JPH0880424A - 燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒 - Google Patents
燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒Info
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- JPH0880424A JPH0880424A JP6243411A JP24341194A JPH0880424A JP H0880424 A JPH0880424 A JP H0880424A JP 6243411 A JP6243411 A JP 6243411A JP 24341194 A JP24341194 A JP 24341194A JP H0880424 A JPH0880424 A JP H0880424A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、希薄焼結方式により発生する燃焼
排ガスの浄化方法であって、特定の触媒を用いることに
より、該排ガス中に水蒸気が共存する場合であっても該
排ガス中に含有される窒素酸化物を極めて効率良く浄化
できる前記浄化方法および該方法に用いられる触媒を提
供することを目的としている。 【構成】 本発明は、希薄燃焼方式により発生する燃焼
排ガスであって、該燃焼排ガスを、ＺＳＭ−５型ゼオラ
イト担体に第１成分としてインジウムを担持してなるＩ
ｎ−ＺＳＭ−５触媒にさらに第２成分としてイリジウ
ム、白金、ロジウム、クロム、パラジウム、鉄およびセ
リウムよりなる群から選ばれる金属を担持してなる活性
化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒の存在下に接触反応させること
を特徴とする燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用い
られる活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒を提供するものであ
る。
排ガスの浄化方法であって、特定の触媒を用いることに
より、該排ガス中に水蒸気が共存する場合であっても該
排ガス中に含有される窒素酸化物を極めて効率良く浄化
できる前記浄化方法および該方法に用いられる触媒を提
供することを目的としている。 【構成】 本発明は、希薄燃焼方式により発生する燃焼
排ガスであって、該燃焼排ガスを、ＺＳＭ−５型ゼオラ
イト担体に第１成分としてインジウムを担持してなるＩ
ｎ−ＺＳＭ−５触媒にさらに第２成分としてイリジウ
ム、白金、ロジウム、クロム、パラジウム、鉄およびセ
リウムよりなる群から選ばれる金属を担持してなる活性
化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒の存在下に接触反応させること
を特徴とする燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用い
られる活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒を提供するものであ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、燃焼排ガスの浄化方
法、特に希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスの浄化
方法および該方法に用いられる触媒に関する。
法、特に希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスの浄化
方法および該方法に用いられる触媒に関する。
【０００２】
【従来の技術およびその課題】近年、世界的に環境問題
への注目が集まり、自動車などの移動発生源のみなら
ず、コージェネレーション設備等の固定発生源に対して
も窒素酸化物、炭化水素、一酸化炭素等のより一層の除
去が急務となっている。
への注目が集まり、自動車などの移動発生源のみなら
ず、コージェネレーション設備等の固定発生源に対して
も窒素酸化物、炭化水素、一酸化炭素等のより一層の除
去が急務となっている。
【０００３】現在、燃焼効率や熱効率あるいは二酸化炭
素の排出を抑制するため、希薄燃焼方式をとることが望
ましいが、その場合排ガス中に、少量の低級炭化水素、
窒素酸化物および一酸化炭素と多量の酸素および水蒸気
とが存在することとなる。
素の排出を抑制するため、希薄燃焼方式をとることが望
ましいが、その場合排ガス中に、少量の低級炭化水素、
窒素酸化物および一酸化炭素と多量の酸素および水蒸気
とが存在することとなる。
【０００４】上記燃焼排ガスの浄化方法として、さらに
日本化学会第６５春季年会予稿集（平成５年３月１５日
発行）において、ＺＳＭ−５型ゼオライトまたはフェリ
エライト型ゼオライトよりなる担体にインジウムを担持
してなる触媒を用いる方法が報告されている。しかしな
がら、この方法によれば、水蒸気が共存しない場合に、
モルデナイト型ゼオライトにインジウムを担持してなる
触媒、またはＵＳＹ型ゼオライトにインジウムを担持し
てなる触媒を用いる場合に比べて、より高い触媒活性を
示しているが、触媒活性は満足すべき状態になく、まだ
水蒸気共存の場合の触媒活性の低下が大きい欠点があ
る。
日本化学会第６５春季年会予稿集（平成５年３月１５日
発行）において、ＺＳＭ−５型ゼオライトまたはフェリ
エライト型ゼオライトよりなる担体にインジウムを担持
してなる触媒を用いる方法が報告されている。しかしな
がら、この方法によれば、水蒸気が共存しない場合に、
モルデナイト型ゼオライトにインジウムを担持してなる
触媒、またはＵＳＹ型ゼオライトにインジウムを担持し
てなる触媒を用いる場合に比べて、より高い触媒活性を
示しているが、触媒活性は満足すべき状態になく、まだ
水蒸気共存の場合の触媒活性の低下が大きい欠点があ
る。
【０００５】本発明は、希薄燃焼方式により発生する燃
焼排ガスの浄化方法であって、特定の触媒を用いること
により、該排ガス中に水蒸気が共存する場合であっても
該排ガス中に含有される窒素酸化物を極めて効率よく浄
化できる前記浄化方法および該方法に用いられる触媒を
提供することを目的としている。
焼排ガスの浄化方法であって、特定の触媒を用いること
により、該排ガス中に水蒸気が共存する場合であっても
該排ガス中に含有される窒素酸化物を極めて効率よく浄
化できる前記浄化方法および該方法に用いられる触媒を
提供することを目的としている。
【０００６】
【問題点を解決するための手段】すなわち、本発明は、
希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスであって、少量
の低級炭化水素、窒素酸化物および一酸化炭素と多量の
酸素および水蒸気とを含有する該燃焼排ガスを、ＺＳＭ
−５型ゼオライト担体に第１成分としてインジウムを担
持してなるＩｎ−ＺＳＭ−５触媒に、さらに第２成分と
してイリジウム、白金、ロジウム、クロム、パラジウ
ム、鉄およびセリウム、好ましくはイリジウム、白金、
ロジウムおよびクロムよりなる群から選ばれる金属を担
持してなる活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒の存在下に接触
反応させることよりなり、必要に応じて該燃焼排ガスに
少量の低級炭化水素を新たに添加し、該燃焼排ガス中に
含まれる低級炭化水素と必要に応じて該燃焼排ガスに新
たに添加れる低級炭化水素との合計量が該燃焼排ガス中
に含まれる窒素酸化物を還元・浄化するのに必要な量で
あり、該燃焼排ガス中に含まれる低級炭化水素がメタン
またはメタンを主成分とする低級炭化水素であり、必要
に応じて該燃焼排ガスに新たに添加される低級炭化水素
がメタンまたはメタンを主成分とする炭化水素の混合ガ
スであることを特徴とする燃焼排ガスの浄化方法、なら
びにＺＳＭ−５型ゼオライト担体に第１成分としてイン
ジウムを担持してなるＩｎ−ＺＳＭ−5 触媒にさらに第
２成分としてイリジウム、白金、ロジウム、クロム、パ
ラジウム、鉄およびセリウム、好ましくはイリジウム、
白金、ロジウムおよびクロムよりなる群から選ばれる金
属を担持してなり、前記浄化方法に用いられる活性化Ｉ
ｎ−ＺＳＭ−５触媒を提供するものである。
希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスであって、少量
の低級炭化水素、窒素酸化物および一酸化炭素と多量の
酸素および水蒸気とを含有する該燃焼排ガスを、ＺＳＭ
−５型ゼオライト担体に第１成分としてインジウムを担
持してなるＩｎ−ＺＳＭ−５触媒に、さらに第２成分と
してイリジウム、白金、ロジウム、クロム、パラジウ
ム、鉄およびセリウム、好ましくはイリジウム、白金、
ロジウムおよびクロムよりなる群から選ばれる金属を担
持してなる活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒の存在下に接触
反応させることよりなり、必要に応じて該燃焼排ガスに
少量の低級炭化水素を新たに添加し、該燃焼排ガス中に
含まれる低級炭化水素と必要に応じて該燃焼排ガスに新
たに添加れる低級炭化水素との合計量が該燃焼排ガス中
に含まれる窒素酸化物を還元・浄化するのに必要な量で
あり、該燃焼排ガス中に含まれる低級炭化水素がメタン
またはメタンを主成分とする低級炭化水素であり、必要
に応じて該燃焼排ガスに新たに添加される低級炭化水素
がメタンまたはメタンを主成分とする炭化水素の混合ガ
スであることを特徴とする燃焼排ガスの浄化方法、なら
びにＺＳＭ−５型ゼオライト担体に第１成分としてイン
ジウムを担持してなるＩｎ−ＺＳＭ−5 触媒にさらに第
２成分としてイリジウム、白金、ロジウム、クロム、パ
ラジウム、鉄およびセリウム、好ましくはイリジウム、
白金、ロジウムおよびクロムよりなる群から選ばれる金
属を担持してなり、前記浄化方法に用いられる活性化Ｉ
ｎ−ＺＳＭ−５触媒を提供するものである。
【０００７】本発明において、希薄燃焼方式とは、空気
過剰な条件下で燃焼させる方式を意味し、該方式により
発生する燃焼排ガスは、空気比１〜３程度の条件下の燃
焼により発生し、主要成分として窒素、酸素、炭素ガス
および通常４〜２０容量％の水蒸気を含有し、少量成分
として、通常５０００ｐｐｍ以下の窒素酸化物、２容量
％以下の低級炭化水素および通常５０００ｐｐｍ以下の
一酸化炭素を含有する。このような排ガスの代表例とし
て、都市ガスを燃料とした希薄燃焼方式のガスエンジ
ン、ガスタービン等から排出される排ガスをあげること
ができる。
過剰な条件下で燃焼させる方式を意味し、該方式により
発生する燃焼排ガスは、空気比１〜３程度の条件下の燃
焼により発生し、主要成分として窒素、酸素、炭素ガス
および通常４〜２０容量％の水蒸気を含有し、少量成分
として、通常５０００ｐｐｍ以下の窒素酸化物、２容量
％以下の低級炭化水素および通常５０００ｐｐｍ以下の
一酸化炭素を含有する。このような排ガスの代表例とし
て、都市ガスを燃料とした希薄燃焼方式のガスエンジ
ン、ガスタービン等から排出される排ガスをあげること
ができる。
【０００８】本発明に用いられるＩｎ−ＺＳＭ−５触媒
は、ＺＳＭ−５型ゼオライト担体に公知方法により第１
成分としてのインジウムを担持してなるものであり、例
えば硝酸インジウム等のインジウム塩の水溶液を用いて
イオン交換法により上記担体に担持して得られる。該イ
ンジウムの担持量は、０．２〜２０重量％、好ましくは
２〜１０重量％の範囲にある。なお、ＺＳＭ−５型ゼオ
ライト担体に代えてフェリエライト型ゼオライト担体を
用いることも可能である。
は、ＺＳＭ−５型ゼオライト担体に公知方法により第１
成分としてのインジウムを担持してなるものであり、例
えば硝酸インジウム等のインジウム塩の水溶液を用いて
イオン交換法により上記担体に担持して得られる。該イ
ンジウムの担持量は、０．２〜２０重量％、好ましくは
２〜１０重量％の範囲にある。なお、ＺＳＭ−５型ゼオ
ライト担体に代えてフェリエライト型ゼオライト担体を
用いることも可能である。
【０００９】本発明の活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒は、
前記Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒にさらに第２成分としてイリ
ジウム、白金、ロジウム、クロム、パラジウム、鉄およ
びセリウムよりなる群から選ばれる金属を担持してなる
ものである。
前記Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒にさらに第２成分としてイリ
ジウム、白金、ロジウム、クロム、パラジウム、鉄およ
びセリウムよりなる群から選ばれる金属を担持してなる
ものである。
【００１０】本発明の活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒は、
前記Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒に公知方法により第２成分を
担持して得られるが、例えばクロムの硝酸塩、白金のア
ミン錯体、イリジウムのアミン錯体、ロジウムのアンミ
ン錯体、パラジウムのアンミン錯体、鉄の硝酸塩、セリ
ウムの酢酸塩などの水溶液を用いてＩｎ−ＺＳＭ−５触
媒に含浸担持することにより得られる。第２成分の担持
量は０．２〜２．０重量％、好ましくは０．２〜１．０
重量％の範囲にある。該担持量が０．２重量％未満では
ＮＯ酸化活性が不十分なことで好ましくなく、２０重量
％を超えると副生成物であるＮ2 Ｏの生成量が増大する
ことで好ましくない。
前記Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒に公知方法により第２成分を
担持して得られるが、例えばクロムの硝酸塩、白金のア
ミン錯体、イリジウムのアミン錯体、ロジウムのアンミ
ン錯体、パラジウムのアンミン錯体、鉄の硝酸塩、セリ
ウムの酢酸塩などの水溶液を用いてＩｎ−ＺＳＭ−５触
媒に含浸担持することにより得られる。第２成分の担持
量は０．２〜２．０重量％、好ましくは０．２〜１．０
重量％の範囲にある。該担持量が０．２重量％未満では
ＮＯ酸化活性が不十分なことで好ましくなく、２０重量
％を超えると副生成物であるＮ2 Ｏの生成量が増大する
ことで好ましくない。
【００１１】本発明方法における接触反応は、例えば固
定床流通反応装置を用いて、反応温度３００〜６００
℃、好ましくは３００〜５００℃、さらに好ましくは４
００〜５００℃の条件下接触時間を適宜選定して行なう
ことができる。
定床流通反応装置を用いて、反応温度３００〜６００
℃、好ましくは３００〜５００℃、さらに好ましくは４
００〜５００℃の条件下接触時間を適宜選定して行なう
ことができる。
【００１２】本発明方法における接触反応において、燃
焼排ガス中に存在する低級炭化水素は燃焼排ガス中に存
在する酸化窒素の還元反応に必要であって、その含有量
が不足する場合には、上記接触反応に際し新たに低級炭
化水素を一定量添加する必要があり、その添加量は通常
２容量％以下の範囲にある。燃焼排ガス中に存在する低
級炭化水素としてメタンまたはメタンを主成分とする低
級炭化水素の混合ガスがあげられる。また、添加する低
級炭化水素としては、特に制限はないが、本発明の触媒
は、炭化水素がメタンあるいはメタンを主成分とする低
級炭化水素の混合ガスであっても効率よく排ガスを浄化
することができる。ここにメタンを主成分とする低級炭
化水素の混合ガスとは、メタンの含有量が８０重量％以
上である混合ガスである。このような混合ガスとして、
例えば、各種の都市ガスを挙げることができる。
焼排ガス中に存在する低級炭化水素は燃焼排ガス中に存
在する酸化窒素の還元反応に必要であって、その含有量
が不足する場合には、上記接触反応に際し新たに低級炭
化水素を一定量添加する必要があり、その添加量は通常
２容量％以下の範囲にある。燃焼排ガス中に存在する低
級炭化水素としてメタンまたはメタンを主成分とする低
級炭化水素の混合ガスがあげられる。また、添加する低
級炭化水素としては、特に制限はないが、本発明の触媒
は、炭化水素がメタンあるいはメタンを主成分とする低
級炭化水素の混合ガスであっても効率よく排ガスを浄化
することができる。ここにメタンを主成分とする低級炭
化水素の混合ガスとは、メタンの含有量が８０重量％以
上である混合ガスである。このような混合ガスとして、
例えば、各種の都市ガスを挙げることができる。
【００１３】本発明方法における接触反応において、燃
焼排ガス中に含有される窒素酸化物は、燃焼排ガス中に
８．０〜１２．０容量％の水蒸気が共存する場合であっ
ても、水蒸気共存による触媒活性の低下が少なく、極め
て高い選択率で効率よく窒素に還元 浄化されると共
に、燃焼排ガス中に含有される低級炭化水素および一酸
化炭素ならびに新たに添加される低級炭化水素も効率よ
く浄化される。
焼排ガス中に含有される窒素酸化物は、燃焼排ガス中に
８．０〜１２．０容量％の水蒸気が共存する場合であっ
ても、水蒸気共存による触媒活性の低下が少なく、極め
て高い選択率で効率よく窒素に還元 浄化されると共
に、燃焼排ガス中に含有される低級炭化水素および一酸
化炭素ならびに新たに添加される低級炭化水素も効率よ
く浄化される。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、希薄燃焼方式により発
生する燃焼排ガスを浄化する方法であって、特定の触媒
を用いることにより、燃焼排ガス中に８．０〜１２．０
容量％の水蒸気が共存する場合であっても、水蒸気共存
による触媒活性の低下が少なく、該燃焼排ガス中に含有
される窒素酸化物を極めて高い選択率で効率よく窒素ガ
スに還元 浄化することができる前記浄化方法および該
方法に用いられる触媒が提供される。
生する燃焼排ガスを浄化する方法であって、特定の触媒
を用いることにより、燃焼排ガス中に８．０〜１２．０
容量％の水蒸気が共存する場合であっても、水蒸気共存
による触媒活性の低下が少なく、該燃焼排ガス中に含有
される窒素酸化物を極めて高い選択率で効率よく窒素ガ
スに還元 浄化することができる前記浄化方法および該
方法に用いられる触媒が提供される。
【００１５】
【実施例】以下、製造例、実施例、および比較例により
本発明をさらに詳しく説明する。
本発明をさらに詳しく説明する。
【００１６】Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒１）の製
造例（製造例１） ８０℃の１ｍｏｌ／ｌ、ＮＨ4 ＮＯ3 水溶液（関東化学
株式会社製、ＪＩＳ特級ＮＨ4 ＮＯ3 使用）２．４リッ
トルに、ＨＳＺ−８２０ＮＡＡ（東ソー株式会社製、Ｚ
ＳＭ−５）４０ｇを３時間含浸、撹拌後、ろ別し、２リ
ットルの純水を用いて洗浄した。この操作を６回繰り返
した後、さらに２リットルの純水で洗浄し、１１０℃で
１２時間乾燥した。以上の操作により、本発明にかかる
触媒の母体（ＮＨ4 −ＺＳＭ−５）を調製した。引き続
き、常温のＩｎ（ＮＯ3 ）3 ・ｎＨ2 Ｏ（三津和化学薬
品株式会社製）１．５ｇを３００ｍｌの純水に溶かした
水溶液に、調製したＮＨ4 −ＺＳＭ−５の１０ｇを含
浸、撹拌した。浴温度を９５℃に昇温、２４時間還流下
でこの状態を保持後、ろ別し、２リットルの純水を用い
て洗浄した。１１０℃で１２時間乾燥後、空気中にて５
００℃で３時間焼成して、比較触媒１（Ｉｎ−ＺＳＭ−
５触媒）を調製した。触媒中のＩｎの担持量は、４．３
重量％であった。なおＺＳＭ−５ゼオライトのＳｉＯ2
／Ａｌ2 Ｏ3 モル比は２３．３である。
造例（製造例１） ８０℃の１ｍｏｌ／ｌ、ＮＨ4 ＮＯ3 水溶液（関東化学
株式会社製、ＪＩＳ特級ＮＨ4 ＮＯ3 使用）２．４リッ
トルに、ＨＳＺ−８２０ＮＡＡ（東ソー株式会社製、Ｚ
ＳＭ−５）４０ｇを３時間含浸、撹拌後、ろ別し、２リ
ットルの純水を用いて洗浄した。この操作を６回繰り返
した後、さらに２リットルの純水で洗浄し、１１０℃で
１２時間乾燥した。以上の操作により、本発明にかかる
触媒の母体（ＮＨ4 −ＺＳＭ−５）を調製した。引き続
き、常温のＩｎ（ＮＯ3 ）3 ・ｎＨ2 Ｏ（三津和化学薬
品株式会社製）１．５ｇを３００ｍｌの純水に溶かした
水溶液に、調製したＮＨ4 −ＺＳＭ−５の１０ｇを含
浸、撹拌した。浴温度を９５℃に昇温、２４時間還流下
でこの状態を保持後、ろ別し、２リットルの純水を用い
て洗浄した。１１０℃で１２時間乾燥後、空気中にて５
００℃で３時間焼成して、比較触媒１（Ｉｎ−ＺＳＭ−
５触媒）を調製した。触媒中のＩｎの担持量は、４．３
重量％であった。なおＺＳＭ−５ゼオライトのＳｉＯ2
／Ａｌ2 Ｏ3 モル比は２３．３である。
【００１７】Ｐｔ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒２）の製
造例（製造例２） ８０℃の１ｍｏｌ／ｌ、ＮＨ4 ＮＯ3 水溶液（関東化学
株式会社製、ＪＩＳ特級ＮＨ4 ＮＯ3 使用）２リットル
に、ＨＳＺ−８２０ＮＡＡ（東ソー株式会社製ＺＳＭ−
５）２０ｇを２時間、含浸撹拌後ろ別し、１リットルの
純水を用いて洗浄した。１１０℃、１２時間乾燥し、母
体となる触媒（ＮＨ4 −ＺＳＭ−５）を調製した。引き
続き、常温の白金アンミン錯体（Ｐｔ（ＮＨ3 ）4 Ｃｌ
2 ）の０．５５重量％水溶液５ｍｌを１５０ｍｌに純水
で定溶した水溶液に、調製したＮＨ4 −ＺＳＭ−５の５
ｇを含浸撹拌した。２４時間常温で撹拌後、ろ別し１リ
ットルの純水を用いて洗浄した。１１０℃、１２時間乾
燥後、窒素中にて５４０℃で３時間熱処理することによ
りＰｔ−ＺＳＭ−５触媒とした。
造例（製造例２） ８０℃の１ｍｏｌ／ｌ、ＮＨ4 ＮＯ3 水溶液（関東化学
株式会社製、ＪＩＳ特級ＮＨ4 ＮＯ3 使用）２リットル
に、ＨＳＺ−８２０ＮＡＡ（東ソー株式会社製ＺＳＭ−
５）２０ｇを２時間、含浸撹拌後ろ別し、１リットルの
純水を用いて洗浄した。１１０℃、１２時間乾燥し、母
体となる触媒（ＮＨ4 −ＺＳＭ−５）を調製した。引き
続き、常温の白金アンミン錯体（Ｐｔ（ＮＨ3 ）4 Ｃｌ
2 ）の０．５５重量％水溶液５ｍｌを１５０ｍｌに純水
で定溶した水溶液に、調製したＮＨ4 −ＺＳＭ−５の５
ｇを含浸撹拌した。２４時間常温で撹拌後、ろ別し１リ
ットルの純水を用いて洗浄した。１１０℃、１２時間乾
燥後、窒素中にて５４０℃で３時間熱処理することによ
りＰｔ−ＺＳＭ−５触媒とした。
【００１８】活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（触媒１）の
製造例（製造例３） 白金のアミン錯体（Ｐｔ（ＮＨ3 ）4 Ｃｌ2 ）の０．５
５重量％水溶液５ｍｌに比較触媒１の３ｇを含浸担持
し、白金を１重量％担持させて活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５
としてＰｔ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒を得た。
製造例（製造例３） 白金のアミン錯体（Ｐｔ（ＮＨ3 ）4 Ｃｌ2 ）の０．５
５重量％水溶液５ｍｌに比較触媒１の３ｇを含浸担持
し、白金を１重量％担持させて活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５
としてＰｔ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒を得た。
【００１９】イリジウムのアミン錯体を用い、製造例３
と同様にしてイリジウム担持量１重量％のＩｒ／Ｉｎ−
ＺＳＭ−５触媒（触媒２）を得た（製造例４）。
と同様にしてイリジウム担持量１重量％のＩｒ／Ｉｎ−
ＺＳＭ−５触媒（触媒２）を得た（製造例４）。
【００２０】クロムの硝酸塩を用い、製造例３と同様に
してクロム担持量１重量％のＣｒ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触
媒（触媒３）を得た（製造例５）。
してクロム担持量１重量％のＣｒ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触
媒（触媒３）を得た（製造例５）。
【００２１】ロジウムのアンミン錯体を用い、製造例３
と同様にしてロジウム担持量１重量％のＲｈ／Ｉｎ−Ｚ
ＳＭ−５触媒（触媒４）を得た（製造例６）。
と同様にしてロジウム担持量１重量％のＲｈ／Ｉｎ−Ｚ
ＳＭ−５触媒（触媒４）を得た（製造例６）。
【００２２】製造例３と同様にして、第２成分の担持量
がそれぞれ１重量％の触媒、Ｐｄ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触
媒（触媒５）、Ｆｅ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（触媒
６）、Ｃｅ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（触媒７）、Ａｕ／
Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒３）、Ｃｏ／Ｉｎ−Ｚ
ＳＭ−５触媒（比較触媒４）、Ａｇ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５
触媒（比較触媒５）、Ｍｎ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比
較触媒６）、Ｎｉ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒
７）、Ｃｕ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒８）、お
よびＶ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒９）を得た。
がそれぞれ１重量％の触媒、Ｐｄ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触
媒（触媒５）、Ｆｅ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（触媒
６）、Ｃｅ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（触媒７）、Ａｕ／
Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒３）、Ｃｏ／Ｉｎ−Ｚ
ＳＭ−５触媒（比較触媒４）、Ａｇ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５
触媒（比較触媒５）、Ｍｎ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比
較触媒６）、Ｎｉ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒
７）、Ｃｕ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒８）、お
よびＶ／Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒９）を得た。
【００２３】実施例１ 常圧固定床流通式反応装置を用い、燃焼排ガスの代表例
として、表１に示す混合ガスを表１に示す条件下に接触
反応させた。反応ガスの分析にはガスクロマトグフおよ
び化学発光式ＮＯX 分析計を用いた。一酸化窒素の窒素
への転化率を表１に示す。
として、表１に示す混合ガスを表１に示す条件下に接触
反応させた。反応ガスの分析にはガスクロマトグフおよ
び化学発光式ＮＯX 分析計を用いた。一酸化窒素の窒素
への転化率を表１に示す。
【００２４】実施例２〜２０および比較例１〜２６ 表１〜３に示す条件下、実施例１と同様の実験を行っ
た。得られた一酸化窒素の窒素への転化率を表１〜３に
示す。
た。得られた一酸化窒素の窒素への転化率を表１〜３に
示す。
【００２５】
【表１】
【００２６】
【表２】
【００２７】
【表３】
Claims (4)
- 【請求項１】 希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガス
であって、少量の低級炭化水素、窒素酸化物および一酸
化炭素と多量の酸素および水蒸気とを含有する該燃焼排
ガスを、ＺＳＭ−５型ゼオライト担体に第１成分として
インジウムを担持してなるＩｎ−ＺＳＭ−５触媒に、さ
らに第２成分としてイリジウム、白金、ロジウム、クロ
ム、パラジウム、鉄およびセリウムよりなる群から選ば
れる金属を担持してなる活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒の
存在下に接触反応させることよりなり、必要に応じて該
燃焼排ガスに少量の低級炭化水素を新たに添加し、該燃
焼排ガス中に含まれる低級炭化水素と必要に応じて該燃
焼排ガスに新たに添加される低級炭化水素との合計量が
該燃焼排ガス中に含まれる窒素酸化物を還元・浄化する
のに必要な量であり、該燃焼排ガス中に含まれる低級炭
化水素がメタンまたはメタンを主成分とする低級炭化水
素の混合ガスであり、必要に応じて該燃焼排ガスに新た
に添加される低級炭化水素がメタンまたはメタンを主成
分とする低級炭化水素の混合ガスであることを特徴とす
る燃焼排ガスの浄化方法。 - 【請求項２】 該第２成分がイリジウム、白金、ロジウ
ムおよびクロムよりなる群から選ばれる金属である請求
項１記載の方法。 - 【請求項３】 ＺＳＭ−５型ゼオライト担体に第１成分
としてインジウムを担持してなるＩｎ−ＺＳＭ−５触媒
にさらに第２成分としてイリジウム、白金、ロジウム、
クロム、パラジウム、鉄およびセリウムよりなる群から
選ばれる金属を担持してなり、請求項１記載の方法に用
いられる活性化Ｉｎ−ＺＳＭ−５触媒。 - 【請求項４】 該第２成分がイリジウム、白金、ロジウ
ムおよびクロムよりなる群から選ばれる金属である請求
項３記載の触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6243411A JPH0880424A (ja) | 1994-09-13 | 1994-09-13 | 燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6243411A JPH0880424A (ja) | 1994-09-13 | 1994-09-13 | 燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0880424A true JPH0880424A (ja) | 1996-03-26 |
Family
ID=17103470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6243411A Pending JPH0880424A (ja) | 1994-09-13 | 1994-09-13 | 燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0880424A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR980000574A (ko) * | 1996-06-17 | 1998-03-30 | 김영귀 | 질소산화물 정화용 촉매제조방법 |
| JPH11123330A (ja) * | 1997-08-20 | 1999-05-11 | Hino Motors Ltd | 排ガス浄化触媒及びその製法 |
| CN116550377A (zh) * | 2023-02-23 | 2023-08-08 | 中山大学 | 一种用于甲烷选择性还原氮氧化物的含铱双金属催化剂及其制备方法 |
| CN120586646A (zh) * | 2025-08-08 | 2025-09-05 | 江苏宁天环境科技有限公司 | 一种石灰窑脱硝一体化烟气处理工艺 |
-
1994
- 1994-09-13 JP JP6243411A patent/JPH0880424A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR980000574A (ko) * | 1996-06-17 | 1998-03-30 | 김영귀 | 질소산화물 정화용 촉매제조방법 |
| JPH11123330A (ja) * | 1997-08-20 | 1999-05-11 | Hino Motors Ltd | 排ガス浄化触媒及びその製法 |
| CN116550377A (zh) * | 2023-02-23 | 2023-08-08 | 中山大学 | 一种用于甲烷选择性还原氮氧化物的含铱双金属催化剂及其制备方法 |
| CN120586646A (zh) * | 2025-08-08 | 2025-09-05 | 江苏宁天环境科技有限公司 | 一种石灰窑脱硝一体化烟气处理工艺 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040123 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040203 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040622 |