JPH0863786A

JPH0863786A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH0863786A
Application number: JP6200690A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Takeda; 淳武田; Akio Kakimoto; 秋男柿本; Gentaro Obayashi; 元太郎大林
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1994-08-25
Filing date: 1994-08-25
Publication date: 1996-03-08

Abstract

(57)【要約】【目的】光記録媒体の薄膜層を有機系保護層で保護す
ることにより、記録特性の劣化を防止する。【構成】基板と薄膜層と有機系保護層を少なくとも備
えた光記録媒体であって、前記有機系保護層が重合性モ
ノマを主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化物層
からなり、前記有機系保護層と前記薄膜層の接着面にお
ける前記有機系保護層のスチールウールによる硬度がラ
ンク２以上であることを特徴とする光記録媒体。【効果】薄膜層の保護性に優れ、記録特性の劣化を防
止できる、良好な信号品質を示す光記録媒体が提供でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光の照射により、情報
の再生あるいは記録、再生さらには消去が可能である光
記録媒体、例えば、光ディスク、光カード、光テープな
どに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】レーザー光を照射して情報の再生あるい
は記録、再生さらには消去が可能である光記録媒体とし
て、ガラスやプラスチックなどの基板上に薄膜層を形成
したものが知られている。

【０００３】この様な記録媒体を形成するに際し、薄膜
層の材料開発のみならず、薄膜層を形成する薄膜層との
接着性が良好でありまた前記薄膜層の酸化などによる劣
化を防止し機械的損傷を防ぎ記録媒体の信号品質の劣化
を防止する有機系保護層の開発は極めて重要である。有
機系保護層を施した光記録媒体として、Ａｌなどの金属
層表面に紫外線硬化性樹脂の層を施した再生専用のもの
あるいは記録、再生、消去可能な光記録媒体は知られて
いる（特開昭６１−１３３０６７号公報）。また、有機
系保護層が特定の化学線硬化性樹脂組成物の硬化層から
なる光記録媒体は知られている（特開平４−２５４９２
７号公報）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の特開
昭６１−１３３０６７号公報に示された有機系保護層の
場合は、光記録媒体にレーザー光を照射して再生あるい
は記録、再生さらには消去を行った場合、記録媒体の信
号品質にとり重要なビットエラーレートの抑制効果につ
いては何ら知見が開示されていない。また、特開平４−
２５４９２７号公報において開示された有機系保護層
は、有機系保護層材料の伸びに着目して規定の伸び量を
確保することにより耐熱耐久劣化を抑制できることを示
したものである。すなわちかかる技術は、有機系保護層
と薄膜層との接着界面における硬度に着目し、硬度を規
定した有機系材料組成物処方とすることによるデイスク
特性の改善効果について言及したものではない。

【０００５】本発明は、かかる在来技術の欠点に鑑み創
案されたものであり、その目的は保護性に優れた有機系
保護層を備えてなる光記録媒体を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】かかる本発明は，基板と
薄膜層と有機系保護層を少なくとも備えた光記録媒体で
あって、前記有機系保護層が重合性モノマを主成分とす
る化学線硬化性樹脂組成物の硬化物層からなり、前記有
機系保護層と前記薄膜層の接着面における前記有機系保
護層のスチールウールによる硬度がランク２以上である
ことを特徴とする光記録媒体である。

【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。

【０００８】本発明において使用される基板および薄膜
層としては、限定はなく公知のものが使用できる。

【０００９】基板としてはポリカーボネート、ポリメチ
ルメタクリレートおよびエポキシ樹脂などのプラスチッ
クやガラスなどが使用でき、その厚さは通常１０μｍ〜
５ｍｍの範囲である。基板は通常ディスク状で使用され
るが、テープ状、シート状あるいはカード状で用いるこ
ともできる。

【００１０】薄膜層としては再生専用として例えばＡｌ
などの金属層より形成されたものが使用できる。

【００１１】記録、再生さらには消去可能な薄膜層とし
ては例えば誘電体膜、記録膜、誘電体膜、反射冷却膜よ
り形成された多層構成層が使用できる。

【００１２】ここで、誘電体膜としては、基板や記録膜
が記録により熱によって変形したり記録消去再生特性が
劣化したりするのを防止したり、記録膜の耐湿熱性や耐
酸化性を持たせる役割を果たし、このような誘電体膜と
してはＺｎＳ、ＳｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＩＴＯ、Ｚｒ
Ｃ、ＴｉＣ、ＭｇＦ２などの無機膜やそれらの混合膜が
使用でき、特にＺｎＳとＳｉＯ２およびＺｎＳとＭｇＦ
２の混合膜は耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再
生時の記録膜の劣化を抑制するので好ましい。

【００１３】記録膜としては、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄
膜、Ｍ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜（ＭはＰｄ、Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ｔｉ、Ｃｏなどの金属元素）、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系
薄膜などが挙げられる。特にＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜、
Ｐｄ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜は記録消去再生を繰り返
しても劣化が起こり難く、さらに熱安定性が優れている
ので好ましい。

【００１４】反射冷却膜としては金属または金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属の混合物、例え
ばＺｒ、Ｈｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ａｌ、Ａｕなどの金属やこ
れらの合金、これらとＺｒ酸化物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒
化物、Ａｌ酸化物などを混合したものを使用でき、特に
Ａｌやこれらの合金などは膜の形成が容易であり好まし
い。

【００１５】誘電体膜の厚さは１０〜５００ｎｍ、記録
膜の厚さは１０〜１０００ｎｍおよび反射冷却膜は１０
０〜２００ｎｍであることが記録再生消去特性上から好
ましい。

【００１６】誘電体膜、記録膜、反射冷却膜を形成する
方法としては、公知の真空中での薄膜形成方法、例えば
真空蒸着法、イオンプレーティグ法、スパッタリング法
などが挙げられる。特に組成、膜厚のコントロールが容
易なことからスパッタリング法が好ましい。

【００１７】本発明において有機系保護層は重合性モノ
マを主成分とする化学線硬化性樹脂の硬化物層からな
る。

【００１８】本発明において使用される重合性モノマと
しては、１分子中に少なくとも２個以上の重合性二重結
合を有する化合物が硬化性が良好なことから好ましく用
いられる。これらの化合物としてはアクリロイルオキシ
基又はメタアクリロイルオキシ基（以下、両方の基を総
称して（メタ）アクリロイルオキシ基と記載する）を有
する化合物が好ましく用いられる。具体例としては、ジ
シクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタン
ジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジ
オールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス（（メ
タ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ビ
スフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物の
ジ（メタ）アクリレート、ジイソシアネート化合物と、
２個以上のアルコール性水酸基を有する化合物を予め反
応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、
アルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応さ
せて得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル
オキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレートなどが
挙げられる。これらの重合性モノマは１種または２種以
上を混合して用いても良い。

【００１９】本発明による有機系保護層は重合性モノマ
を主成分とする化学線硬化性樹脂の硬化物層からなり、
前記有機系保護層と薄膜層との接着面のスチールウール
による硬度がランク２以上からなるものである。

【００２０】本発明において、スチールウール硬度と
は、表面を新東科学（株）社製“トライボギア”ＴＹＰ
Ｅ１４ＤＲを用いスチールウール＃００００で荷重５０
０ｇで１０回擦り、幅１０ｍｍの部分の傷の数を目視で
判定し、下記のようにランクづけをすることにより測定
される。

【００２１】ランク５：傷無しランク４：１０本以下ランク３：３０本以下ランク２：１００本以下ランク１：全面傷

【００２２】硬度がランク２未満となると繰返しによる
ビットエラーレートの上昇および高温高湿下に保存した
場合ビットエラーレートの上昇など媒体の信頼性が低下
し十分な保護性が得られない。一方、硬度の上限につい
ては特に制限はないが媒体の反りや歪みなどを重視する
場合などにはランク４以下にすることが好ましい。

【００２３】有機系保護層と薄膜層との接着面のスチー
ルウールによる硬度がランク２以上である有機系保護を
得るためには、化学線硬化性樹脂組成物の光重合開始剤
として主として分子内結合開裂型であるものを使用する
ことが好ましい。

【００２４】つまり、本発明による有機系保護層は、重
合性モノマを主成分とする化学線硬化性樹脂の硬化物層
からなり、該化学線硬化性樹脂組成物の光重合開始剤が
主として分子内結合開裂型からなるものが好ましい。具
体的には１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−
ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、ベンジルジメチル
ケタ−ル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイノプロピルエーテル、ジエト
キシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピ
ルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン１
−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロパン１−オン、ベンゾイン、ベンゾ
インイソブチルエーテルなどが挙げられる。硬化被膜に
残存する光重合開始剤の薄膜層への影響を考慮すれば常
温で固体である１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、ベンジルジ
メチルケタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルな
どが好ましく用いられる。重合性モノマに対する溶解性
および硬化性から１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトンとベンジルジメチルケタールがより好ましく用
いられる。添加量は重合性モノマ１００重量部に対し
０．１〜１０重量部が適当である。

【００２５】一方、ベンゾフェノン系やチオキサンソン
系などの分子間水素引抜き型光重合開始剤は表面の硬化
性は良好であるが、薄膜層との接着面の硬化性に劣り、
本発明には適さないが、例えば表面硬度を調整する目的
で本発明の光重合開始剤が分子内結合開裂型からなる化
学線硬化性樹脂組成物に薄膜層との接着面の硬度を損な
わない程度用いても良い。

【００２６】この場合、例えば分子内結合開裂型光重合
開始剤（Ａ）と分子間水素引抜き型光重合開始剤（Ｂ）
の混合割合で分子間水素引抜き型光重合開始剤が好まし
くは、４０重量％以下であり、さらに好ましくは２０重
量％以下（ただしＡ＋Ｂ＝１００重量％）である。分子
間水素引抜き型光重合開始剤が４０重量％を越える場合
は接着面硬度、繰返し性および耐湿熱性が十分でなく好
ましくない。

【００２７】本発明において有機系保護層は、重合性モ
ノマを主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化物層
からなり、前記有機系保護層が、１分子中に１個以上の
アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基
を有する燐化合物を含むことが好ましい。

【００２８】１分子中に１個以上のアクリロイルオキシ
基またはメタアクリロイルオキシ基を有する燐化合物の
具体例としては、アクリロイルオキシエチルアシッドフ
ォスフェート、メタアクリロイルオキシエチルアシッド
フォスフェート、ジアクリロイルオキシエチルアシッド
フォスフェート、ジメタアクリロイルオキシエチルアシ
ッドフォスフェートなどが挙げられる。薄膜層に対し接
着性および硬化性が良好なことからアクリロイルオキシ
エチルアシッドフォスフェートが好ましく用いられる。

【００２９】１分子中に１個以上のアクリロイルオキシ
基またはメタアクリロイルオキシ基を有する燐化合物
は、重合性モノマ１００重量部に対し０．００５〜３重
量部含有することが好ましい。含有量が０．００５重量
部未満であると薄膜層との接着性が十分でなく高温高湿
下に保存した場合剥離を生じ、３重量部を超える場合は
薄膜層の変色やピンホールの発生など腐蝕を生じる。接
着性と耐腐蝕性を考慮したより好ましい含有量は０．０
３〜０．３重量部である。

【００３０】また、本発明では、１分子中に１個以上の
アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基
を有する燐化合物を、溶剤に予め混合して後、重合性モ
ノマに含有させることが好ましい。それによって、１分
子中に１個以上のアクリロイルオキシ基またはメタアク
リロイルオキシ基を有する燐化合物を、重合性モノマ中
に均一に分散することができる。ここで、溶剤として
は、低級アルコール、ケトン、ポリアルキレンジオール
の（メタ）アクリル酸エステル、アルキレンジオールの
（メタ）アクリル酸エステルから選ばれるものが好まし
く挙げられる。これらの具体例としては、メタノール、
エタノール、プロパノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、ジエチルケトン、または次式（Ｉ）で表わされる
化合物Ｒ^２−Ｏ−（Ｒ^１−Ｏ）_ｎ−Ｒ^３ ……（Ｉ）（式中、Ｒ^１は−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ
（ＣＨ_３）−で表わされる基、Ｒ^２は、ＣＨ_２＝ＣＨ−
ＣＯ−またはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯ−で表わされ
る基、Ｒ^３は、水素原子、ＣＨ_３、Ｃ_２Ｈ_５、Ｃ
_３Ｈ_７、Ｃ_４Ｈ_９、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ_２または−ＣＯ
−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２で表わされる基を、それぞれ示
し、ｎは１〜１４の数を示す。）、すなわち、２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ
ブチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコー
ルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタ
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコール４００ジアクリレート、ポリエチレングリ
コール４００ジメタクリレート、ポリプロピレングリコ
ール４００ジアクリレート、ポリプロピレングリコール
４００ジメタクリレートなどが挙げられる。

【００３１】本発明では、化学線硬化性樹脂組成物の硬
化物層の硬化被膜の表面硬度を向上する目的で脂肪族ま
たは芳香族アミン系化合物をさらに用いることができ
る。これらの化合物の具体例として、４，４´−ジメチ
ルアミノアセトフェノン、４，４´−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、４，４´−ジエチルアミノベンゾフェノ
ン、４，４´−ジメチルアミノ安息香酸エチルなどが挙
げられる。

【００３２】一方、有機系保護層の接着性、柔軟性など
を調整する目的で、薄膜層との接着面の硬度を損なわな
い程度、前述のモノマと共重合可能な他のモノマを混合
して用いることができる。これらの共重合可能なモノマ
の例としは分子内に（メタ）アクリロイルオキシ基を１
個有する化合物、例えばメチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イ
ソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

【００３３】本発明の化学線硬化性樹脂組成物には、塗
工性を改良するためにシリコーン系材料などから成るレ
ベリング剤を添加することができる。

【００３４】本発明の化学線硬化性樹脂組成物には、製
造時の熱重合や貯蔵時の暗反応を防止するため熱重合禁
止剤を添加することができる。熱重合禁止剤としてはハ
イドロキノンモノメチルエーテル、ハイドロキノン、
２，５−ｔ−ブチル−ハイドロキノン、ｔ−ブチルカテ
コール、ｐ−ベンゾキノン、フェノチアジンなど公知の
ものが使用できる。添加量は重合性モノマ１００重量部
に対して０．００１〜０．１重量部が適当である。

【００３５】本発明の化学線硬化性樹脂組成物の硬化物
層は、基板上に形成した薄膜層上に化学線硬化性樹脂組
成物を通常の方法で塗布した後、化学線すなわち紫外
線、電子線あるいはガンマ線などの活性エネルギー線を
照射して硬化する。

【００３６】硬化性組成物の塗布方法は周知の方法で行
えばよく、例えばスピンコーティング、バーコーティン
グ、スプレーコーティング、グラビアコーティング、ス
リットダイコーティングなどが用いられる。

【００３７】硬化物層の厚さとしては０．５μｍ〜３０
μｍの範囲が好ましく、より好ましくは１μｍ〜１０μ
ｍである。０．５μｍより薄いと機械的損傷などに対し
て十分な保護性が得られなく３０μｍより厚いと硬化時
の収縮のためディスクに反りを生じ、ディスクの機械特
性が低下し記録再生時の信号品質が劣化し好ましくな
い。

【００３８】次に本発明の光記録媒体について製造する
場合の一例を示す。なお、本発明の光記録媒体の製造は
ここでの例に限定されないことは言うまでもない。

【００３９】すなわち、まず基板上にスパッタリング法
などにより誘電体膜、記録膜、誘電体膜および反射冷却
膜を順次形成する。次に該反射冷却膜上に本発明の重合
性モノマを主成分とする化学線硬化性樹脂組成物を均一
に塗布した後、該塗布面から紫外線ランプを用いて紫外
線を照射して化学線硬化性樹脂組成物の硬化被膜を形成
する。さらに同様の構成のディスクを作成し、硬化被膜
面を相対向してホットメルト接着剤で貼合わせ本発明の
光記録媒体を作成する。

【００４０】

【実施例】以下、実施例によって、本発明をさらに具体
的に説明する。実施例中の各特性の評価については次の
方法によった。

【００４１】［評価方法］（１）スチールウール硬度試料の剥離面（接着面）を新東科学（株）社製“トライ
ボギア”ＹＰＥ１４ＤＲを用いスチールウール＃０００
０で荷重５００ｇで１０回擦り、幅１０ｍｍの部分の傷
の数を目視で判定、ランクづけをした。

【００４２】ランク５：傷無しランク４：１０本以下ランク３：３０本以下ランク２：１００本以下ランク１：全面傷一方、接着面硬度と表面硬度が異なることを示すため剥
離前の表面硬度も同様に評価した。

【００４３】（２）繰返し性実施例および比較例で示す光記録媒体を１２００ｒｐｍ
で回転させ、基板側から、半径方向に長円に集光した波
長８３０ｎｍの半導体レーザー光を照射して、薄膜層を
結晶化し初期化した。その後、線速度６ｍ／秒の条件
で、対物レンズの開口数０．５、半導体レーザーの波長
８３０ｎｍの光学ヘッドを使用して、パルス幅５０ｎｓ
ｅｃ、記録パワー２０ｍＷ、消去パワー８．５ｍＷの条
件に変調した半導体レーザー光で、２−７変調コードの
ランダムパターンを１回オーバライトした。そのトラッ
クを再生し、ビットエラーレートが１×１０^-6以下であ
ることを確認した後、該トラック上に５万回オーバーラ
イトして繰返し後のビットエラーレートを評価した。

【００４４】（３）耐湿熱性同様の記録媒体を上記（２）の装置を用いて、記録パワ
ー２０ｍＷ、消去パワー８．５ｍＷ、線速度６ｍ／秒の
条件で１０００回オーバーライトモードで記録した後、
ビットエラーレートを測定し、さらに８０℃、８０％、
の雰囲気下に１０００ｈｒ保存し、ビットエラーレート
を測定し下記したビットエラーレートの増加比で判定し
た。

【００４５】ビットエラーレートの増加比＝湿熱後のビ
ットエラーレート／湿熱前のビットエラーレート実施例１下記した化学線硬化性樹脂組成物を硬化後の膜厚が８μ
ｍになるようにポリエチレン基板面に塗布し、大気雰囲
気下で塗布面より高圧水銀灯で強度５００ｍＪ／ｃｍ２
の紫外線を照射して硬化し、スチールウール硬度評価用
試料を作成し、スチールウール硬度を測定した。

【００４６】［化学線硬化性樹脂組成物の構成］ジシク
ロペンタニルジアクリレート（“カラヤッド”Ｒ６８
４、日本化薬社製）６７重量部、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート（“カラヤッド”ＮＰＧＤＡ、日本化
薬社製）３２．５重量部、トリエチレングリコールジア
クリレート（“ライトアクリレート”３ＥＧＡ、共栄社
油脂化学工業社製）０．５重量部、２−アクリロイルオ
キシエチルアシッドフォスフェート（“ライトエステ
ル”“ＰＡ、共栄社油脂化学工業社製）０．０５重量
部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
（“イルガキュアー”１８４、チバガイギー社製）３．
８重量部、４−ジメチルアミノアセトフェノン（“ダイ
トキュアー”ＤＡＡ（Ｓ）、ダイトーケミックス社製）
２．２重量部を混合溶解して、紫外線硬化性樹脂保護層
組成物とした。

【００４７】別にスパイラル状の溝付きポリカーボネー
ト基板にアルゴン圧力０．５Ｐａの雰囲気下でスパッタ
リング法により下記の４層からなる薄膜層を形成した。
基板上にまず厚さ３５０ｎｍのＺｎＳ・ＳｉＯ２（モル
比８０：２０）の誘電体膜を形成し、次に厚さ２７ｎｍ
のＰｄ１Ｇｅ１８Ｓｂ２６Ｔｅ５５の記録膜を形成し、
さらに厚さ２１ｎｍのＺｎＳ・ＳｉＯ２（モル比８０：
２０）の誘電体膜を形成し、その上に反射冷却膜として
Ａｌ９８．３Ｈｆ１．４Ｐｄ０．３を１４０ｎｍの厚さ
に形成した。さらにその上に下記した化学線硬化性樹脂
組成物を硬化後の膜厚が８μｍになるように塗布し、大
気雰囲気下で塗布面より高圧水銀灯で強度５００ｍＪ／
ｃｍ２の紫外線を照射して硬化した。

【００４８】さらに同様の構成のディスクを２枚作成
し、硬化被膜を相対向してホットメルト接着剤で貼合わ
せ、繰返し性および耐湿熱性評価試料を作成し、繰返し
性および耐湿熱性評価のためのビットエラーレートを測
定した。結果を表１に示す。

【００４９】実施例２実施例１で作成した紫外線硬化性樹脂保護層組成物の代
わりに下記組成物を使用した他は実施例１と全く同様に
してスチールウール硬度、繰返し性、耐湿熱性評価用試
料を作成し、スチールウール硬度、繰返し性、耐湿熱性
を測定した。結果を表１に示す。

【００５０】［化学線硬化性樹脂組成物の構成］ジシク
ロペンタニルジアクリレート（“カラヤッド”Ｒ６８
４、日本化薬社製）６７重量部、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート（“カラヤッド”ＮＰＧＤＡ、日本化
薬社製）３２．５重量部、トリエチレングリコールジア
クリレート（“ライトアクリレート”３ＥＧＡ、共栄社
油脂化学工業社製）０．５重量部、２−アクリロイルオ
キシエチルアシッドフォスフェート（“ライトエステ
ル”ＰＡ、共栄社油脂化学工業社製）０．０５重量部、
ベンジルジメチルケタール（“イルガキュアー”６５
１、チバガイギー社製）３．８重量部、４−ジメチルア
ミノアセトフェノン（“ダイトキュアー”ＤＡＡ
（Ｓ）、ダイトーケミックス社製）２．２重量部を混合
溶解して、紫外線硬化性樹脂保護層組成物とした。

【００５１】実施例３実施例１で作成した紫外線硬化性樹脂保護層組成物の代
わりに下記組成物を使用した他は実施例１と全く同様に
してスチールウール硬度、繰返し性、耐湿熱性評価用試
料を作成し、スチールウール硬度、繰返し性、耐湿熱性
を測定した。結果を表１に示す。

【００５２】［化学線硬化性樹脂組成物の構成］ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート（“カラヤッド”
ＤＰＨＡ、日本化薬社製）６０重量部、１，６−ヘキサ
ンジオールジアクリレート（“カラヤッド”ＨＤＤＡ、
日本化薬社製）３９．５重量部、トリエチレングリコー
ルジアクリレート（“ライトアクリレート”３ＥＧＡ、
共栄社油脂化学工業社製）０．５重量部、２−アクリロ
イルオキシエチルアシッドフォスフェート（“ライトエ
ステル”ＰＡ、共栄社油脂化学工業社製）０．１重量
部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
（“イルガキュアー”１８４、チバガイギー社製）３．
８重量部、４−ジメチルアミノアセトフェノン（“ダイ
トキュアー”ＤＡＡ（Ｓ）、ダイトーケミックス社製）
２．２重量部を混合溶解して、紫外線硬化性樹脂保護層
組成物とした。

【００５３】比較例１実施例１で作成した紫外線硬化性樹脂保護層組成物の代
わりに下記組成物を使用した他は実施例１と全く同様に
してスチールウール硬度、繰返し性、耐湿熱性評価用試
料を作成し、スチールウール硬度および繰返し性、耐湿
熱性評価のためのビットエラーレートを測定した。結果
を表１に示す。

【００５４】［化学線硬化性樹脂組成物の構成］ジシク
ロペンタニルジアクリレート（“カラヤッド”Ｒ６８
４、日本化薬社製）６７重量部、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート（“カラヤッド”ＮＰＧＤＡ、日本化
薬社製）３２．５重量部、トリエチレングリコールジア
クリレート（“ライトアクリレート”３ＥＧＡ、共栄社
油脂化学工業社製）０．５重量部、２−アクリロイルオ
キシエチルアシッドフォスフェート（“ライトエステ
ル”ＰＡ、共栄社油脂化学工業社製）０．０５重量部、
ベンゾフェノン（高石化成社製）３．８重量部、４−ジ
メチルアミノアセトフェノン（“ダイトキュアー”ＤＡ
Ａ（Ｓ）、ダイトーケミックス社製）２．２重量部を混
合溶解して、紫外線硬化性樹脂組成物とした。

【００５５】比較例２実施例１で作成した紫外線硬化性樹脂保護層組成物の代
わりに下記組成物を使用した他は実施例１と全く同様に
してスチールウール硬度、繰返し性、耐湿熱性評価用試
料を作成し、スチールウール硬度および繰返し性、耐湿
熱性評価のためのビットエラーレートを測定した。結果
を表１に示す。

【００５６】［化学線硬化性樹脂組成物の構成］ジシク
ロペンタニルジアクリレート（“カラヤッド”Ｒ６８
４、日本化薬社製）６７重量部、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート（“カラヤッド”ＮＰＧＤＡ、日本化
薬社製）３２．５重量部、トリエチレングリコールジア
クリレート（“ライトアクリレート”３ＥＧＡ、共栄社
油脂化学工業社製）０．５重量部、２−アクリロイルオ
キシエチルアシッドフォスフェート（“ライトエステ
ル”ＰＡ、共栄社油脂化学工業社製）０．０５重量部、
２，４−ジエチルチオキサントン（“カヤキュアー”Ｄ
ＥＴＸ−Ｓ、日本化薬社製）３．８重量部、４−ジメチ
ルアミノアセトフェノン（“ダイトキュアー”ＤＡＡ
（Ｓ）、ダイトーケミックス社製）２．２重量部を混合
溶解して、紫外線硬化性樹脂組成物とした。

【００５７】

【表１】

【００５８】

【発明の効果】本発明によれば、上述のごとく薄膜層と
の接着面の硬度が良好で、かつ薄膜層との接着性に優れ
た化学線硬化性樹脂組成物から成る保護層を設けること
により薄膜層の保護性に優れ、記録特性の劣化を防止で
きる、良好な信号品質を示す光記録媒体が提供できる。

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【手続補正書】

【提出日】平成６年１０月１３日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３１】本発明では、化学線硬化性樹脂組成物の硬
化物層の硬化被膜の表面硬度を向上する目的で脂肪族ま
たは芳香族アミン系化合物をさらに用いることができ
る。これらの化合物の具体例として、４−ジメチルアミ
ノアセトフェノン、４，４´−ビス（ジメチルアミノ）
ベンゾフェノン、４，４´−ビス（ジエチルアミノ）ベ
ンゾフェノン、４，４´−ビス（ジメチルアミノ）安息
香酸エチルなどが挙げられる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と薄膜層と有機系保護層を少なくとも
備えた光記録媒体であって、前記有機系保護層が重合性
モノマを主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化物
層からなり、前記有機系保護層と前記薄膜層の接着面に
おける前記有機系保護層のスチールウール硬度がランク
２以上であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】化学線硬化性樹脂組成物の光重合開始剤が
主として分子内結合開裂型であることを特徴とする請求
項１記載の光記録媒体。
【請求項３】化学線硬化性樹脂組成物が、１分子中に１
個以上のアクリロイルオキシ基またはメタアクリロイル
オキシ基を有する燐化合物を含んでなることを特徴とす
る請求項１記載の光記録媒体。
【請求項４】燐化合物の含有量が、重合性モノマ１００
重量部に対し、０．００５〜３重量部であることを特徴
とする請求項３記載の光記録媒体。