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JP2002069081A - Cyclohexanone compound and method for producing silacyclohexane type liquid crystal compound using the same - Google Patents

Cyclohexanone compound and method for producing silacyclohexane type liquid crystal compound using the same

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Publication number
JP2002069081A
JP2002069081A JP17037995A JP17037995A JP2002069081A JP 2002069081 A JP2002069081 A JP 2002069081A JP 17037995 A JP17037995 A JP 17037995A JP 17037995 A JP17037995 A JP 17037995A JP 2002069081 A JP2002069081 A JP 2002069081A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
general formula
compound represented
represented
halogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17037995A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Kanou
剛 金生
Takaaki Shimizu
孝明 清水
Tsutomu Ogiwara
勤 荻原
Mutsuo Nakajima
睦雄 中島
Tatsushi Kaneko
達志 金子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP17037995A priority Critical patent/JP2002069081A/en
Publication of JP2002069081A publication Critical patent/JP2002069081A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 シクロヘキサノン化合物及びその誘導体であ
るシラシクロヘキサン型液晶化合物を製造する方法を提
供する。 【構成】 下記一般式(I)で表されるシクロヘキサノ
ン化合物。 但し、Arはフェニル基又はトリル基、RはAr、炭素
数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜10のモノ
又はジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状ア
ルキル基又は炭素数2〜7のアルコキシアルキル基を表
す。
(57) [Summary] [Object] To provide a method for producing a cyclohexanone compound and a silacyclohexane type liquid crystal compound which is a derivative thereof. A cyclohexanone compound represented by the following general formula (I). However, Ar is a phenyl group or a tolyl group, R is Ar, a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a mono- or difluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms. Or an alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、シクロヘキサノン化合
物及びそれを用いてシラシクロヘキサン型液晶化合物を
製造する方法に関する。
The present invention relates to a cyclohexanone compound and a method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子は、液晶物質が持つ光学異
方性及び誘電異電性を利用したものであり、その表示様
式によってTN型(ねじれネマチック型)、STN型
(超ねじれネマチック型)、SBE型(超複屈折型)、
DS型(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP型
(整列相の変形型)、PD型(ポリマー分散型)及びO
MI型(光学的モード干渉型)など各種の方式がある。
最も一般的なディスプレイデバイスはシャット−ヘルフ
リッヒ効果に基づき、ねじれネマチック構造を有するも
のである。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device utilizes an optical anisotropy and a dielectric heteroelectric property of a liquid crystal material. Depending on the display mode, a TN type (twisted nematic type) and an STN type (super twisted nematic type) are used. , SBE type (super birefringent type),
DS type (dynamic scattering type), guest-host type, DAP type (deformed type of aligned phase), PD type (polymer dispersed type) and O
There are various types such as MI type (optical mode interference type).
The most common display devices are based on the Schadt-Helfrich effect and have a twisted nematic structure.

【0003】これらの液晶表示に用いられる液晶物質に
要求される性質は、その表示方式によって若干異なる
が、液晶温度範囲が広いこと、水分、空気、光、熱、電
界等に対して安定であること等は、いずれの表示方式に
おいても共通して要求される。さらに、液晶材料は、低
粘度であり、かつセル中において短いアドレス時間、低
い閾値電圧及び高いコントラストを与えることが望まれ
る。
The properties required of the liquid crystal material used in these liquid crystal displays slightly vary depending on the display system, but the liquid crystal temperature range is wide, and the liquid crystal material is stable against moisture, air, light, heat, an electric field, and the like. This is commonly required in any of the display methods. Further, it is desired that the liquid crystal material has a low viscosity and provides a short address time, a low threshold voltage and a high contrast in the cell.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】近年、液晶ディスプレ
ーの用途が拡大するにつれて、液晶材料に要求される特
性も益々高度な厳しいものになりつつある。特に、駆動
電圧の低電圧化、車載用ニーズに対応した広域温度範囲
化、低温性能の向上等、従来の液晶物質の特性を更に上
回るものが望まれるようになってきた。
In recent years, as the applications of liquid crystal displays have expanded, the characteristics required for liquid crystal materials have become increasingly severe and strict. In particular, it has been desired to further improve the characteristics of conventional liquid crystal materials, such as lowering the driving voltage, widening the temperature range corresponding to the needs for vehicles, and improving low-temperature performance.

【0005】このような観点から、発明者らは、液晶物
質の向上を目的として分子中にケイ素原子を含有する新
規な液晶化合物を開発し、先に出願した。
[0005] From such a viewpoint, the inventors have developed a novel liquid crystal compound containing a silicon atom in a molecule for the purpose of improving a liquid crystal material, and have previously filed an application.

【0006】本発明は、これらのシラシクロヘキサン型
液晶化合物を製造する際の有用な合成中間体であるシク
ロヘキサノン化合物及びその誘導体であるシラシクロヘ
キサン型液晶化合物を製造する方法を提供することを目
的とするものである。
An object of the present invention is to provide a method for producing a cyclohexanone compound which is a useful synthetic intermediate for producing these silacyclohexane type liquid crystal compounds and a silacyclohexane type liquid crystal compound which is a derivative thereof. Things.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、下記
一般式(I)で表されるシクロヘキサノン化合物であ
る。
That is, the present invention provides a cyclohexanone compound represented by the following general formula (I).

【化23】 但し、Arはフェニル基又はトリル基、RはAr、炭素
数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜10のモノ
又はジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状ア
ルキル基又は炭素数2〜7のアルコキシアルキル基を表
す。
Embedded image However, Ar is a phenyl group or a tolyl group, R is Ar, a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a mono- or difluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms. Or an alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms.

【0008】また本発明は、一般式Further, the present invention provides a compound of the general formula

【化24】 (式中においてR1 及びR2は、それぞれ炭素数1〜4の
アルキル基又はR1とR2とで環状をなす−(CH2
4−、−(CH25−及び−(CH22O(CH22
のいずれかを表す。)で表されるエナミン化合物とメチ
ルビニルケトンとをマイケル付加反応させ、一般式
Embedded image(Where R1 And RTwoAre each having 1 to 4 carbon atoms
Alkyl group or R1And RTwoAnd-(CHTwo)
Four-,-(CHTwo)Five-And-(CHTwo)TwoO (CHTwo)Two
Represents any of ) And enamine compounds represented by
Michael addition reaction with

【化25】 で表されるマイケル付加物を得、このマイケル付加物を
そのまま分子内アルドール縮合させるか又はこのマイケ
ル付加物を加水分解することにより、一般式
Embedded image Is obtained by subjecting the Michael adduct to intramolecular aldol condensation as it is or hydrolyzing the Michael adduct to obtain the general formula

【化26】 で表されるケトアルデヒド化合物を得、次にこのケトア
ルデヒド化合物を分子内アルドール縮合させることによ
り、一般式
Embedded image By obtaining a ketoaldehyde compound represented by the following formula, and then subjecting the ketoaldehyde compound to intramolecular aldol condensation,

【化27】 (但し、Embedded image (However,

【化28】 は、Embedded image Is

【化29】 またはEmbedded image Or

【化30】 を表す。)で表されるシクロヘキセノン化合物を得、次
いでこのシクロヘキセノン化合物を水素添加することに
より、前記一般式(I)で表されるシクロヘキサノン化
合物を製造することを特徴とするシクロヘキサノン化合
物の製造方法である。
Embedded image Represents ), And then hydrogenating the cyclohexenone compound to produce the cyclohexanone compound represented by the general formula (I). .

【0009】また本発明は、前記一般式(I)で表され
るシクロヘキサノン化合物と、一般式
The present invention also relates to a cyclohexanone compound represented by the above general formula (I),

【化31】 (式中において、MはMgU(Uはハロゲンを表
す。)、ZnU、TiUk(OW)3-k(Wはアルキル基
で好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、kは0から3
の整数を表す。)又はLi、XはCN、F、Cl、B
r、CF3、OCF3、OCHF2、OCHFCl、OC
2Cl、CF2Cl、(O)mCY1=CX12(mは0
又は1、Y1及びX1はH、F又はClを表し、X2はF
又はClを表す。)、O(CH2r(CF2s3(r
及びsは0、1又は2で且つ(r+s)が2、3又は4
を満たす数、X3はH、F又はClを表す。)、R又は
OR基、Yはハロゲン又はCH3、iは0から2の整数
を表す。)で表される有機金属試薬とを反応させ、一般
Embedded image (Wherein, M is MgU (U represents halogen), ZnU, TiU k (OW) 3-k (W is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and k is 0 to 3)
Represents an integer. ) Or Li, X is CN, F, Cl, B
r, CF 3 , OCF 3 , OCHF 2 , OCHFCl, OC
F 2 Cl, CF 2 Cl, (O) m CY 1 = CX 1 X 2 (m is 0
Or 1, Y 1 and X 1 represent H, F or Cl, and X 2 is F
Or Cl. ), O (CH 2 ) r (CF 2 ) s X 3 (r
And s is 0, 1 or 2 and (r + s) is 2, 3 or 4
And X 3 represents H, F or Cl. ), R or OR group, Y represents halogen or CH 3 , and i represents an integer of 0 to 2. ) With an organometallic reagent represented by the general formula

【化32】 で表される化合物を得、次いで加水素分解又は脱水後に
水素添加することにより、一般式
Embedded image By obtaining a compound represented by the following, then hydrogenation or hydrogenation after dehydration, by the general formula

【化33】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(II)
Embedded image After obtaining the compound represented by
By reduction, the general formula (II)

【化34】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法である。
Embedded image A method for producing a silacyclohexane-type liquid crystal compound characterized by obtaining a silacyclohexane-type liquid crystal compound represented by the formula:

【0010】また本発明は、前記一般式(I)で表され
るシクロヘキサノン化合物と、一般式
The present invention also relates to a cyclohexanone compound represented by the above general formula (I),

【化35】 (式中において、MはMgU(Uはハロゲンを表
す。)、ZnU、TiUk(OW)3-k(Wはアルキル基
で好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、kは0〜3の
整数を表す。)又はLi、X’はハロゲン、Yはハロゲ
ン又はCH、iは0から2の整数を表又はLi、Xは
CN、F、Cl、Br、CF3、OCF3、OCHF2
OCHFCl、OCF2Cl、CF2Cl、(O)mCY1
=CX12(mは0又は1、Y1及びX1はH、F又はC
lを表し、X2はF又はClを表す。)、O(CH2r
(CF2s3(r及びsは0、1又は2で且つ(r+
s)が2、3又は4を満たす数、X3はH、F又はCl
を表す。)、R又はOR基、Y及びZはそれぞれ独立し
てハロゲン(好ましくはF又はCl)又はCH3、i及
びjはそれぞれ独立して0から2の整数を表す。)で表
される有機金属試薬とを反応させ、一般式
Embedded image (In the formula, M represents MGu (U represents a halogen.), ZnU, TiU k ( OW) 3-k (W is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl group, k is 0 to 3 integer representing the.) or Li, X 'is halogen, Y is halogen or CH 3, i or display the integer from 0 to 2 Li, X is CN, F, Cl, Br, CF 3, OCF 3, OCHF 2 ,
OCHFCl, OCF 2 Cl, CF 2 Cl, (O) m CY 1
= CX 1 X 2 (m is 0 or 1, Y 1 and X 1 are H, F or C
and X 2 represents F or Cl. ), O (CH 2 ) r
(CF 2 ) s X 3 (r and s are 0, 1 or 2 and (r +
s) is a number satisfying 2, 3 or 4, and X 3 is H, F or Cl
Represents ), R or OR groups, Y and Z each independently represent halogen (preferably F or Cl) or CH 3 , i and j each independently represent an integer of 0 to 2. ) With an organometallic reagent represented by the general formula

【化36】 で表される化合物を得、次いで加水素分解又は脱水後に
水素添加することにより、一般式
Embedded image By obtaining a compound represented by the following, then hydrogenation or hydrogenation after dehydration, by the general formula

【化37】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(III)
Embedded image After obtaining the compound represented by
By reduction, the compound represented by the general formula (III)

【化38】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法である。
Embedded image A method for producing a silacyclohexane-type liquid crystal compound characterized by obtaining a silacyclohexane-type liquid crystal compound represented by the formula:

【0011】また本発明は、前記一般式(I)で表され
るシクロヘキサノン化合物と、一般式
The present invention also relates to a cyclohexanone compound represented by the above general formula (I),

【化39】 (式中において、MはMgU(Uはハロゲンを表
す。)、ZnU、TiUk(OW)3-k又はLi、X’は
ハロゲン(好ましくはCl、Br又はI)、Yはハロゲ
ン(好ましくはF又はCl)又はCH3、iは0から2
の整数を表す。)で表される有機金属試薬とを反応さ
せ、一般式
Embedded image (Wherein, M is MgU (U represents halogen), ZnU, TiU k (OW) 3-k or Li, X ′ is halogen (preferably Cl, Br or I), and Y is halogen (preferably F or Cl) or CH 3 , i is from 0 to 2
Represents an integer. ) With an organometallic reagent represented by the general formula

【化40】 で表される化合物を得、次いで加水素分解又は脱水後に
水素添加することにより、一般式
Embedded image By obtaining a compound represented by the following, then hydrogenation or hydrogenation after dehydration, by the general formula

【化41】 で表される化合物を得、次いでこの化合物と一般式Embedded image A compound represented by the formula:

【化42】 (式中において、M’はMgU(Uはハロゲンを表
す。)、ZnU、TiUk(OW)3-k(Wはアルキル基
で好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、kは0〜3の
整数を表す。)又はB(OV)2(VはH又はアルキル
基、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を表す。)を
表す。)で表される有機金属試薬とを遷移金属触媒の存
在下に反応させ、一般式
Embedded image (Wherein M ′ is MgU (U represents halogen), ZnU, TiU k (OW) 3 -k (W is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and k is 0 to 3) And B (OV) 2 (V represents H or an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)) and an organometallic reagent represented by a transition metal catalyst. In the presence of

【化43】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(III)
Embedded image After obtaining the compound represented by
By reduction, the compound represented by the general formula (III)

【化44】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法である。
Embedded image A method for producing a silacyclohexane-type liquid crystal compound characterized by obtaining a silacyclohexane-type liquid crystal compound represented by the formula:

【0012】次に、本発明をさらに詳細に説明する。Next, the present invention will be described in more detail.

【0013】本発明の一般式(I)The general formula (I) of the present invention

【化45】 (式中において、Arはフェニル基又はトリル基、Rは
Ar、炭素数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜
10のモノ又はジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の
分枝鎖状アルキル基又は炭素数2〜7のアルコキシアル
キル基を表す。)で表されるシクロヘキサノン化合物
は、一般式
Embedded image (Wherein, Ar is a phenyl group or tolyl group, R is Ar, a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
And represents a mono- or difluoroalkyl group of 10, a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or an alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms. The cyclohexanone compound represented by the general formula

【化46】 (式中においてR1 及びR2は、それぞれ炭素数1〜4の
アルキル基又はR1とR2とで環状をなす−(CH2
4−、−(CH25及び−(CH22O(CH22−の
いずれかを表す。)で表されるエナミン化合物とメチル
ビニルケトンとから、以下に詳しく述べるようにSto
rk法(G.Storkら、J.Amer.Chem.
Soc.85,207(1963))により製造され
る。
Embedded image(Where R1 And RTwoAre each having 1 to 4 carbon atoms
Alkyl group or R1And RTwoAnd-(CHTwo)
Four-,-(CHTwo)FiveAnd-(CHTwo)TwoO (CHTwo)Two-
Indicates one of them. ) Enamine compound and methyl
From vinyl ketone, Sto as described in detail below
rk method (G. Stork et al.,J. Amer. Chem.
Soc.,85, 207 (1963)).
You.

【0014】出発原料のエナミン化合物は、シラシクロ
ヘキサンアセトアルデヒド化合物と2級アミンから容易
に合成可能である。まず、シラシクロヘキサンアセトア
ルデヒドは、先に本発明者等が出願(特願平6−123
208)したシラシクロヘキサンカルバルデヒド化合物
やシラシクロヘキサン化合物(特願平6−78125)
から、例えば以下のようにして容易に製造される。
An enamine compound as a starting material can be easily synthesized from a silacyclohexaneacetaldehyde compound and a secondary amine. First, silacyclohexaneacetaldehyde was first filed by the present inventors (Japanese Patent Application No. 6-123).
208) Silacyclohexane carbaldehyde compound and silacyclohexane compound (Japanese Patent Application No. 6-78125)
, Can be easily manufactured, for example, as follows.

【0015】例えば、次の反応式[化47]で示すよう
に、アルコキシメチルトリフェニルホスホニウム塩から
塩基の作用によって生じるイリド化合物とWittig
反応を行ってアルキルエノールエーテル化合物を得、次
いで酸触媒による加水分解によってシラシクロヘキサン
アセトアルデヒド化合物へと変換する。
For example, as shown in the following reaction formula [Chemical Formula 47], an ylide compound produced from an alkoxymethyltriphenylphosphonium salt by the action of a base and Wittig
The reaction is performed to obtain an alkyl enol ether compound, which is then converted to a silacyclohexaneacetaldehyde compound by hydrolysis with an acid catalyst.

【0016】[0016]

【化47】 (式中において、R’はアルキル基で好ましくは炭素数
1〜10のアルキル基でさらに好ましくは炭素数1〜4
のアルキル基、Qはハロゲンで好ましくはCl、Br又
はIを表す。)
Embedded image (Wherein, R ′ is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
And Q is halogen, preferably Cl, Br or I. )

【0017】アルコキシメチルトリフェニルホスホニウ
ム塩として、メトキシメチルトリフェニルホスホニウム
クロリド、メトキシメチルトリフェニルホスホニウムブ
ロミド、メトキシメチルトリフェニルホスホニウムヨー
ジド、エトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリ
ド、エトキシメチルトリフェニルホスホニウムブロミ
ド、エトキシメチルトリフェニルホスホニウムヨージド
等を使用することができる。
Examples of the alkoxymethyltriphenylphosphonium salts include methoxymethyltriphenylphosphonium chloride, methoxymethyltriphenylphosphonium bromide, methoxymethyltriphenylphosphonium iodide, ethoxymethyltriphenylphosphonium chloride, ethoxymethyltriphenylphosphonium bromide, and ethoxymethyltrioxide. Phenylphosphonium iodide and the like can be used.

【0018】イリドの生成に用いられる塩基として、n
−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリ
チウム、メチルリチウム、フェニルリチウム等の有機リ
チウム類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムt−ブトキシド等のアルコキシド類あるい
はジムシルナトリウム等が挙げられる。
The base used for the production of ylide is n
Organic lithiums such as -butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium, methyllithium and phenyllithium; alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide; and dimsyl sodium.

【0019】反応は、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、ジn−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン等
のエーテル類や、これらにn−ヘキサン、n−ヘプタ
ン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
メン等の炭化水素類や、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリック
トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類を混合した溶媒
中で行う。温度は適宜調整して行うが、好ましくは0〜
溶媒の還流温度、更に好ましくは10−40℃で行うと
よい。上記温度のもとで、原料のシラシクロヘキサンカ
ルバルデヒドやイリド化合物の構造及び反応温度により
反応終結時間は異なるが、好ましくは30分〜5時間の
もとで反応が行われる。
The reaction is carried out by reacting ethers such as tetrahydrofuran, diethyl ether, di-n-butyl ether and 1,4-dioxane, and hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, isooctane, benzene, toluene, xylene and cumene. And an aprotic polar solvent such as N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoric triamide and the like. The temperature is adjusted appropriately, but preferably 0 to
It is good to carry out at the reflux temperature of the solvent, more preferably at 10-40 ° C. At the above temperature, the reaction completion time varies depending on the structure of the starting silacyclohexanecarbaldehyde or ylide compound and the reaction temperature, but the reaction is preferably carried out for 30 minutes to 5 hours.

【0020】これらの溶媒中で生じたイリド化合物にシ
ラシクロヘキサンカルバルデヒド化合物を加えてWit
tig反応を進行させ、アルキルエノールエーテル化合
物を得る。
A silacyclohexanecarbaldehyde compound is added to the ylide compound formed in these solvents, and
The tig reaction proceeds to obtain an alkyl enol ether compound.

【0021】アルキルエノールエーテル化合物の加水分
解は、好ましくは0〜80℃、更に好ましくは10〜4
0℃で行う。用いる酸触媒としては、塩酸、硫酸等の無
機酸類、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、クロロ酢酸等の
有機酸類が挙げられる。触媒の量は、反応で得られたア
ルキルエノールエーテル化合物の構造や酸触媒の種類に
より異なるが、0.1〜50重量%が好ましい。
The hydrolysis of the alkyl enol ether compound is preferably carried out at 0 to 80 ° C., more preferably at 10 to 4 ° C.
Perform at 0 ° C. Examples of the acid catalyst to be used include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids such as oxalic acid, trifluoroacetic acid and chloroacetic acid. The amount of the catalyst varies depending on the structure of the alkyl enol ether compound obtained by the reaction and the type of the acid catalyst, but is preferably 0.1 to 50% by weight.

【0022】また、次の反応式[化48]、[化5
1]、[化54]で示すように、シラシクロヘキサン化
合物から合成できる。
Further, the following reaction formulas [Formula 48] and [Formula 5]
As shown in [1] and [Formula 54], it can be synthesized from a silacyclohexane compound.

【0023】[化48]の反応は以下の通りである。The reaction of [formula 48] is as follows.

【化48】 Embedded image

【0024】ここで、A1はCN又はCOA2(A2はO
3(R3は炭素数1〜6のアルキル基を表す。)又は
Here, A 1 is CN or COA 2 (A 2 is O
R 3 (R 3 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) or

【化49】 (R4及びR5はそれぞれ炭素数1〜6のアルキル基、−
(CH 24−、−(CH 25−又は−(CH 22−O−
(CH 22−を表す。)を表す。
Embedded image(RFourAnd RFiveIs an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
(CH Two)Four-,-(CH Two)Five-Or-(CH Two)Two-O-
(CH Two)TwoRepresents-. ).

【0025】上記反応をさらに詳細に説明する。The above reaction will be described in more detail.

【0026】のOf

【化50】 としては、トリエチルホスフィノアセテート(trie
thylphosphonoacetate)、トリメ
チルホスホノアセテート、メチルジエチルホスホノアセ
テート、ジエチルシアノメチルホスホネート(diet
hyl cyanomethylphosphonat
e)、ジイソプロピルシアノメチルホスホネート等が挙
げられる。の塩基としては、n−ブチルリチウム、s
−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、メチルリチウ
ム、フェニルリチウム等の有機リチウム類、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブト
キシド等のアルコキシド類、ジムシルナトリウム、水素
化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム等が挙
げられる。の溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、ジn−ブチルエーテル、1,4−ジオ
キサン等のエーテル類や、これらにn−ヘキサン、n−
ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クメン等の炭化水素類や、N,N−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒類を混合した
溶媒が挙げられる。における反応条件としては、温度
は0〜70℃、時間は30分〜5時間の範囲が好まし
い。の水素添加の条件としては、圧力は大気圧〜20
kg/cm2、温度は0〜150℃の範囲が好ましい。
また、触媒としては、パラジウム、白金、ロジウム、ニ
ッケル、ルテニウム等の金属類が挙げられる。の還元
剤としては、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、ト
リアルキルシラン類、ボラン類、ジアルキルアルミニウ
ム等の金属水素化物、水素化アルミニウムリチウム、水
素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化
ホウ素カリウム、水素化ホウ素トリブチルアンモニウム
等の錯水素化化合物(Complex hydrid
e)やこれらの置換型ヒドリド化合物、すなわち、リチ
ウムトリアルコキシアルミニウムヒドリド、ナトリウム
ジ(メトキシエトキシ)アルミニウムヒドリド、リチウ
ムトリエチルボロヒドリド、ナトリウムシアノボロヒド
リド等が挙げられる。還元反応は、−70〜100℃が
好ましい。また、溶媒としては、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサ
ン、イソオクタン等の炭化水素等が挙げられる。
Embedded image As triethyl phosphinoacetate (trie
thiophosphonoacetate, trimethylphosphonoacetate, methyldiethylphosphonoacetate, diethylcyanomethylphosphonate (diet)
hyl cyanomethylphosphonat
e), diisopropylcyanomethylphosphonate and the like. N-butyllithium, s
Organic lithiums such as -butyllithium, t-butyllithium, methyllithium and phenyllithium, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide, dimsyl sodium, sodium hydride, potassium hydride, hydrogen Lithium oxide and the like. Examples of the solvent include ethers such as tetrahydrofuran, diethyl ether, di-n-butyl ether and 1,4-dioxane, and n-hexane, n-hexane and the like.
Examples of the solvent include a mixture of hydrocarbons such as heptane, isooctane, benzene, toluene, xylene, and cumene, and aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, and hexamethylphosphoric triamide. The reaction conditions are preferably such that the temperature ranges from 0 to 70 ° C. and the time ranges from 30 minutes to 5 hours. As the conditions for hydrogenation, the pressure is from atmospheric pressure to 20
kg / cm 2 and the temperature are preferably in the range of 0 to 150 ° C.
Examples of the catalyst include metals such as palladium, platinum, rhodium, nickel and ruthenium. Examples of the reducing agent include sodium hydride, calcium hydride, trialkylsilanes, borane, metal hydrides such as dialkylaluminum, lithium aluminum hydride, sodium borohydride, lithium borohydride, potassium borohydride, Complex hydride such as tributylammonium borohydride (Complex hydride)
e) and substituted hydride compounds thereof, that is, lithium trialkoxyaluminum hydride, sodium di (methoxyethoxy) aluminum hydride, lithium triethylborohydride, sodium cyanoborohydride and the like. The reduction reaction is preferably performed at -70 to 100C. Examples of the solvent include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; and hydrocarbons such as hexane and isooctane.

【0027】[化51]の反応は以下の通りである。The reaction of [Formula 51] is as follows.

【化51】 Embedded image

【0028】ここで、A3はCN又はCOA5(A5はO
H、OR6(R6はR3と同じ基を表す。)又は
Here, A 3 is CN or COA 5 (A 5 is O
H, OR 6 (R 6 represents the same group as R 3 ) or

【化52】 (R7はR4と同じ基、R8はR5と同じ基を表す。)を表
す。)を表し、A4はCOOR9(R9はR3と同じ基を表
す。)を表す。
Embedded image (R 7 represents the same group as R 4, and R 8 represents the same group as R 5 ). A 4 represents COOR 9 (R 9 represents the same group as R 3 ).

【0029】上記反応をさらに詳細に説明する。The above reaction will be described in more detail.

【0030】の[0030]

【化53】 としては、シアノ酢酸メチル、シアノ酢酸エチル、シア
ノ酢酸、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、ジメチ
ルアミノ酢酸エチル等が挙げられる。溶媒としては、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の芳香族炭化水
素系、ヘキサン、イソオクタン等の炭化水素等が挙げら
れる。また、反応条件としては、副生する水分を共沸除
去するため温度は60〜150℃、好ましくは80〜1
40℃で行われる。の塩基としては、ピペリジン、ピ
ロリジン等の2級アミン、アンモニア又はこれらの有機
酸塩が挙げられ、有機酸塩として蟻酸、酢酸、プロピオ
ン酸、安息香酸等のカルボン酸、n−ブチルリチウム、
s−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、メチルリチ
ウム、フェニルリチウム等の有機リチウム類、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブ
トキシド等のアルコキシド類あるいはジムシルナトリウ
ム等が挙げられる。の水素添加の条件としては、圧力
は大気圧〜20kg/cm2、温度は0〜150℃の範
囲が好ましい。また、触媒としては、パラジウム、白
金、ロジウム、ニッケル、ルテニウム等の金属類が挙げ
られる。の反応においては、HCl、H2SO4などの
無機酸及びこれら無機酸とリチウム、ナトリウム又はカ
リウムとの塩及び1当量の水が用いられる。溶媒として
は、トルエン、キシレン、クメン、ジエチルベンゼン、
フェネトール等の芳香族炭化水素、芳香族エーテル、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチル
イミダゾリジノン、ジメチルウレア、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の高沸点
の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。反応温度とし
ては100〜200℃の範囲が好ましく、反応時間は2
〜12時間の範囲が好ましい。の還元剤としては、水
素化ナトリウム、水素化カルシウム、トリアルキルシラ
ン類、ボラン類、ジアルキルアルミニウム等の金属水素
化物、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナト
リウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウ
ム、水素化ホウ素トリブチルアンモニウム等の錯水素化
化合物(Complex hydride)やこれらの
置換型ヒドリド化合物、すなわち、リチウムトリアルコ
キシアルミニウムヒドリド、ナトリウムジ(メトキシエ
トキシ)アルミニウムヒドリド、リチウムトリエチルボ
ロヒドリド、ナトリウムシアノボロヒドリド等が挙げら
れる。還元反応は、−70〜100℃が好ましい。ま
た、溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、イソオク
タン等の炭化水素等が挙げられる。
Embedded image Examples thereof include methyl cyanoacetate, ethyl cyanoacetate, cyanoacetic acid, dimethyl malonate, diethyl malonate, and dimethylaminoethyl acetate. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and cumene, and hydrocarbons such as hexane and isooctane. Further, the reaction conditions are as follows: the temperature is 60 to 150 ° C., preferably 80 to 1 to remove azeotropically the water by-produced
Performed at 40 ° C. Examples of the base include secondary amines such as piperidine and pyrrolidine, ammonia and organic acid salts thereof. As the organic acid salts, carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid and benzoic acid, n-butyllithium,
Examples thereof include organic lithiums such as s-butyllithium, t-butyllithium, methyllithium, and phenyllithium, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, and potassium t-butoxide, and dimsyl sodium. As the conditions for hydrogenation, the pressure is preferably in the range of atmospheric pressure to 20 kg / cm 2 , and the temperature is preferably in the range of 0 to 150 ° C. Examples of the catalyst include metals such as palladium, platinum, rhodium, nickel and ruthenium. In the above reaction, an inorganic acid such as HCl or H 2 SO 4 , a salt of the inorganic acid with lithium, sodium or potassium, and one equivalent of water are used. As the solvent, toluene, xylene, cumene, diethylbenzene,
Examples include aromatic hydrocarbons such as phenetole, aromatic ethers, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylimidazolidinone, dimethylurea, dimethylsulfoxide, and high boiling aprotic polar solvents such as hexamethylphosphoric triamide. The reaction temperature is preferably in the range of 100 to 200 ° C., and the reaction time is 2 hours.
A range of up to 12 hours is preferred. Examples of the reducing agent include sodium hydride, calcium hydride, trialkylsilanes, borane, metal hydrides such as dialkylaluminum, lithium aluminum hydride, sodium borohydride, lithium borohydride, potassium borohydride, Complex hydrides such as tributylammonium borohydride and the like, and substituted hydride compounds thereof, such as lithium trialkoxyaluminum hydride, sodium di (methoxyethoxy) aluminum hydride, lithium triethylborohydride, sodium cyanoborohydride and the like Is mentioned. The reduction reaction is preferably performed at -70 to 100C. Examples of the solvent include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; and hydrocarbons such as hexane and isooctane.

【0031】[化54]の反応は以下の通りである。The reaction of [Formula 54] is as follows.

【化54】 Embedded image

【0032】ここで、R10はR3と同じ基又は−(C
22−又は−(CH23−を表し、R11はR3と同じ
基を表す。
Here, R 10 is the same group as R 3 or — (C
H 2 ) 2 — or — (CH 2 ) 3 —, and R 11 represents the same group as R 3 .

【0033】上記反応をさらに詳細に説明する。The above reaction will be described in more detail.

【0034】のR10OHとしては、R10が炭素数1〜
6のアルキル基等である1価のアルコール、HO−(C
22−OH、HO−(CH23−OH、
As R 10 OH, R 10 has 1 to 1 carbon atoms.
A monohydric alcohol such as an alkyl group of HO- (C
H 2) 2 -OH, HO- ( CH 2) 3 -OH,

【化55】 HO−(CH24−OHなどの2価アルコール等が挙げ
られる。脱水反応に用いる酸としては、塩酸、硫酸、硝
酸、過塩素酸等の無機酸類やその塩類、p−トルエンス
ルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸等
の有機酸類を挙げることができる。生じる水をすみやか
に除去するために、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
メン、ヘキサン、イソオクタン等の炭化水素類を溶媒と
して用いて、その共沸により反応の進行を加速すること
も有用である。ルイス酸としては、AlX4 3(X4
ハロゲンを表す。)、ZnX4 2、MgX4 2、FeX4
2、BF3等が挙げられる。反応温度は−50〜100
℃、好ましくは−30〜50℃である。溶媒としては、
無溶媒又は塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素等が挙げられる。の
Embedded image HO- (CH 2) 2 dihydric alcohol, such as 4 -OH and the like. Examples of the acid used for the dehydration reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and perchloric acid and salts thereof, and organic acids such as p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid and trifluoroacetic acid. In order to promptly remove generated water, it is also useful to use hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene, hexane, and isooctane as a solvent and accelerate the reaction by azeotropic distillation. The Lewis acid, AlX 4 3 (X 4 represents a halogen.), ZnX 4 2, MgX 4 2, FeX 4
2 , BF 3 and the like. Reaction temperature is -50 to 100
° C, preferably -30 to 50 ° C. As the solvent,
Solvent-free or halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform. of

【化56】 については、R11としてエチルビニルエーテル、ブチル
ビニルエーテル等が挙げられる。の加水分解は、好ま
しくは0〜80℃、更に好ましくは10〜40℃で行
う。用いる酸触媒としては、塩酸、硫酸等の無機酸類、
シュウ酸、トリフルオロ酢酸、クロロ酢酸等の有機酸類
が挙げられる。触媒の量は、反応で得られたアルキルエ
ノールエーテル化合物の構造や酸触媒の種類により異な
るが、0.1〜50重量%が好ましい。の水素添加反
応としては、水素添加の温度は、シラシクロヘキサノン
の構造により異なるが、好ましくは0〜150℃、更に
好ましくは20〜100℃で、更に圧力は高い程反応速
度が高まるが、装置等の制約があるため、大気圧〜20
kg/cm2にするとよい。水素添加に用いられる触媒
としては、パラジウム、白金、ロジウム、ニッケル、ル
テニウム等の金属類が挙げられる。特に、パラジウム−
炭素、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−ケイソ
ウ土、酸化白金、白金−炭素、ロジウム−炭素、ラネー
ニッケル等を使用するとよい結果を与える。または、反
応速度を速めるために、トリフルオロ酢酸や過塩素酸な
どの触媒を加えてもよい。
Embedded image As for R 11 , ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether and the like can be mentioned. Is preferably performed at 0 to 80 ° C, more preferably at 10 to 40 ° C. As the acid catalyst to be used, hydrochloric acids, inorganic acids such as sulfuric acid,
Organic acids such as oxalic acid, trifluoroacetic acid, chloroacetic acid and the like can be mentioned. The amount of the catalyst varies depending on the structure of the alkyl enol ether compound obtained by the reaction and the type of the acid catalyst, but is preferably 0.1 to 50% by weight. The hydrogenation temperature varies depending on the structure of the silacyclohexanone, but is preferably 0 to 150 ° C., more preferably 20 to 100 ° C., and the higher the pressure, the higher the reaction rate. , The atmospheric pressure to 20
kg / cm 2 is good. Examples of the catalyst used for hydrogenation include metals such as palladium, platinum, rhodium, nickel and ruthenium. In particular, palladium-
Good results are obtained using carbon, palladium-barium sulfate, palladium-diatomaceous earth, platinum oxide, platinum-carbon, rhodium-carbon, Raney nickel and the like. Alternatively, a catalyst such as trifluoroacetic acid or perchloric acid may be added to increase the reaction rate.

【0035】次に、得られたシラシクロヘキサンアセト
アルデヒド化合物を2級アミンと脱水反応を行い、エナ
ミン化合物を得る。
Next, the obtained silacyclohexaneacetaldehyde compound is subjected to a dehydration reaction with a secondary amine to obtain an enamine compound.

【0036】[0036]

【化57】 Embedded image

【0037】この脱水反応は、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クメン、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の炭化
水素溶媒を用いて生じる水を共沸(Azeotrop
e)により系外に除去することにより反応速度を高める
ことができる。この際、反応温度は、溶媒の種類等によ
り異なるが、好ましくは20℃〜溶媒の還流温度のもと
で行われ、触媒としてp−トルエンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、カンファースルホン酸等の酸類を添加し
てもよい。得られる化合物の構造及び触媒の種類により
異なるが、触媒の量を0.1〜50重量%とすることが
好ましい。また、無水炭酸カリウム、無視炭酸ナトリウ
ム等の無水塩類を加えておいて、生じる水を除く方法も
用いられる。なお、2級アミンとしては、ジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ピロリ
ジン、ピペリジン、モルホリン等を好ましく例示でき
る。第2級アミンは、アセトアルデヒド化合物に対し
1:1〜1:3(等量)の割合で添加されることが好ま
しい。
In this dehydration reaction, water produced using a hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, xylene, cumene, n-hexane and n-heptane is azeotropically distilled (Azetrop).
The reaction rate can be increased by removing e) from the system. At this time, the reaction temperature varies depending on the type of the solvent and the like, but is preferably carried out at a temperature of from 20 ° C. to the reflux temperature of the solvent. It may be added. Although it depends on the structure of the compound to be obtained and the type of catalyst, the amount of the catalyst is preferably 0.1 to 50% by weight. In addition, a method is also used in which anhydrous salts such as anhydrous potassium carbonate and neglected sodium carbonate are added to remove generated water. Preferred examples of the secondary amine include dimethylamine, diethylamine, di-n-propylamine, pyrrolidine, piperidine, and morpholine. The secondary amine is preferably added at a ratio of 1: 1 to 1: 3 (equivalent) to the acetaldehyde compound.

【0038】このようにして合成されたエナミン化合物
をメチルビニルケトンとのマイケル付加反応に供する。
The enamine compound thus synthesized is subjected to a Michael addition reaction with methyl vinyl ketone.

【0039】[0039]

【化58】 Embedded image

【0040】メチルビニルケトンを、エナミン化合物に
対し1〜5等量、好ましくは1〜1.5等量用いて溶媒
中、エナミンの構造により異なるが0〜150℃のも
と、数10分〜数10時間加熱する。溶媒として、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クメン、n−ヘキサン、n
−ヘプタン、イソオクタン、シクロヘキサン等の炭化水
素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ−n
−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル
類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル等のアルコール類、N,N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリ
アミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、
N,N’−ジメチルプロピレンウレア等の極性溶媒類を
単独または混合して用いる。この際、プロトン性溶媒、
例えばメタノール、エタノール等を含むようにするとマ
イケル反応におけるプロトン移動が加速され、反応時間
を短縮できる場合がある。
Using methyl vinyl ketone in an amount of 1 to 5 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents to the enamine compound, in a solvent at 0 to 150 ° C. for several tens of minutes or less at 0 to 150 ° C. depending on the structure of the enamine Heat for several tens of hours. As a solvent, benzene, toluene, xylene, cumene, n-hexane, n
-Hydrocarbons such as heptane, isooctane, cyclohexane, tetrahydrofuran, diethyl ether, di-n
Ethers such as -butyl ether and 1,4-dioxane, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, N, N-dimethylformamide,
Dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoric triamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone,
Polar solvents such as N, N'-dimethylpropyleneurea are used alone or in combination. At this time, a protic solvent,
For example, when methanol, ethanol, or the like is included, proton transfer in the Michael reaction is accelerated, and the reaction time may be reduced in some cases.

【0041】得られたマイケル付加物をそのまま分子内
アルドール縮合させるか、あるいは、このマイケル付加
物を塩酸、硫酸等の無機酸類、またはシュウ酸、トリフ
ルオロ酢酸、クロロ酢酸等の有機酸類を用いて加水分解
することによって得られる、一般式
The obtained Michael adduct is subjected to intramolecular aldol condensation as it is, or the Michael adduct is treated with an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid or an organic acid such as oxalic acid, trifluoroacetic acid or chloroacetic acid. General formula obtained by hydrolysis

【化59】 で表されるケトアルデヒド化合物を分子内アルドール縮
合させることにより、反応式[化60]で示すようにシ
クロヘキセノン化合物を得る。
Embedded image Is subjected to intramolecular aldol condensation to give a cyclohexenone compound as shown in the reaction formula [Formula 60].

【0042】[0042]

【化60】 Embedded image

【0043】この場合、In this case,

【化61】 は、Embedded image Is

【化62】 またはEmbedded image Or

【化63】 になる。Embedded image become.

【0044】このアルドール縮合反応は、塩基又は酸に
よって触媒される。触媒は新たに加えてもよいし、前工
程のマイケル付加に用いたエナミンの2級アミンがその
まま触媒作用を持つため、別の触媒を加えることなくア
ルドール縮合反応が進行する場合もある。このアルドー
ル縮合反応は、溶媒、化合物の構造により異なるが、室
温〜溶媒の還流温度のもとで行われるのが好ましい。
This aldol condensation reaction is catalyzed by a base or an acid. The catalyst may be newly added, or since the secondary amine of enamine used for the Michael addition in the previous step has a catalytic action as it is, the aldol condensation reaction may proceed without adding another catalyst. This aldol condensation reaction varies depending on the structure of the solvent and the compound, but is preferably performed at room temperature to the reflux temperature of the solvent.

【0045】塩基触媒として、上記の2級アミン、トリ
エチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ジメチルアニ
リン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基類、
またはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、
カリウムt−ブトキシド等のアルコキシド類を挙げるこ
とができる。酸触媒として、塩酸、硫酸等の無機酸類、
p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、酢酸、
プロピオン酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、クロロ酢
酸等の有機酸類を挙げることができる。これらの塩基触
媒及び酸触媒は単独で又は混合して0.1〜50重量%
のもとで使用するとよい。
As the base catalyst, organic bases such as the above-mentioned secondary amine, triethylamine, tri-n-butylamine and dimethylaniline; inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate and potassium hydrogencarbonate;
Or sodium methoxide, sodium ethoxide,
Alkoxides such as potassium t-butoxide can be mentioned. Inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid as acid catalysts,
p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, acetic acid,
Organic acids such as propionic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid and chloroacetic acid can be mentioned. These base catalysts and acid catalysts may be used alone or in a mixture of 0.1 to 50% by weight.
It is good to use under.

【0046】塩基触媒アルドール縮合反応において、生
成したシクロヘキセノン化合物が触媒のアミンと更に反
応してシクロヘキセノンのエナミン化合物、例えば、一
般式
In the base-catalyzed aldol condensation reaction, the generated cyclohexenone compound further reacts with the catalyst amine to form a cyclohexenone enamine compound, for example, a compound of the general formula

【化64】 で表される化合物になっている場合、または、アルドー
ル縮合反応がβ−ヒドロキシケトン化合物、すなわち、
一般式
Embedded image Or the aldol condensation reaction is a β-hydroxyketone compound, ie,
General formula

【化65】 で表される化合物の段階で止まっている場合には、酸処
理によって上記シクロヘキセノン化合物に導くことがで
きる。
Embedded image In the case where the reaction is stopped at the stage of the compound represented by the formula, it can be led to the cyclohexenone compound by acid treatment.

【0047】次に、反応式[化66]に示すように、得
られたシクロヘキセノン化合物の二重結合を接触還元に
より水素添加して、本発明の一般式(I)で表されるシ
クロヘキサノン化合物を得る。水素添加の温度は、シラ
シクロヘキサノンの構造により異なるが、好ましくは0
〜150℃、更に好ましくは20〜100℃で、更に圧
力は高い程反応速度が高まるが、装置等の制約があるた
め、大気圧〜20kg/cm2にするとよい。
Next, as shown in the reaction formula [Chemical Formula 66], the double bond of the obtained cyclohexenone compound is hydrogenated by catalytic reduction to give a cyclohexanone compound represented by the general formula (I) of the present invention. Get. The hydrogenation temperature depends on the structure of the silacyclohexanone, but is preferably 0.
To 150 DEG ° C., further preferably 20 to 100 ° C., but further pressure increases the higher the reaction rate, since there are restrictions of the apparatus such, may be the atmospheric pressure to 20 kg / cm 2.

【0048】[0048]

【化66】 Embedded image

【0049】水素添加に用いられる触媒としては、パラ
ジウム、白金、ロジウム、ニッケル、ルテニウム等の金
属類が挙げられる。特に、パラジウム−炭素、パラジウ
ム−硫酸バリウム、パラジウム−ケイソウ土、酸化白
金、白金−炭素、ロジウム−炭素、ラネーニッケル等を
使用するとよい結果を与える。または、反応速度を速め
るために、トリフルオロ酢酸や過塩素酸などの触媒を加
えてもよい。
Examples of the catalyst used for hydrogenation include metals such as palladium, platinum, rhodium, nickel and ruthenium. In particular, use of palladium-carbon, palladium-barium sulfate, palladium-diatomaceous earth, platinum oxide, platinum-carbon, rhodium-carbon, Raney nickel or the like gives good results. Alternatively, a catalyst such as trifluoroacetic acid or perchloric acid may be added to increase the reaction rate.

【0050】以上のようにして得られた一般式(I)で
表されるシクロヘキサノン化合物は、種々のシラシクロ
ヘキサン型液晶化合物の製造に用いられる。以下、この
シクロヘキサノン化合物の誘導体の製造方法について述
べる。
The cyclohexanone compound represented by the general formula (I) obtained as described above is used for producing various silacyclohexane type liquid crystal compounds. Hereinafter, a method for producing the derivative of the cyclohexanone compound will be described.

【0051】まず、対応するハロゲン化物から容易に調
製される有機金属試薬を上記シクロヘキサノン化合物と
反応させると、アルコール化合物が得られる。
First, an organometallic reagent easily prepared from the corresponding halide is reacted with the above cyclohexanone compound to obtain an alcohol compound.

【0052】[0052]

【化67】 (式中において、nは0又は1を表す。)Embedded image (In the formula, n represents 0 or 1.)

【0053】有機金属試薬としては、Grignard
試薬、有機亜鉛試薬、有機リチウム、有機チタニウム試
薬等が挙げられ、いずれの場合も反応は高い収率で進行
する。この反応は、ケトンの種類、有機金属の構造によ
り異なるが、好ましくは−70〜150℃のもとで、3
0分〜5時間行われるとよい。具体的には、Li系は−
70〜0℃、Mg、Ti、Zn系は室温〜150℃で行
うと更によい。通常、この反応は、ジエチルエーテル、
THF、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メシチレン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン等のタンか水素類等を単独又は混合して使用すると
よい。
As the organometallic reagent, Grignard
Examples include reagents, organozinc reagents, organolithiums, organotitanium reagents, and the like, and in each case, the reaction proceeds at a high yield. This reaction depends on the type of ketone and the structure of the organic metal, but is preferably carried out at −70 to 150 ° C. for 3 hours.
It may be performed for 0 minutes to 5 hours. Specifically, Li-based
It is more preferable to perform the treatment at 70 to 0 ° C. and at room temperature to 150 ° C. for Mg, Ti, and Zn. Usually, this reaction is carried out with diethyl ether,
Ethers such as THF and dioxane, and tan, hydrogen such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, hexane, heptane, and octane may be used alone or in combination.

【0054】次に、得られたアルコール化合物を加水素
分解(Hydrogenolysis)するか、あるい
は、酸触媒によって脱水反応を行った後、生じた二重結
合を水素添加することによりシクロヘキサノン化合物を
得る。水素添加は、好ましくは0〜150℃、更に好ま
しくは20〜100℃で、大気圧〜20kg/cm2
もとで行う。
Next, a cyclohexanone compound is obtained by subjecting the obtained alcohol compound to hydrogenolysis (hydrogenolysis) or by performing a dehydration reaction with an acid catalyst, and then hydrogenating the resulting double bond. The hydrogenation is preferably performed at 0 to 150 ° C., more preferably 20 to 100 ° C., under atmospheric pressure to 20 kg / cm 2 .

【0055】[0055]

【化68】 Embedded image

【0056】加水素分解や水素添加に用いられる触媒と
して、パラジウム、白金、ロジウム、ニッケル、ルテニ
ウム等の金属類が挙げられる。特に、パラジウム−炭
素、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−ケイソウ
土、酸化白金、白金−炭素、ロジウム−炭素、ラネーニ
ッケル、酸化パラジウム、ニッケル−ケイソウ土等を使
用するとよく、特にパラジウム系又はニッケル系の触媒
を用いると更によい結果を与える。
Examples of the catalyst used for hydrogenolysis and hydrogenation include metals such as palladium, platinum, rhodium, nickel and ruthenium. In particular, palladium-carbon, palladium-barium sulfate, palladium-diatomaceous earth, platinum oxide, platinum-carbon, rhodium-carbon, Raney nickel, palladium oxide, nickel-diatomaceous earth, and the like are preferably used. Gives better results.

【0057】脱水反応に用いる酸としては、塩酸、硫
酸、硝酸、過塩素酸等の無機酸類やその塩類、p−トル
エンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ
酢酸等の有機酸類を挙げることができる。生じる水をす
みやかに除去するために、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クメン、ヘキサン、イソオクタン等の炭化水素類を
溶媒として用いて、その共沸により反応の進行を加速す
ることも有用である。
Examples of the acid used for the dehydration reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and perchloric acid and salts thereof, and organic acids such as p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid and trifluoroacetic acid. . In order to promptly remove generated water, it is also useful to use hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene, hexane, and isooctane as a solvent and accelerate the reaction by azeotropic distillation.

【0058】続いて、求電子試薬によるデシリレーショ
ン反応でハロシラシクロヘキサン化合物とし、更に還元
反応を行う。
Subsequently, a halosilacyclohexane compound is converted into a halosilacyclohexane compound by a desilylation reaction using an electrophile, and a reduction reaction is further performed.

【0059】[0059]

【化69】 (式中において、EWは求電子試薬、Wはハロゲンを表
す。)
Embedded image (In the formula, EW represents an electrophile and W represents a halogen.)

【0060】求電子試薬として、ハロゲン、ハロゲン化
水素、ハロゲン化金属、スルホン酸誘導体、酸ハロゲン
化物、ハロゲン化アルキル等を挙げることができる。特
に、ヨウ素、臭素、塩素、一塩化ヨウ素、塩化水素、臭
化水素、ヨウ化水素、塩化水銀(II)、クロロスルホン
酸トリメチルシリル、塩化アセチル、臭化アセチル、塩
化ベンゾイル、塩化t−ブチル等を好ましく例示でき
る。なお、反応速度を高めるために、塩化アルミニウ
ム、塩化亜鉛、四塩化チタン、三フッ化ホウ素等のルイ
ス酸類の添加や光(可視光線、紫外線)の照射を行って
もよい。デシリレーション反応は、好ましくは0〜80
℃、更に好ましくは10〜40℃で行われるとよい。求
電子試薬は、シラシクロヘキサン化合物に対し、好まし
くは1〜5等量、更に好ましくは1〜2等量使用され
る。
Examples of the electrophilic reagent include halogen, hydrogen halide, metal halide, sulfonic acid derivative, acid halide, and alkyl halide. In particular, iodine, bromine, chlorine, iodine monochloride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, mercury (II) chloride, trimethylsilyl chlorosulfonate, acetyl chloride, acetyl bromide, benzoyl chloride, t-butyl chloride, etc. It can be preferably exemplified. In order to increase the reaction rate, Lewis acids such as aluminum chloride, zinc chloride, titanium tetrachloride, and boron trifluoride may be added or light (visible light, ultraviolet light) may be applied. The desilylation reaction is preferably from 0 to 80
C., more preferably 10 to 40.degree. The electrophile is preferably used in an amount of 1 to 5 equivalents, more preferably 1 to 2 equivalents, based on the silacyclohexane compound.

【0061】生じたハロシラシクロヘキサン化合物の還
元に用いられる試薬として、水素化ナトリウム、水素化
カルシウム、トリアルキルシラン類、ボラン類、ジアル
キルアルミニウム等の金属水素化物、水素化アルミニウ
ムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リ
チウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素トリブチ
ルアンモニウム等の錯水素化化合物(Complex
hydride)やこれらの置換型ヒドリド化合物、す
なわち、リチウムトリアルコキシアルミニウムヒドリ
ド、ナトリウムジ(メトキシエトキシ)アルミニウムヒ
ドリド、リチウムトリエチルボロヒドリド、ナトリウム
シアノボロヒドリド等を挙げることができる。還元反応
は、好ましくは0〜150℃、更に好ましくは20〜1
20℃で行われるとよい。
Reagents used for reducing the resulting halosilacyclohexane compound include metal hydrides such as sodium hydride, calcium hydride, trialkylsilanes, borane, dialkylaluminum, lithium aluminum hydride, sodium borohydride Complex hydride compounds such as lithium, lithium borohydride, potassium borohydride, tributylammonium borohydride (Complex
hydride) and their substituted hydride compounds, that is, lithium trialkoxyaluminum hydride, sodium di (methoxyethoxy) aluminum hydride, lithium triethylborohydride, sodium cyanoborohydride and the like. The reduction reaction is preferably performed at 0 to 150 ° C., more preferably 20 to 1 ° C.
It is good to carry out at 20 ° C.

【0062】以上によって、シラシクロヘキサン型液晶
化合物を合成することが可能になった。
As described above, it has become possible to synthesize a silacyclohexane type liquid crystal compound.

【0063】また、反応式[化68]で得られた生成物
のうち、n=0に対応する、一般式
Further, among the products obtained by the reaction formula [Chemical Formula 68], a general formula corresponding to n = 0

【化70】 (X’はハロゲンを表す。)で表される化合物から、n
=1に対応する、一般式
Embedded image (X ′ represents a halogen), n
General formula corresponding to = 1

【化71】 で表される化合物に導くことも可能である。Embedded image It is also possible to lead to the compound represented by

【0064】この反応は次式に従う。This reaction follows the following equation.

【0065】[0065]

【化72】 (式中において、M’はMgU(Uはハロゲン、好まし
くはCl、Br又はIを表す。)、ZnU、TiU
k(OW)3-k又はB(OV)2(VはH又はアルキル
基、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を表す。)を
表す。)
Embedded image (In the formula, M ′ is MgU (U represents halogen, preferably Cl, Br or I.), ZnU, TiU
k (OW) 3-k or B (OV) 2 (V represents H or an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). )

【0066】この反応は遷移触媒の存在下に行われる。
遷移触媒として、特にパラジウムあるいはニッケル化合
物が好ましい。
This reaction is performed in the presence of a transition catalyst.
Palladium or nickel compounds are particularly preferred as transition catalysts.

【0067】パラジウム触媒としては、例えばテトラキ
ス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ジ
[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラ
ジウム(0)等の0価のパラジウム化合物、あるいは酢
酸パラジウム、塩化パラジウム、[1,1−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)クロ
リド等の2価のパラジウム化合物と配位子から成る化合
物、またはこれらと還元剤の組み合わせ等を用いること
ができる。
Examples of the palladium catalyst include zero-valent palladium compounds such as tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) and di [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] palladium (0), and palladium acetate. A compound comprising a divalent palladium compound such as palladium chloride and [1,1-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) chloride and a ligand, or a combination of these with a reducing agent can be used.

【0068】ニッケル触媒としては、例えば1,3−ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)プロパンニッケル(II)ク
ロリド、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン
ニッケル(II)クロリド、ビス(トリフェニルホスフィ
ン)ニッケル(II)クロリド等の2価のニッケル化合物
や、テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル
(0)等の0価のニッケル化合物を挙げることができ
る。
Examples of the nickel catalyst include 1,3-bis (diphenylphosphino) propane nickel (II) chloride, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane nickel (II) chloride, bis (triphenylphosphine) nickel (II) A divalent nickel compound such as chloride and a zero-valent nickel compound such as tetrakis (triphenylphosphine) nickel (0) can be exemplified.

【0069】有機金属試薬がホウ酸誘導体である場合、
すなわちM’がB(OV)2である場合には、反応は塩
基の存在下で行うのが望ましい。塩基としては、例えば
炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基や、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルアニリン
等の有機塩基を用いることができる。
When the organometallic reagent is a boric acid derivative,
That is, when M ′ is B (OV) 2 , the reaction is desirably performed in the presence of a base. As the base, for example, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate,
Inorganic bases such as sodium hydroxide and potassium hydroxide and organic bases such as triethylamine, tributylamine and dimethylaniline can be used.

【0070】反応式[化72]で得られた化合物は、反
応式[化69]に従ってシラシクロヘキサン型液晶化合
物に導くことができる。この際、温度は好ましくは0〜
150℃、更に好ましくは20〜120℃で行われると
よい。
The compound obtained by the reaction formula [Formula 72] can be converted to a silacyclohexane type liquid crystal compound according to the reaction formula [Formula 69]. At this time, the temperature is preferably 0 to
It is good to carry out at 150 ° C, more preferably at 20 to 120 ° C.

【0071】以上によって製造された化合物は、再結晶
やクロマトグラフィー等の常法によって精製することに
より、目的のトランス,トランス体のシラシクロヘキサ
ン型液晶化合物を得ることができる。
The compound produced as described above can be purified by a conventional method such as recrystallization or chromatography to obtain the desired trans- or trans-form silacyclohexane-type liquid crystal compound.

【0072】[0072]

【実施例】以下に具体的な実施例を挙げて本発明をさら
に詳しく説明する。
The present invention will be described below in more detail with reference to specific examples.

【0073】[実施例1] 4−(4−フェニル−4−n−プロピル−4−シラシク
ロヘキシル)シクロヘキサノンの製造 4−フェニル−4−n−プロピル−4−シラシクロヘキ
サンカルバルデヒド246gを、メトキシメチルトリフ
ェニルホスホニウムクロリド350gとカリウムt−ブ
トキシド130gとからテトラヒドロフラン800ml
中で調製したイリド溶液に滴下した。室温で2時間攪拌
した後、反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出した。
エーテル溶液をブラインで洗浄、乾燥、濃縮した残渣に
n−ヘキサンを加え、生じたトリフェニルホスフィンオ
キシドの結晶を濾別し、濾液を濃縮して粗メチルエーテ
ルを得た。このものを塩化メチレンに溶かし、20%塩
酸を加えて室温で5時間攪拌した。塩化メチレン層をブ
ラインで洗浄、乾燥、濃縮した後、シリカゲルクロマト
グラフィーで精製して4−フェニル−4−n−プロピル
−4−シラシクロヘキシルアセトアルデヒド255g
(収率98%)を得た。 IR(液膜) νmax:2920,1720,110
5,695cm-1
Example 1 Production of 4- (4-phenyl-4-n-propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone 246 g of 4-phenyl-4-n-propyl-4-silacyclohexanecarbaldehyde was added to methoxymethyl 800 ml of tetrahydrofuran from 350 g of triphenylphosphonium chloride and 130 g of potassium t-butoxide
Was dropped into the ylide solution prepared in the above. After stirring at room temperature for 2 hours, the reaction mixture was poured into water and extracted with ether.
The ether solution was washed with brine, dried and concentrated, and n-hexane was added to the residue. The generated triphenylphosphine oxide crystals were separated by filtration, and the filtrate was concentrated to obtain crude methyl ether. This was dissolved in methylene chloride, 20% hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. The methylene chloride layer was washed with brine, dried and concentrated, and then purified by silica gel chromatography to obtain 4-phenyl-4-n-propyl-4-silacyclohexylacetaldehyde (255 g).
(98% yield). IR (liquid film) νmax: 2920, 1720, 110
5,695cm -1

【0074】このものとピロリジン75gとベンゼン8
00mlの混合物を還流しながら生じた水を除去した。
水の留出が止ったら、メチルビニルケトン80gとメタ
ノール200mlの混合物を加え、室温で48時間攪拌
した。反応混合物に、酢酸100ml、酢酸ナトリウム
50g及び水100mlを加え、4時間攪拌した。反応
混合物をベンゼンで抽出し、ブラインで洗浄、乾燥、濃
縮の後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製して、4
−(4−フェニル−4−n−プロピル−4−シラシクロ
ヘキシル)−2−シクロへキセノン(αβ−不飽和ケト
ン)164g、4−(4−フェニル−4−n−プロピル
−4−シラシクロヘキシル)−3−シクロヘキセノン7
0g(βγ−不飽和ケトン)70g(収率合せて76
%)を得た。 IR(液膜)νmax(αβ−不飽和ケトン):292
0,1675,1105,695cm-1 IR(液膜)νmax(βγ−不飽和ケトン):292
0,1715,1105,700cm-1
This, 75 g of pyrrolidine and 8 benzene
The resulting water was removed while refluxing 00 ml of the mixture.
When the distillation of water stopped, a mixture of 80 g of methyl vinyl ketone and 200 ml of methanol was added, and the mixture was stirred at room temperature for 48 hours. 100 ml of acetic acid, 50 g of sodium acetate and 100 ml of water were added to the reaction mixture, and the mixture was stirred for 4 hours. The reaction mixture was extracted with benzene, washed with brine, dried, concentrated and purified by silica gel chromatography to give 4
164 g of-(4-phenyl-4-n-propyl-4-silacyclohexyl) -2-cyclohexenone (αβ-unsaturated ketone), 4- (4-phenyl-4-n-propyl-4-silacyclohexyl) -3-cyclohexenone 7
0 g (βγ-unsaturated ketone) 70 g (a total of 76
%). IR (liquid film) νmax (αβ-unsaturated ketone): 292
0,1675,1105,695 cm -1 IR (liquid film) νmax (βγ-unsaturated ketone): 292
0,1715,1105,700cm -1

【0075】この両不飽和ケトンの混合物をエタノール
300mlに溶かし、パラジウム−炭素2.0gを触媒
として、10kg/cm2の圧力下に水素添加した。理
論量の水素が消費されたら、触媒を濾別し、減圧濃縮し
て、目的物234g(収率99%)を得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.50−2.60(2
5H,m),7.25−7.65(5H,m)ppm GS−MS(70eV)(m/z)+:105,12
3,208,236,271,314 IR(液膜) νmax:2920,1710,142
5,1105,700cm-1
The mixture of the unsaturated ketones was dissolved in 300 ml of ethanol, and hydrogenated under a pressure of 10 kg / cm 2 using 2.0 g of palladium-carbon as a catalyst. When the theoretical amount of hydrogen was consumed, the catalyst was separated by filtration and concentrated under reduced pressure to obtain 234 g (yield: 99%) of the desired product. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.50-2.60 (2
5H, m), 7.25-7.65 (5H, m) ppm GS-MS (70 eV) (m / z) + : 105,12
3,208,236,271,314 IR (liquid film) νmax: 2920, 1710, 142
5,1105,700cm -1

【0076】実施例1と同様にして以下の化合物を得
た。
The following compounds were obtained in the same manner as in Example 1.

【0077】[実施例2] 4−(4−(3−メチルブチル)−4−フェニル−4−
シラシクロヘキシル)シクロヘキサノン 4−(3−メチルブチル)−4−フェニル−4−シラシ
クロヘキサンカルバルデヒドから実施例1と同様の方法
で得た。
Example 2 4- (4- (3-methylbutyl) -4-phenyl-4-
Silacyclohexyl) cyclohexanone Obtained from 4- (3-methylbutyl) -4-phenyl-4-silacyclohexanecarbaldehyde in the same manner as in Example 1.

【0078】[実施例3] 4−(4,4−ジフェニル−4−シラシクロヘキシル)
シクロヘキサノンの製造 4,4−ジフェニル−4−シラシクロヘキサンカルバル
デヒド30.0gから実施例1と同様の方法で4,4−
ジフェニル−4−シラシクロヘキシルアルデヒド29.
4g(収率93%)を得た。 IR(液膜)νmax:3060,2920,171
0,1425,1110,725,695cm-1
Example 3 4- (4,4-diphenyl-4-silacyclohexyl)
Production of cyclohexanone From 4,0.0-diphenyl-4-silacyclohexanecarbaldehyde 30.0 g, 4,4-diphenyl-4-silacyclohexanecarbaldehyde was prepared in the same manner as in Example 1.
Diphenyl-4-silacyclohexylaldehyde 29.
4 g (93% yield) were obtained. IR (liquid film) νmax: 3060, 2920, 171
0,1425,1110,725,695cm -1

【0079】このもの29.4gとピペリジン8.6g
とベンゼン100mlの混合物を還流しながら生じた水
を除去した。水の留出が止ったら、、メチルビニルケト
ン7.5gと1,4−ジオキサン100mlを加え、2
時間40℃で攪拌した。反応混合物に20%塩酸200
mlを加え、2時間還流させた後、有機層をブライイン
で洗浄、乾燥、濃縮してα−(4,4−ジフェニル−4
−シラシクロヘキシル)−α−(3−ケトブチル)アセ
トアルデヒド32.4g(収率89%)を得た。 IR(液膜)νmax:3060,2920,171
5,1425,1105,725,700cm-1 GS−MS(70eV)(m/z)+:43,105,
183,199,287,307,364
29.4 g of this and 8.6 g of piperidine
The resulting water was removed while refluxing a mixture of water and 100 ml of benzene. When distillation of water stopped, 7.5 g of methyl vinyl ketone and 100 ml of 1,4-dioxane were added, and 2
Stirred at 40 ° C. for hours. 20% hydrochloric acid 200 in the reaction mixture
After the mixture was refluxed for 2 hours, the organic layer was washed with brine, dried and concentrated to give α- (4,4-diphenyl-4).
-Silacyclohexyl) -α- (3-ketobutyl) acetaldehyde (32.4 g, yield 89%) was obtained. IR (liquid film) νmax: 3060, 2920, 171
5,145,1105,725,700 cm -1 GS-MS (70 eV) (m / z) + : 43,105,
183,199,287,307,364

【0080】このもの32.4gをエタノール100m
lに溶かし、ナトリウムエトキシド0.5gを加え、2
時間還流させた後、20%塩酸にあけ、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル溶液をブラインで洗浄、乾燥、濃縮
の後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製して、4−
(4,4−ジフェニル−4−シラシクロヘキシル)−2
−シクロヘキセノン(αβ−不飽和ケトン)18.0g
と4−(4,4−ジフェニル−4−シラシクロヘキシ
ル)−3−シクロヘキセノン(βγ−不飽和ケトン)1
2.2g(収率合せて97%)を得た。 IR(液膜)νmax(αβ−不飽和ケトン):306
0,2920,1680,1415,1110,72
5,700cm-1 IR(液膜)νmax(βγ−不飽和ケトン):306
0,2920,1705,1420,1105,72
5,700cm-1
32.4 g of this product was put in 100 m of ethanol.
and added 0.5 g of sodium ethoxide.
After refluxing for an hour, the mixture was poured into 20% hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate solution was washed with brine, dried and concentrated, and then purified by silica gel chromatography to obtain 4-ethyl acetate.
(4,4-diphenyl-4-silacyclohexyl) -2
18.0 g of cyclohexenone (αβ-unsaturated ketone)
And 4- (4,4-diphenyl-4-silacyclohexyl) -3-cyclohexenone (βγ-unsaturated ketone) 1
2.2 g (97% in total yield) was obtained. IR (liquid film) νmax (αβ-unsaturated ketone): 306
0,2920,1680,1415,1110,72
5,700 cm -1 IR (liquid film) νmax (βγ-unsaturated ketone): 306
0,2920,1705,1420,1105,72
5,700cm -1

【0081】この両不飽和ケトンの混合物を実施例1と
同様の方法で水素添加して、目的物29.9g(収率9
9%)を得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.80−2.50(1
8H,m),7.20−7.70(10H,m)ppm IR(KBr disc)νmax:3050,292
0,1710,1415,1110,980,705c
-1 融点:92.1℃
This mixture of unsaturated ketones was hydrogenated in the same manner as in Example 1 to give 29.9 g of the desired product (yield 9%).
9%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.80-2.50 (1
8H, m), 7.20-7.70 (10H, m) ppm IR (KBr disc) νmax: 3050, 292
0, 1710, 1415, 1110, 980, 705c
m -1 melting point: 92.1 ° C

【0082】実施例3と同様にして以下の化合物を得
た。
The following compounds were obtained in the same manner as in Example 3.

【0083】[実施例4] 4−(4−n−ペンチル−4−フェニル−4−シラシク
ロヘキシル)シクロヘキサノン 4−n−ペンチル−4−フェニル−4−シラシクロヘキ
サンカルバルデヒドから実施例3と同様に得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.50−2.50(2
9H,m),7.20−7.65(5H,m)ppm IR(液膜)νmax:2920,1715,141
5,1105,700cm-1
Example 4 4- (4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone As in Example 3, from 4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexanecarbaldehyde Obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.50-2.50 (2
9H, m), 7.20-7.65 (5H, m) ppm IR (liquid film) νmax: 2920, 1715, 141
5,1105,700cm -1

【0084】[実施例5] 4−(4−(4−ペンテニル)−4−フェニル−4−シ
ラシクロヘキシル)シクロヘキサノン 4−(4−ペンテニル)−4−フェニル−4−シラシク
ロヘキシル)シクロヘキサンカルバルデヒドから実施例
3と同様に得た。
Example 5 4- (4- (4-pentenyl) -4-phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone From 4- (4-pentenyl) -4-phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanecarbaldehyde Obtained in the same manner as in Example 3.

【0085】[実施例6] トランス,トランス−4−(4−(4−フルオロフェニ
ル)シクロヘキシル)−1−n−プロピル−1−シラシ
クロヘキサンの製造 1.0M p−フルオロフェニルマグネシウムクロリド
のテトラヒドロフラン溶液120mlに、4−(4−フ
ェニル−4−n−プロピル−4−シラシクロヘキシル)
シクロヘキサノン31.5gを40〜50℃で滴下し
た。50℃で2時間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム
水溶液にあけ、ベンゼンで抽出した。ベンゼン溶液にp
−トルエンスルホン酸1水和物1.0gを加え、還流し
ながら生じた水を留出した。水の留出が止ったら、ベン
ゼン溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、乾燥、濃
縮すると、粗4−(4−(4−フルオロフェニル)−3
−シクロヘキセニル)−1−フェニル−1−n−プロピ
ル−1−シラシクロヘキサンが得られた。このものをエ
タノール100mlに溶かし、パラジウム−炭素1.0
gを触媒として水素添加し、触媒を濾別後、濃縮して、
4−(4−(4−フルオロフェニル)シクロヘキシル)
−1−フェニル−1−n−プロピル−1−シラシクロヘ
キサン35.0g(収率88%)を得た。 IR(液膜)νmax:2920,2860,151
0,1225,1110,825,695cm-1
Example 6 Preparation of trans, trans-4- (4- (4-fluorophenyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1-silacyclohexane 1.0 M p-fluorophenylmagnesium chloride in tetrahydrofuran 4- (4-phenyl-4-n-propyl-4-silacyclohexyl) in 120 ml
31.5 g of cyclohexanone was added dropwise at 40 to 50 ° C. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was poured into a saturated aqueous solution of ammonium chloride and extracted with benzene. P in benzene solution
-Toluenesulfonic acid monohydrate (1.0 g) was added, and the generated water was distilled off under reflux. When the distillation of water stops, the benzene solution is washed with an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, dried and concentrated to give crude 4- (4- (4-fluorophenyl) -3.
-Cyclohexenyl) -1-phenyl-1-n-propyl-1-silacyclohexane was obtained. This was dissolved in 100 ml of ethanol, and palladium-carbon 1.0
g as a catalyst, and the catalyst was filtered off and concentrated.
4- (4- (4-fluorophenyl) cyclohexyl)
35.0 g (88% yield) of -1-phenyl-1-n-propyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2860, 151
0,1225,1110,825,695cm -1

【0086】このもの35gに室温で1.0M一塩化ヨ
ウ素の四塩化炭素溶液100mlを加え、30分間攪拌
した後、濃縮した。残渣をテトラヒドロフラン100m
lに溶かし、0℃で水素化アルミニウムリチウム4.0
gとテトラヒドロフラン50mlの混合物へ滴下した。
反応混合物を1時間攪拌した後、5%塩酸200mlに
あけ、酢酸エチルで抽出した。通常の洗浄、乾燥、濃縮
の後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製して、目的
物15.2g(収率54%)得た。13 C−NMR(CDCl3)δ:10.14(s),1
4.78(s),17.81(s),17.95
(s),28.63(s),29.95(s),34.
85(s),43.60(s),43.93(s),4
5.89(s),114.86(d),128.00
(d),143.38(s),161.12(d)pp
m IR(KBr disc)νmax:2918,284
8,2104,1605,1510,1448,122
7,1159,985,887cm-1
100 g of 1.0 M iodine monochloride in carbon tetrachloride was added to 35 g of this at room temperature, stirred for 30 minutes and concentrated. Residue in tetrahydrofuran 100m
and at 0 ° C., lithium aluminum hydride 4.0
g and 50 ml of tetrahydrofuran.
The reaction mixture was stirred for 1 hour, poured into 200 ml of 5% hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate. After ordinary washing, drying and concentration, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 15.2 g (yield 54%) of the desired product. 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.14 (s), 1
4.78 (s), 17.81 (s), 17.95
(S), 28.63 (s), 29.95 (s), 34.
85 (s), 43.60 (s), 43.93 (s), 4
5.89 (s), 114.86 (d), 128.00
(D), 143.38 (s), 161.12 (d) pp
m IR (KBr disc) νmax: 2918,284
8, 2104, 1605, 1510, 1448, 122
7,1159,985,887cm -1

【0087】実施例6と同様にして以下の化合物を得
た。
The following compounds were obtained in the same manner as in Example 6.

【0088】[実施例7] 4−(4−フェニル−4−ペンチル−4−シラシクロヘ
キシル)シクロヘキサノンと4−クロロ−3−フルオロ
フェニルマグネシウムクロリドを用いてトランス,トラ
ンス−4−(4−(4−クロロ−3−フルオロフェニ
ル)シクロヘキシル−1−n−ペンチル−1−シラシク
ロヘキサンを得た。 GS−MS(70eV)(m/z)+:71,99,1
43,187,269,309,345,380
Example 7 Trans, trans-4- (4- (4 (4)-(4-phenyl-4-pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone and 4-chloro-3-fluorophenyl magnesium chloride were used. -Chloro-3-fluorophenyl) cyclohexyl-1-n-pentyl-1-silacyclohexane GS-MS (70 eV) (m / z) + : 71,99,1
43,187,269,309,345,380

【0089】[実施例8] 4−(4−フェニル−4−ペンチル−4−シラシクロヘ
キシル)シクロヘキサノンとp−フルオロフェニルマグ
ネシウムクロリドを用いてトランス,トランス−4−
(4−(4−フルオロフェニル)シクロヘキシル)−1
−n−ペンチル−1−シラシクロヘキサンを得た。13 C−NMR(CDCl3)δ:10.12(s),1
2.19(s),14.01(s),22.37
(s),24.13(s),28.63(s),29.
95(s),34.86(s),35.41(s),4
3.60(s),43.94(s),45.91
(s),114.86(d),128.00(d),1
43.37(d),161.12(d)ppm IR(KBr disc)νmax:2918,284
8,2100,1603,1510,1227,98
7,885cm-1
Example 8 Trans, trans-4- was prepared using 4- (4-phenyl-4-pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone and p-fluorophenylmagnesium chloride.
(4- (4-fluorophenyl) cyclohexyl) -1
-N-pentyl-1-silacyclohexane was obtained. 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.12 (s), 1
2.19 (s), 14.01 (s), 22.37
(S), 24.13 (s), 28.63 (s), 29.
95 (s), 34.86 (s), 35.41 (s), 4
3.60 (s), 43.94 (s), 45.91
(S), 114.86 (d), 128.00 (d), 1
43.37 (d), 161.12 (d) ppm IR (KBr disc) νmax: 2918, 284
8,2100,1603,1510,1227,98
7,885 cm -1

【0090】[実施例9] 4−(4−フェニル−4−n−プロピル−4−シラシク
ロヘキシル)シクロヘキサノンと3,4−ジフルオロフ
ェニルマグネシウムブロミドを用いてトランス,トラン
ス−4−(4−(3,4−ジフルオロフェニル)シクロ
ヘキシル)−1−n−プロピル−1−シラシクロヘキサ
ンを得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.38−0.62(2
H,m),0.84−1.43(15H,m),1.6
6−1.76(2H,m),1.80−1.95(4
H,m),2.38(1H,tt),3.66−3.7
6(1H,m),6.83−7.09(3H,m)pp
m IR(KBr disc)νmax:2924,285
4,2100,1606,1518,1279,98
7,887cm-1
Example 9 trans, trans-4- (4- (3- (3- (4-phenyl-3-n-propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone) and 3,4-difluorophenylmagnesium bromide were used. , 4-Difluorophenyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1-silacyclohexane was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.38-0.62 (2
H, m), 0.84-1.43 (15H, m), 1.6.
6-1.76 (2H, m), 1.80-1.95 (4
H, m), 2.38 (1H, tt), 3.66-3.7
6 (1H, m), 6.83-7.09 (3H, m) pp
m IR (KBr disc) νmax: 2924,285
4,2100,1606,1518,1279,98
7,887 cm -1

【0091】[実施例10] 4−(4−フェニル−4−(メチルブチル)−4−シラ
シクロヘキシル)シクロヘキサノンと3,4−ジフルオ
ロフェニルマグネシウムブロミドを用いてトランス,ト
ランス−4−(4−(3,4−ジフルオロフェニル)シ
クロヘキシル)−1−(3−メチルブチル)−1−シラ
シクロヘキサンを得た。13 C−NMR(CDCl3)δ:9.70(s),1
0.01(s),22.12(s),28.60
(s),29.80(s),30.70(s),33.
48(s),34.65(s),43.52(s),4
3.89(s),45.84(s),115.38
(d),116.71(d),124.45(dd),
144.79(dd),148.52(dd),15
0.16(dd)ppm IR(液膜)νmax:2922,2852,210
0,1608,1518,1279,1207,98
7,889cm-1
Example 10 Using 4- (4-phenyl-4- (methylbutyl) -4-silacyclohexyl) cyclohexanone and 3,4-difluorophenylmagnesium bromide, trans, trans-4- (4- (3 , 4-Difluorophenyl) cyclohexyl) -1- (3-methylbutyl) -1-silacyclohexane was obtained. 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 9.70 (s), 1
0.01 (s), 22.12 (s), 28.60
(S), 29.80 (s), 30.70 (s), 33.
48 (s), 34.65 (s), 43.52 (s), 4
3.89 (s), 45.84 (s), 115.38
(D), 116.71 (d), 124.45 (dd),
144.79 (dd), 148.52 (dd), 15
0.16 (dd) ppm IR (liquid film) νmax: 2922, 2852, 210
0, 1608, 1518, 1279, 1207, 98
7,889 cm -1

【0092】[実施例11] 4−(4−フェニル−4−(ペンテニル)−4−シラシ
クロヘキシル)シクロヘキサノンと3,4−ジフルオロ
フェニルマグネシウムブロミドを用いてトランス,トラ
ンス−4−(4−(3,4−ジフルオロフェニル)シク
ロヘキシル)−1−(4−ペンテニル)−1−シラシク
ロヘキサンを得た。13 C−NMR(CDCl3)δ:10.01(s),1
1.73(s),23.89(s),28.56
(s),29.77(s),34.61(s),37.
16(s),43.50(s),43.83(s),4
5.80(s),114.54(s),115.30
(d),116.66(d),122.39(dd),
138.57(s),144.70(dd),148.
49(dd),150.13(dd)ppm IR(液膜)νmax:2922,2852,210
0,1606,1518,1279,1117,88
7,818cm-1
Example 11 trans, trans-4- (4- (3- (3- (3-phenyl-4- (pentenyl) -4-silacyclohexyl) cyclohexanone) and 3,4-difluorophenyl magnesium bromide were used. , 4-Difluorophenyl) cyclohexyl) -1- (4-pentenyl) -1-silacyclohexane was obtained. 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.01 (s), 1
1.73 (s), 23.89 (s), 28.56
(S), 29.77 (s), 34.61 (s), 37.
16 (s), 43.50 (s), 43.83 (s), 4
5.80 (s), 114.54 (s), 115.30
(D), 116.66 (d), 122.39 (dd),
138.57 (s), 144.70 (dd), 148.
49 (dd), 150.13 (dd) ppm IR (liquid film) νmax: 2922, 2852, 210
0,1606,1518,1279,1117,88
7,818 cm -1

【0093】[実施例12] 4−(4−フェニル−4−(ペンテニル)−4−シラシ
クロヘキシル)シクロヘキサノンと3,4−ジフルオロ
フェニルマグネシウムブロミドを用いてトランス,トラ
ンス−4−(4−(3,4−ジフルオロフェニル)シク
ロヘキシル)−1−n−ペンチル−1−シラシクロヘキ
サンを得た。13 C−NMR(CDCl3):δ10.11(s),1
2.17(s),13.99(s),22.38
(s),24.14(s),28.62(s),29.
80(s),34.65(s),35.43(s),4
3.55(s),43.89(s),45.86
(s),115.36(d),116.70(d),1
22.42(s),144.78(s),148.43
(dd),150.17(dd)ppm IR(KBr disc)νmax:2922,285
2,2100,1606,1518,1279,120
7,987,887cm-1
Example 12 Using 4- (4-phenyl-4- (pentenyl) -4-silacyclohexyl) cyclohexanone and 3,4-difluorophenylmagnesium bromide, trans, trans-4- (4- (3 , 4-Difluorophenyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-silacyclohexane was obtained. 13 C-NMR (CDCl 3): δ 10.11 (s), 1
2.17 (s), 13.99 (s), 22.38
(S), 24.14 (s), 28.62 (s), 29.
80 (s), 34.65 (s), 35.43 (s), 4
3.55 (s), 43.89 (s), 45.86
(S), 115.36 (d), 116.70 (d), 1
22.42 (s), 144.78 (s), 148.43
(Dd), 150.17 (dd) ppm IR (KBr disc) νmax: 2922,285
2,2100,1606,1518,1279,120
7,987,887cm -1

【0094】[実施例13] 4−(4−フェニル−4−(ペンチル)−4−シラシク
ロヘキシル)シラシクロヘキサノンとp−[(S)−2
−メチルブチル]フェニルマグネシウムブロミドを用い
てトランス,トランス−4−(4−((S)−2−メチ
ルブチル)フェニル)シクロヘキシル)−1−n−ペン
チル−1−シラシクロヘキサンを得た。
Example 13 4- (4-phenyl-4- (pentyl) -4-silacyclohexyl) silacyclohexanone and p-[(S) -2
-Methylbutyl] phenylmagnesium bromide was used to obtain trans, trans-4- (4-((S) -2-methylbutyl) phenyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-silacyclohexane.

【0095】[実施例14] 4−(4−フェニル−4−(プロピル)−4−シラシク
ロヘキシル)シラシクロヘキサノンとトリフルオロメト
キシフェニルマグネシウムブロミドを用いてトランス,
トランス−4−(4−(4−トリフルオロメトキシフェ
ニル)シクロヘキシル)−1−n−プロピル−1−シラ
シクロヘキサンを得た。13 C−NMR(CDCl3):δ10.16(s),1
4.76(s),17.79(s),17.97
(s),28.65(s),29.91(s),34.
70(s),43.60(s),44.10(s),4
5.91(s),120.57(q),120.76
(s),127.96(s),146.45(s),1
47.28(s)ppm IR(KBr disc)νmax:2924,285
4,2108,1510,1263,1225,119
0,1161,985,887cm-1
Example 14 Using 4- (4-phenyl-4- (propyl) -4-silacyclohexyl) silacyclohexanone and trifluoromethoxyphenyl magnesium bromide,
Trans-4- (4- (4-trifluoromethoxyphenyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1-silacyclohexane was obtained. 13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 10.16 (s), 1
4.76 (s), 17.79 (s), 17.97
(S), 28.65 (s), 29.91 (s), 34.
70 (s), 43.60 (s), 44.10 (s), 4
5.91 (s), 120.57 (q), 120.76
(S), 127.96 (s), 146.45 (s), 1
47.28 (s) ppm IR (KBr disc) νmax: 2924,285
4,2108,1510,1263,1225,119
0,1161,985,887cm -1

【0096】[実施例15] 4−(4−フェニル−4−n−ペンチル−4−シラシク
ロヘキシル)シクロヘキサノンとトリフルオロメトキシ
フェニルマグネシウムブロミドを用いてトランス,トラ
ンス−4−(4−(4−トリフルオロメトキシフェニ
ル)シクロヘキシル)−1−n−ペンチル−1−シラシ
クロヘキサンを得た。13 C−NMR(CDCl3):δ10.11(s),1
2.17(s),13.99(s),22.37
(s),24.12(s),28.62(s),29.
90(s),34.68(s),35.40(s),4
3.57(s),44.08(s),45.88
(s),120.55(q),120.76(s),1
27.96(s),146.46(s),147.26
(s)ppm IR(KBr disc)νmax:2924,285
4,2102,1510,1267,1223,119
4,1159,987,887cm-1
Example 15 Trans, trans-4- (4- (4-tri-4-phenyl-4-n-pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone and trifluoromethoxyphenyl magnesium bromide were used. Fluoromethoxyphenyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-silacyclohexane was obtained. 13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 10.11 (s), 1
2.17 (s), 13.99 (s), 22.37
(S), 24.12 (s), 28.62 (s), 29.
90 (s), 34.68 (s), 35.40 (s), 4
3.57 (s), 44.08 (s), 45.88
(S), 120.55 (q), 120.76 (s), 1
27.96 (s), 146.46 (s), 147.26
(S) ppm IR (KBr disc) νmax: 2924,285
4,2102,1510,1267,1223,119
4,1159,987,887 cm -1

【0097】[実施例16] 4−(4−フェニル−4−n−プロピル−4−シラシク
ロヘキシル)シクロヘキサノンとクロロフェニルマグエ
ンシウムブロミドを用いてトランス,トランス−4−
(4−(4−クロロフェニル)シクロヘキシル)−1−
n−プロピル−1−シラシクロヘキサンを得た。
Example 16 Trans, trans-4- was prepared using 4- (4-phenyl-4-n-propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone and chlorophenylmagnesium bromide.
(4- (4-chlorophenyl) cyclohexyl) -1-
There was obtained n-propyl-1-silacyclohexane.

【0098】[実施例17] トランス,トランス−4−(4−n−プロピル−4−シ
ラシクロヘキシル)シクロヘキシル−4’−フルオロビ
フェニルの製造 実施例6と同様の方法で、4−(4−フェニル−4−n
−プロピル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキサノ
ン31.5gに4−(4−フルオロフェニル)フェニル
マグネシウムブロミド(25g)を反応させ、生じたア
ルコールを脱水、次いで接触還元して、4−(4−フェ
ニル−4−n−プロピル−4−シラシクロヘキシル)シ
クロヘキシル−4’−フルオロビフェニルを得、次いで
一塩化ヨウ素と反応させ、更に水素化アルミニウムリチ
ウムで還元することにより、目的物14.4g(収率3
6%)を得た。13 C−NMR(CDCl3):δ10.13(s),1
4.78(s),17.81(s),17.95
(s),28.62(s),29.98(s),34.
66(s),43.61(s),44.32(s),4
5.91(s),115.49(d),126.86
(s),127.28(s),128.46(d),1
37.29(s),137.75(s),146.99
(s),162.27(d)ppm IR(KBr disc)νmax:2920,209
8,1493,1236,984,847,845,8
18cm-1
Example 17 Preparation of trans, trans-4- (4-n-propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl-4'-fluorobiphenyl In the same manner as in Example 6, 4- (4-phenyl -4-n
-Propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone was reacted with 4- (4-fluorophenyl) phenylmagnesium bromide (25 g), and the resulting alcohol was dehydrated and catalytically reduced to give 4- (4-phenyl- 4-n-propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl-4'-fluorobiphenyl was obtained, then reacted with iodine monochloride, and further reduced with lithium aluminum hydride to obtain 14.4 g of the desired product (yield 3).
6%). 13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 10.13 (s), 1
4.78 (s), 17.81 (s), 17.95
(S), 28.62 (s), 29.98 (s), 34.
66 (s), 43.61 (s), 44.32 (s), 4
5.91 (s), 115.49 (d), 126.86
(S), 127.28 (s), 128.46 (d), 1
37.29 (s), 137.75 (s), 146.99
(S), 162.27 (d) ppm IR (KBr disc) νmax: 2920, 209
8,1493,1236,984,847,845,8
18cm -1

【0099】実施例17と同様にして以下の化合物を得
た。
The following compounds were obtained in the same manner as in Example 17.

【0100】[実施例18] 4−(4−フェニル−4−n−ペンチル−4−シラシク
ロヘキシル)シクロヘキサノンと4−(4−フルオロフ
ェニル)フェニルマグネシウムブロミドを用いてトラン
ス,トランス−4−(4−n−ペンチル−4−シラシク
ロヘキシル)シクロヘキシル−4’−フルオロビフェニ
ルを得た。13 C−NMR(CDCl3):δ10.11(s),1
2.18(s),14.01(s),22.36
(s),24.12(s),28.62(s),29.
98(s),34.66(s),35.40(s),4
3.62(s),44.32(s),45.91
(s),115.49(d),126.85(s),1
27.27(s),128.45(d),137.29
(s),137.73(s),146.98(s)16
2.27(d)ppm IR(KBr disc)νmax:2918,209
8,1493,1448,1236,985,847,
818cm-1
Example 18 Trans, trans-4- (4) was prepared using 4- (4-phenyl-4-n-pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone and 4- (4-fluorophenyl) phenylmagnesium bromide. -N-pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl-4'-fluorobiphenyl was obtained. 13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 10.11 (s), 1
2.18 (s), 14.01 (s), 22.36
(S), 24.12 (s), 28.62 (s), 29.
98 (s), 34.66 (s), 35.40 (s), 4
3.62 (s), 44.32 (s), 45.91
(S), 115.49 (d), 126.85 (s), 1
27.27 (s), 128.45 (d), 137.29
(S), 137.73 (s), 146.98 (s) 16
2.27 (d) ppm IR (KBr disc) νmax: 2918, 209
8, 1493, 1448, 1236, 985, 847,
818 cm -1

【0101】[実施例19] トランス,トランス−4−(4−n−プロピル−4−シ
ラシクロヘキシル)シクロヘキシル−3’,4’−ジフ
ルオロビフェニルの製造 トランス,トランス−4−(4−(4−クロロフェニ
ル)シクロヘキシル)−1−n−プロピル−1−シラシ
クロヘキサン4.11g、1,3−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)プロパンニッケル(II)クロリド200m
g及びエーテル50mlの混合物に、1.0Mの3,4
−ジフルオロフェニルマグネシウムブロミドのテトラヒ
ドロフラン溶液12mlを滴下した。室温で18時間攪
拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エ
チルで抽出した。通常の洗浄、乾燥、濃縮の後、シリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製して、目的物3.52g
(収率85%)を得た。13 C−NMR(CDCl3)δ:10.12(s),1
4.77(s),17.80(s),17.94
(s),28.61(s),29.95(s),34.
63(s),43.60(s),44.33(s),4
5.89(s),115.75(d),117.39
(d),122.75(dd),126.81(s),
127.41(s),136.65(s),138.3
0(dd),147.64(S),149.71(d
d),150.47(dd)ppm IR(KBr disc)νmax:2916,284
8,2104,1533,1506,1279,98
5,889,845,814cm-1
Example 19 Production of trans, trans-4- (4-n-propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl-3 ′, 4′-difluorobiphenyl trans, trans-4- (4- (4- (4- 4.11 g of chlorophenyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1-silacyclohexane, 200 m of 1,3-bis (diphenylphosphino) propane nickel (II) chloride
g and 50 ml of ether in 1.0M 3,4
12 ml of a tetrahydrofuran solution of -difluorophenylmagnesium bromide was added dropwise. After stirring at room temperature for 18 hours, the mixture was poured into a saturated aqueous ammonium chloride solution and extracted with ethyl acetate. After ordinary washing, drying and concentration, the residue is purified by silica gel chromatography to obtain 3.52 g of the desired product
(85% yield). 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.12 (s), 1
4.77 (s), 17.80 (s), 17.94
(S), 28.61 (s), 29.95 (s), 34.
63 (s), 43.60 (s), 44.33 (s), 4
5.89 (s), 115.75 (d), 117.39
(D), 122.75 (dd), 126.81 (s),
127.41 (s), 136.65 (s), 138.3
0 (dd), 147.64 (S), 149.71 (d
d), 150.47 (dd) ppm IR (KBr disc) νmax: 2916, 284
8,2104,1533,1506,1279,98
5,889,845,814cm -1

【0102】実施例19と同様にして以下の化合物を得
た。
The following compounds were obtained in the same manner as in Example 19.

【0103】[実施例20] トランス,トランス−4−(4−(4−クロロフェニ
ル)シクロヘキシル)−1−n−ペンチル−1−シラシ
クロヘキサノンを用いてトランス,トランス−4−(4
−n−ペンチル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキ
シル−3’,4’−ジフルオロビフェニルを得た。13 C−NMR(CDCl3)δ:10.10(s),1
2.16(s),14.00(s),22.36
(s),24.11(s),28.61(s),29.
95(s),34.63(s),35.39(s),4
3.60(s),44.33(s),45.89
(s),115.75(d),117.38(d),1
22.72(dd),126.80(s),127.4
0(s),136.64(S),138.29(d
d),147.63(s),148.27(dd),1
51.91(dd)ppm IR(液膜)νmax:2918,2106,153
1,1506,1311,985,887,835,8
10cm-1
Example 20 trans, trans-4- (4- (4-chlorophenyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-silacyclohexanone was used for trans, trans-4- (4
-N-pentyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl-3 ', 4'-difluorobiphenyl was obtained. 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.10 (s), 1
2.16 (s), 14.00 (s), 22.36
(S), 24.11 (s), 28.61 (s), 29.
95 (s), 34.63 (s), 35.39 (s), 4
3.60 (s), 44.33 (s), 45.89
(S), 115.75 (d), 117.38 (d), 1
22.72 (dd), 126.80 (s), 127.4
0 (s), 136.64 (S), 138.29 (d
d), 147.63 (s), 148.27 (dd), 1
51.91 (dd) ppm IR (liquid film) νmax: 2918, 2106, 153
1,1506,1311,985,887,835,8
10cm -1

【0104】[0104]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のシクロヘ
キサノオン化合物は液晶化合物を製造する際の有用な合
成中間体であり、またこの化合物を誘導することにより
種々のシラシクロヘキサン型液晶化合物を製造すること
ができる。
As described above, the cyclohexanoone compound of the present invention is a useful synthetic intermediate for producing a liquid crystal compound, and various silacyclohexane type liquid crystal compounds can be obtained by deriving this compound. Can be manufactured.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荻原 勤 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 中島 睦雄 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 金子 達志 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 Fターム(参考) 4H027 BD02 BD04 DJ04 DJ05 4H049 VN01 VP01 VQ02 VQ07 VQ84 VR24 VS03 VS05 VS23 VS35 VU25 VW02 VW35 VW38  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tsutomu Ogihara 28, Nishifukushima, Okufukumura, Nakakubijo-gun, Niigata Pref. Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd. Synthetic Technology Research Laboratories (72) Inventor Mutsuo Nakajima Nakatsugi-gun, Niigata (28) Inventor Tatsushi Kaneko, 28, Nishifukushima, Nakakushiro-gun, Niigata Prefecture, Japan Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd. F term (reference) 4H027 BD02 BD04 DJ04 DJ05 4H049 VN01 VP01 VQ02 VQ07 VQ84 VR24 VS03 VS05 VS23 VS35 VU25 VW02 VW35 VW38

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(I)で表されるシクロヘキ
サノン化合物。 【化1】 但し、Arはフェニル基又はトリル基、RはAr、炭素
数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜10のモノ
又はジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状ア
ルキル基又は炭素数2〜7のアルコキシアルキル基を表
す。
1. A cyclohexanone compound represented by the following general formula (I). Embedded image However, Ar is a phenyl group or a tolyl group, R is Ar, a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a mono- or difluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms. Or an alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms.
【請求項2】 一般式 【化2】 (式中においてR1 及びR2は、それぞれ炭素数1〜4の
アルキル基又はR1とR2とで環状をなす−(CH2
4−、−(CH25−及び−(CH22O(CH22
のいずれかを表す。)で表されるエナミン化合物とメチ
ルビニルケトンとをマイケル付加反応させ、一般式 【化3】 で表されるマイケル付加物を得、このマイケル付加物を
そのまま分子内アルドール縮合させるか又はこのマイケ
ル付加物を加水分解することにより、一般式 【化4】 で表されるケトアルデヒド化合物を得、次にこのケトア
ルデヒド化合物を分子内アルドール縮合させることによ
り、一般式 【化5】 (但し、 【化6】 は、 【化7】 または 【化8】 を表す。)で表されるシクロヘキセノン化合物を得、次
いでこのシクロヘキセノン化合物を水素添加することに
より、請求項1に記載された一般式(I)で表されるシ
クロヘキサノン化合物を製造することを特徴とするシク
ロヘキサノン化合物の製造方法。
2. A compound of the general formula(Where R1 And RTwoAre each having 1 to 4 carbon atoms
Alkyl group or R1And RTwoAnd-(CHTwo)
Four-,-(CHTwo)Five-And-(CHTwo)TwoO (CHTwo)Two
Represents any of ) And enamine compounds represented by
Michael addition reaction with vinyl vinyl ketone gives the general formulaAnd obtains the Michael adduct represented by
Intramolecular aldol condensation or
By hydrolyzing the adduct, a compound of the general formulaThe ketoaldehyde compound represented by
By subjecting aldehyde compounds to intramolecular aldol condensation
And the general formula(However,IsOrRepresents ) To obtain a cyclohexenone compound represented by the following formula:
Hydrogenation of this cyclohexenone compound
Thus, the system represented by the general formula (I) described in claim 1
A method for producing a clohexanone compound.
A method for producing a rohexanone compound.
【請求項3】 請求項1に記載された一般式(I)で表
されるシクロヘキサノン化合物と、一般式 【化9】 (式中において、MはMgU(Uはハロゲンを表
す。)、ZnU、TiUk(OW)3-k(Wはアルキル
基、kは0から3の整数を表す。)又はLi、XはC
N、F、Cl、Br、CF3、OCF3、OCHF2、O
CHFCl、OCF2Cl、CF2Cl、(O)mCY1
CX12(mは0又は1、Y1及びX1はH、F又はCl
を表し、X2はF又はClを表す。)、O(CH2
r(CF2s3(r及びsは0、1又は2で且つ(r+
s)が2、3又は4を満たす数、X3はH、F又はCl
を表す。)、R又はOR基、Yはハロゲン又はCH3
iは0から2の整数を表す。)で表される有機金属試薬
とを反応させ、一般式 【化10】 で表される化合物を得、次いで加水素分解又は脱水後に
水素添加することにより、一般式 【化11】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(II) 【化12】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法。
3. A cyclohexanone compound represented by the general formula (I) according to claim 1 and a compound represented by the general formula: (Wherein, M is MgU (U represents halogen), ZnU, TiU k (OW) 3 -k (W is an alkyl group, k represents an integer of 0 to 3) or Li and X are C
N, F, Cl, Br, CF 3, OCF 3, OCHF 2, O
CHFCl, OCF 2 Cl, CF 2 Cl, (O) m CY 1 =
CX 1 X 2 (m is 0 or 1, Y 1 and X 1 are H, F or Cl
And X 2 represents F or Cl. ), O (CH 2 )
r (CF 2 ) s X 3 (r and s are 0, 1 or 2 and (r +
s) is a number satisfying 2, 3 or 4, and X 3 is H, F or Cl
Represents ), R or OR groups, Y is halogen or CH 3 ,
i represents an integer of 0 to 2. ) Is reacted with an organometallic reagent represented by the general formula: Is obtained by hydrogenation or dehydration followed by hydrogenation to give a compound of the general formula After obtaining the compound represented by
By reduction, the compound represented by the general formula (II) A method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound, characterized by obtaining a silacyclohexane type liquid crystal compound represented by the formula:
【請求項4】 請求項1に記載された一般式(I)で表
されるシクロヘキサノン化合物と、一般式 【化13】 (式中において、MはMgU(Uはハロゲンを表
す。)、ZnU、TiUk(OW)3-k(Wはアルキル
基、kは0から3の整数を表す。)又はLi、XはC
N、F、Cl、Br、CF3、OCF3、OCHF2、O
CHFCl、OCF2Cl、(O)mCY1=CX1
2(mは0又は1、Y1及びX1はH、F又はClを表
し、X2はF又はClを表す。)、O(CH2r(C
2s3(r及びsは0、1又は2で且つ(r+s)
が2、3又は4を満たす数、X3はH、F又はClを表
す。)、CF2Cl、R又はOR基、Y及びZはそれぞ
れ独立してハロゲン又はCH3、i及びjはそれぞれ独
立して0から2の整数を表す。)で表される有機金属試
薬とを反応させ、一般式 【化14】 で表される化合物を得、次いで加水素分解又は脱水後に
水素添加することにより、一般式 【化15】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(III) 【化16】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法。
4. A cyclohexanone compound represented by the general formula (I) according to claim 1 and a compound represented by the general formula: (Wherein, M is MgU (U represents halogen), ZnU, TiU k (OW) 3 -k (W is an alkyl group, k represents an integer of 0 to 3) or Li and X are C
N, F, Cl, Br, CF 3, OCF 3, OCHF 2, O
CHFCl, OCF 2 Cl, (O ) m CY 1 = CX 1 X
2 (m is 0 or 1, Y 1 and X 1 represent H, F or Cl, X 2 represents F or Cl), O (CH 2 ) r (C
F 2 ) s X 3 (r and s are 0, 1 or 2 and (r + s)
Is a number satisfying 2, 3 or 4, and X 3 represents H, F or Cl. ), CF 2 Cl, R or OR groups, Y and Z each independently represent halogen or CH 3 , i and j each independently represent an integer of 0 to 2. Is reacted with an organometallic reagent represented by the general formula: Is obtained by hydrogenolysis or dehydration followed by hydrogenation to give a compound of the general formula After obtaining the compound represented by
By reduction, the compound of the general formula (III) A method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound, characterized by obtaining a silacyclohexane type liquid crystal compound represented by the formula:
【請求項5】 請求項1に記載された一般式(I)で表
されるシクロヘキサノン化合物と、一般式 【化17】 (式中において、MはMgU(Uはハロゲンを表
す。)、ZnU、TiUk(OW)3-k(Wはアルキル
基、kは0、1、2又は3を表す。)又はLi、X’は
ハロゲン、Yはハロゲン又はCH3、iは0から2の整
数を表す。)で表される有機金属試薬とを反応させ、一
般式 【化18】 で表される化合物を得、次いで加水素分解又は脱水後に
水素添加することにより、一般式 【化19】 で表される化合物を得、次いでこの化合物と一般式 【化20】 (式中において、M’はMgU(Uはハロゲンを表
す。)、ZnU、TiUk(OW)3-k(Wはアルキル
基、kは0、1、2又は3を表す。)又はLi、X’は
ハロゲン、Yはハロゲン又はCH、iは0から2の整
数を表又はB(OV)2(VはH又はアルキル基を表
す。)を表す。)で表される有機金属試薬とを遷移金属
触媒の存在下に反応させ、一般式 【化21】 で表される化合物を得、次にデシリレーションした後、
還元することにより、一般式(III) 【化22】 で表されるシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ること
を特徴とするシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方
法。
5. A cyclohexanone compound represented by the general formula (I) according to claim 1 and a compound represented by the general formula: (Wherein, M is MgU (U represents halogen), ZnU, TiU k (OW) 3 -k (W represents an alkyl group, k represents 0, 1, 2, or 3), or Li, X Is a halogen, Y is a halogen or CH 3 , i is an integer of 0 to 2), and reacted with an organometallic reagent represented by the general formula: Is obtained by hydrogenolysis or dehydration followed by hydrogenation to give a compound of the general formula A compound of the formula (Wherein, M ′ is MgU (U represents halogen), ZnU, TiU k (OW) 3 -k (W represents an alkyl group, k represents 0, 1, 2, or 3) or Li, X ′ is halogen, Y is halogen or CH 3 , i is an integer of 0 to 2 or an organic metal reagent represented by B (OV) 2 (V represents H or an alkyl group) Is reacted in the presence of a transition metal catalyst to give a compound of the general formula After obtaining the compound represented by
By reduction, the compound represented by the general formula (III) A method for producing a silacyclohexane type liquid crystal compound, characterized by obtaining a silacyclohexane type liquid crystal compound represented by the formula:
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