは
0、1又は2であり、かつ(r+s)が2、3又は4、
X3はH、F又はClを表す。)、Yはハロゲン(好ま
しくはF又はCl)又はCH3基、iは0から2の整数
を表す。)で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合
物、及び一般式(III)Embedded image (In the formula, R is a phenyl group, a tolyl group, a carbon number of 1
-10 straight-chain alkyl group, C1-C10 mono- or difluoroalkyl group, C3-C8 branched chain alkyl group or C2-C7 alkoxyalkyl group, X is R, OR group , CN, F, Cl, Br, CF 3 , OCF 3 ,
OCHF 2 , OCHFCl, OCF 2 Cl, CF 2 Cl,
- (O) m -CY 1 = CX 1 CX 2 (. M is 0 or 1, Y 1 and X 1 is H, F or Cl, X 2 represents F or Cl) or -O- (CH 2) r - (CF 2) s -X 3 (r and s is 0, 1 or 2, and (r + s) is 2, 3 or 4,
X 3 represents H, F or Cl. ), Y is a halogen (preferably F or Cl) or CH 3 group, and i is an integer of 0 to 2. ) Silacyclohexane type liquid crystal compound represented by the formula, and the general formula (III)
【化17】 (式中において、Y及びZはそれぞれ相互に独立してハ
ロゲン(好ましくはF又はCl)又はCH3、i及びj
はそれぞれ相互に独立して0から2の整数を表す。)で
表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を製造するた
めの有用な中間体、すなわち、一般式(I)[Chemical 17] (In the formula, Y and Z are each independently of each other halogen (preferably F or Cl) or CH 3 , i and j.
Each independently represents an integer of 0 to 2. ) A useful intermediate for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound represented by formula (I):
【化18】 (式中において、Arはフェニル基又はトリル基、Rは
Ar、炭素数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜
10のモノ又はジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の
分枝鎖状アルキル基又は炭素数2〜7のアルコキシアル
キル基を表す。)で表されるシクロヘキサンカルバルデ
ヒド化合物である。[Chemical 18] (In the formula, Ar is a phenyl group or a tolyl group, R is Ar, a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms.
It represents a mono- or difluoroalkyl group having 10 carbon atoms, a branched chain alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or an alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms. ) Is a cyclohexanecarbaldehyde compound represented by.
【0008】また本発明は、前記一般式(I)で表され
るシクロヘキサンカルバルデヒド化合物と、一般式The present invention also provides a cyclohexanecarbaldehyde compound represented by the general formula (I)
【化19】 (式中において、XはR、OR基、CN、F、Cl、B
r、CF3、OCF3、OCHF2、OCHFCl、OC
F2Cl、CF2Cl、−(O)m−CY1=CX1CX
2(mは0又は1、Y1及びX1はH、F又はCl、X2は
F又はClを表す。)又は−O−(CH2)r−(C
F2)s−X3(r及びsは0、1又は2であり、かつ
(r+s)が2、3又は4、X3はH、F又はClを表
す。)、Yはハロゲン(好ましくはF又はCl)又はC
H3、iは0から2の整数を表す。)で表されるイリド
化合物とを反応させ、一般式[Chemical 19] (In the formula, X is R, OR group, CN, F, Cl, B
r, CF 3 , OCF 3 , OCHF 2 , OCHFCl, OC
F 2 Cl, CF 2 Cl, - (O) m -CY 1 = CX 1 CX
2 (m is 0 or 1, Y 1 and X 1 are H, F or Cl, X 2 is F or Cl) or —O— (CH 2 ) r — (C
F 2 ) s- X 3 (r and s are 0, 1 or 2, and (r + s) is 2, 3 or 4, X 3 represents H, F or Cl), and Y is halogen (preferably,). F or Cl) or C
H 3 and i represent an integer of 0 to 2. ) Is reacted with an ylide compound represented by the general formula
【化20】 で表される化合物を得、次いで水素添加することによ
り、一般式Embedded image A compound of the general formula
【化21】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(II)[Chemical 21] After obtaining the compound represented by
By reduction, the general formula (II)
【化22】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法である。[Chemical formula 22] A method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound, which comprises obtaining a silacyclohexane type liquid crystal compound represented by:
【0009】また本発明は、前記一般式(I)で表され
るシクロヘキサンカルバルデヒド化合物と、一般式The present invention also provides a cyclohexanecarbaldehyde compound represented by the general formula (I)
【化23】 (式中において、XはR、OR基、CN、F、Cl、B
r、CF3、OCF3、OCHF2、OCHFCl、OC
F2Cl、CF2Cl、−(O)m−CY1=CX1CX
2(mは0又は1、Y1及びX1はH、F又はCl、X2は
F又はClを表す。)又は−O−(CH2)r−(C
F2)s−X3(r及びsは0、1又は2であり、かつ
(r+s)が2、3又は4、X3はH、F又はClを表
す。)、Y及びZはそれぞれ相互に独立してハロゲン
(好ましくはF又はCl)又はCH3、i及びjはそれ
ぞれ相互に独立して0から2の整数を表す。)で表され
るイリド化合物とを反応させ、一般式[Chemical formula 23] (In the formula, X is R, OR group, CN, F, Cl, B
r, CF 3 , OCF 3 , OCHF 2 , OCHFCl, OC
F 2 Cl, CF 2 Cl, - (O) m -CY 1 = CX 1 CX
2 (m is 0 or 1, Y 1 and X 1 are H, F or Cl, X 2 is F or Cl) or —O— (CH 2 ) r — (C
F 2 ) s- X 3 (r and s are 0, 1 or 2, and (r + s) is 2, 3 or 4, X 3 represents H, F or Cl), and Y and Z are each other. Independently of each other, halogen (preferably F or Cl) or CH 3 , i and j each independently represent an integer of 0 to 2. ) Is reacted with an ylide compound represented by the general formula
【化24】 で表される化合物を得、次いで水素添加することによ
り、一般式[Chemical formula 24] A compound of the general formula
【化25】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(III)[Chemical 25] After obtaining the compound represented by
By reduction, general formula (III)
【化26】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法である。[Chemical formula 26] A method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound, which comprises obtaining a silacyclohexane type liquid crystal compound represented by:
【0010】また本発明は、前記一般式(I)で表され
るシクロヘキサンカルバルデヒド化合物と、一般式The present invention also provides a cyclohexanecarbaldehyde compound represented by the general formula (I)
【化27】 (式中において、X’はハロゲン、Yはハロゲン又はC
H3、iは0から2の整数を表す。)で表されるイリド
化合物とを反応させ、一般式[Chemical 27] (In the formula, X'is halogen, Y is halogen or C
H 3 and i represent an integer of 0 to 2. ) Is reacted with an ylide compound represented by the general formula
【化28】 で表される化合物を得、次いで水素添加することによ
り、一般式[Chemical 28] A compound of the general formula
【化29】 (式中において、MはMgU(Uはハロゲンを表
す。)、ZnU、TiUk(OW)3-k(Wはアルキル
基、kは0〜3の整数を表す。)又はB(OV)2(V
はH又はアルキル基を表す。)、Zはハロゲン又はCH
3、jは0から2の整数を表す。)で表される有機金属
試薬とを遷移金属触媒の存在下に反応させ、一般式[Chemical 29] (In the formula, M represents MgU (U represents halogen), ZnU, TiU k (OW) 3−k (W represents an alkyl group, and k represents an integer of 0 to 3) or B (OV) 2 (V
Represents H or an alkyl group. ), Z is halogen or CH
3 , j represents an integer of 0 to 2. ) Is reacted with an organometallic reagent represented by
【化30】 で表される化合物を得、次いで水素添加することによ
り、一般式[Chemical 30] A compound of the general formula
【化31】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(III)[Chemical 31] After obtaining the compound represented by
By reduction, general formula (III)
【化32】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法である。[Chemical 32] A method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound, which comprises obtaining a silacyclohexane type liquid crystal compound represented by:
【0011】次に、本発明をさらに詳細に説明する。Next, the present invention will be described in more detail.
【0012】本発明の一般式(I)The general formula (I) of the present invention
【化33】 (式中において、Arはフェニル基又はトリル基、Rは
Ar、炭素数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜
10のモノ又はジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の
分枝鎖状アルキル基又は炭素数2〜7のアルコキシアル
キル基を表す。)で表されるシクロヘキサンカルバルデ
ヒド化合物は、本発明者等が先にした出願(特願平6−
71825)に係るシクロヘキサノン化合物から容易に
製造される。[Chemical 33] (In the formula, Ar is a phenyl group or a tolyl group, R is Ar, a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms.
It represents a mono- or difluoroalkyl group having 10 carbon atoms, a branched chain alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or an alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms. The cyclohexanecarbaldehyde compound represented by the formula () is an application previously filed by the present inventors (Japanese Patent Application No. 6-
71825), and is easily manufactured from the cyclohexanone compound.
【0013】例えば、次の反応式[化34]で示すよう
に、アルコキシメチルトリフェニルホスホニウム塩から
塩基の作用によって生じるイリド化合物とWittig
反応を行ってアルキルエノールエーテル化合物を得、次
いで酸触媒による加水分解によって合成される。For example, as shown in the following reaction formula [Formula 34], an ylide compound and Wittig produced from an alkoxymethyltriphenylphosphonium salt by the action of a base.
The reaction is performed to obtain an alkyl enol ether compound, which is then synthesized by acid-catalyzed hydrolysis.
【0014】[0014]
【化34】 (式中において、R’はアルキル基、具体的には炭素数
1〜10、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基、Qは
ハロゲン、好ましくはCl、Br又はIを表す。)Embedded image (In the formula, R ′ represents an alkyl group, specifically, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, and Q represents halogen, preferably Cl, Br or I.)
【0015】アルコキシメチルトリフェニルホスホニウ
ム塩として、メトキシメチルトリフェニルホスホニウム
クロリド、メトキシメチルトリフェニルホスホニウムブ
ロミド、メトキシメチルトリフェニルホスホニウムヨー
ジド、エトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリ
ド、エトキシメチルトリフェニルホスホニウムブロミ
ド、エトキシメチルトリフェニルホスホニウムヨージド
等を使用することができる。As the alkoxymethyltriphenylphosphonium salt, methoxymethyltriphenylphosphonium chloride, methoxymethyltriphenylphosphonium bromide, methoxymethyltriphenylphosphonium iodide, ethoxymethyltriphenylphosphonium chloride, ethoxymethyltriphenylphosphonium bromide, ethoxymethyltriphenyl Phenylphosphonium iodide or the like can be used.
【0016】イリドの生成に用いられる塩基として、n
−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリ
チウム、メチルリチウム、フェニルリチウム等の有機リ
チウム類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムt−ブトキシド等のアルコキシド類、ジム
シルナトリウム等が挙げられる。As the base used for the production of ylide, n
Examples include organic lithiums such as -butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium, methyllithium and phenyllithium, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide, and sodium dimcyl.
【0017】反応は、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、ジn−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン等
のエーテル類や、これらにn−ヘキサン、n−ヘプタ
ン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
メン等の炭化水素類や、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリック
トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類を混合した溶媒
中で、好ましくは0〜溶媒の還流温度、更に好ましくは
10〜40℃の温度範囲で行う。The reaction is carried out by using ethers such as tetrahydrofuran, diethyl ether, di-n-butyl ether and 1,4-dioxane, and hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, isooctane, benzene, toluene, xylene and cumene. In a solvent mixed with aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoric triamide, etc., preferably 0 to the reflux temperature of the solvent, more preferably 10 to 40 ° C. Perform within the temperature range.
【0018】これらの溶媒中で生じたイリド化合物にシ
クロヘキサノン化合物を加えてWittig反応を進行
させ、アルキルエノールエーテル化合物を得る。The cyclohexanone compound is added to the ylide compound produced in these solvents to advance the Wittig reaction to obtain an alkyl enol ether compound.
【0019】アルキルエノールエーテル化合物の加水分
解に用いる酸触媒としては、塩酸、硫酸等の無機酸類、
酢酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、クロロ酢酸等の有
機酸類が挙げられる。この加水分解は0〜80℃、好ま
しくは10〜40℃で行う。As the acid catalyst used for the hydrolysis of the alkyl enol ether compound, inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid,
Organic acids such as acetic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid and chloroacetic acid can be mentioned. This hydrolysis is carried out at 0 to 80 ° C, preferably 10 to 40 ° C.
【0020】このようにして得られたシクロヘキサンカ
ルバルデヒド化合物は、種々のシラシクロヘキサン型液
晶化合物の製造に用いられる。以下、このシクロヘキサ
ンカルバルデヒド化合物の誘導体の製造方法について述
べる。The cyclohexanecarbaldehyde compound thus obtained is used for the production of various silacyclohexane type liquid crystal compounds. Hereinafter, a method for producing the derivative of the cyclohexanecarbaldehyde compound will be described.
【0021】まず、対応するホスホニウム塩から塩基の
作用により容易に調製される燐イリド化合物を上記シク
ロヘキサン化合物と反応させると、Wittig反応に
よりオレフィン化合物が得られる。First, a phosphorus ylide compound, which is easily prepared from a corresponding phosphonium salt by the action of a base, is reacted with the above cyclohexane compound to obtain an olefin compound by the Wittig reaction.
【0022】[0022]
【化35】 (式中において、nは0又は1を表す。)Embedded image (In the formula, n represents 0 or 1.)
【0023】イリドの生成に用いられる塩基として、n
−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリ
チウム、メチルリチウム、フェニルリチウム等の有機リ
チウム類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムt−ブトキシド等のアルコキシド類、ジム
シルナトリウム等が挙げられる。As the base used for the production of ylide, n
Examples include organic lithiums such as -butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium, methyllithium and phenyllithium, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide, and sodium dimcyl.
【0024】反応は、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、ジn−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン等
のエーテル類や、これらにn−ヘキサン、n−ヘプタ
ン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
メン等の炭化水素類や、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリック
トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類を混合した溶媒
中で行う。反応は0〜還流温度で行うのが好ましく、ま
た更に10〜40℃で行うことが好ましい。The reaction is carried out by using ethers such as tetrahydrofuran, diethyl ether, di-n-butyl ether and 1,4-dioxane, and hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, isooctane, benzene, toluene, xylene and cumene. Or an aprotic polar solvent such as N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, or hexamethylphosphoric triamide. The reaction is preferably carried out at 0 to reflux temperature, more preferably 10 to 40 ° C.
【0025】これらの溶媒中で生じたイリド化合物に、
シクロヘキサンカルバルデヒド化合物を加えてWitt
ig反応を進行させ、オレフィン化合物を得る。The ylide compounds formed in these solvents are
Add Witt with cyclohexanecarbaldehyde compound
The ig reaction proceeds to obtain an olefin compound.
【0026】次に、得られたオレフィン化合物の二重結
合を接触還元により水素添加して飽和化合物を得る。こ
の反応は、0〜150℃が好ましく、更には20〜10
0℃で圧力は高い程、反応速度が高まるが、装置等の制
約があるため、大気圧〜20kg/cm2 の範囲が好ま
しい。Next, a double bond of the obtained olefin compound is obtained.
The mixture is hydrogenated by catalytic reduction to give a saturated compound. This
The reaction is preferably 0 to 150 ° C, more preferably 20 to 10 ° C.
The higher the pressure at 0 ° C, the higher the reaction rate.
Atmospheric pressure ~ 20kg / cm because there is about2 A range of
Good
【0027】[0027]
【化36】 Embedded image
【0028】水素添加に用いられる触媒として、パラジ
ウム、白金、ロジウム、ニッケル、ルテニウム等の金属
類が挙げられる。特に、パラジウム−炭素、パラジウム
−硫酸バリウム、パラジウム−ケイソウ土、酸化白金、
白金−炭素、ロジウム−炭素、ラネーニッケル、酸化パ
ラジウム、ニッケル−ケイソウ土等を使用するとよい結
果を与える。更にはパラジウム系、ニッケル系を用いる
とよい。Examples of the catalyst used for hydrogenation include metals such as palladium, platinum, rhodium, nickel and ruthenium. In particular, palladium-carbon, palladium-barium sulfate, palladium-diatomaceous earth, platinum oxide,
Platinum-carbon, rhodium-carbon, Raney nickel, palladium oxide, nickel-diatomaceous earth and the like give good results. Further, it is preferable to use a palladium type or nickel type.
【0029】続いて、求電子試薬によるデシリレーショ
ン反応でハロシラシクロヘキサン化合物とし、更に還元
反応を行う。Subsequently, a halosilacyclohexane compound is converted to a halosilacyclohexane compound by a desilylation reaction with an electrophile, and a reduction reaction is further performed.
【0030】[0030]
【化37】 (式中において、EWは求電子試薬(Wはハロゲンを表
す。)を表す。)Embedded image (In the formula, EW represents an electrophile (W represents halogen).)
【0031】求電子試薬として、ハロゲン、ハロゲン化
水素、ハロゲン化金属、スルホン酸誘導体、酸ハロゲン
化物、ハロゲン化アルキル等を挙げることができる。特
に、ヨウ素、臭素、塩素、一塩化ヨウ素、塩化水素、臭
化水素、ヨウ化水素、塩化水銀(II)、クロロスルホン
酸トリメチルシリル、塩化アセチル、臭化アセチル、塩
化ベンゾイル、塩化t−ブチル等を好ましく例示でき
る。なお、反応速度を高めるために、塩化アルミニウ
ム、塩化亜鉛、四塩化チタン、三フッ化ホウ素等のルイ
ス酸類の添加や光(紫外線、可視光線)の照射を行って
もよい。デシリレーション反応は、好ましくは0〜80
℃、更に好ましくは10〜40℃で行うとよい。Examples of the electrophile include halogen, hydrogen halide, metal halide, sulfonic acid derivative, acid halide, alkyl halide and the like. In particular, iodine, bromine, chlorine, iodine monochloride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, mercury (II) chloride, trimethylsilyl chlorosulfonate, acetyl chloride, acetyl bromide, benzoyl chloride, t-butyl chloride, etc. It can be preferably exemplified. In order to increase the reaction rate, Lewis acids such as aluminum chloride, zinc chloride, titanium tetrachloride and boron trifluoride may be added or light (ultraviolet ray, visible light) may be irradiated. The desilylation reaction is preferably 0-80.
C., more preferably 10 to 40.degree.
【0032】生じたハロシラシクロヘキサン化合物の還
元に用いられる試薬として、水素化ナトリウム、水素化
カルシウム、トリアルキルシラン類、ボラン類、ジアル
キルアルミニウム等の金属水素化物、水素化アルミニウ
ムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リ
チウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素トリブチ
ルアンモニウム等の錯水素化化合物(Complex
hydride)やこれらの置換型ヒドリド化合物、即
ちリチウムトリアルコキシアルミニウムヒドリド、ナト
リウムジ(メトキシエトキシ)アルミニウムヒドリド、
リチウムトリエチルボロヒドリド、ナトリウムシアノボ
ロヒドリド等を挙げることができる。還元反応は0〜1
50℃が好ましく、更には20〜120℃で行われると
よい。As a reagent used for reduction of the produced halosilacyclohexane compound, sodium hydride, calcium hydride, trialkylsilanes, boranes, metal hydrides such as dialkylaluminum, lithium aluminum hydride, sodium borohydride , Complex hydride compounds such as lithium borohydride, potassium borohydride, tributylammonium borohydride (Complex
hybrid) or a substituted hydride compound thereof, that is, lithium trialkoxy aluminum hydride, sodium di (methoxyethoxy) aluminum hydride,
Examples thereof include lithium triethylborohydride and sodium cyanoborohydride. Reduction reaction is 0 to 1
The temperature is preferably 50 ° C, and more preferably 20 to 120 ° C.
【0033】以上によって、シラシクロヘキサン型液晶
化合物を合成することが可能になった。As described above, it became possible to synthesize a silacyclohexane type liquid crystal compound.
【0034】また、反応式[化35]で得られた生成物
のうち、n=0に対応する一般式Among the products obtained by the reaction formula [Chem. 35], a general formula corresponding to n = 0
【化38】 (X’はハロゲン(好ましくはCl、Br又はI)を表
す。)で表される化合物から、n=1に対応する、一般
式[Chemical 38] (Wherein X ′ represents halogen (preferably Cl, Br or I)), the compound represented by the general formula corresponding to n = 1
【化39】 で表される化合物に導くことも可能である。[Chemical Formula 39] It is also possible to lead to a compound represented by.
【0035】この反応は次式に従う。This reaction follows the equation:
【0036】[0036]
【化40】 (式中において、MはMgU(Uはハロゲン(好ましく
はCl、Br又はI)を表す。)、ZnU、TiU
k(OW)3-k(wはアルキル基、好ましくは炭素数1〜
6のアルキル基、kは0〜3の整数を表す。)又はB
(OV)2(VはH又はアルキル基(好ましくは炭素数
1〜4のアルキル基)を表す。)を表す。)[Chemical 40] (In the formula, M represents MgU (U represents halogen (preferably Cl, Br or I)), ZnU, TiU.
k (OW) 3-k (w is an alkyl group, preferably 1 to 1 carbon atoms
The alkyl group of 6 and k represent the integer of 0-3. ) Or B
(OV) 2 (V represents H or an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)). )
【0037】この反応は、遷移触媒の存在下に行われ
る。遷移触媒として、特にパラジウムあるいはニッケル
化合物が好ましい。パラジウム触媒としては、例えばテ
トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
(0)、ジ[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エ
タン]パラジウム(0)等の0価のパラジウム化合物、
あるいは酢酸パラジウム、塩化パラジウム、1,1−ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム
(II)クロリド等の2価のパラジウム化合物と配位子
から成る化合物、またはこれらと還元剤の組み合わせ等
を用いることができる。This reaction is carried out in the presence of a transition catalyst. Palladium or nickel compounds are particularly preferable as the transition catalyst. Examples of the palladium catalyst include zero-valent palladium compounds such as tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) and di [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] palladium (0).
Alternatively, a compound composed of a divalent palladium compound such as palladium acetate, palladium chloride, 1,1-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) chloride and a ligand, or a combination of these with a reducing agent is used. You can
【0038】ニッケル触媒としては、例えば[1,3−
ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ニッケル(I
I)クロリド、[1,2−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)エタン]ニッケル(II)クロリド、ビス(トリフェ
ニルホスフィン)ニッケル(II)クロリド等の2価のニ
ッケル化合物や、テトラキス(トリフェニルホスフィ
ン)ニッケル(0)等の0価のニッケル化合物を挙げる
ことができる。As the nickel catalyst, for example, [1,3-
Bis (diphenylphosphino) propane] nickel (I
Divalent nickel compounds such as I) chloride, [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] nickel (II) chloride, bis (triphenylphosphine) nickel (II) chloride, and tetrakis (triphenylphosphine) nickel Examples thereof include zero-valent nickel compounds such as (0).
【0039】有機金属試薬がホウ酸誘導体である場合、
すなわちMがB(OV)2である場合には、反応は塩基
の存在下で行うのが望ましい。塩基としては、例えば炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基や、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルアニリン等
の有機塩基を用いることができる。これらの反応温度
は、好ましくは0〜100℃、更に好ましくは20〜7
0℃で行われるとよい。When the organometallic reagent is a boric acid derivative,
That is, when M is B (OV) 2 , the reaction is preferably performed in the presence of a base. As the base, for example, an inorganic base such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like, or an organic base such as triethylamine, tributylamine, dimethylaniline or the like can be used. These reaction temperatures are preferably 0 to 100 ° C., more preferably 20 to 7 ° C.
It may be carried out at 0 ° C.
【0040】反応式[化40]で得られた化合物は、反
応式[化36]及び[化37]に従ってシラシクロヘキ
サン型液晶化合物に導くことができる。The compound obtained by the reaction formula [Chemical formula 40] can be converted into a silacyclohexane type liquid crystal compound according to the reaction formulas [Chemical formula 36] and [Chemical formula 37].
【0041】以上によって製造された化合物は、再結晶
やクロマトグラフィー等の常法によって精製することに
より、目的のトランス,トランス体のシラシクロヘキサ
ン型液晶化合物を得ることができる。The desired trans- or trans-form silacyclohexane type liquid crystal compound can be obtained by purifying the compound produced as described above by a conventional method such as recrystallization or chromatography.
【0042】[0042]
【実施例】以下に具体的な実施例を挙げて本発明をさら
に詳しく説明する。なお、特に明示がない限り、反応は
室温25℃で行った。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to specific examples. Unless otherwise specified, the reaction was carried out at room temperature of 25 ° C.
【0043】[実施例1] 4−(4−フェニル−4−n−プロピル−4−シラシク
ロヘキシル)シクロヘキサンカルバルデヒドの製造 メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド3
5.0gとテトラヒドロフラン300mlの混合物に、
0℃でカリウムt−ブトキシド11.3gを加え、イリ
ド溶液を調製した。このイリド溶液に、4−(4−フェ
ニル−4−n−プロピル−4−シラシクロヘキシル)シ
クロヘキサノン31.5gを滴下し、室温で2時間攪拌
した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、酢
酸エチル溶液をブラインで洗浄・乾燥・濃縮した。残渣
にn−ヘキサンを加え、生じたトリフェニルホスフィン
オキシドを濾別し、濾液を濃縮してメチルエノールエー
テル化合物を得た。このものに塩化メチレン180ml
と20%塩酸200mlを加え、室温で18時間攪拌し
た。塩化メチレン溶液を分取し、洗浄・乾燥・濃縮した
後、カラムクロマトグラフィーで精製して目的物31.
2g(収率95%)を得た。 IR(液膜)νmax:2920,2860,172
0,1440,1195,1110cm-1 1 H−NMR(CDCl3)δ:0.50−2.52(2
5H,m),7.20−7.65(5H,m),9.5
0−9.76(1H,d×2(立体異性体に対応する2
つのダブレットで合わせて1H分のシグナル))ppmExample 1 Preparation of 4- (4-phenyl-4-n-propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanecarbaldehyde methoxymethyltriphenylphosphonium chloride 3
In a mixture of 5.0 g and 300 ml of tetrahydrofuran,
11.3 g of potassium t-butoxide was added at 0 ° C. to prepare an ylide solution. To this ylide solution, 31.5 g of 4- (4-phenyl-4-n-propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the ethyl acetate solution was washed with brine, dried and concentrated. N-Hexane was added to the residue, the resulting triphenylphosphine oxide was filtered off, and the filtrate was concentrated to obtain a methyl enol ether compound. 180 ml of methylene chloride on this
200 ml of 20% hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 18 hours. The methylene chloride solution is collected, washed, dried and concentrated, and then purified by column chromatography to obtain the desired product 31.
2 g (yield 95%) was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2860, 172
0,1440,1195,1110cm -1 1 H-NMR (CDCl 3) δ: 0.50-2.52 (2
5H, m), 7.20-7.65 (5H, m), 9.5
0-9.76 (1H, d × 2 (2 corresponding to stereoisomers
1H signal for one doublet)) ppm
【0044】実施例1と同様な方法で以下の化合物を得
た。The following compounds were obtained in the same manner as in Example 1.
【0045】[実施例2](4−フェニル−4−n−ペ
ンチル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキサノンを
用いて、実施例1と同様にして4−(4−フェニル−4
−n−ペンチル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキ
サンカルバルデヒドを得た。 IR(液膜)νmax:2920,2860,172
0,1445,1190,1110cm-1 1 H−NMR(CDCl3)δ:0.50−2.50(2
9H,m),7.20−7.65(5H,m),9.5
0−9.76(1H,d×2)ppmExample 2 Using 4- (4-phenyl-4-n-pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone, in the same manner as in Example 1, 4- (4-phenyl-4)
-N-pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanecarbaldehyde was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2860, 172
0,1445,1190,1110cm -1 1 H-NMR (CDCl 3) δ: 0.50-2.50 (2
9H, m), 7.20-7.65 (5H, m), 9.5.
0-9.76 (1H, d x 2) ppm
【0046】[実施例3](4,4−ジフェニル−4−
シラシクロヘキシル)シクロヘキサノンを用いて、実施
例1と同様にして4−(4,4−ジフェニル−4−シラ
シクロヘキシル)シクロヘキサンカルバルデヒドを得
た。 融点:107℃ IR(KBr disc)νmax:2920,285
0,1715,1425,1115,1105cm-1 1 H−NMR(CDCl3)δ:0.80−2.50(1
9H,m),7.20−7.75(10H,m),9.
50−9.70(1H,m)ppm[Example 3] (4,4-diphenyl-4-
Silacyclohexyl) cyclohexanone was used in the same manner as in Example 1 to obtain 4- (4,4-diphenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanecarbaldehyde. Melting point: 107 ° C IR (KBr disc) νmax: 2920, 285
0,1715,1425,1115,1105cm -1 1 H-NMR (CDCl 3) δ: 0.80-2.50 (1
9H, m), 7.20-7.75 (10H, m), 9.
50-9.70 (1H, m) ppm
【0047】[実施例4] トランス−4−(トランス−4−(2−(3,4−ジフ
ルオロフェニル)エチル)シクロヘキシル)−1−n−
プロピル−1−シラシクロヘキサンの製造 3,4−ジフルオロベンジルトリフェニルホスホニウム
ブロミド48.0gとテトラヒドロフラン400mlの
混合物に、カリウムt−ブトキシド12.0gを加え、
イリド溶液を調製した。このイリド溶液に、4−(4−
フェニル−4−n−プロピル−4−シラシクロヘキシ
ル)シクロヘキサンカルバルデヒド32.9gを滴下
し、室温で2時間攪拌した。反応混合物を水にあけ,酢
酸エチルで抽出し、酢酸エチル溶液をブラインで洗浄・
乾燥・濃縮した。残渣にn−ヘキサンを加え、生じたト
リフェニルホスフィンオキシドを濾別し、濾液を濃縮し
た後、カラムクロマトグラフィーで精製して、4−(4
−(2−(3,4−ジフルオロフェニル)エテニル)シ
クロヘキシル)−1−フェニル−1−n−プロピル−1
−シラシクロヘキサン39.9g(収率91%)を得
た。 IR(液膜)νmax:2920,2860,151
5,1290,1110,960cm-1 Example 4 Trans-4- (trans-4- (2- (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-
Production of propyl-1-silacyclohexane To a mixture of 48.0 g of 3,4-difluorobenzyltriphenylphosphonium bromide and 400 ml of tetrahydrofuran, 12.0 g of potassium t-butoxide was added,
An ylide solution was prepared. In this ylide solution, 4- (4-
Phenyl-4-n-propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanecarbaldehyde (32.9 g) was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the ethyl acetate solution was washed with brine.
Dried and concentrated. N-Hexane was added to the residue, the resulting triphenylphosphine oxide was filtered off, the filtrate was concentrated and then purified by column chromatography to give 4- (4
-(2- (3,4-Difluorophenyl) ethenyl) cyclohexyl) -1-phenyl-1-n-propyl-1
-39.9 g (yield 91%) of silacyclohexane was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2860, 151
5,1290,1110,960cm -1
【0048】次に、このもの38.0gを酢酸エチル3
00mlに溶かし、パラジウム−炭素500mgを触媒
として接触還元した。1当量の水素の吸収の後、触媒を
濾別し、濾液を濃縮して、4−(4−(2−(3,4−
ジフルオロフェニル)エチル)シクロヘキシル)−1−
フェニル−1−n−プロピル−1−シラシクロヘキサン
38.2g(定量的収率)を得た。 IR(液膜)νmax:2920,2860,151
5,1280,1110cm-1 Next, 38.0 g of this product was added to ethyl acetate 3
It was dissolved in 00 ml and catalytically reduced using 500 mg of palladium-carbon as a catalyst. After uptake of 1 equivalent of hydrogen, the catalyst is filtered off and the filtrate is concentrated to give 4- (4- (2- (3,4-
Difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-
38.2 g (quantitative yield) of phenyl-1-n-propyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2860, 151
5,1280,1110 cm -1
【0049】次に、このもの30.0g(68mmo
l)と四塩化炭素500mlの混合物に、一塩化ヨウ素
13.0gを滴下し、室温で30分間攪拌した。混合物
を濃縮して、1−クロロ−4−(2−(3,4−ジフル
オロフェニル)エチル)シクロヘキシル−1−フェニル
−1−シラシクロヘキサンの粗生成物を得た。このもの
をテトラヒドロフラン30mlに溶かし、水素化アルミ
ニウムリチウム2.00gとテトラヒドロフラン20m
lの混合物に滴下し、40℃で12時間攪拌した。反応
混合物を希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチ
ル溶液をブラインで洗浄・乾燥・濃縮した後、カラムク
ロマトグラフィーで精製して目的物12.8g(収率5
2%)を得た。 IR(液膜)νmax:2920,2852,210
0,1520,1286,887,818cm-1 13 C−NMR(CDCl3)δ:10.14(s),1
4.79(s),17.79(s),17.95
(s),28.61(s),29.58(s),32.
54(s),33.54(s),37.46(s),3
9.08(s),44.16(s),45.96
(s),116.66(d),116.92(d),1
23.93(dd),140.06(dd),147.
50(dd),151.12(dd)ppmNext, this product 30.0 g (68 mmo)
13.0 g of iodine monochloride was added dropwise to a mixture of 1) and 500 ml of carbon tetrachloride, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The mixture was concentrated to give a crude product of 1-chloro-4- (2- (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl-1-phenyl-1-silacyclohexane. This product was dissolved in 30 ml of tetrahydrofuran, and 2.00 g of lithium aluminum hydride and 20 m of tetrahydrofuran.
It was added dropwise to the mixture of 1 and stirred at 40 ° C. for 12 hours. The reaction mixture was poured into diluted hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, the ethyl acetate solution was washed with brine, dried and concentrated, and then purified by column chromatography to obtain 12.8 g of the desired product (yield 5
2%) was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2852, 210
0,1520,1286,887,818 cm -1 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.14 (s), 1
4.79 (s), 17.79 (s), 17.95
(S), 28.61 (s), 29.58 (s), 32.
54 (s), 33.54 (s), 37.46 (s), 3
9.08 (s), 44.16 (s), 45.96
(S), 116.66 (d), 116.92 (d), 1
23.93 (dd), 140.06 (dd), 147.
50 (dd), 151.12 (dd) ppm
【0050】実施例4と同様な方法で以下の化合物を得
た。The following compounds were obtained in the same manner as in Example 4.
【0051】[実施例5]4−フルオロベンジルトリフ
ェニルホスフォニウムブロマイド及び4−(4−フェニ
ル−4−n−ペンチル−4−シラシクロヘキシル)シク
ロヘキサンカルバルデヒドを用いて、実施例4と同様に
してトランス−4−(トランス−4−(2−(4−フル
オロフェニル)エチル)シクロヘキシル)−1−n−プ
ロピル−1−シラシクロヘキサンを得た。 IR(KBr disc)νmax:2918,285
0,2100,1512,1232,887,823c
m-1 13 C−NMR(CDCl3)δ:10.12(s),1
4.79(s),17.80(s),17.94
(s),28.60(s),29.60(s),32.
51(s),33.58(s),37.47(s),3
9.45(s),44.15(s),45.96
(s),114.90(d),129.54(d),1
38.73(d),161.07(d)ppmExample 5 The same procedure as in Example 4 was carried out using 4-fluorobenzyltriphenylphosphonium bromide and 4- (4-phenyl-4-n-pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanecarbaldehyde. To give trans-4- (trans-4- (2- (4-fluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1-silacyclohexane. IR (KBr disc) νmax: 2918, 285
0,2100,1512,1232,887,823c
m −1 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.12 (s), 1
4.79 (s), 17.80 (s), 17.94
(S), 28.60 (s), 29.60 (s), 32.
51 (s), 33.58 (s), 37.47 (s), 3
9.45 (s), 44.15 (s), 45.96
(S), 114.90 (d), 129.54 (d), 1
38.73 (d), 161.07 (d) ppm
【0052】[実施例6]4−フルオロベンジルトリフ
ェニルホスフォニウムブロマイドを用いて、実施例4と
同様にしてトランス−4−(トランス−4−(2−(4
−フルオロフェニル)エチル)シクロヘキシル)−1−
n−ペンチル−1−シラシクロヘキサンを得た。 IR(KBr disc)νmax:2918,285
0,2100,1512,1230,887,823c
m-1 13 C−NMR(CDCl3)δ:10.11(s),1
2.19(s),14.00(s),22.36
(s),24.12(s),28.60(s),29.
62(s),32.52(s),33.59(s),3
5.40(s),37.48(s),39.47
(s),44.16(s),45.96(s),11
4.9(d),129.54(d),138.73
(d),161.08(d)ppmExample 6 Using 4-fluorobenzyltriphenylphosphonium bromide, trans-4- (trans-4- (2- (4
-Fluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-
n-Pentyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (KBr disc) νmax: 2918, 285
0,2100,1512,1230,887,823c
m −1 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.11 (s), 1
2.19 (s), 14.00 (s), 22.36
(S), 24.12 (s), 28.60 (s), 29.
62 (s), 32.52 (s), 33.59 (s), 3
5.40 (s), 37.48 (s), 39.47
(S), 44.16 (s), 45.96 (s), 11
4.9 (d), 129.54 (d), 138.73
(D), 161.08 (d) ppm
【0053】[実施例7]4−(4−フェニル−4−n
−ペンチル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキサン
カルバルデヒドを用いて、実施例4と同様にしてトラン
ス−4−(トランス−4−(2−(3,4−ジフルオロ
フェニル)エチル)シクロヘキシル)−1−n−ペンチ
ル−1−シラシクロヘキサンを得た。 IR(液膜)νmax:2920,2852,209
8,1520,1286,1211,1119,88
7,816cm-1 13 C−NMR(CDCl3)δ:10.10(s),1
0.46(s),12.19(s),13.99
(s),22.36(s),24.11(s),28.
60(s),29.57(s),32.54(s),3
3.54(s),35.40(s),37.41
(s),39.06(s),44.12(s),45.
94(s),116.71(d),116.95
(d),123.96(dd),140.09(d
d),147.50(dd),151.13(dd)p
pm[Example 7] 4- (4-phenyl-4-n)
-Pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanecarbaldehyde in the same manner as in Example 4, trans-4- (trans-4- (2- (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n. -Pentyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2852, 209
8, 1520, 1286, 1211, 1119, 88
7,816 cm -1 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.10 (s), 1
0.46 (s), 12.19 (s), 13.99
(S), 22.36 (s), 24.11 (s), 28.
60 (s), 29.57 (s), 32.54 (s), 3
3.54 (s), 35.40 (s), 37.41
(S), 39.06 (s), 44.12 (s), 45.
94 (s), 116.71 (d), 116.95
(D), 123.96 (dd), 140.09 (d
d), 147.50 (dd), 151.13 (dd) p
pm
【0054】[実施例8]4−トリフルオロメトキシベ
ンジルトリフェニルホスフォニウムブロマイドを用い
て、実施例4と同様にしてトランス−4−(トランス−
4−(2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)エチ
ル)シクロヘキシル)−1−n−プロピル−1−シラシ
クロヘキサンを得た。 IR(KBr disc)νmax:2918,284
8,2102,1510,1279,1211,119
8,1165,887,818cm-1 13 C−NMR(CDCl3)δ:10.16(s),1
4.82(s),17.79(s),17.97
(s),28.65(s),29.63(s),32.
73(s),33.60(s),37.60(s),3
9.29(s),44.21(s),46.02
(s),120.58(q),120.81(s),1
29.45(s),141.92(s),147.22
(q)ppmExample 8 Trans-4- (trans-) was carried out in the same manner as in Example 4 except that 4-trifluoromethoxybenzyltriphenylphosphonium bromide was used.
4- (2- (4-trifluoromethoxyphenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (KBr disc) νmax: 2918,284
8,2102,1510,1279,1211,119
8,1165,887,818 cm -1 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.16 (s), 1
4.82 (s), 17.79 (s), 17.97
(S), 28.65 (s), 29.63 (s), 32.
73 (s), 33.60 (s), 37.60 (s), 3
9.29 (s), 44.21 (s), 46.02
(S), 120.58 (q), 120.81 (s), 1
29.45 (s), 141.92 (s), 147.22
(Q) ppm
【0055】[実施例9]4−トリフルオロメトキシベ
ンジルトリフェニルホスフォニウムブロマイド及び4−
(4−フェニル−4−n−ペンチル−4−シラシクロヘ
キシル)シクロヘキサンカルバルデヒドを用いて、実施
例4と同様にしてトランス−4−(トランス−4−(2
−(4−トリフルオロメトキシフェニル)エチル)シク
ロヘキシル)−1−n−ペンチル−1−シラシクロヘキ
サンを得た。 IR(KBr disc)νmax:2920,285
0,2102,1510,1223,1198,116
5,887,833,816cm-1 13 C−NMR(CDCl3)δ:10.12(s),1
2.20(s),13.99(s),22.37
(s),24.13(s),28.62(s),29.
62(s),32.70(s),33.58(s),3
5.41(s),37.56(s),39.28
(s),44.17(s),45.99(s),12
0.56(q),120.81(s),129.46
(s),141.92(s),147.19(q)pp
mExample 9 4-trifluoromethoxybenzyl triphenylphosphonium bromide and 4-
Using (4-phenyl-4-n-pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanecarbaldehyde in the same manner as in Example 4, trans-4- (trans-4- (2
-(4-Trifluoromethoxyphenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (KBr disc) νmax: 2920, 285
0, 2102, 1510, 1223, 1198, 116
5,887,833,816 cm -1 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.12 (s), 1
2.20 (s), 13.99 (s), 22.37
(S), 24.13 (s), 28.62 (s), 29.
62 (s), 32.70 (s), 33.58 (s), 3
5.41 (s), 37.56 (s), 39.28
(S), 44.17 (s), 45.99 (s), 12
0.56 (q), 120.81 (s), 129.46
(S), 141.92 (s), 147.19 (q) pp
m
【0056】[実施例10]4−クロロベンジルトリフ
ェニルホスフォニウムクロライドを用いて、実施例4と
同様にしてトランス−4−(トランス−4−(2−(4
−(4−クロロフェニル)フェニル)エチル)シクロヘ
キシル)−1−n−プロピル−1−シラシクロヘキサン
を得た。 IR(KBr disc)νmax:2918,284
8,2100,1487,1095,1003,88
7,843,810cm-1 13 C−NMR(CDCl3)δ:10.12(s),1
4.79(s),17.81(s),17.94
(s),28.60(s),29.61(s),32.
97(s),33.60(s),37.58(s),3
9.31(s),44.16(s),45.96
(s),126.80(s),128.17(s),1
28.81(s),128.86(s),132.98
(s),137.20(s),139.60(s),1
42.80(s)ppmExample 10 Using 4-chlorobenzyltriphenylphosphonium chloride, trans-4- (trans-4- (2- (4
-(4-Chlorophenyl) phenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (KBr disc) νmax: 2918,284
8,2100,1487,1095,1003,88
7,843,810 cm -1 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.12 (s), 1
4.79 (s), 17.81 (s), 17.94
(S), 28.60 (s), 29.61 (s), 32.
97 (s), 33.60 (s), 37.58 (s), 3
9.31 (s), 44.16 (s), 45.96
(S), 126.80 (s), 128.17 (s), 1
28.81 (s), 128.86 (s), 132.98
(S), 137.20 (s), 139.60 (s), 1
42.80 (s) ppm
【0057】[実施例11]4−クロロ−3−フルオロ
ベンジルトリフェニルホスフォニウムブロマイドを用い
て、実施例4と同様にしてトランス−4−(トランス−
4−(2−(4−(4−クロロ−3−フルオロフェニ
ル)フェニル)エチル)シクロヘキシル)−1−n−プ
ロピル−1−シラシクロヘキサンを得た。 IR(KBr disc)νmax:2920,285
0,2096,1560,1481,1200,107
0,982,889,845,804cm-1 13 C−NMR(CDCl3)δ:10.12(s),1
4.79(s),17.79(s),17.93
(s),28.60(s),29.61(s),32.
98(s),33.60(s),37.56(s),3
9.26(s),44.15(s),45.95
(s),114.88(d),119.45(d),1
23.14(d),126.76(s),128.98
(s),130.69(s),136.17(d),1
41.83(d),143.46(s),158.29
(d)ppmExample 11 Trans-4- (trans-) was carried out in the same manner as in Example 4 using 4-chloro-3-fluorobenzyltriphenylphosphonium bromide.
4- (2- (4- (4-chloro-3-fluorophenyl) phenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (KBr disc) νmax: 2920, 285
0,2096,1560,1481,1200,107
0,982,889,845,804 cm -1 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.12 (s), 1
4.79 (s), 17.79 (s), 17.93
(S), 28.60 (s), 29.61 (s), 32.
98 (s), 33.60 (s), 37.56 (s), 3
9.26 (s), 44.15 (s), 45.95
(S), 114.88 (d), 119.45 (d), 1
23.14 (d), 126.76 (s), 128.98
(S), 130.69 (s), 136.17 (d), 1
41.83 (d), 143.46 (s), 158.29
(D) ppm
【0058】[実施例12] トランス−4−(トランス−4−(2−(4−(4−フ
ルオロフェニル)フェニル)エチル)シクロヘキシル)
−1−n−プロピル−1−シラシクロヘキサンの製造 実施例4と同様な方法で、4−(4−フェニル−4−n
−プロピル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキサン
カルバデヒド15.0gを4−ブロモベンジルトリフェ
ニルホスホニウムブロミドから調製したイリドとWit
tig反応を行い、4−(4−(2−(4−ブロモフェ
ニル)エテニル)シクロヘキシル−1−フェニル−1−
n−プロピル−1−シラシクロヘキサン20.9g(収
率50%)を得た。 IR(液膜)νmax:2920,2850,148
5,1115,1070,1010,965,800c
m-1 Example 12 trans-4- (trans-4- (2- (4- (4-fluorophenyl) phenyl) ethyl) cyclohexyl)
Production of -1-n-propyl-1-silacyclohexane 4- (4-phenyl-4-n) was prepared in the same manner as in Example 4.
-Propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanecarbadehyde 15.0 g of ylide and Wit prepared from 4-bromobenzyltriphenylphosphonium bromide
The tig reaction is carried out and 4- (4- (2- (4-bromophenyl) ethenyl) cyclohexyl-1-phenyl-1-
20.9 g (yield 50%) of n-propyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2850, 148
5,1115,1070,1010,965,800c
m -1
【0059】このもの18.0gとテトラキス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(0)500mgとテト
ラヒドロフラン100mlの混合物に、室温で1.0M
の4−フルオロフェニル亜鉛クロリドのテトラヒドロフ
ラン溶液42mlを滴下し、19時間攪拌した。反応混
合物を塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル溶液をブラインで洗浄・乾燥・濃縮
した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、4−
(4−(2−(4−(4−フルオロフェニル)フェニ
ル)エテニル)シクロヘキシル)−1−n−プロピル−
1−シラシクロヘキサン16.2g(収率71%)を得
た。 IR(液膜)νmax:2920,2850,160
0,1495,1235,1110,805cm-1 A mixture of 18.0 g of this product, 500 mg of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) and 100 ml of tetrahydrofuran was added at room temperature to 1.0 M.
42 ml of a tetrahydrofuran solution of 4-fluorophenylzinc chloride was added dropwise and stirred for 19 hours. The reaction mixture was poured into an aqueous solution of ammonium chloride and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate solution was washed with brine, dried, concentrated, and purified by column chromatography to give 4-
(4- (2- (4- (4-fluorophenyl) phenyl) ethenyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-
16.2 g of 1-silacyclohexane (yield 71%) was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2850, 160
0,1495,1235,1110,805 cm -1
【0060】このもの15.0gを実施例4と同様な方
法で水素添加して、4−(4−(2−(4−(4−フル
オロフェニル)フェニル)エチル)シクロヘキシル)−
1−n−プロピル−1−シラシクロヘキサン14.8g
(収率98%)を得た。 IR(KBr disc)νmax:2920,285
0,1600,1495,1235,1115,815
cm-1 15.0 g of this product was hydrogenated in the same manner as in Example 4 to give 4- (4- (2- (4- (4-fluorophenyl) phenyl) ethyl) cyclohexyl)-
1-n-propyl-1-silacyclohexane 14.8 g
(Yield 98%) was obtained. IR (KBr disc) νmax: 2920, 285
0, 1600, 1495, 1235, 1115, 815
cm -1
【0061】このもの10.0gを実施例4と同様な方
法で、一塩化ヨウ素によるデシリレーション反応、次い
で水素化アルミニウムリチウムで還元して、目的物5.
2g(収率61%)を得た。 IR(KBr disc)νmax:2918,285
2,2102,1498,1225,1221,116
1,889,843,820cm-1 13 C−NMR(CDCl3)δ:10.12(s),1
4.79(s),17.80(s),17.94
(s),28.60(s),29.62(s),32.
94(s),33.61(s),37.59(s),3
9.33(s),44.16(s),45.96
(s),115.50(d),126.84(s),1
28.45(d),128.79(s),137.28
(d),137.50(s),142.40(s),1
62.26(d)ppmIn the same manner as in Example 4, 10.0 g of this product was subjected to a desilylation reaction with iodine monochloride and then reduced with lithium aluminum hydride to obtain the desired product 5.
2 g (yield 61%) was obtained. IR (KBr disc) νmax: 2918, 285
2,2102,1498,1225,1221,116
1,889,843,820 cm -1 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.12 (s), 1
4.79 (s), 17.80 (s), 17.94
(S), 28.60 (s), 29.62 (s), 32.
94 (s), 33.61 (s), 37.59 (s), 3
9.33 (s), 44.16 (s), 45.96
(S), 115.50 (d), 126.84 (s), 1
28.45 (d), 128.79 (s), 137.28
(D), 137.50 (s), 142.40 (s), 1
62.26 (d) ppm
【0062】実施例12と同様な方法で以下の化合物を
得た。The following compounds were obtained in the same manner as in Example 12.
【0063】[実施例13]3,4−ジフルオロフェニ
ル亜鉛クロライドを用いて、実施例12と同様にしてト
ランス−4−(トランス−4−(2−(4−(3,4−
ジフルオロフェニル)フェニル)エチル)シクロヘキシ
ル)−1−n−プロピル−1−シラシクロヘキサンを得
た。 IR(KBr disc)νmax:2916,285
0,2104,1506,1402,1309,127
9,1182,1065,982,889,843,8
10cm-1 13 C−NMR(CDCl3)δ:10.13(s),1
4.79(s),17.80(s),17.94
(s),28.60(s),28.61(s),32.
96(s),33.60(s),37.58(s),3
9.28(s),44.16(s),45.96
(s),115.72(d),117.37(d),1
22.71(dd),126.76(s),128.9
1(s),136.38(s),138.30(d
d),143.05(s),148.25(dd),1
51.90(dd)ppm[Example 13] Trans-4- (trans-4- (2- (4- (3,4-
Difluorophenyl) phenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (KBr disc) νmax: 2916,285
0, 2104, 1506, 1402, 1309, 127
9,1182,1065,982,889,843,8
10 cm -1 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.13 (s), 1
4.79 (s), 17.80 (s), 17.94
(S), 28.60 (s), 28.61 (s), 32.
96 (s), 33.60 (s), 37.58 (s), 3
9.28 (s), 44.16 (s), 45.96
(S), 115.72 (d), 117.37 (d), 1
22.71 (dd), 126.76 (s), 128.9
1 (s), 136.38 (s), 138.30 (d
d), 143.05 (s), 148.25 (dd), 1
51.90 (dd) ppm
【0064】[0064]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のシクロヘ
キサンカルバルデヒド化合物は液晶化合物を製造する際
の有用な合成中間体であり、またこの化合物を誘導する
ことにより種々のシラシクロヘキサン型液晶化合物を製
造することができる。INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the cyclohexanecarbaldehyde compound of the present invention is a useful synthetic intermediate in the production of liquid crystal compounds, and various silacyclohexane type liquid crystal compounds can be obtained by deriving this compound. It can be manufactured.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09K 19/40 9279−4H G02F 1/13 500 // C07B 61/00 300 (72)発明者 荻原 勤 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 金子 達志 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 中島 睦雄 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C09K 19/40 9279-4H G02F 1/13 500 // C07B 61/00 300 (72) Inventor Ogihara Work 1 28, Nishi-Fukushima, Chubiki-mura, Nakakubiki-gun, Niigata Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Synthetic Technology Laboratory (72) Inventor Tatsushi Kaneko 1 28, Nishi-Fukushima, Kubiki-mura, Nakakubiki-gun, Niigata 1 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Company Synthetic Technology Laboratory (72) Inventor Mutsuo Nakajima 28, Nishi-Fukushima, Kubiki Village, Nakakubiki District, Niigata Prefecture 1 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Claims (4)
サンカルバルデヒド化合物。 【化1】 但し、Arはフェニル基又はトリル基、RはAr、炭素
数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜10のモノ
又はジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状ア
ルキル基又は炭素数2〜7のアルコキシアルキル基を表
す。1. A cyclohexanecarbaldehyde compound represented by the following general formula (I): Embedded image However, Ar is a phenyl group or a tolyl group, R is Ar, a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a mono- or difluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms. Alternatively, it represents an alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms.
るシクロヘキサンカルバルデヒド化合物と、一般式 【化2】 (式中において、XはR、OR基、CN、F、Cl、B
r、CF3、OCF3、OCHF2、OCHFCl、OC
F2Cl、CF2Cl、−(O)m−CY1=CX1CX
2(mは0又は1、Y1及びX1はH、F又はCl、X2は
F又はClを表す。)又は−O−(CH2)r−(C
F2)s−X3(r及びsは0、1又は2であり、かつ
(r+s)が2、3又は4、X3はH、F又はClを表
す。)、Yはハロゲン又はCH3、iは0から2の整数
を表す。)で表されるイリド化合物とを反応させ、一般
式 【化3】 で表される化合物を得、次いで水素添加することによ
り、一般式 【化4】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(II) 【化5】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法。2. A cyclohexanecarbaldehyde compound represented by the general formula (I) according to claim 1, and a general formula: (In the formula, X is R, OR group, CN, F, Cl, B
r, CF 3 , OCF 3 , OCHF 2 , OCHFCl, OC
F 2 Cl, CF 2 Cl, - (O) m -CY 1 = CX 1 CX
2 (m is 0 or 1, Y 1 and X 1 are H, F or Cl, X 2 is F or Cl) or —O— (CH 2 ) r — (C
F 2 ) s- X 3 (r and s are 0, 1 or 2, and (r + s) is 2, 3 or 4, X 3 represents H, F or Cl), Y is halogen or CH 3. , I represents an integer of 0 to 2. ) With an ylide compound represented by the formula: A compound represented by the following general formula: After obtaining the compound represented by
By reduction, the compound of the general formula (II): A method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound, comprising obtaining a silacyclohexane type liquid crystal compound represented by:
るシクロヘキサンカルバルデヒド化合物と、一般式 【化6】 (式中において、XはR、OR基、CN、F、Cl、B
r、CF3、OCF3、OCHF2、OCHFCl、OC
F2Cl、CF2Cl、−(O)m−CY1=CX1CX
2(mは0又は1、Y1及びX1はH、F又はCl、X2は
F又はClを表す。)又は−O−(CH2)r−(C
F2)s−X3(r及びsは0、1又は2であり、かつ
(r+s)が2、3又は4、X3はH、F又はClを表
す。)、Y及びZはそれぞれ相互に独立してハロゲン又
はCH3、i及びjはそれぞれ相互に独立して0から2
の整数を表す。)で表されるイリド化合物とを反応さ
せ、一般式 【化7】 で表される化合物を得、次いで水素添加することによ
り、一般式 【化8】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(III) 【化9】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法。3. A cyclohexanecarbaldehyde compound represented by the general formula (I) according to claim 1, and a general formula: (In the formula, X is R, OR group, CN, F, Cl, B
r, CF 3 , OCF 3 , OCHF 2 , OCHFCl, OC
F 2 Cl, CF 2 Cl, - (O) m -CY 1 = CX 1 CX
2 (m is 0 or 1, Y 1 and X 1 are H, F or Cl, X 2 is F or Cl) or —O— (CH 2 ) r — (C
F 2 ) s- X 3 (r and s are 0, 1 or 2, and (r + s) is 2, 3 or 4, X 3 represents H, F or Cl.), Y and Z are each other. Independently of halogen or CH 3 , i and j are each independently 0 to 2
Represents the integer. ), And reacting with an ylide compound represented by the general formula: A compound represented by the following general formula: After obtaining the compound represented by
By reduction, the compound of the general formula (III): A method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound, comprising obtaining a silacyclohexane type liquid crystal compound represented by:
るシクロヘキサンカルバルデヒド化合物と、一般式 【化10】 (式中において、X’はハロゲン、Yはハロゲン又はC
H3、iは0から2の整数を表す。)で表されるイリド
化合物とを反応させ、一般式 【化11】 で表される化合物を得、次いで、この化合物と一般式 【化12】 (式中において、MはMgU(Uはハロゲンを表
す。)、ZnU、TiUk(OW)3-k(wはアルキル
基、kは0〜3の整数を表す。)又はB(OV)2(V
はH又はアルキル基を表す。)、Zはハロゲン又はCH
3、jは0から2の整数を表す。)で表される有機金属
試薬とを遷移金属触媒の存在下に反応させ、一般式 【化13】 で表される化合物を得、次いで水素添加することによ
り、一般式 【化14】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(III) 【化15】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法。4. A cyclohexanecarbaldehyde compound represented by the general formula (I) according to claim 1, and a general formula: (In the formula, X'is halogen, Y is halogen or C
H 3 and i represent an integer of 0 to 2. ) With an ylide compound represented by the formula: A compound of the general formula (In the formula, M represents MgU (U represents halogen), ZnU, TiU k (OW) 3-k (w represents an alkyl group, and k represents an integer of 0 to 3) or B (OV) 2 (V
Represents H or an alkyl group. ), Z is halogen or CH
3 , j represents an integer of 0 to 2. ) Is reacted with an organometallic reagent represented by the formula (1) in the presence of a transition metal catalyst to give a compound of the general formula A compound represented by the following general formula: After obtaining the compound represented by
By reduction, the compound of the general formula (III): A method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound, comprising obtaining a silacyclohexane type liquid crystal compound represented by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7198007A JPH0881475A (en) | 1994-07-12 | 1995-07-11 | Cyclohexanecarbaldehyde compound and method for producing silacyclohexane type liquid crystal compound using the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18290494 | 1994-07-12 | ||
| JP6-182904 | 1994-07-12 | ||
| JP7198007A JPH0881475A (en) | 1994-07-12 | 1995-07-11 | Cyclohexanecarbaldehyde compound and method for producing silacyclohexane type liquid crystal compound using the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0881475A true JPH0881475A (en) | 1996-03-26 |
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ID=26501524
Family Applications (1)
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| JP7198007A Pending JPH0881475A (en) | 1994-07-12 | 1995-07-11 | Cyclohexanecarbaldehyde compound and method for producing silacyclohexane type liquid crystal compound using the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0881475A (en) |
-
1995
- 1995-07-11 JP JP7198007A patent/JPH0881475A/en active Pending
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