JPH0616734A - 帯電防止用紫外線硬化型樹脂組成物及びそれを被覆して成る光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 （１）重合性酸性リン酸エステル、（２）重
合性酸性リン酸エステルのアルカリ金属塩及び（３）分
子中に２個以上の紫外線硬化型活性エチレン基を有する
有機化合物を含有する帯電防止用紫外線硬化型樹脂組成
物及び該組成物から成る硬化被膜を有する光ディスク。 【効果】 本発明の組成物から成る硬化被膜を有する光
ディスクは、塵埃の付着を防止するとともに、高い表面
硬度を有するので、取扱い時のディスクの傷付きを防止
し、光ディスクの読みだし、書き込み、消去エラーの発
生を抑制することができ、かつ熱水浸漬を行っても塗膜
性能が低下することがない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、帯電防止用紫外線硬化
型樹脂組成物及び該組成物から成る硬化被膜を有する光
ディスクに関し、更に詳しくは、硬化被膜の表面の帯電
防止性と硬度が改善され、しかも高温高湿環境化におい
ても帯電防止性能の劣化がない硬化被膜を提供可能な帯
電防止用紫外線硬化型樹脂組成物及び該硬化被膜を有す
る光ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】次世代の記録媒体として注目されている
光ディスクの基板などに用いられるプラスチックには、
一般に、ポリカーボネートやポリメチルメタクリレート
などが用いられるが、これらのプラスチック自身の表面
硬度は小さい。そこで取扱い時に於ける表面の傷付き防
止のため、紫外線硬化型樹脂などの樹脂組成物により表
面を被覆することが提案されている。

【０００３】このプラスチックの表面被覆のための樹脂
組成物は、傷つき防止のため、高い硬度を示すものが好
ましいが、それ以外に空気中の塵埃の付着を防ぐため帯
電防止性能を有することが望まれている。特に光ディス
ク基板の被覆剤として用いられる紫外線硬化型樹脂組成
物には、これらの要請が大きい。

【０００４】一般に、光ディスクの表面に環境中の塵埃
が付着した場合、記録動作にエラーを発生しやすくなる
ので、付着した塵埃を取り除くため、ドライブにブラシ
を装着し、ドライブに挿入されたディスクの回転を利用
してブラシにより塵埃をかきおとすことが行われてい
る。この場合、ある程度の大きさの塵埃をかきおとすに
は有効であるものの、ブラシがディスクを擦る事により
静電気が発生することが避けられず、かえって細かい塵
埃をディスクに吸着させてしまう危険性がある。この現
象を防ぐために、ディスク表面の被覆物に、発生した静
電気を速やかに漏洩させるような帯電防止性能を備える
必要がある。

【０００５】このような帯電防止性を得る手法として、
例えば、界面活性剤等の帯電防止剤を当該表面に塗布す
る方法が知られているが、この方法では、初期の帯電防
止性能は良好であるが、先に述べたようにブラシにより
表面を擦られると、帯電防止剤成分が脱落するので短期
間にその性能が低下する傾向にある。

【０００６】このような欠点を解決する目的で、帯電防
止性能を有する官能基を分子中に持つ重合性モノマーと
して重合性酸性リン酸エステルを含有する帯電防止用紫
外線硬化型樹脂組成物及び該組成物により被覆された光
ディスクが提案されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】例えば、特開昭５７−
６５７６１号公報には、重合性酸性リン酸エステルと感
光性樹脂及びポリエチレングリコール縮合型界面活性剤
からなる組成物が開示されている。しかしながら、この
組成物は、帯電防止性能を発揮するために界面活性剤を
必須成分としているので、このような組成物により光デ
ィスクの表面に被膜を形成した場合、高温高湿環境下で
保存中に、結露により界面活性剤が溶出し易く、従っ
て、その場合、期待した帯電防止性能を発揮し得なくな
ってしまう。また、特開平４−６７３３１号公報には、
重合性酸性リン酸エステルを０．１〜６０重量％含有す
る紫外線硬化型樹脂組成物で被覆した光ディスクが、特
開平４−６７３３０公報には、重合性酸性リン酸エステ
ルと有機アミン化合物の１：１付加物を０．１〜２０重
量％含有する紫外線硬化型樹脂組成物で被覆した光ディ
スクがそれぞれ開示されているが、基板表面の帯電防止
性の目安となる表面抵抗及び被覆表面の硬度の両立が為
されていないという問題点を有していた。

【０００８】本発明が解決しようとする課題は、帯電防
止性能の目安となる表面抵抗で１．０×１０¹³Ω／□以
下で、かつ、被膜硬度の目安である鉛筆硬度Ｈ以上であ
り、かつ高温高湿条件下で特に帯電防止性能の低下がな
い被膜を形成可能な帯電防止用紫外線硬化型樹脂組成物
を提供し、また、そのような被膜を有する光ディスクを
提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、（１）一般式（I）

【００１０】

【化３】

【００１１】（式中、Ｒは水素又はメチル基を表わし、
ｍは１〜８の整数を表わし、ｎは１又は２を表わす。）
で表わされる重合性酸性リン酸エステル、（２）一般式
（II）

【００１２】

【化４】

【００１３】（式中、Ｒは水素又はメチル基を表わし、
ｍは１〜８の整数を表わし、ｎは１又は２を表わし、Ｍ
はアルカリ金属を表わす。）で表わされる重合性酸性リ
ン酸エステルのアルカリ金属塩及び（３）分子中に２個
以上の紫外線硬化型活性エチレン基を有する有機化合物
を含有する帯電防止用紫外線硬化型樹脂組成物及び該組
成物から成る硬化被膜を有する光ディスクを提供する。

【００１４】本発明で用いられる重合性酸性リン酸エス
テルは、一般式（Ｉ）に示される構造を有するものであ
るが、具体的には、式

【００１５】

【化５】 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＰＯ（ＯＨ）₂

【００１６】で表わされるエチレンオキシド変性リン酸
アクリレート、式

【００１７】

【化６】 ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＰＯ（ＯＨ）₂

【００１８】で表わされるエチレンオキシド変性リン酸
メタクリレート、式

【００１９】

【化７】 （ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂ＰＯ（ＯＨ）

【００２０】で表わされるエチレンオキシド変性リン酸
ジアクリレート、式

【００２１】

【化８】（ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂
ＰＯ（ＯＨ）

【００２２】で表わされるエチレンオキシド変性リン酸
ジメタクリレート、式

【００２３】

【化９】ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）ＯＰＯ
（ＯＨ）₂

【００２４】で表わされるプロピレンオキシド変性リン
酸アクリレート、式

【００２５】

【化１０】ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ
Ｈ₃）ＯＰＯ（ＯＨ）₂

【００２６】で表わされるプロピレンオキシド変性リン
酸メタクリレート、式

【００２７】

【化１１】（ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）
Ｏ）₂ＰＯ（ＯＨ）

【００２８】で表わされるプロピレンオキシド変性リン
酸ジアクリレート、式

【００２９】

【化１２】（ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ
Ｈ₃）Ｏ）₂ＰＯ（ＯＨ）

【００３０】で表わされるプロピレンオキシド変性リン
酸ジメタクリレート、式

【００３１】

【化１３】 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯ（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）_nＯＰＯ（ＯＨ）₂

【００３２】で表わされるポリエチレンオキシド変性リ
ン酸アクリレート、式

【００３３】

【化１４】ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯ（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）_n
ＯＰＯ（ＯＨ）₂

【００３４】で表わされるポリエチレンオキシド変性リ
ン酸メタクリレート、式

【００３５】

【化１５】（ＣＨ₂＝ＣＨＣＯ（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）_nＯ）₂
ＰＯ（ＯＨ）

【００３６】で表わされるポリエチレンオキシド変性リ
ン酸ジアクリレート、式

【００３７】

【化１６】（ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯ（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）
_nＯ）₂ＰＯ（ＯＨ）

【００３８】で表わされるポリエチレンオキシド変性リ
ン酸ジメタクリレート、式

【００３９】

【化１７】ＣＨ₂＝ＣＨＣＯ（ＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃））_n
ＯＰＯ（ＯＨ）₂

【００４０】で表わされるポリプロピレンオキシド変性
リン酸アクリレート、式

【００４１】

【化１８】ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯ（ＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ
Ｈ₃））_nＯＰＯ（ＯＨ）₂

【００４２】で表わされるポリプロピレンオキシド変性
リン酸メタクリレート、式

【００４３】

【化１９】（ＣＨ₂＝ＣＨＣＯ（ＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ
Ｈ₃））_nＯ）₂ＰＯ（ＯＨ）

【００４４】で表わされるポリプロピレンオキシド変性
リン酸ジアクリレート、式

【００４５】

【化２０】（ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯ（ＯＣＨ₂ＣＨ
（ＣＨ₃））_nＯ）₂ＰＯ（ＯＨ）

【００４６】で表わされるポリプロピレンオキシド変性
リン酸ジメタクリレート等が挙げられる。これら重合性
酸性リン酸エステルの組成物中に占める割合は、３０〜
６０重量％の範囲が好ましい。その割合が、３０重量％
未満であると帯電防止性能が劣り、また６０重量％を超
える量を添加すると被膜硬度の低下を来す傾向にあるの
で好ましくない。

【００４７】また、本発明で用いられる重合性酸性リン
酸エステルのアルカリ金属塩は、上記の重合性酸性リン
酸エステルと水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
アルカリ金属化合物とを反応させることにより得ること
ができるが、直接反応させることが困難な場合には、水
や有機溶媒で希釈して反応させたのち、該希釈溶媒を蒸
発せしめることにより目的物を得ることもできる。この
場合、溶媒により希釈されたアルカリ金属化合物は、本
発明の組成物を製造する上でいかなる段階で添加されて
も良い。これらの重合性酸性リン酸エステルのアルカリ
金属塩の組成物中に占める割合は、１〜１５重量％が好
ましい。その割合が、１重量％未満であると帯電防止性
能に劣り、１５重量％を超える量を添加すると組成物中
で均一に混合しにくくかつ、被覆表面の外観が悪化する
傾向にあるので好ましくない。

【００４８】また、分子中に少なくとも２つ以上の活性
エチレン基を含有する有機化合物としては、例えば、エ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、１，３−ブ
チレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサ
メチレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメ
チロールプロパン、グリセリン及びペンタエリスリトー
ル等のポリ（メタ）アクリレート；ネオペンチルグリコ
ール１モルに２モル以上のエチレンオキサイド若しくは
プロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メ
タ）アクリレート；トリメチロールプロパン１モルに３
モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキ
サイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）
アクリレート；ビスフェノールＡ１モルに２モル以上の
エチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付
加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート；ジペン
タエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、アクリ
ロキシエチルイソシアヌレート等が挙げられるが、いず
れにしてもそれ自体、光重合開始剤の存在下で重合し、
その場合の塗膜硬度が鉛筆硬度で３Ｈ以上有れば良い。
これらの分子中に少なくとも２つ以上の活性エチレン基
を含有する有機化合物の組成物中に占める割合は特に制
限はない。

【００４９】また、上記の成分のみで被膜を形成した場
合、表面抵抗値及び硬度は所望の値が得られるが、高温
高湿条件下での遊離酸の浮き出しによる被膜表面の白化
が起こるので、分子中に少なくとも１個以上の紫外線官
能基及び３級アミン基を構造中に有する化合物を添加す
るのが好ましい。そのような分子中に少なくとも１個以
上の紫外線官能基及び３級アミン基を構造中に有する化
合物の例としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエ
チルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアク
リレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート等を
挙げることができる。

【００５０】この重合性３級アミン有機化合物の組成量
は、特に制限はないが、高温高湿条件下での白化防止性
と帯電防止性、被膜硬度との兼ね合いから当該組成物中
の重合性リン酸エステルの酸価より計算されるアミンと
してのモル量の０．４〜０．７５倍を用いるのが好まし
い。

【００５１】以上の混合物に、紫外線の照射条件に見合
う量の光重合開始剤を使用する。光重合開始剤について
は、通例考え得るもので有れば良く、例えば、２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製
「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジル
ジメチルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア
６５１」）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フ
ェニル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイ
ギー社製「イルガキュア９０７」）、２，４−ジエチル
チオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴ
Ｘ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬
社製「カヤキュア−ＥＰＡ」）との混合物、イソプロピ
ルチオキサントン（ワードプレキンソップ社製「カンタ
キュアＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
との混合物等が挙げられる。その使用量については、硬
化に用いる紫外線照射機の条件によって決定されるが、
一般的には上記樹脂混合物に対して重量比で３〜７％を
用いる。

【００５２】なお、以上の組成物に対して、適宜、重合
禁止剤、消泡剤、レベリング剤、溶剤、重合性希釈剤等
を添加しても良い。

【００５３】本発明の組成物を紫外線照射により硬化さ
せた後の被膜の表面抵抗は１．０×１０¹³Ω／□以下で
あることが好ましい。被膜の表面抵抗が１．０×１０¹³
Ω／□を超えると、帯電防止性能が劣り、被覆表面の塵
埃付着を防ぐ効果が低下する傾向にあるので好ましくな
い。

【００５４】また被膜の硬度はＪＩＳ Ｋ−５４００に
従って測定したときに鉛筆硬度でＨ以上であることが、
基盤表面の傷つき防止のため好ましい。

【００５５】光ディスクは、通常、案内溝を有する透明
性基板上に、記録膜、誘電体膜、反射膜および保護膜を
成膜して製造される。

【００５６】光ディスクに使用する透明基板としては、
ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、アモルファスポリオレフ
ィン等の樹脂、或はガラスに直接案内溝を形成した基
板、ガラスまたは樹脂の平板上にフォトポリマー法によ
り案内溝を形成した基板等が挙げられる。基板の屈折率
は１．４〜１．６の範囲が好ましく、厚みは１．０〜
１．５mmの範囲が好ましい。

【００５７】透明基板上に形成される記録層は、干渉
膜、記録膜、反射膜を構成単位とし、それらの組み合わ
せにより形成される。

【００５８】干渉膜には透明性、屈折率の高い無機誘電
体膜が用いられる。材質としては、例えば、ＳｉＮ_x、
ＳｉＯ_x、ＡｌＳｉＯＮ、ＡｌＳｉＮ、ＡｌＮ、ＡｌＴ
ｉＮ、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｎＳ等が挙げられる。これら干渉膜
の屈折率は、１．８〜２．８の範囲が好ましく、吸収係
数は０〜０．１の範囲が好ましい。

【００５９】記録膜を構成する材質としては、例えば、
追記型光ディスクでは、Ｔｅ、ＳｎＳｅ等のカルコゲナ
イト系合金、或いはシアニン系等の有機色素、光磁気デ
ィスクでは、ＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ等の遷移
金属と希土類金属の合金、相変化型光ディスクでは、Ｔ
ｅＯ_x、 ＩｎＳｅ、ＳｎＳｂ等のカルコゲナイト系合金
等が挙げられる。

【００６０】反射膜には反射率の高い金属膜或いは合金
膜を使用する。材質は、例えば、金属膜としては、Ａ
ｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等、合金膜としてはＡｌ−Ｔｉ、
Ａｌ−Ｃｒ等が挙げられる。

【００６１】干渉膜、金属系記録膜、反射膜は、スパッ
タリング、イオンプレーディング等の物理蒸着法（ＰＶ
Ｄ）、プラズマＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）等によ
って形成し、有機色素系記録膜は溶液をスピンコート
法、ロールコート法等により塗布した後、溶媒を除去し
て形成する。

【００６２】反射層上に形成する保護膜は、通常、スピ
ンコート法により紫外線硬化型樹脂を塗布した後、紫外
線を照射して硬化することにより形成する。

【００６３】このようにして成膜した光ディスクは、単
体で使用してもよく、２枚を基板が外側にくるように貼
り合わせて使用してもよい。

【００６４】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説
明する。なお、実施例中、「部」は『重量部』を表わ
す。また、表面抵抗はＪＩＳ Ｋ−６９１１、鉛筆硬度
はＪＩＳ Ｋ−５４００、密着性はＪＩＳ Ｋ−５４０
０による碁板目／セロテープ剥離試験により測定した。
また高温高湿条件下放置の加速試験として、塗布後の基
板を沸騰水中に４時間浸漬した熱水浸漬試験を行った。

【００６５】（実施例１）重合性リン酸エステルとして
酸価が２５８mgＫＯＨ／ｇのエチレンオキシド変性リン
酸アクリレート（大八化学工業(株)製「ＡＲ−２０
０」）４０部、重合性３級アミン有機化合物としてＮ，
Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート（共栄社油脂
化学工業(株)製「ライトエステルＤＭ」）２３部、及
び、活性エチレン含有化合物として１，６−ヘキサンジ
オールジアクリレート（日本化薬(株)製「カヤラッドＨ
ＤＤＡ」）１３部、及びペンタエリスリトールテトラア
クリレート（共栄社油脂化学工業(株)製「ＰＥ−４
Ａ」）２４部を混合した。この組成物と水酸化ナトリウ
ム１部をメタノール１２０部に溶解した溶液とを混合
後、エバポレーターによりメタノールを除去した。更に
光重合開始剤としてメルク社製の「ダロキュアー１１７
３」５部を混合して本発明の帯電防止用紫外線硬化型樹
脂組成物を調製した。

【００６６】この組成物を光ディスク用ポリカーボネー
ト基板上にスピンコーターにより塗布後、４１０mＷ／c
m²のメタルハライドランプにより５秒間照射して硬化被
膜を得た。

【００６７】この基板の被膜とは反対の面に、 ＳｉＮ_x
から成る膜厚１００nmの第１誘電体層をＲＦスパッタ法
で成膜し、 その上にＴｂ₂₀Ｆｅ₇₂Ｃｏ₈から成る膜厚２
５nmの光磁気記録層をＤＣスパッタ法で成膜し、 更に
その上にＳｉＮ_xから成る膜厚２０nmの第２誘電体層を
ＲＦスパッタ法で成膜し、更にその上にＡｌＴｉ合金か
ら成る膜厚７５nmの反射層をＤＣスパッタ法で成膜し
た。更に、反射層上に、スピンコーターにより紫外線硬
化型保護コート剤「ＥＸ−３１８」（大日本インキ化学
工業(株)製）の塗布を行なた後、紫外線を照射して保護
コート剤を硬化させて本発明の光ディスクを得た。

【００６８】次に、この光ディスクについて、各種物性
を測定した。結果を表１に示した。

【００６９】（実施例２〜４、比較例１〜２）組成物中
の水酸化ナトリウムの量を表１に示すように変化させた
以外は実施例１と同様に硬化被膜を得た。測定結果を表
１に示した。

【００７０】

【表１】

【００７１】（実施例５）重合性リン酸エステルとして
酸価が２８６mgＫＯＨ／ｇのエチレンオキシド変性リン
酸メタクリレート（大八化学工業(株)製「ＭＲ−２０
０」）４０部、重合性３級アミン有機化合物としてＮ，
Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート（共栄社油脂
化学工業(株)製「ライトエステルＤＥ」）２３部、活性
エチレン含有化合物として１，６−ヘキサンジオールジ
アクリレート（日本化薬(株)製カヤラッドＨＤＤＡ）１
３部及びエチレンオキシド変性トリメチロールプロパン
トリアクリレート（共栄社油脂化学工業(株)製「ＴＭＰ
−６ＥＯ−３Ａ」）２４部を混合した。この組成物と水
酸化ナトリウム１部をメタノール１２０部に溶解した溶
液とを混合後、エバポレーターによりメタノールを除去
した。更に光重合開始剤としてメルク社製の「ダロキュ
アー１１７３」５部を混合して本発明の帯電防止用紫外
線硬化型樹脂組成物を調製した。

【００７２】この組成物を光ディスク用ポリカーボネー
ト基板上にスピンコーターにより塗布後、４１０mＷ／c
m²のメタルハライドランプにより５秒間照射して硬化被
膜を得た。

【００７３】この基板の被膜とは反対の面に、 ＳｉＮ_x
から成る膜厚１００nmの第１誘電体層をＲＦスパッタ法
で成膜し、 その上にＴｂ₂₀Ｆｅ₇₂Ｃｏ₈から成る膜厚２
５nmの光磁気記録層をＤＣスパッタ法で成膜し、 更に
その上にＳｉＮ_xから成る膜厚２０nmの第２誘電体層を
ＲＦスパッタ法で成膜し、更にその上にＡｌＴｉ合金か
ら成る膜厚７５nmの反射層をＤＣスパッタ法で成膜し
た。更に、反射層上に、スピンコーターにより紫外線硬
化型保護コート剤「ＥＸ−３１８」（大日本インキ化学
工業(株)製）の塗布を行なた後、紫外線を照射して保護
コート剤を硬化させて本発明の光ディスクを得た。

【００７４】次に、この光ディスクについて、各種物性
を測定した。結果を表２に示した。

【００７５】（実施例６〜８、比較例３〜４）組成物中
の水酸化ナトリウムの量を表２に示すように変化させた
以外は実施例５と同様に硬化被膜を得た。測定結果を表
２に示す。

【００７６】

【表２】

【００７７】

【発明の効果】本発明の帯電防止用紫外線硬化型樹脂組
成物から成る硬化被膜を有する光ディスクは、塵埃の付
着を防止するとともに、高い表面硬度を有するので、取
扱い時のディスクの傷付きを防止し、光ディスクの読み
だし、書き込み、消去エラーの発生を抑制することがで
き、かつ熱水浸漬を行っても塗膜性能が低下することが
ない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３６ 7215−5Ｄ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （１）一般式（I） 【化１】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²は水素又はメチル基を表わし、ｍは１
   〜８の整数を表わし、ｎは１又は２を表わす。）で表わ
   される重合性酸性リン酸エステル、（２）一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²は水素又はメチル基を表わし、ｍは１
   〜８の整数を表わし、ｎは１又は２を表わし、Ｍはアル
   カリ金属を表わす。）で表わされる重合性酸性リン酸エ
   ステルのアルカリ金属塩及び（３）分子中に２個以上の
   紫外線硬化型活性エチレン基を有する有機化合物を含有
   することを特徴とする帯電防止用紫外線硬化型樹脂組成
   物。
2. 【請求項２】 分子中に１個以上の紫外線硬化型官能基
   と１個以上の３級アミン基を含有する重合性３級アミン
   有機化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の
   帯電防止用紫外線硬化型樹脂組成物。
3. 【請求項３】 請求項１又は２記載の帯電防止用紫外線
   硬化型樹脂組成物から成る硬化被膜を有することを特徴
   とする光ディスク。