JPH0770063A - 有機材料のための光安定剤、熱安定剤及び酸化安定剤として使用するための2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールの新規誘導体 - Google Patents
有機材料のための光安定剤、熱安定剤及び酸化安定剤として使用するための2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールの新規誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジノールの新規誘導体を提供する。 【構成】 式I〔式中、R1 は水素原子、メチル基等を
表わし;R2 は直接結合、基−CO−CH2 −CH2 −
等を表わし;R3 は炭素原子数8ないし18のアルキル
基等を表わす〕で表わされる化合物。 【効果】 有機材料、特に合成ポリマーのための光安定
剤、熱安定剤及び酸化安定剤として有用である。
ジノールの新規誘導体を提供する。 【構成】 式I〔式中、R1 は水素原子、メチル基等を
表わし;R2 は直接結合、基−CO−CH2 −CH2 −
等を表わし;R3 は炭素原子数8ないし18のアルキル
基等を表わす〕で表わされる化合物。 【効果】 有機材料、特に合成ポリマーのための光安定
剤、熱安定剤及び酸化安定剤として有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規ピペリジン化合
物;有機材料のための光安定剤、熱安定剤及び酸化安定
剤として、特に合成ポリマー中で使用するためのその用
途;並びにそれによって安定化された有機材料に関する
ものである。
物;有機材料のための光安定剤、熱安定剤及び酸化安定
剤として、特に合成ポリマー中で使用するためのその用
途;並びにそれによって安定化された有機材料に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール誘導体
の製造方法及び合成ポリマーのための安定剤としてのそ
の用途に関する多数の特許、特に、US−A−3640
928、US−A−3840494、US−A−402
1432、US−A−4101508、US−A−41
15476及びUS−A−4419472、GB−A−
1466628、GB−A−1490485、GB−A
−2106901、EP−A−243319、EP−A
−300160及びEP−A−518807が刊行され
ている。
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール誘導体
の製造方法及び合成ポリマーのための安定剤としてのそ
の用途に関する多数の特許、特に、US−A−3640
928、US−A−3840494、US−A−402
1432、US−A−4101508、US−A−41
15476及びUS−A−4419472、GB−A−
1466628、GB−A−1490485、GB−A
−2106901、EP−A−243319、EP−A
−300160及びEP−A−518807が刊行され
ている。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明は、次式I:
【化2】 〔式中、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし8のアル
キル基、O・、OH基、CH2CN基、炭素原子数1な
いし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし12のシ
クロアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニル
基、非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によ
りフェニル環上を一,二又は三置換された炭素原子数7
ないし9のフェニルアルキル基;又は脂肪族の炭素原子
数1ないし8のアシル基を表わし、R2 は直接結合、メ
チレン基、カルボニル基又は基−CO−R4 −を表わ
し、基R4 は基−CO−O−R3 に結合しており、R3
は炭素原子数5ないし18のアルキル基、炭素原子数3
ないし18のアルケニル基、非置換又は炭素原子数1な
いし4のアルキル基により一,二又は三置換された炭素
原子数5ないし12のシクロアルキル基;或いは炭素原
子数1ないし4のアルキル基によりフェニル環上を一,
二又は三置換された炭素原子数7ないし9のフェニルア
ルキル基を表わし、R4 は直鎖状の炭素原子数1ないし
4のアルキレン基、基−CH2 −CHR5−、基−CH
=CR6 −、炭素原子数2ないし4のオキサアルキレン
基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル−1,2−
エン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルケン−1,
2−イレン基又は1,2−フェニレン基を表わし、R5
は炭素原子数1ないし18のアルキル基又は炭素原子数
3ないし18のアルケニル基を表わし、そしてR6 は水
素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
す〕で表わされる新規化合物に関するものである。
キル基、O・、OH基、CH2CN基、炭素原子数1な
いし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし12のシ
クロアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニル
基、非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によ
りフェニル環上を一,二又は三置換された炭素原子数7
ないし9のフェニルアルキル基;又は脂肪族の炭素原子
数1ないし8のアシル基を表わし、R2 は直接結合、メ
チレン基、カルボニル基又は基−CO−R4 −を表わ
し、基R4 は基−CO−O−R3 に結合しており、R3
は炭素原子数5ないし18のアルキル基、炭素原子数3
ないし18のアルケニル基、非置換又は炭素原子数1な
いし4のアルキル基により一,二又は三置換された炭素
原子数5ないし12のシクロアルキル基;或いは炭素原
子数1ないし4のアルキル基によりフェニル環上を一,
二又は三置換された炭素原子数7ないし9のフェニルア
ルキル基を表わし、R4 は直鎖状の炭素原子数1ないし
4のアルキレン基、基−CH2 −CHR5−、基−CH
=CR6 −、炭素原子数2ないし4のオキサアルキレン
基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル−1,2−
エン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルケン−1,
2−イレン基又は1,2−フェニレン基を表わし、R5
は炭素原子数1ないし18のアルキル基又は炭素原子数
3ないし18のアルケニル基を表わし、そしてR6 は水
素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
す〕で表わされる新規化合物に関するものである。
【0004】18個よりも多くない炭素原子を有するア
ルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、2−ブチル基、第三ブチル
基、ペンチル基、2−ペンチル基、イソペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシ
ル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシ
ル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘ
キサデシル基及びオクタデシル基である。
ルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、2−ブチル基、第三ブチル
基、ペンチル基、2−ペンチル基、イソペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシ
ル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシ
ル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘ
キサデシル基及びオクタデシル基である。
【0005】炭素原子数1ないし18のアルコキシ基R
1 の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペント
キシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ
基、オクトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ
基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基及び
オクタデシルオキシ基である。好ましい例は、炭素原子
数6ないし12のアルコキシ基、特に、ヘプトキシ基及
びオクトキシ基である。
1 の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペント
キシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ
基、オクトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ
基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基及び
オクタデシルオキシ基である。好ましい例は、炭素原子
数6ないし12のアルコキシ基、特に、ヘプトキシ基及
びオクトキシ基である。
【0006】非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基により一,二又は三置換された炭素原子数5ないし
12のシクロアルキル基R3 の例は、シクロペンチル
基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル
基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメ
チルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、
第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シク
ロデシル基及びシクロドデシル基である。非置換又は置
換シクロヘキシル基が好ましい。
ル基により一,二又は三置換された炭素原子数5ないし
12のシクロアルキル基R3 の例は、シクロペンチル
基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル
基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメ
チルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、
第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シク
ロデシル基及びシクロドデシル基である。非置換又は置
換シクロヘキシル基が好ましい。
【0007】炭素原子数5ないし12のシクロアルコキ
シ基R1 の例は、シクロペントキシ基、シクロヘキソキ
シ基、シクロヘプトキシ基、シクロオクトキシ基、シク
ロデシルオキシ基及びシクロドデシルオキシ基である。
シクロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基が好まし
い。
シ基R1 の例は、シクロペントキシ基、シクロヘキソキ
シ基、シクロヘプトキシ基、シクロオクトキシ基、シク
ロデシルオキシ基及びシクロドデシルオキシ基である。
シクロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基が好まし
い。
【0008】18個よりも多くない炭素原子を有するア
ルケニル基の例は、アリル基、2−メチルアリル基、ブ
テニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、
ウンデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセニル基
及びオクタデセニル基である。
ルケニル基の例は、アリル基、2−メチルアリル基、ブ
テニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、
ウンデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセニル基
及びオクタデセニル基である。
【0009】1位に存在する炭素原子が飽和している前
記アルケニル基が好ましい。
記アルケニル基が好ましい。
【0010】非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基によりフェニル環上を一,二又は三置換された炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基の例は、ベンジ
ル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメ
チルベンジル基及び2−フェニルエチル基である。ベン
ジル基が好ましい。
ル基によりフェニル環上を一,二又は三置換された炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基の例は、ベンジ
ル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメ
チルベンジル基及び2−フェニルエチル基である。ベン
ジル基が好ましい。
【0011】8個よりも多くない炭素原子を有する脂肪
族アシル基の代表例は、アセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサ
ノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、アクリロ
イル基及びクロトニル基である。炭素原子数1ないし8
のアルカノイル基及び炭素原子数3ないし8のアルケノ
イル基が特に好ましい。
族アシル基の代表例は、アセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサ
ノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、アクリロ
イル基及びクロトニル基である。炭素原子数1ないし8
のアルカノイル基及び炭素原子数3ないし8のアルケノ
イル基が特に好ましい。
【0012】直鎖状の炭素原子数1ないし4のアルキレ
ン基は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基及び
テトラメチレン基であってよい。
ン基は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基及び
テトラメチレン基であってよい。
【0013】炭素原子数2ないし4のオキサアルキレン
基は、例えば、2−オキサ−1,3−プロパンジイル基
又は3−オキサ−1,5−ペンタンジイル基基であって
よい。
基は、例えば、2−オキサ−1,3−プロパンジイル基
又は3−オキサ−1,5−ペンタンジイル基基であって
よい。
【0014】炭素原子数5ないし7のシクロアルキル−
1,2−エン基又は炭素原子数5ないし7のシクロアル
ケン−1,2−イレン基は、例えば、1,2−シクロヘ
キシレン基、4−メチル−1,2−シクロヘキシレン
基、4−シクロヘキセン−1,2−イレン基又は4−メ
チル−4−シクロヘキセン−1,2−イレン基である。
1,2−エン基又は炭素原子数5ないし7のシクロアル
ケン−1,2−イレン基は、例えば、1,2−シクロヘ
キシレン基、4−メチル−1,2−シクロヘキシレン
基、4−シクロヘキセン−1,2−イレン基又は4−メ
チル−4−シクロヘキセン−1,2−イレン基である。
【0015】R1 の好ましい定義は、水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基、OH基、炭素原子数6な
いし12のアルコキシ基、炭素原子数5ないし8のシク
ロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基又はアセチル
基、特に、水素原子又はメチル基である。
子数1ないし4のアルキル基、OH基、炭素原子数6な
いし12のアルコキシ基、炭素原子数5ないし8のシク
ロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基又はアセチル
基、特に、水素原子又はメチル基である。
【0016】式中、R2 が直接結合、メチレン基、カル
ボニル基又は基−CO−R4 −を表わし、R3 が炭素原
子数5ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし1
8のアルケニル基、非置換又は炭素原子数1ないし4の
アルキル基により一,二又は三置換された炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基;或いは非置換又は炭素原
子数1ないし4のアルキル基によりフェニル環上を一,
二又は三置換されたベンジル基を表わし、R4 が直鎖状
の炭素原子数1ないし3のアルキレン基、基−CH2 −
CHR5−、基−CH=CR6 −、炭素原子数2ないし
4のオキサアルキレン基、炭素原子数6及び7のシクロ
アルキル−1,2−エン基、炭素原子数6及び7のシク
ロアルケン−1,2−イレン基又は1,2−フェニレン
基を表わし、R5 がメチル基、炭素原子数3ないし18
のアルキル基又は炭素原子数3ないし18のアルケニル
基を表わし、そしてR6 が水素原子又は炭素原子数1及
び2のアルキル基を表わす、式Iで表わされる化合物が
好ましい。
ボニル基又は基−CO−R4 −を表わし、R3 が炭素原
子数5ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし1
8のアルケニル基、非置換又は炭素原子数1ないし4の
アルキル基により一,二又は三置換された炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基;或いは非置換又は炭素原
子数1ないし4のアルキル基によりフェニル環上を一,
二又は三置換されたベンジル基を表わし、R4 が直鎖状
の炭素原子数1ないし3のアルキレン基、基−CH2 −
CHR5−、基−CH=CR6 −、炭素原子数2ないし
4のオキサアルキレン基、炭素原子数6及び7のシクロ
アルキル−1,2−エン基、炭素原子数6及び7のシク
ロアルケン−1,2−イレン基又は1,2−フェニレン
基を表わし、R5 がメチル基、炭素原子数3ないし18
のアルキル基又は炭素原子数3ないし18のアルケニル
基を表わし、そしてR6 が水素原子又は炭素原子数1及
び2のアルキル基を表わす、式Iで表わされる化合物が
好ましい。
【0017】式中、R2 が直接結合、メチレン基、カル
ボニル基又は基−CO−R4 −を表わし、R3 が炭素原
子数6ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし1
8のアルケニル基、非置換又は炭素原子数1ないし4の
アルキル基により一,二又は三置換されたシクロヘキシ
ル基;或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基によりフェニル環上を一,二又は三置換されたベン
ジル基を表わし、R4 がエチレン基、トリメチレン基、
基−CH2 −CHR5 −、基−CH=CR6 −、基−C
H2 −O−CH2 −、1,2−シクロヘキシレン基、4
−メチル−1,2−シクロヘキシレン基、4−シクロヘ
キセン−1,2−イレン基、4−メチル−4−シクロヘ
キセン−1,2−イレン基又は1,2−フェニレン基を
表わし、R5 がメチル基、炭素原子数4ないし18のア
ルキル基又は炭素原子数4ないし18のアルケニル基を
表わし、そしてR6 が水素原子又はメチル基を表わす、
式Iで表わされる化合物が特に好ましい。。
ボニル基又は基−CO−R4 −を表わし、R3 が炭素原
子数6ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし1
8のアルケニル基、非置換又は炭素原子数1ないし4の
アルキル基により一,二又は三置換されたシクロヘキシ
ル基;或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基によりフェニル環上を一,二又は三置換されたベン
ジル基を表わし、R4 がエチレン基、トリメチレン基、
基−CH2 −CHR5 −、基−CH=CR6 −、基−C
H2 −O−CH2 −、1,2−シクロヘキシレン基、4
−メチル−1,2−シクロヘキシレン基、4−シクロヘ
キセン−1,2−イレン基、4−メチル−4−シクロヘ
キセン−1,2−イレン基又は1,2−フェニレン基を
表わし、R5 がメチル基、炭素原子数4ないし18のア
ルキル基又は炭素原子数4ないし18のアルケニル基を
表わし、そしてR6 が水素原子又はメチル基を表わす、
式Iで表わされる化合物が特に好ましい。。
【0018】式中、R2 が直接結合、メチレン基又は基
−CO−R4 −を表わし、R3 が炭素原子数8ないし1
8のアルキル基、ウンデセニル基、オクタデセニル基、
シクロヘキシル基又はベンジル基を表わし、R4 がエチ
レン基、トリメチレン基、基−CH2 −CHR5 −、基
−CH=CH−、基−CH2 −O−CH2 −、1,2−
シクロヘキシレン基又は4−メチル−1,2−シクロヘ
キシレン基を表わし、そしてR5 がメチル基、炭素原子
数4ないし12のアルキル基又は炭素原子数4ないし1
2のアルケニル基を表わす、式Iで表わされる化合物は
とりわけ重要である。
−CO−R4 −を表わし、R3 が炭素原子数8ないし1
8のアルキル基、ウンデセニル基、オクタデセニル基、
シクロヘキシル基又はベンジル基を表わし、R4 がエチ
レン基、トリメチレン基、基−CH2 −CHR5 −、基
−CH=CH−、基−CH2 −O−CH2 −、1,2−
シクロヘキシレン基又は4−メチル−1,2−シクロヘ
キシレン基を表わし、そしてR5 がメチル基、炭素原子
数4ないし12のアルキル基又は炭素原子数4ないし1
2のアルケニル基を表わす、式Iで表わされる化合物は
とりわけ重要である。
【0019】式中、R1 が水素原子又はメチル基を表わ
し、R2 が直接結合又は基−CO−CH2 −CH2 −を
表わし、そしてR3 が炭素原子数8ないし18のアルキ
ル基を表わす、式Iで表わされる化合物は特に重要であ
る。
し、R2 が直接結合又は基−CO−CH2 −CH2 −を
表わし、そしてR3 が炭素原子数8ないし18のアルキ
ル基を表わす、式Iで表わされる化合物は特に重要であ
る。
【0020】本発明の前記化合物は、次式II:
【化3】 〔式中、Aは塩素原子又は臭素原子を表わす〕で表わさ
れる化合物を、次式III:
れる化合物を、次式III:
【化4】 で表わされるピペリジノールと反応させ、好ましくは無
機塩基、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム若し
くは水酸化カルシウム又は炭酸ナトリウム炭酸カリウム
若しくは炭酸カルシウムを用いて放出されたハロゲン化
水素酸を中和することにより、或いは式IIで表わされる
化合物を次式IV:
機塩基、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム若し
くは水酸化カルシウム又は炭酸ナトリウム炭酸カリウム
若しくは炭酸カルシウムを用いて放出されたハロゲン化
水素酸を中和することにより、或いは式IIで表わされる
化合物を次式IV:
【化5】 〔式中、Mはチリウム原子、ナトリウム原子又はカリウ
ム原子を表わす〕で表わされる化合物と反応させること
により、製造することができる。
ム原子を表わす〕で表わされる化合物と反応させること
により、製造することができる。
【0021】R2 が基−CO−R4 −を表わす場合に
は、式Iで表わされる化合物は好ましくは、式III で表
わされるピペリジノールを次式IV:
は、式Iで表わされる化合物は好ましくは、式III で表
わされるピペリジノールを次式IV:
【化6】 で表わされる無水物と反応させて次式VI:
【化7】 で表わされる半エステルを得、これを続いて次式VII : R3 −A (VII) 〔式中、Aは上記において定義されたものと同じ意味を
表わす〕で表わされる化合物と、有機塩基、例えばトリ
エチルアミン又はトリブチルアミンの存在下で反応させ
るか、或いは式VII で表わされる化合物を次式VIII:
表わす〕で表わされる化合物と、有機塩基、例えばトリ
エチルアミン又はトリブチルアミンの存在下で反応させ
るか、或いは式VII で表わされる化合物を次式VIII:
【化8】 〔式中、Mは上記において定義されたものと同じ意味を
表わす〕で表わされる化合物と反応させることにより、
製造される。
表わす〕で表わされる化合物と反応させることにより、
製造される。
【0022】種々の反応は、不活性有機溶媒、例えばト
ルエン、キシレン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド
又はN−メチル−2−ピリジノン中で、−20℃ないし
180℃、好ましくは−10℃ないし150℃で操作す
ることにより実施することができる。
ルエン、キシレン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド
又はN−メチル−2−ピリジノン中で、−20℃ないし
180℃、好ましくは−10℃ないし150℃で操作す
ることにより実施することができる。
【0023】式III で表わされるピペリジノールは、相
当する4−ピペリジノンの接触還元により、又は適する
試薬を使用して、2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジノールの1位に基R1 (ここで、R1 ≠H)を
導入することにより、製造される。
当する4−ピペリジノンの接触還元により、又は適する
試薬を使用して、2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジノールの1位に基R1 (ここで、R1 ≠H)を
導入することにより、製造される。
【0024】最初に述べた如く、本発明の化合物は、有
機材料、特に合成ポリマー及びコポリマーの光安定性、
熱安定性及び酸化安定性を改良するために非常に有用で
ある。
機材料、特に合成ポリマー及びコポリマーの光安定性、
熱安定性及び酸化安定性を改良するために非常に有用で
ある。
【0025】安定化され得る前記有機材料の例は下記の
ものである。
ものである。
【0026】1. モノオレフィン及びジオレフィンの
ポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリブテ−1−エン、ポリ−4−メチルペンテ−1−エ
ン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロ
オレフィンのポリマー、例えばシクロペンテン又はノル
ボルネンのポリマー、ポリエチレン(所望により架橋さ
れていてよい)、例えば高密度ポリエチレン(HDP
E)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度
ポリエチレン(LLDPE)、分岐鎖状低密度ポリエチ
レン(BLDPE)。
ポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリブテ−1−エン、ポリ−4−メチルペンテ−1−エ
ン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロ
オレフィンのポリマー、例えばシクロペンテン又はノル
ボルネンのポリマー、ポリエチレン(所望により架橋さ
れていてよい)、例えば高密度ポリエチレン(HDP
E)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度
ポリエチレン(LLDPE)、分岐鎖状低密度ポリエチ
レン(BLDPE)。
【0027】ポリオレフィン、例えば先の段落で例示し
たモノオレフィン、好ましくはポリエチレン及びポリプ
ロピレンのポリマーは、異なる方法により製造すること
ができ、そして、とりわけ下記の方法により製造するこ
とができる。
たモノオレフィン、好ましくはポリエチレン及びポリプ
ロピレンのポリマーは、異なる方法により製造すること
ができ、そして、とりわけ下記の方法により製造するこ
とができる。
【0028】a) ラジカル重合(通常、高圧及び高め
られた温度の下で行われる)。 b) 通常、周期律表の属IVb,Vb,VIb又はVIIIの
一種又は一種よりも多くの金属を含む触媒を使用する触
媒重合。前記金属は、通常一種又はそれより多くの配位
子を有しており、代表的にはπ−又はσ−配位されてい
てよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステ
ル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び/又
はアリールである。前記金属錯体は、遊離の形態にあっ
てもよいし又は基材上に、代表的には活性化塩化マグネ
シウム、三塩化チタン、アルミナ又は酸化珪素上に担持
されていてもよい。前記触媒は、重合媒体に可溶性であ
ってもよいし又は非可溶性であってもよい。前記触媒は
重合の際に単独で使用してもよく、又は別の活性剤、代
表的には金属アルキル、金属ハイドライド、金属アルキ
ルハライド、金属アルキルオキシド若しくは金属アルキ
ルオキサンを使用してもよい(前記金属は、周期律表の
属Ia,IIa及び/又はIIIaの元素である)。活性剤
は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテ
ル類を用いて都合良く変性されていてよい。前記触媒系
は、通常、フィリップス(Phillips)触媒,スタンダー
ド オイルインディアナ(Standard Oil Indiana)触
媒,チーグラー(−ナッタ)〔Ziegler(-Natta) 〕触
媒,TNZ〔デュポン(DuPont)〕触媒,メタロセン触
媒又は単一部位触媒と呼ばれる。
られた温度の下で行われる)。 b) 通常、周期律表の属IVb,Vb,VIb又はVIIIの
一種又は一種よりも多くの金属を含む触媒を使用する触
媒重合。前記金属は、通常一種又はそれより多くの配位
子を有しており、代表的にはπ−又はσ−配位されてい
てよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステ
ル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び/又
はアリールである。前記金属錯体は、遊離の形態にあっ
てもよいし又は基材上に、代表的には活性化塩化マグネ
シウム、三塩化チタン、アルミナ又は酸化珪素上に担持
されていてもよい。前記触媒は、重合媒体に可溶性であ
ってもよいし又は非可溶性であってもよい。前記触媒は
重合の際に単独で使用してもよく、又は別の活性剤、代
表的には金属アルキル、金属ハイドライド、金属アルキ
ルハライド、金属アルキルオキシド若しくは金属アルキ
ルオキサンを使用してもよい(前記金属は、周期律表の
属Ia,IIa及び/又はIIIaの元素である)。活性剤
は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテ
ル類を用いて都合良く変性されていてよい。前記触媒系
は、通常、フィリップス(Phillips)触媒,スタンダー
ド オイルインディアナ(Standard Oil Indiana)触
媒,チーグラー(−ナッタ)〔Ziegler(-Natta) 〕触
媒,TNZ〔デュポン(DuPont)〕触媒,メタロセン触
媒又は単一部位触媒と呼ばれる。
【0029】2. 1.で記述したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP
/HDPE、PP/LDPE)及び異なる種類のポリエ
チレンの混合物(例えばLDPE/HDPE)。
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP
/HDPE、PP/LDPE)及び異なる種類のポリエ
チレンの混合物(例えばLDPE/HDPE)。
【0030】3. モノオレフィンとジオレフィンとの
互いの又はその他のビニルモノマーとのコポリマー、例
えばエチレン/プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポ
リエチレン(LLDPE)及びその低密度ポリエチレン
(LDPE)との混合物、プロピレン/ブテ−1−エン
コポリマー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エ
チレン/ブテ−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセ
ンコポリマー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、
エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコ
ポリマー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブ
チレン/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキルア
クリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレ
ートコポリマー、エチレン/酢酸ビニルコポリマー及び
これらの一酸化炭素とのコポリマー又はエチレン/アク
リル酸コポリマー及びそれらの塩(イオノマー)、並び
にエチレンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエ
ン、ジシクロテンタジエン又はエチリデン−ノルボルネ
ンとのターポリマー;並びに前記コポリマー相互の混合
物及び前記コポリマーと上記1.において記載したポリ
マーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン−プ
ロピレンコポリマー、LDPE/エチレン−酢酸ビニル
コポリマー(EVA)、LDPE/エチレン−アクリル
酸コポリマー(EAA)、LLDPE/EVA、LLD
PE/EAA及び交互又はランダムポリアルキレン/一
酸化炭素コポリマー並びにそれらの他のポリマー例えば
ポリアミドとの混合物。
互いの又はその他のビニルモノマーとのコポリマー、例
えばエチレン/プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポ
リエチレン(LLDPE)及びその低密度ポリエチレン
(LDPE)との混合物、プロピレン/ブテ−1−エン
コポリマー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エ
チレン/ブテ−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセ
ンコポリマー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、
エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコ
ポリマー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブ
チレン/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキルア
クリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレ
ートコポリマー、エチレン/酢酸ビニルコポリマー及び
これらの一酸化炭素とのコポリマー又はエチレン/アク
リル酸コポリマー及びそれらの塩(イオノマー)、並び
にエチレンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエ
ン、ジシクロテンタジエン又はエチリデン−ノルボルネ
ンとのターポリマー;並びに前記コポリマー相互の混合
物及び前記コポリマーと上記1.において記載したポリ
マーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン−プ
ロピレンコポリマー、LDPE/エチレン−酢酸ビニル
コポリマー(EVA)、LDPE/エチレン−アクリル
酸コポリマー(EAA)、LLDPE/EVA、LLD
PE/EAA及び交互又はランダムポリアルキレン/一
酸化炭素コポリマー並びにそれらの他のポリマー例えば
ポリアミドとの混合物。
【0031】4. 炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5
ないし9)及びその水素化変性体(例えば粘着付与剤)
及びポリアルキレンと澱粉との混合物。
ないし9)及びその水素化変性体(例えば粘着付与剤)
及びポリアルキレンと澱粉との混合物。
【0032】5. ポリスチレン、ポリ(p−メチルス
チレン)、ポリ(α−メチルスチレン)。
チレン)、ポリ(α−メチルスチレン)。
【0033】6. スチレン又はα−メチルスチレンと
ジエン又はアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチ
レン/ブタジエンコポリマー、スチレン/アクリロニト
リルコポリマー、スチレン/アルキルメタクリレートコ
ポリマー、スチレン/ブタジエン/アルキルアクリレー
トコポリマー、スチレン/ブタジエン/アルキルメタク
リレートコポリマー、スチレン/無水マレイン酸コポリ
マー、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレー
トコポリマー;スチレンコポリマーとその他のポリマー
例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン
/プロピレン/ジエンターポリマーとから製造された高
い衝撃強度を有する混合物;及びスチレンのブロックコ
ポリマー、例えばスチレン/ブタジエン/スチレンブロ
ックコポリマー、スチレン/イソプレン/スチレンブロ
ックコポリマー、スチレン/エチレン/ブチレン/スチ
レンブロックコポリマー又はスチレン/エチレン/プロ
ピレン/スチレンブロックコポリマー。
ジエン又はアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチ
レン/ブタジエンコポリマー、スチレン/アクリロニト
リルコポリマー、スチレン/アルキルメタクリレートコ
ポリマー、スチレン/ブタジエン/アルキルアクリレー
トコポリマー、スチレン/ブタジエン/アルキルメタク
リレートコポリマー、スチレン/無水マレイン酸コポリ
マー、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレー
トコポリマー;スチレンコポリマーとその他のポリマー
例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン
/プロピレン/ジエンターポリマーとから製造された高
い衝撃強度を有する混合物;及びスチレンのブロックコ
ポリマー、例えばスチレン/ブタジエン/スチレンブロ
ックコポリマー、スチレン/イソプレン/スチレンブロ
ックコポリマー、スチレン/エチレン/ブチレン/スチ
レンブロックコポリマー又はスチレン/エチレン/プロ
ピレン/スチレンブロックコポリマー。
【0034】7. スチレン又はα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンに対するス
チレンのグラフトコポリマー、ポリブタジエン−スチレ
ン又はポリブタジエン−アクリロニトリルに対するスチ
レンのグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するス
チレン及びアクリロニトリル(又はメタクリロニトリ
ル)のグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するス
チレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレートの
グラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン
及び無水マレイン酸のグラフトコポリマー;ポリブタジ
エンに対するスチレン、アクリロニトリル及び無水マレ
イン酸又はマレイミドのグラフトコポリマー;ポリブタ
ジエンに対するスチレン及びマレイミドのグラフトコポ
リマー;ポリブタジエンに対するスチレン及びアルキル
アクリレート又はメタクリレートのグラフトコポリマ
ー;エチレン/プロピレン/ジエンターポリマーに対す
るスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマ
ー;ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタク
リレートに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラ
フトコポリマー;アクリレート/ブタジエンコポリマー
に対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポ
リマー、並びにそれらの6.において記載したコポリマ
ーとの混合物、例えばABSポリマー、MBSポリマ
ー、ASAポリマー又はAESポリマーとして知られる
コポリマー混合物。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンに対するス
チレンのグラフトコポリマー、ポリブタジエン−スチレ
ン又はポリブタジエン−アクリロニトリルに対するスチ
レンのグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するス
チレン及びアクリロニトリル(又はメタクリロニトリ
ル)のグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するス
チレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレートの
グラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン
及び無水マレイン酸のグラフトコポリマー;ポリブタジ
エンに対するスチレン、アクリロニトリル及び無水マレ
イン酸又はマレイミドのグラフトコポリマー;ポリブタ
ジエンに対するスチレン及びマレイミドのグラフトコポ
リマー;ポリブタジエンに対するスチレン及びアルキル
アクリレート又はメタクリレートのグラフトコポリマ
ー;エチレン/プロピレン/ジエンターポリマーに対す
るスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマ
ー;ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタク
リレートに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラ
フトコポリマー;アクリレート/ブタジエンコポリマー
に対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポ
リマー、並びにそれらの6.において記載したコポリマ
ーとの混合物、例えばABSポリマー、MBSポリマ
ー、ASAポリマー又はAESポリマーとして知られる
コポリマー混合物。
【0035】8. ハロゲン含有ポリマー例えばポリク
ロロプレン、塩化ゴム、塩化又はスルホクロル化ポリエ
チレン、エチレンと塩化エチレンとのコポリマー、エピ
クロロヒドリンモノ−及びコポリマー、とりわけハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビ
ニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニ
ル/塩化ビニルデンコポリマー、塩化ビニル/酢酸ビニ
ルコポリマー又は塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマ
ー。
ロロプレン、塩化ゴム、塩化又はスルホクロル化ポリエ
チレン、エチレンと塩化エチレンとのコポリマー、エピ
クロロヒドリンモノ−及びコポリマー、とりわけハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビ
ニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニ
ル/塩化ビニルデンコポリマー、塩化ビニル/酢酸ビニ
ルコポリマー又は塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマ
ー。
【0036】9. α,β−不飽和酸及びその誘導体か
ら誘導されたポリマー例えばポリアクリレート及びポリ
メタクリレート;ブチルアクリレートを用いて耐衝撃性
を改良したポリメチルメタクリレート、、ポリアクリル
アミド及びポリアクリロニトリル。
ら誘導されたポリマー例えばポリアクリレート及びポリ
メタクリレート;ブチルアクリレートを用いて耐衝撃性
を改良したポリメチルメタクリレート、、ポリアクリル
アミド及びポリアクリロニトリル。
【0037】10. 9.において記載したモノマーの
互いの又はその他の不飽和モノマーとのコポリマー、例
えばアクリロニトリル/ブタジエンコポリマー、アクリ
ロニトリル/アルキルアクリレートコポリマー、アクリ
ロニトリル/アルコキアルキルアクリレート又はアクリ
ロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマー又はアクリロ
ニトリル/アルキルメタクリレート/ブタジエンターポ
リマー。
互いの又はその他の不飽和モノマーとのコポリマー、例
えばアクリロニトリル/ブタジエンコポリマー、アクリ
ロニトリル/アルキルアクリレートコポリマー、アクリ
ロニトリル/アルコキアルキルアクリレート又はアクリ
ロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマー又はアクリロ
ニトリル/アルキルメタクリレート/ブタジエンターポ
リマー。
【0038】11. 不飽和アルコール及びアミン又は
そのアシル誘導体又はそのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエー
ト、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポ
リアリルフタレート又はポリアリルメラミン;並びに上
記1.において記載したオレフィンとのそれらのコポリ
マー。
そのアシル誘導体又はそのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエー
ト、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポ
リアリルフタレート又はポリアリルメラミン;並びに上
記1.において記載したオレフィンとのそれらのコポリ
マー。
【0039】12. 環状エーテルのホモポリマー及び
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリ
シジルエーテルとのそれらのコポリマー。
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリ
シジルエーテルとのそれらのコポリマー。
【0040】13. ポリアセタール、例えばポリオキ
シメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含
むポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レート又はMBSを用いて変性されたポリアセタール。
シメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含
むポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レート又はMBSを用いて変性されたポリアセタール。
【0041】14. ポリフェニレンオキシド及びスル
フィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
及びポリアミドとの混合物。
フィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
及びポリアミドとの混合物。
【0042】15. 一成分としての末端ヒドロキシル
基を有するポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジ
エンと、他成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシア
ネートとから誘導されたポリウレタン、並びにその先駆
物質。
基を有するポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジ
エンと、他成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシア
ネートとから誘導されたポリウレタン、並びにその先駆
物質。
【0043】16. ジアミン及びジカルボン酸から、
及び/又はアミノカルボン酸又は相当するラクタムから
誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリア
ミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6,6/10,
6/9,6/12,4/6,12/12,ポリアミド1
1、ポリアミド12、m−キシレンジアミンとアジピン
酸との縮合により得られた芳香族ポリアミド;ヘキサメ
チレンジアミン及びイソフタル酸及び/又はテレフタル
酸及び変性剤としてのエラストマーを用いて又は用いな
いで製造されたポリアミド、例えばポリ−2,4,4−
トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−
m−フェニレンイソフタルアミド;及び更に、前記ポリ
アミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオ
ノマー又は化学的に結合された若しくはグラフトされた
エラストマーとのコポリマー;又はポリエーテル、例え
ばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
又はポリテトラメチレングリコールとのコポリマー;並
びにEPDM又はABSを用いて変性されたポリアミド
又はコポリアミド;及び加工中に縮合したポリアミド
(RIM−ポリアミド系)。
及び/又はアミノカルボン酸又は相当するラクタムから
誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリア
ミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6,6/10,
6/9,6/12,4/6,12/12,ポリアミド1
1、ポリアミド12、m−キシレンジアミンとアジピン
酸との縮合により得られた芳香族ポリアミド;ヘキサメ
チレンジアミン及びイソフタル酸及び/又はテレフタル
酸及び変性剤としてのエラストマーを用いて又は用いな
いで製造されたポリアミド、例えばポリ−2,4,4−
トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−
m−フェニレンイソフタルアミド;及び更に、前記ポリ
アミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオ
ノマー又は化学的に結合された若しくはグラフトされた
エラストマーとのコポリマー;又はポリエーテル、例え
ばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
又はポリテトラメチレングリコールとのコポリマー;並
びにEPDM又はABSを用いて変性されたポリアミド
又はコポリアミド;及び加工中に縮合したポリアミド
(RIM−ポリアミド系)。
【0044】17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミ
ド−イミド及びポリベンズイミダゾール。
ド−イミド及びポリベンズイミダゾール。
【0045】18. ジカルボン酸及びジオールから、
及び/又はヒドロキシカルボン酸又は相当するラクトン
から誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレ
フタール、ポリブチレンテレフタール、ポリ−1,4−
ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒ
ドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシ末端基を有す
るポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテル
エステル;及び更にポリカーボネート又はMBSを用い
て変性されたポリエステル。
及び/又はヒドロキシカルボン酸又は相当するラクトン
から誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレ
フタール、ポリブチレンテレフタール、ポリ−1,4−
ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒ
ドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシ末端基を有す
るポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテル
エステル;及び更にポリカーボネート又はMBSを用い
て変性されたポリエステル。
【0046】19. ポリカーボネート及びポリエステ
ルカーボネート。
ルカーボネート。
【0047】20. ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン及びポリエーテルケトン。
ホン及びポリエーテルケトン。
【0048】21. 一成分としてのアルデヒド及び他
成分としてのフェノール、尿素及びメラミンから誘導さ
れた架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒ
ド樹脂、尿素/ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン/ホ
ルムアルデヒド樹脂。
成分としてのフェノール、尿素及びメラミンから誘導さ
れた架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒ
ド樹脂、尿素/ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン/ホ
ルムアルデヒド樹脂。
【0049】22. 乾性及び非乾性アルキド樹脂。
【0050】23. 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多
価アルコールと架橋剤としてのビニル化合物とから誘導
された不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のその
ハロゲン含有変性体。
価アルコールと架橋剤としてのビニル化合物とから誘導
された不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のその
ハロゲン含有変性体。
【0051】24. 置換アクリレート、例えばエポキ
シアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステ
ルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
シアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステ
ルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【0052】25. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイ
ソシアネート又はエポキシ樹脂を用いて架橋されたアル
キド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
ソシアネート又はエポキシ樹脂を用いて架橋されたアル
キド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
【0053】26. ポリエポキシドから、例えばビス
グリシジルエーテルから又は脂環式ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。
グリシジルエーテルから又は脂環式ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。
【0054】27. 天然ポリマー、例えばセルロー
ス、ゴム、ゼラチン及び化学的に変性された同種の誘導
体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオ
ネート及びセルロースブチレート、又はセルロースエー
テル、例えばメチルセルロース;並びにロジン及びそれ
らの誘導体。
ス、ゴム、ゼラチン及び化学的に変性された同種の誘導
体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオ
ネート及びセルロースブチレート、又はセルロースエー
テル、例えばメチルセルロース;並びにロジン及びそれ
らの誘導体。
【0055】28. 上述のポリマーの配合物(ポリブ
レンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPD
M又はABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PV
C/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/
ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アク
リレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性P
UR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO
/HIPS、PPO/PA6.6及びコポリマー、PA
/HDPE、PA/PP、PA/PPO
レンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPD
M又はABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PV
C/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/
ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アク
リレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性P
UR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO
/HIPS、PPO/PA6.6及びコポリマー、PA
/HDPE、PA/PP、PA/PPO
【0056】29. 純粋なモノマー状化合物又は前記
化合物の混合物である天然及び合成有機材料、例えば鉱
油、動物及び植物脂肪、油及びワックス、又は合成エス
テル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェート又
はトリメリテート)をベースとする油、脂肪及びワック
ス、及び更に何れかの重量比の合成エステルと鉱油との
混合物、代表的には繊維紡糸組成物として使用される混
合物、並びに前記材料の水性乳剤。
化合物の混合物である天然及び合成有機材料、例えば鉱
油、動物及び植物脂肪、油及びワックス、又は合成エス
テル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェート又
はトリメリテート)をベースとする油、脂肪及びワック
ス、及び更に何れかの重量比の合成エステルと鉱油との
混合物、代表的には繊維紡糸組成物として使用される混
合物、並びに前記材料の水性乳剤。
【0057】30. 天然又は合成ゴムの水性乳剤、例
えば天然ラテックス又はカルボキシル化スチレン/ブタ
ジエンコポリマーのラテックス。
えば天然ラテックス又はカルボキシル化スチレン/ブタ
ジエンコポリマーのラテックス。
【0058】式Iで表わされる化合物は、ポリオレフィ
ン、とりわけポリエチレン及びポリプロピレンの光安定
性、熱安定性及び酸化安定性を改良するために特に適す
る。
ン、とりわけポリエチレン及びポリプロピレンの光安定
性、熱安定性及び酸化安定性を改良するために特に適す
る。
【0059】本発明は、光、熱及び/又は酸化によって
誘発される分解を受け易い有機材料と、少なくとも一種
の式Iで表わされる化合物とを含む組成物にも関するも
のである。
誘発される分解を受け易い有機材料と、少なくとも一種
の式Iで表わされる化合物とを含む組成物にも関するも
のである。
【0060】式Iで表わされる化合物は、安定化すべき
材料の性質、最終用途及び他の添加剤の存在に応じて、
種々の比率で、有機材料との混合物において使用するこ
とができる。
材料の性質、最終用途及び他の添加剤の存在に応じて、
種々の比率で、有機材料との混合物において使用するこ
とができる。
【0061】通常、例えば、安定化すべき前記材料の全
重量に対して式Iで表わされる化合物を0.01重量%
ないし5重量%、好ましくは0.05重量%と1重量%
との間で使用するのが適当である。
重量に対して式Iで表わされる化合物を0.01重量%
ないし5重量%、好ましくは0.05重量%と1重量%
との間で使用するのが適当である。
【0062】通常、式Iで表わされる化合物は、前記材
料の重合又は架橋の前、間又は後にポリマー状材料に添
加することができる。
料の重合又は架橋の前、間又は後にポリマー状材料に添
加することができる。
【0063】式Iで表わされる化合物は、純粋な形態
で、或いはワックス、油又はポリマー中にカプセル化さ
れて、ポリマー状材料に混入することができる。
で、或いはワックス、油又はポリマー中にカプセル化さ
れて、ポリマー状材料に混入することができる。
【0064】式Iで表わされる化合物は、種々の方法、
例えば粉末の形態での乾燥混合、或いは溶液若しくは懸
濁液の形態での又はマスターバッチの形態での湿潤混合
により、ポリマー状材料に混入することができる;前記
操作中に、ポリマーは粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形態
で又はラテックスの形態で使用することができる。
例えば粉末の形態での乾燥混合、或いは溶液若しくは懸
濁液の形態での又はマスターバッチの形態での湿潤混合
により、ポリマー状材料に混入することができる;前記
操作中に、ポリマーは粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形態
で又はラテックスの形態で使用することができる。
【0065】式Iで表わされる生成物を用いて安定化さ
れた材料は、成形品、フィルム、テープ、モノフィラメ
ント、繊維、表面塗料及び同種のものの製造のために使
用することができる。
れた材料は、成形品、フィルム、テープ、モノフィラメ
ント、繊維、表面塗料及び同種のものの製造のために使
用することができる。
【0066】所望により、合成ポリマーのための他の慣
用の添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、ニッケ
ル安定剤、顔料、充填材、可塑剤、帯電防止剤、防炎加
工剤、潤滑剤、腐蝕防止剤及び金属奪活剤を、式Iで表
わされる化合物と有機材料との混合物に添加することが
できる。
用の添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、ニッケ
ル安定剤、顔料、充填材、可塑剤、帯電防止剤、防炎加
工剤、潤滑剤、腐蝕防止剤及び金属奪活剤を、式Iで表
わされる化合物と有機材料との混合物に添加することが
できる。
【0067】式Iで表わされる化合物との混合物におい
て使用することができる添加剤の特定の例は下記のもの
である。
て使用することができる添加剤の特定の例は下記のもの
である。
【0068】1.酸化防止剤
【0069】1.1.アルキル化モノフェノール 例えば2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェノール、
2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6
−ジ第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ第
三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ第三
ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロ
ペンチル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシ
クロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6
−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6
−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ第三ブチ
ル−4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノニル
−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−
(1′−メチルウンデシ−1′−イル)フェノール、
2,4−ジメチル−6−(1′−メチルヘプタデシ−
1′−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−
(1′−メチルトリデシ−1′−イル)フェノール及び
それらの混合物。
2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6
−ジ第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ第
三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ第三
ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロ
ペンチル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシ
クロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6
−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6
−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ第三ブチ
ル−4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノニル
−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−
(1′−メチルウンデシ−1′−イル)フェノール、
2,4−ジメチル−6−(1′−メチルヘプタデシ−
1′−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−
(1′−メチルトリデシ−1′−イル)フェノール及び
それらの混合物。
【0070】1.2.アルキルチオメチルフェノール 例えば2,4−ジオクチルチオメチル−6−第三ブチル
フェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチ
ルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エ
チルフェノール、2,6−ジドデシルチオメチル−4−
ノニルフェノール。
フェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチ
ルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エ
チルフェノール、2,6−ジドデシルチオメチル−4−
ノニルフェノール。
【0071】1.3.ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン 例えば2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシフェノー
ル、2,5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第
三アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オク
タデシルオキシフェノール、2,6−ジ第三ブチルヒド
ロキノン、2,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニ
ソール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニソ
ール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル
ステアレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)アジペート。
ル、2,5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第
三アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オク
タデシルオキシフェノール、2,6−ジ第三ブチルヒド
ロキノン、2,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニ
ソール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニソ
ール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル
ステアレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)アジペート。
【0072】1.4.トコフェロール 例えばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−
トコフェロール、δ−トコフェロール及びその混合物
(ビタミンE)。
トコフェロール、δ−トコフェロール及びその混合物
(ビタミンE)。
【0073】1.5.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例えば2,2′−チオビス(6−第三ブチル−4−メチ
ルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オクチルフ
ェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブチル−3
−メチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三
ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′−チオビス
(3,6−ジ第二アミルフェノール)、4,4′−ビス
(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスル
フィド。
ルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オクチルフ
ェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブチル−3
−メチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三
ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′−チオビス
(3,6−ジ第二アミルフェノール)、4,4′−ビス
(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスル
フィド。
【0074】1.6.アルキリデンビスフェノール 例えば2,2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−
メチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(6−第
三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチレ
ンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシ
ル)フェノール]、2,2′−メチレンビス(4−メチ
ル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−メチ
レンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,
2′−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェノー
ル)、2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチ
ルフェノール)、2,2′−エチリデンビス(6−第三
ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2′−メチ
レンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフ
ェノール]、2,2′−メチレンビス[6−(α,α−
ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,
4′−メチレンビス(2,6−ジ第三ブチルフェノー
ル)、4,4′−メチレンビス(6−第三ブチル−2−
メチルフェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6
−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシ
ベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)ブタン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビ
ス(3′−第三ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)ブ
チレート]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2
−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチ
ルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル]
テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2
−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタ
ン、1,1,5,5−テトラ(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メルカプトフェニル)ペンタン。
メチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(6−第
三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチレ
ンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシ
ル)フェノール]、2,2′−メチレンビス(4−メチ
ル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−メチ
レンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,
2′−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェノー
ル)、2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチ
ルフェノール)、2,2′−エチリデンビス(6−第三
ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2′−メチ
レンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフ
ェノール]、2,2′−メチレンビス[6−(α,α−
ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,
4′−メチレンビス(2,6−ジ第三ブチルフェノー
ル)、4,4′−メチレンビス(6−第三ブチル−2−
メチルフェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6
−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシ
ベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)ブタン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビ
ス(3′−第三ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)ブ
チレート]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2
−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチ
ルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル]
テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2
−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタ
ン、1,1,5,5−テトラ(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メルカプトフェニル)ペンタン。
【0075】1.7.O−,N−及びS−ベンジル化合物 例えば3,5,3′,5′−テトラ第三ブチル−4,
4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル
−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプ
トアセテート、トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)アミン、ビス(4−第三ブチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレ
フタレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテ
ート。
4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル
−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプ
トアセテート、トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)アミン、ビス(4−第三ブチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレ
フタレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテ
ート。
【0076】1.8.ヒドロキシベンジル化マロネート 例えばジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ第三
ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオク
タデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプト
エチル−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)マロネート、ビス[4−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)フェニル]−2,2−ビ
ス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
マロネート。
ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオク
タデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプト
エチル−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)マロネート、ビス[4−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)フェニル]−2,2−ビ
ス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
マロネート。
【0077】1.9.芳香族ヒドロキシベンジル化合物 例えば1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベン
ゼン、1,4−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベン
ゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)フェノール。
−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベン
ゼン、1,4−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベン
ゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)フェノール。
【0078】1.10.トリアジン化合物 例えば2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−
1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
アニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメ
ルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−
ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,
3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス
(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル
ベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチ
ル)−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル)ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、
1,3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−
ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート。
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−
1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
アニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメ
ルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−
ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,
3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス
(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル
ベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチ
ル)−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル)ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、
1,3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−
ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート。
【0079】1.11.ベンゾホスホネート 例えばジメチル−2,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−4
−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、3,
5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸
モノエチルエステルのカルシウム塩。
シベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−4
−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、3,
5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸
モノエチルエステルのカルシウム塩。
【0080】1.12.アシルアミノフェノール 例えばラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン
酸4−ヒドロキシアニリド、オクチルN−(3,5−ジ
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバメート。
酸4−ヒドロキシアニリド、オクチルN−(3,5−ジ
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバメート。
【0081】1.13.下記の一価又は多価アルコール
を用いたβ−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタ
デカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジ
オール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエ
チル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホス
ファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]
オクタン。
を用いたβ−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタ
デカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジ
オール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエ
チル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホス
ファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]
オクタン。
【0082】1.14.下記の一価又は多価アルコール
を用いたβ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−
メチルフェニル)プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタ
デカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジ
オール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエ
チル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホス
ファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]
オクタン。
を用いたβ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−
メチルフェニル)プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタ
デカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジ
オール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエ
チル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホス
ファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]
オクタン。
【0083】1.15.下記の一価又は多価アルコール
を用いたβ−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタ
デカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジ
オール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエ
チル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホス
ファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]
オクタン。
を用いたβ−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタ
デカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジ
オール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエ
チル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホス
ファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]
オクタン。
【0084】1.16.下記の一価又は多価アルコール
を用いた3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル酢酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタ
デカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジ
オール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエ
チル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホス
ファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]
オクタン。
を用いた3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル酢酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタ
デカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジ
オール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエ
チル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホス
ファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]
オクタン。
【0085】1.17.β−(3,5−ジ第三ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピン酸アミド 例えばN,N′−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、
N,N′−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
4−ヒドロキシフェニル)プロピン酸アミド 例えばN,N′−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、
N,N′−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
【0086】2.紫外線吸収剤及び光安定剤
【0087】2.1.2−(2′−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール 例えば2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ第三ブ
チル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(5′−第三ブチル−2′−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
5′−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ第三ブ
チル−2′−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベン
ゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチル−2′−ヒド
ロキシ−5′−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾ
トリアゾール、2−(3′−第二ブチル−5′−第三ブ
チル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクチルオキシフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ第
三アミル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ
ール、2−(3′,5′−ビス(α,α−ジメチルベン
ジル)−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル;2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′
−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)
−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三
ブチル−5′−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カ
ルボニルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル)−5−
クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチル
−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボニル
エチル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾー
ル、2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′
−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロ
キシ−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)
フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチ
ル−5′−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボ
ニルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び2−
(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−
イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾ
トリアゾールの混合物;2,2′−メチレンビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾ
トリアゾール−2−イル−フェノール];ポリエチレン
グリコール300を用いた2−[3′−第三ブチル−
5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′−ヒド
ロキシルフェニル]−2H−ベンゾトリアゾールのエス
テル交換生成物;[R−CH2 CH2 −COO(C
H2 )3 ]2 −(式中、R=3′−第三ブチル−4′−
ヒドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル−フェニル)。
ル)ベンゾトリアゾール 例えば2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ第三ブ
チル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(5′−第三ブチル−2′−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
5′−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ第三ブ
チル−2′−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベン
ゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチル−2′−ヒド
ロキシ−5′−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾ
トリアゾール、2−(3′−第二ブチル−5′−第三ブ
チル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクチルオキシフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ第
三アミル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ
ール、2−(3′,5′−ビス(α,α−ジメチルベン
ジル)−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル;2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′
−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)
−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三
ブチル−5′−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カ
ルボニルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル)−5−
クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチル
−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボニル
エチル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾー
ル、2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′
−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロ
キシ−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)
フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチ
ル−5′−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボ
ニルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び2−
(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−
イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾ
トリアゾールの混合物;2,2′−メチレンビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾ
トリアゾール−2−イル−フェノール];ポリエチレン
グリコール300を用いた2−[3′−第三ブチル−
5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′−ヒド
ロキシルフェニル]−2H−ベンゾトリアゾールのエス
テル交換生成物;[R−CH2 CH2 −COO(C
H2 )3 ]2 −(式中、R=3′−第三ブチル−4′−
ヒドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル−フェニル)。
【0088】2.2.2−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクチルオ
キシ、4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベ
ンジルオキシ、4,2′,4′−トリヒドロキシ及び
2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
キシ、4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベ
ンジルオキシ、4,2′,4′−トリヒドロキシ及び
2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
【0089】2.3.置換及び非置換安息香酸エステル 例えば4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイ
ル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,
4−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−
ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、
2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ
第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイ
ル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,
4−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−
ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、
2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ
第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
【0090】2.4.アクリルレート 例えばエチルα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレ
ート、イソオクチルα−シアノ−β,β−ジフェニルア
クリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、
メチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナ
メート、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ
シンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキ
シシンナメート及びN−(β−カルボメトキシ−β−シ
アノビニル)−2−メチルインドリン。
ート、イソオクチルα−シアノ−β,β−ジフェニルア
クリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、
メチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナ
メート、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ
シンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキ
シシンナメート及びN−(β−カルボメトキシ−β−シ
アノビニル)−2−メチルインドリン。
【0091】2.5.ニッケル化合物 例えば付加配位子例えばn−ブチルアミン、トリエタノ
ールアミン又はN−シクロヘキシルジエタノールアミン
を有するか又は有しない、2,2′−チオビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]
のニッケル錯体例えば1:1又は1:2錯体;ニッケル
ジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル例
えば4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホ
スホン酸のメチルエステル又はエチルエステルのニッケ
ル塩、ケトキシム例えば2−ヒドロキシ−4−メチルフ
ェニルウンデシルケトキシムのニッケル塩、付加配位子
を有するか又は有しない、1−フェニル−4−ラウロイ
ル−5−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
ールアミン又はN−シクロヘキシルジエタノールアミン
を有するか又は有しない、2,2′−チオビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]
のニッケル錯体例えば1:1又は1:2錯体;ニッケル
ジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル例
えば4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホ
スホン酸のメチルエステル又はエチルエステルのニッケ
ル塩、ケトキシム例えば2−ヒドロキシ−4−メチルフ
ェニルウンデシルケトキシムのニッケル塩、付加配位子
を有するか又は有しない、1−フェニル−4−ラウロイ
ル−5−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【0092】2.6.立体障害アミン 例えばビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジル)セバケート、ビス(1,
2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル
−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロ
ネート;1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合生成物;N、N′−ビス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミ
ンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,
3,5−トリアジンとの縮合生成物;トリス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリ
アセテート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート、1,1′−(1,2−エタンジイ
ル)ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノ
ン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2
−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジル)マロネ
ート、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−
2,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス
(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル)スクシネート;N,N′−ビス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレ
ンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,
3,5−トリアジンとの縮合生成物;2−クロロ−4,
6−ビス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと
1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの
縮合生成物;2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチル
アミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−ア
ミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物;8−アセ
チル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−
1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4
−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオ
ン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオ
ン。
ル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジル)セバケート、ビス(1,
2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル
−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロ
ネート;1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合生成物;N、N′−ビス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミ
ンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,
3,5−トリアジンとの縮合生成物;トリス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリ
アセテート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート、1,1′−(1,2−エタンジイ
ル)ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノ
ン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2
−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジル)マロネ
ート、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−
2,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス
(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル)スクシネート;N,N′−ビス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレ
ンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,
3,5−トリアジンとの縮合生成物;2−クロロ−4,
6−ビス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと
1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの
縮合生成物;2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチル
アミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−ア
ミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物;8−アセ
チル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−
1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4
−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオ
ン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオ
ン。
【0093】2.7.オキサミド 例えば4,4′−ジオクチルオキシオキサニリド、2,
2′−ジエトキシオキサニリド、2,2′−ジオクチル
オキシ−5,5′−ジ第三ブチルオキサニリド、2,
2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ第三ブチルオキ
サニリド、2−エトキシ−2′−エチルオキサニリド、
N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサ
ルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2′−エチ
ルオキサニリド及びその2−エトキシ−2′−エチル−
5,4′−ジ第三ブチル−オキサニリドとの混合物並び
にオルト−及びパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物並びにオルト−及びパラ−エトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物。
2′−ジエトキシオキサニリド、2,2′−ジオクチル
オキシ−5,5′−ジ第三ブチルオキサニリド、2,
2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ第三ブチルオキ
サニリド、2−エトキシ−2′−エチルオキサニリド、
N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサ
ルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2′−エチ
ルオキサニリド及びその2−エトキシ−2′−エチル−
5,4′−ジ第三ブチル−オキサニリドとの混合物並び
にオルト−及びパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物並びにオルト−及びパラ−エトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物。
【0094】2.8.2−(2−ヒドロキシフェニル)
−1,3,5−トリアジン 例えば2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オク
チルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,
5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキ
シ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6
−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニ
ル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−
(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロピルオキ
シ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−
1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−
(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピルオキ
シ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−
1,3,5−トリアジン。
−1,3,5−トリアジン 例えば2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オク
チルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,
5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキ
シ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6
−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニ
ル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−
(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロピルオキ
シ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−
1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−
(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピルオキ
シ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−
1,3,5−トリアジン。
【0095】3.金属奪活剤 例えばN,N′−ジフェニルオキサミド、N−サリチラ
ル−N′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス
(サリチロイル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4
−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒ
ドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジ
ド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、N,N′−ジ
アセチルアジポイルジヒドラジド、N,N′−ビス(サ
リチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N′−ビス
(サリチロイル)チオプロピオニルジヒドラジド。
ル−N′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス
(サリチロイル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4
−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒ
ドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジ
ド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、N,N′−ジ
アセチルアジポイルジヒドラジド、N,N′−ビス(サ
リチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N′−ビス
(サリチロイル)チオプロピオニルジヒドラジド。
【0096】4.ホスフィット及びホスホナイト 例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4
−ジ第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホス
フィット、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフ
ェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソ
デシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビ
ス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)ペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−
トリス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトール)
ジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホス
フィット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニ
ル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、6−イ
ソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ第三ブチ
ル−12H−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキ
サホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テト
ラ第三ブチル−12−メチル−ジベンズ[d,g]−
1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第
三ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、
ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エ
チルホスフィット。
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4
−ジ第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホス
フィット、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフ
ェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソ
デシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビ
ス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)ペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−
トリス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトール)
ジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホス
フィット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニ
ル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、6−イ
ソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ第三ブチ
ル−12H−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキ
サホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テト
ラ第三ブチル−12−メチル−ジベンズ[d,g]−
1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第
三ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、
ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エ
チルホスフィット。
【0097】5.ヒドロキシルアミン 例えばジベンジルヒドロキシルアミン、ジオクチルヒド
ロキシルアミン、ジドデシルヒドロキシルアミン、ジテ
トラデシルヒドロキシルアミン、ジヘキサデシルヒドロ
キシルアミン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、1
−ヒドロキシル−2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジルベンゾエート又はビス(1−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバ
ケート。
ロキシルアミン、ジドデシルヒドロキシルアミン、ジテ
トラデシルヒドロキシルアミン、ジヘキサデシルヒドロ
キシルアミン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、1
−ヒドロキシル−2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジルベンゾエート又はビス(1−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバ
ケート。
【0098】6.過酸化物掃去剤 例えばβ−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリ
ル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、
メルカプトベンズイミダゾール又は2−メルカプトベン
ズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメー
ト、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトー
ルテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネー
ト。
ル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、
メルカプトベンズイミダゾール又は2−メルカプトベン
ズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメー
ト、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトー
ルテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネー
ト。
【0099】7.ポリアミド安定剤 例えば、沃化物及び/又は燐化合物及び二価マンガン塩
と組み合わせた銅塩。
と組み合わせた銅塩。
【0100】8.塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカ
ルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウ
ムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウム
リシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピ
ロカテコレート又は錫ピロカテココレート。
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカ
ルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウ
ムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウム
リシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピ
ロカテコレート又は錫ピロカテココレート。
【0101】9.核剤 例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニ
ル酢酸。
ル酢酸。
【0102】10.充填剤及び強化剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及
び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
ト、タルク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及
び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
【0103】11.その他の添加剤 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、防
炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。
炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。
【0104】11.ベンゾフラノン及びインドリノン 例えばUS−A−4325863、US−A−4338
244、US−A−5175312、US−A−521
6052、US−A−5252643、DE−A−43
16611、DE−A−4316622、DE−A−4
316876、EP−A−0589839又はEP−A
−O591102に開示されたもの、又は3−[4−
(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ第
三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ第三ブ
チル−3−[4−(2−ステアロイルオキシエトキシ)
フェニル]ベンゾフラン−2−オン、3,3′−ビス
[5,7−ジ第三ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシ
エトキシ]フェニル)ベンゾフラン−2−オン]、5,
7−ジ第三ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベン
ゾフラン−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−
ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフ
ラン−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロ
イルオキシフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾ
フラン−2−オン。
244、US−A−5175312、US−A−521
6052、US−A−5252643、DE−A−43
16611、DE−A−4316622、DE−A−4
316876、EP−A−0589839又はEP−A
−O591102に開示されたもの、又は3−[4−
(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ第
三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ第三ブ
チル−3−[4−(2−ステアロイルオキシエトキシ)
フェニル]ベンゾフラン−2−オン、3,3′−ビス
[5,7−ジ第三ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシ
エトキシ]フェニル)ベンゾフラン−2−オン]、5,
7−ジ第三ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベン
ゾフラン−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−
ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフ
ラン−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロ
イルオキシフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾ
フラン−2−オン。
【0105】式Iで表わされる化合物は安定剤、特に、
写真複写及び例えばリサーチ ディスクロージャー(Re
search Disclosure )1990,31429(第474
ないし480頁)に記載されているような他の再生技術
からなる従来技術において公知の殆ど全ての材料のため
の光安定剤として使用することもできる。
写真複写及び例えばリサーチ ディスクロージャー(Re
search Disclosure )1990,31429(第474
ないし480頁)に記載されているような他の再生技術
からなる従来技術において公知の殆ど全ての材料のため
の光安定剤として使用することもできる。
【0106】
【0107】式Iで表わされる化合物の製造方法及び用
途の幾つかの例を、本発明を更に詳細に説明するために
報告する;これらの例は説明のためにのみ与えられ、そ
して如何なる限定も意味しない。
途の幾つかの例を、本発明を更に詳細に説明するために
報告する;これらの例は説明のためにのみ与えられ、そ
して如何なる限定も意味しない。
【0108】実施例1:テトラデシル2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジニルカーボネートの製造 テトラデシルクロロカーボネート27.7g(0.1モ
ル)を、0℃と5℃との間の温度を保持しながら、ジク
ロロメタン150ml中の2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジノールヒドロクロリド19.4g
(0.1モル)の溶液にゆっくり添加する。添加終了
後、この混合物を室温で2時間攪拌し、次いで−10℃
に冷却して、水50ml中のNaOH8.8g(0.2
2モル)の溶液をゆっくり添加する。
テトラメチル−4−ピペリジニルカーボネートの製造 テトラデシルクロロカーボネート27.7g(0.1モ
ル)を、0℃と5℃との間の温度を保持しながら、ジク
ロロメタン150ml中の2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジノールヒドロクロリド19.4g
(0.1モル)の溶液にゆっくり添加する。添加終了
後、この混合物を室温で2時間攪拌し、次いで−10℃
に冷却して、水50ml中のNaOH8.8g(0.2
2モル)の溶液をゆっくり添加する。
【0109】前記混合物を30分間攪拌し、次いで水相
を分離後、有機相をNaSO4 上で乾燥し、次いで蒸発
させ、次いで残部を真空中で蒸留する。
を分離後、有機相をNaSO4 上で乾燥し、次いで蒸発
させ、次いで残部を真空中で蒸留する。
【0110】得られた生成物は195−196℃/0.
3mbarの沸点を有し、そして融点27−29℃で固化す
る。 C24H47NO3 に対する分析値 計算値: C=72.49%;H=11.91%;N
=3.52% 測定値: C=72.42%;H=11.94%;N
=3.49%
3mbarの沸点を有し、そして融点27−29℃で固化す
る。 C24H47NO3 に対する分析値 計算値: C=72.49%;H=11.91%;N
=3.52% 測定値: C=72.42%;H=11.94%;N
=3.49%
【0111】実施例2:オクタデシル2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジニルカーボネートの製造 オクタデシルクロロカーボネート33.3g(0.1モ
ル)を、ジクロロメタン150ml中の2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジノールヒドロクロリド1
9.4g(0.1モル)と反応させることにより、実施
例1において記載した方法と同様にして生成物を調製す
る。NaOH水溶液を用いて処理後、得られた生成物は
融点54−55℃を有する。 C28H55NO3 に対する分析値 計算値: C=74.12%;H=12.22%;N
=3.09% 測定値: C=73.97%;H=12.14%;N
=3.10%
テトラメチル−4−ピペリジニルカーボネートの製造 オクタデシルクロロカーボネート33.3g(0.1モ
ル)を、ジクロロメタン150ml中の2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジノールヒドロクロリド1
9.4g(0.1モル)と反応させることにより、実施
例1において記載した方法と同様にして生成物を調製す
る。NaOH水溶液を用いて処理後、得られた生成物は
融点54−55℃を有する。 C28H55NO3 に対する分析値 計算値: C=74.12%;H=12.22%;N
=3.09% 測定値: C=73.97%;H=12.14%;N
=3.10%
【0112】実施例3:1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジルテトラデシルカーボネートの製造 テトラデシルクロロカーボネート27.7(0.1モ
ル)を、0℃で温度を保持しながら、トルエン150m
l中の1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジノールのナトリウム塩19.3g(0.1モル)の溶
液にゆっくり添加する。添加終了後、この混合物を室温
で2時間攪拌し、水で洗浄し、NaSO4上で乾燥し、
次いで蒸発させる。残部を真空中で蒸留する。得られた
生成物は172−174℃/0.3mbarの沸点を有し、
そして融点32−34℃で固化する。 C25H49NO3 に対する分析値 計算値: C=72.94%;H=12.00%;N
=3.40% 測定値: C=72.91%;H=11.96%;N
=3.42%
チル−4−ピペリジルテトラデシルカーボネートの製造 テトラデシルクロロカーボネート27.7(0.1モ
ル)を、0℃で温度を保持しながら、トルエン150m
l中の1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジノールのナトリウム塩19.3g(0.1モル)の溶
液にゆっくり添加する。添加終了後、この混合物を室温
で2時間攪拌し、水で洗浄し、NaSO4上で乾燥し、
次いで蒸発させる。残部を真空中で蒸留する。得られた
生成物は172−174℃/0.3mbarの沸点を有し、
そして融点32−34℃で固化する。 C25H49NO3 に対する分析値 計算値: C=72.94%;H=12.00%;N
=3.40% 測定値: C=72.91%;H=11.96%;N
=3.42%
【0113】実施例4: a)モノ(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピ
ペリジル)スクシネートの調製 無水N,N−ジメチルアセトアミド150ml中の1,
2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノール6
8.5g(0.4モル)の溶液を、無水N,N−ジメチ
ルアセトアミド50ml中のコハク酸無水物40g
(0.4モル)の溶液の60℃に加熱された溶液にゆっ
くり添加する。添加終了後、この混合物を110℃で2
時間加熱し、溶媒を蒸発させ、次いで残部をアセトニト
リルから再結晶する。得られた生成物は163−165
℃で溶融する。
ペリジル)スクシネートの調製 無水N,N−ジメチルアセトアミド150ml中の1,
2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノール6
8.5g(0.4モル)の溶液を、無水N,N−ジメチ
ルアセトアミド50ml中のコハク酸無水物40g
(0.4モル)の溶液の60℃に加熱された溶液にゆっ
くり添加する。添加終了後、この混合物を110℃で2
時間加熱し、溶媒を蒸発させ、次いで残部をアセトニト
リルから再結晶する。得られた生成物は163−165
℃で溶融する。
【0114】b)オクチル1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジルスクシネートの調製 モノ(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)スクシネート35.31g(0.13モル)、1
−ブロモオクタン25.1g(0.13モル)及び無水
N,N−ジメチルアセトアミド70ml中のトリエチル
アミン13.2g(0.13モル)の混合物を85℃で
4時間加熱する。室温に冷却後、水200ml及びトル
エン150mlを添加し、次いで水50ml中のK2 C
O3 18g(0.13モル)の溶液をゆっくり添加す
る。添加終了後、この混合物を15分間攪拌し、水相を
分離し、次いで中性になるまで水で有機相を洗浄し、次
いで蒸発させる。残部を真空中で蒸留する。得られた生
成物は170℃/4mbarの沸点を有する。 C22H41NO4 に対する分析値 計算値: C=68.89%;H=10.77%;N
=3.65% 測定値: C=68.20%;H=10.74%;N
=3.61%
メチル−4−ピペリジルスクシネートの調製 モノ(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)スクシネート35.31g(0.13モル)、1
−ブロモオクタン25.1g(0.13モル)及び無水
N,N−ジメチルアセトアミド70ml中のトリエチル
アミン13.2g(0.13モル)の混合物を85℃で
4時間加熱する。室温に冷却後、水200ml及びトル
エン150mlを添加し、次いで水50ml中のK2 C
O3 18g(0.13モル)の溶液をゆっくり添加す
る。添加終了後、この混合物を15分間攪拌し、水相を
分離し、次いで中性になるまで水で有機相を洗浄し、次
いで蒸発させる。残部を真空中で蒸留する。得られた生
成物は170℃/4mbarの沸点を有する。 C22H41NO4 に対する分析値 計算値: C=68.89%;H=10.77%;N
=3.65% 測定値: C=68.20%;H=10.74%;N
=3.61%
【0115】実施例5: a)モノ(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)スクシネートの調製 2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール6
2.9g(0.4モル)を、無水N−メチル−2−ピロ
リジノン200ml中のコハク酸無水物40g(0.4
モル)の60℃に加熱された溶液にゆっくり添加する。
この混合物を60℃で1時間加熱し、次いで室温に冷却
する。生成した沈澱を濾過によって分離し、少量のN−
メチル−2−ピロリジノン及び温エタノールで洗浄し、
次いで最後に真空中で乾燥する。得られた生成物は26
3−265℃で溶融する。
ジル)スクシネートの調製 2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール6
2.9g(0.4モル)を、無水N−メチル−2−ピロ
リジノン200ml中のコハク酸無水物40g(0.4
モル)の60℃に加熱された溶液にゆっくり添加する。
この混合物を60℃で1時間加熱し、次いで室温に冷却
する。生成した沈澱を濾過によって分離し、少量のN−
メチル−2−ピロリジノン及び温エタノールで洗浄し、
次いで最後に真空中で乾燥する。得られた生成物は26
3−265℃で溶融する。
【0116】b)ドデシル2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジルスクシネートの調製 モノ(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)スクシネート30.9g(0.12モル)を、1−
ブロモドデカン29.9g(0.12モル)と、トリエ
チルアミン12.1g(0.12モル)の存在下で反応
させることにより、実施例4bにおいて記載した方法と
同様にして生成物を調製する。得られた生成物は195
℃/5.3mbarの沸点を有する。 C25H47NO4 に対する分析値 計算値: C=70.54%;H=11.13%;N
=3.29% 測定値: C=70.10%;H=11.07%;N
=3.26%
ル−4−ピペリジルスクシネートの調製 モノ(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)スクシネート30.9g(0.12モル)を、1−
ブロモドデカン29.9g(0.12モル)と、トリエ
チルアミン12.1g(0.12モル)の存在下で反応
させることにより、実施例4bにおいて記載した方法と
同様にして生成物を調製する。得られた生成物は195
℃/5.3mbarの沸点を有する。 C25H47NO4 に対する分析値 計算値: C=70.54%;H=11.13%;N
=3.29% 測定値: C=70.10%;H=11.07%;N
=3.26%
【0117】実施例6:ドデシル1,2,2,6,6−
ペンタメチル−4−ピペリジルスクシネートの調製 モノ(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)スクシネート27.1g(0.1モル)を、1−
ブロモドデカン24.9g(0.1モル)と、トリエチ
ルアミン10.1g(0.1モル)の存在下で反応させ
ることにより、実施例4bにおいて記載した方法と同様
にして生成物を調製する。得られた生成物は190℃/
4mbarの沸点を有する。 C26H49NO4 に対する分析値 計算値: C=71.03%;H=11.23%;N
=3.19% 測定値: C=70.65%;H=11.17%;N
=3.16%
ペンタメチル−4−ピペリジルスクシネートの調製 モノ(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)スクシネート27.1g(0.1モル)を、1−
ブロモドデカン24.9g(0.1モル)と、トリエチ
ルアミン10.1g(0.1モル)の存在下で反応させ
ることにより、実施例4bにおいて記載した方法と同様
にして生成物を調製する。得られた生成物は190℃/
4mbarの沸点を有する。 C26H49NO4 に対する分析値 計算値: C=71.03%;H=11.23%;N
=3.19% 測定値: C=70.65%;H=11.17%;N
=3.16%
【0118】実施例7:オクタデシル1,2,2,6,
6−ペンタメチル−4−ピペリジルスクシネートの調製 モノ(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)スクシネート27.1g(0.1モル)を、1−
ブロモオクタデカン33.3g(0.1モル)と、トリ
エチルアミン10.1g(0.1モル)の存在下で反応
させることにより、実施例4bにおいて記載した方法と
同様にして生成物を調製する。得られた生成物は、アセ
トニトリルから再結晶後、38−40℃の融点を有す
る。 C32H61NO4 に対する分析値 計算値: C=73.37%;H=11.74%;N
=2.67% 測定値: C=73.30%;H=11.63%;N
=2.64%
6−ペンタメチル−4−ピペリジルスクシネートの調製 モノ(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)スクシネート27.1g(0.1モル)を、1−
ブロモオクタデカン33.3g(0.1モル)と、トリ
エチルアミン10.1g(0.1モル)の存在下で反応
させることにより、実施例4bにおいて記載した方法と
同様にして生成物を調製する。得られた生成物は、アセ
トニトリルから再結晶後、38−40℃の融点を有す
る。 C32H61NO4 に対する分析値 計算値: C=73.37%;H=11.74%;N
=2.67% 測定値: C=73.30%;H=11.63%;N
=2.64%
【0119】実施例8:ポリプロピレンプラックにおけ
る光安定化作用 表1に示された各化合物1g、トリス(2,4−ジ第三
ブチルフェニル)ホスフィット1g、ペンタエリトリト
ールテトラキス[3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート0.5g、ステアリ
ン酸カルシウム1g及びフィロフィンブルーG(Filofi
n Blue G)1gを、メルトインデックス=4g/10分
(230℃及び2.16kgで測定)のポリプロピレン
粉末1000gとターボミキサー中で混合する。得られ
た混合物を200−230℃の温度で押し出してポリマ
ー顆粒を得、次いでこれを200−220℃で射出成形
することによって、2mm厚のプラックに変換する。得
られたプラックを、表面脆化(白亜化)が始まるまで、
ブラックパネル温度63℃で、モデル65Wrウェザロ
メーター(ASTM D2565−85)中で暴露す
る。前記と同一条件下でしかし本発明の化合物を添加せ
ずに調製したポリプロピレンプラックを、比較のために
暴露する。表1の如く、前記の脆化の始まりに達するま
でに必要とされる暴露時間を、時間で示す。時間が長い
程、安定化効果は一層良好である。
る光安定化作用 表1に示された各化合物1g、トリス(2,4−ジ第三
ブチルフェニル)ホスフィット1g、ペンタエリトリト
ールテトラキス[3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート0.5g、ステアリ
ン酸カルシウム1g及びフィロフィンブルーG(Filofi
n Blue G)1gを、メルトインデックス=4g/10分
(230℃及び2.16kgで測定)のポリプロピレン
粉末1000gとターボミキサー中で混合する。得られ
た混合物を200−230℃の温度で押し出してポリマ
ー顆粒を得、次いでこれを200−220℃で射出成形
することによって、2mm厚のプラックに変換する。得
られたプラックを、表面脆化(白亜化)が始まるまで、
ブラックパネル温度63℃で、モデル65Wrウェザロ
メーター(ASTM D2565−85)中で暴露す
る。前記と同一条件下でしかし本発明の化合物を添加せ
ずに調製したポリプロピレンプラックを、比較のために
暴露する。表1の如く、前記の脆化の始まりに達するま
でに必要とされる暴露時間を、時間で示す。時間が長い
程、安定化効果は一層良好である。
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロベルト スクリマ イタリア国,40126 ボローニャ,ヴィア デル ボルゴ ジ エッセ. ピエトロ 132 (72)発明者 プリモ カロッザ イタリア国,37138 ヴェローニャ,ヴィ ア タレテ 11
Claims (11)
- 【請求項1】 次式I: 【化1】 〔式中、 R1 は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
O・、OH基、CH2CN基、炭素原子数1ないし18
のアルコキシ基、炭素原子数5ないし12のシクロアル
コキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、非置
換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりフェニ
ル環上を一,二又は三置換された炭素原子数7ないし9
のフェニルアルキル基;又は脂肪族の炭素原子数1ない
し8のアシル基を表わし、 R2 は直接結合、メチレン基、カルボニル基又は基−C
O−R4 −を表わし、基R4 は基−CO−O−R3 に結
合しており、 R3 は炭素原子数5ないし18のアルキル基、炭素原子
数3ないし18のアルケニル基、非置換又は炭素原子数
1ないし4のアルキル基により一,二又は三置換された
炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;或いは炭
素原子数1ないし4のアルキル基によりフェニル環上を
一,二又は三置換された炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル基を表わし、 R4 は直鎖状の炭素原子数1ないし4のアルキレン基、
基−CH2 −CHR5−、基−CH=CR6 −、炭素原
子数2ないし4のオキサアルキレン基、炭素原子数5な
いし7のシクロアルキル−1,2−エン基、炭素原子数
5ないし7のシクロアルケン−1,2−イレン基又は
1,2−フェニレン基を表わし、 R5 は炭素原子数1ないし18のアルキル基又は炭素原
子数3ないし18のアルケニル基を表わし、そしてR6
は水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
わす〕で表わされる化合物。 - 【請求項2】 式中、R1 が水素原子、炭素原子数1な
いし4のアルキル基、OH基、炭素原子数6ないし12
のアルコキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコ
キシ基、アリル基、ベンジル基又はアセチル基を表わ
す、請求項1記載の式Iで表わされる化合物。 - 【請求項3】 式中、R2 が直接結合、メチレン基、カ
ルボニル基又は基−CO−R4 −を表わし、 R3 が炭素原子数5ないし18のアルキル基、炭素原子
数5ないし18のアルケニル基、非置換又は炭素原子数
1ないし4のアルキル基により一,二又は三置換された
炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;或いは非置
換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりフェニ
ル環上を一,二又は三置換されたベンジル基を表わし、 R4 が直鎖状の炭素原子数1ないし3のアルキレン基、
基−CH2 −CHR5−、基−CH=CR6 −、炭素原
子数2ないし4のオキサアルキレン基、炭素原子数6及
び7のシクロアルキル−1,2−エン基、炭素原子数6
及び7のシクロアルケン−1,2−イレン基又は1,2
−フェニレン基を表わし、 R5 がメチル基、炭素原子数3ないし18のアルキル基
又は炭素原子数3ないし18のアルケニル基を表わし、
そしてR6 が水素原子又は炭素原子数1及び2のアルキ
ル基を表わす、請求項1記載の式Iで表わされる化合
物。 - 【請求項4】 式中、R2 が直接結合、メチレン基、カ
ルボニル基又は基−CO−R4 −を表わし、 R3 が炭素原子数6ないし18のアルキル基、炭素原子
数6ないし18のアルケニル基、非置換又は炭素原子数
1ないし4のアルキル基により一,二又は三置換された
シクロヘキシル基;或いは非置換又は炭素原子数1ない
し4のアルキル基によりフェニル環上を一,二又は三置
換されたベンジル基を表わし、 R4 がエチレン基、トリメチレン基、基−CH2 −CH
R5 −、基−CH=CR6 −、基−CH2 −O−CH2
−、1,2−シクロヘキシレン基、4−メチル−1,2
−シクロヘキシレン基、4−シクロヘキセン−1,2−
イレン基、4−メチル−4−シクロヘキセン−1,2−
イレン基又は1,2−フェニレン基を表わし、 R5 がメチル基、炭素原子数4ないし18のアルキル基
又は炭素原子数4ないし18のアルケニル基を表わし、
そしてR6 が水素原子又はメチル基を表わす、請求項1
記載の式Iで表わされる化合物。 - 【請求項5】 式中、R2 が直接結合、メチレン基又は
基−CO−R4 −を表わし、 R3 が炭素原子数8ないし18のアルキル基、ウンデセ
ニル基、オクタデセニル基、シクロヘキシル基又はベン
ジル基を表わし、 R4 がエチレン基、トリメチレン基、基−CH2 −CH
R5 −、基−CH=CH−、基−CH2 −O−CH
2 −、1,2−シクロヘキシレン基又は4−メチル−
1,2−シクロヘキシレン基を表わし、そしてR5 がメ
チル基、炭素原子数4ないし12のアルキル基又は炭素
原子数4ないし12のアルケニル基を表わす、請求項1
記載の式Iで表わされる化合物。 - 【請求項6】 式中、R1 が水素原子又はメチル基を表
わし、 R2 が直接結合又は基−CO−CH2 −CH2 −を表わ
し、そしてR3 が炭素原子数8ないし18のアルキル基
を表わす、請求項1記載の式Iで表わされる化合物。 - 【請求項7】 光、熱及び酸化によって誘発される分解
を受け易い有機材料と、少なくとも一種の請求項1記載
の式Iで表わされる化合物とを含む組成物。 - 【請求項8】 有機材料が合成ポリマーである請求項7
記載の組成物。 - 【請求項9】 式Iで表わされる化合物に加えて、合成
ポリマーのための他の慣用の添加剤を含む請求項8記載
の組成物。 - 【請求項10】 有機材料がポリオレフィンである請求
項7記載の組成物。 - 【請求項11】 有機材料がポリエチレン又はポリプロ
ピレンである請求項7記載の組成物。
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