JPH0756153A

JPH0756153A - 液晶光学素子及びその製造法

Info

Publication number: JPH0756153A
Application number: JP5206564A
Authority: JP
Inventors: Masao Yamamoto; 雅夫山本
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1993-08-20
Filing date: 1993-08-20
Publication date: 1995-03-03

Abstract

(57)【要約】【目的】電荷保持特性の良好な液晶光学素子を実現す
る。【構成】電極１３を設けた上下一対の基板１１、１２
をスペーサ兼シール樹脂１４を介して貼り合わせ、基板
間に液晶と重合性材料からなる組成物に吸着材１６を混
合した混合物を挟持する。電極１３を通して、前記混合
物に電界を印加した後、重合性材料の重合を完了し、高
分子分散型液晶１５を用いた液晶光学素子を完成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶が高分子樹脂マト
リクス中に分散保持された高分子分散型液晶を用いた液
晶光学素子及びその製造法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶分子の屈折率と同じ屈折率を
有する高分子に、ネマチック液晶を分散保持させた高分
子分散型液晶を、電極を有する上下一対の基板間に挟み
込み、電界の有無により、液晶の屈折率を変化させ、散
乱状態と透過状態とを切り換える液晶光学素子が多くの
研究、開発者の注目を集めている（特表昭５８−５０１
６３１号公報、特開昭６０−２５２６８７号公報、特表
昭６１−５０２１２８号公報）。

【０００３】図７は、この液晶光学素子の表示原理を示
す概略図である。

【０００４】電圧無印加状態（同図（ａ））では、液晶
７４の分子軸がランダムな方向を向くため液晶領域の屈
折率が周囲の高分子相７５の屈折率と異なり、液晶光学
素子に入った入射光７２は散乱光７３となり、その結
果、散乱状態が得られる。一方、電極７１に電界を印加
する（同図（ｂ））と、液晶７４の分子軸が電界方向に
配列し、基板に垂直に入射した光に対しては、液晶領域
の屈折率が周囲の高分子相７５の屈折率とほぼ一致する
ため、光の散乱が生じず透過光７６となり、その結果、
透過状態が得られる。

【０００５】この高分子分散型液晶を用いた液晶光学素
子は、光の散乱を利用するため、偏光板を使用する必要
がなく、従来のツイステッドネマチック（ＴＮ）型の液
晶光学素子のように、直線偏光を得るために、偏光板を
使用しなければならない液晶光学素子に比べ、明るく、
視野角の広い表示が可能になる。さらに、従来のＴＮ型
等の液晶光学素子は、配向処理や上下基板間隔を正確に
制御する必要があり、大面積の表示に関しては、表示む
らが出易いという課題を有していたが、高分子分散型液
晶を用いた液晶光学素子は、配向処理が不要で基板間隔
の制御も厳密でなく、大面積の液晶光学素子も容易に作
製できるという特徴を有する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、高分子分散
型液晶を用いた液晶光学素子で、高い散乱状態を得るに
は、液晶相の屈折率と高分子相の屈折率との差を大きく
する必要があるため、液晶材料として高屈折率を有する
シアノ系の液晶材料が一般的によく用いられる。しか
し、シアノ系の液晶材料は、極性が高く、また誘電率異
方性（Δε）も大きいため，不純物を取り込み易いとい
う欠点を有する。従って、高分子分散型液晶を製造する
際、重合性材料などと混合した時、その中に含まれるイ
オン性物質などの不純物が液晶中に溶け出し、その結果
液晶の比抵抗が低下する。このように液晶の比抵抗が低
下するため、シアノ系の液晶を使用した高分子分散型液
晶を用いた液晶光学素子は、一般に電荷の保持特性が悪
く、それが原因でアクティブマトリクス駆動時に表示不
良を引き起こすという問題を有していた。

【０００７】本発明は、このような従来の高分子分散型
液晶の課題を考慮し、液晶の比抵抗の低下を抑え、電荷
の保持特性を劣化させない高分子分散型液晶を用いた液
晶光学素子の製造法と、表示性能の良い液晶光学素子を
提供することを目的とするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】液晶の比抵抗の低下に
は、上記したように液晶中へのイオン性物質などの不純
物の溶け込みが関係していると考えられる。従って、液
晶の比抵抗の低下を抑えるには、高分子分散型液晶中に
存在するイオン性物質などの不純物を軽減する必要があ
る。本発明の請求項１から請求項４記載の液晶光学素子
は、少なくとも一方の基板上に設けた電極が透明である
上下一対の基板間に挟持した高分子分散型液晶が吸着材
を混合した高分子分散型液晶であることを特徴とする液
晶光学素子であり、本発明の請求項５及び請求項６記載
の液晶光学素子の製造法は、液晶と重合性材料から成る
組成物に吸着材を混合した混合物を、電極を設けた上下
一対の基板間に挟持し、前記混合物に電界を印加した
後、重合性材料の重合を完了し、液晶光学素子を製造す
ることを特徴とする液晶光学素子の製造法であり、本発
明請求項１１記載の液晶光学素子の製造法は、液晶と重
合性材料から成る組成物に吸着材を混合した混合物を電
極を設けた上下一対の基板間に挟持し、重合性材料の重
合を行い、基板間に高分子分散型液晶を形成した後、高
分子分散型液晶に電界を印加し、液晶光学素子を完成す
ることを特徴とする液晶光学素子の製造法である。ま
た、本発明請求項１６から請求項１９記載の液晶光学素
子は、高分子分散型液晶を挟持する電極を有する基板
が、電極上に吸着材を混合した塗膜を設けた構成の基板
であることを特徴とする液晶光学素子であり、本発明の
請求項２０及び請求項２１記載の液晶光学素子の製造法
は、液晶と重合性材料からなる組成物を吸着材を混合し
た塗膜を設けた電極付きの基板間に挟持し、前記組成物
に電界を印加した後、重合性材料の重合を完了し、液晶
光学素子を製造することを特徴とする液晶光学素子の製
造法であり、本発明の請求項２６記載の液晶光学素子の
製造法は、液晶と重合性材料からなる組成物を吸着材を
混合した塗膜を設けた電極付きの基板間に挟持し、重合
性材料の重合を完了し、形成した高分子分散型液晶に電
界を印加し、液晶光学素子を完成することを特徴とする
液晶光学素子の製造法である。

【０００９】

【作用】液晶と重合性材料から成る組成物に吸着材を混
合した混合物に電界を印加することで、重合性材料等に
含まれるイオン性物質などの不純物が吸着材に吸着され
る。その結果、引き続き前記重合性材料の重合を完了す
ることで、高分子分散型液晶の液晶中の不純物の濃度が
減少し、液晶の比抵抗の低下が抑制され、電荷の保持特
性の劣化は起こらず、表示性能のすぐれた液晶光学素子
が実現できる。また、前記重合性材料の重合を完了し、
形成した高分子分散型液晶に電界を印加しても同様に電
荷の保持特性のよい、表示性能のすぐれた液晶光学素子
が実現できる。さらに、吸着材を高分子分散型液晶中に
混合する代わりに、高分子分散型液晶を挟持する電極を
設けた基板の表面に吸着材を混合した塗膜を設け、重合
性材料の重合前あるいは重合後に電界を印加しても同様
の作用が達成できる。つまり、液晶と重合性材料から成
る組成物に電界を印加すると、重合性材料等に含まれる
イオン性物質などの不純物が上下基板の表面に設けた吸
着材を混合した塗膜に吸着され、その結果高分子分散型
液晶中に存在するイオン性物質などの不純物が軽減さ
れ、液晶の比抵抗の低下や電荷の保持特性の劣化は起こ
らず、表示性能のすぐれた液晶光学素子が実現できる。
尚、吸着材としては、無機系の材料が望ましく、シリカ
系、アルミナ系やゼオライト等の金属酸化物及び活性
炭、多孔質ガラスなどが使用できる。これら吸着材の混
合量は、特に限定されないが、大体の目安として、高分
子分散型液晶中に混合する場合は、高分子分散型液晶に
対して０．０１〜５重量％が適当であり、塗膜中に混合
するときは、塗膜材料に対して０．０１〜５重量％が適
当である。混合量が０．０１重量％より少ないときは、
不純物の吸着能が低下し、液晶光学素子の電荷保持特性
が劣化し、反対に混合量が５重量％より多いときは、液
晶光学素子の透過率に悪影響する。吸着材の大きさは、
特に限定されないが、一般的に吸着材として用いられる
数ｎｍ〜数μｍのものが望ましい。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の請求項１から請求項１５記載
の液晶光学素子及びその製造法について、図面を参照し
ながら説明する。

【００１１】図１は、本発明の請求項１から請求項４記
載の高分子分散型液晶を用いて作製した液晶光学素子の
概略を示す図である。電極１３を設けた上下一対の基板
１１、１２をスペーサ兼シール樹脂１４を介して貼り合
わせ空セルを完成する。完成した空セルに金属酸化物な
どの吸着材１６を混合した高分子分散型液晶１５を挟持
し、液晶光学素子を完成した。

【００１２】図２は、本発明の請求項５から請求項１０
記載の高分子分散型液晶を用いた液晶光学素子の製造法
の概略を示す図である。電極２３を設けた上下一対の基
板２１、２２をスペーサ兼シール樹脂２４を介して貼り
合わせ完成した空セルに、開口部より液晶と未硬化の光
重合性あるいは熱重合性の重合性材料からなる組成物２
５に金属酸化物などの吸着材２６を混合した混合物を注
入する。注入完了後、前記混合物に電極２３を通して電
界２７を一定時間印加する。その後、引き続いて電界除
去後、あるいは電界を印加しながら重合性材料の重合を
完了し、高分子分散型液晶からなる液晶光学素子を完成
した。

【００１３】図３は、本発明の請求項１１から請求項１
５記載の高分子分散型液晶を用いた液晶光学素子の製造
法の概略を示す図である。電極３３を設けた上下一対の
基板３１、３２を用意し、スペーサ兼シール樹脂３４を
介して貼り合わせ完成した空セルに、開口部より液晶と
未硬化の光重合性あるいは熱重合性の重合性材料からな
る組成物に金属酸化物などの吸着材３６を混合した混合
物を注入する。注入完了後、重合性材料の重合を完了し
高分子分散型液晶３５を形成した後、前記高分子分散型
液晶に電極３３を通して電界３７を一定時間印加し、高
分子分散型液晶からなる液晶光学素子を完成した。以
下、具体的実施例をあげさらに詳しく説明する。

【００１４】（実施例１）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極（ＩＴＯ電極）を形成した２枚のガラス基板
を開口部を残し、ＩＴＯ電極面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。

【００１５】次に、液晶材料として、Ｅ８（メルクジャ
パン（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーと
して、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２
ヒドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマ
ーとしてビスコート８２３（大阪有機化学工業（株）
製）を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメ
チルケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用
意し、前記材料からなる組成物を５０℃に加熱し相溶状
態にした後、粒子径が０．２μｍの酸化アルミニウムを
０．０２０ｇ混合した。引き続き、前記混合物を５０℃
で十分撹拌した後、上記した製造法で作製した空セルに
５０℃で、開口部から注入した。注入完了後、開口部を
封止し、５０℃で光源に超高圧水銀灯を用いて紫外線
（強度：５７ｍＷ／ｃｍ²）を１０秒照射し、高分子分
散型液晶からなる液晶セルを完成した。こうして完成
した液晶セルについて、電荷の保持特性を評価した。電
荷の保持特性は、フレーム周期３０Ｈｚ、電圧±５Ｖ、
ＯＮ時間６０μ秒の矩形波を液晶セルに印加した時の電
圧の保持特性を指標に評価した。電圧の保持特性は、電
圧保持率Ｒとして定量化た。電圧保持率は、電極間の電
位を測定し、その積分値を１００％保持の積分値で割っ
た値として定義した。電圧保持率１００％とは、ＯＮ時
間内に蓄積された電圧が、その後フレーム期間に渡り電
圧変化が全く起こらないものである。図８に電圧保持率
の測定波形と測定例を示す。図８（ｂ）において、電圧
保持率Ｒは（数１）で表される。

【００１６】

【数１】

【００１７】今回作製した液晶セルの電圧保持率は、４
０℃で６０．５％であった。

【００１８】（実施例２）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極（ＩＴＯ電極）を形成した２枚のガラス基板
を開口部を残し、ＩＴＯ電極面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。

【００１９】次に、液晶材料として、Ｅ８（メルクジャ
パン（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーと
して、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２
ヒドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマ
ーとしてビスコート８２３（大阪有機化学工業（株）
製）を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメ
チルケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用
意し、前記材料からなる組成物を５０℃に加熱し相溶状
態にした後、粒子径が０．２μｍの酸化チタンを０．０
２０ｇ混合した。引き続き、前記混合物を５０℃で十分
撹拌した後、上記した製造法で作製した空セルに５０℃
で、開口部から注入した。注入完了後、５０℃で前記混
合物にＩＴＯ電極を通して、５Ｖ、３０Ｈｚの交流電界
を３０分印加した。開口部を封止し、電界を除去した
後、直ちに５０℃で超高圧水銀灯を光源に用いて紫外線
（強度：５７ｍＷ／ｃｍ²）を１０秒照射し、高分子分
散型液晶からなる液晶セルを完成した。こうして完成し
た液晶セルの電圧保持率は、４０℃で６５．５％であっ
た。

【００２０】（実施例３）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極（ＩＴＯ電極）を形成した２枚のガラス基板
を開口部を残し、ＩＴＯ電極面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。

【００２１】次に、液晶材料として、Ｅ８（メルクジャ
パン（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーと
して、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２
ヒドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマ
ーとしてビスコート８２３（大阪有機化学工業（株）
製）を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメ
チルケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用
意し、前記材料からなる組成物を５０℃に加熱し相溶状
態にした後、粒子径が０．２μｍの酸化チタンを０．０
２０ｇ混合した。引き続き、前記混合物を５０℃で十分
撹拌した後、上記した製造法で作製した空セルに５０℃
で、開口部から注入した。注入完了後、５０℃で前記混
合物にＩＴＯ電極を通して、５Ｖ、３０Ｈｚの交流電界
を３０分印加した。開口部を封止し、５０℃で電界（５
Ｖ、３０Ｈｚ）を印加しながら超高圧水銀灯を光源に用
いて紫外線（強度：５７ｍＷ／ｃｍ²）を１０秒照射
し、高分子分散型液晶からなる液晶セルを完成した。こ
うして完成した液晶セルの電圧保持率は、４０℃で６
５．２％であった。

【００２２】（実施例４）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極（ＩＴＯ電極）を形成した２枚のガラス基板
を開口部を残し、ＩＴＯ電極面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。

【００２３】次に、液晶材料として、Ｅ８（メルクジャ
パン（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーと
して、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２
ヒドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマ
ーとしてビスコート８２３（大阪有機化学工業（株）
製）を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメ
チルケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用
意し、前記材料からなる組成物を５０℃に加熱し相溶状
態にした後、粒子径が０．２μｍの酸化アルミニウムを
０．０１０ｇと粒子径が０．２μｍの二酸化ケイ素０．
０１０ｇ及び粒子径が０．２μｍの酸化カルシウムを
０．０１０ｇ混合した。前記混合物を５０℃で十分撹拌
した後、上記した製造法で作製した空セルに５０℃で、
開口部から注入した。注入完了後、開口部を封止し、５
０℃で光源に超高圧水銀灯を用いて紫外線（強度：５７
ｍＷ／ｃｍ²）を１０秒照射し、高分子分散型液晶から
なる液晶セルを完成した。こうして完成した液晶セルの
電圧保持率は、４０℃で６２．８％であった。

【００２４】（実施例５）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極（ＩＴＯ電極）を形成した２枚のガラス基板
を開口部を残し、ＩＴＯ電極面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。

【００２５】次に、液晶材料として、Ｅ８（メルクジャ
パン（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーと
して、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２
ヒドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマ
ーとしてビスコート８２３（大阪有機化学工業（株）
製）を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメ
チルケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用
意し、前記材料からなる組成物に粒子径が０．２μｍの
ケイ酸アルミニウムを０．０２０ｇ混合した。前記混合
物を５０℃で十分撹拌した後、上記した製造法で作製し
た空セルに５０℃で、開口部から注入した。注入完了
後、開口部を封止し、５０℃で超高圧水銀灯を光源に用
いて紫外線（強度：５７ｍＷ／ｃｍ²）を１０秒照射
し、高分子分散型液晶を形成した後、８０℃で前記高分
子分散型液晶にＩＴＯ電極を通して、５Ｖ、３０Ｈｚの
交流電界を３０分印加し、液晶セルを完成した。こうし
て完成した液晶セルの電圧保持率は、４０℃で６１．５
％であった。

【００２６】次に、比較のための実験例を示す。

【００２７】（比較例１）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極（ＩＴＯ電極）を形成した２枚のガラス基板
を開口部を残し、ＩＴＯ電極面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。

【００２８】次に、液晶材料として、Ｅ８（メルクジャ
パン（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーと
して、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２
ヒドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマ
ーとしてビスコート８２３（大阪有機化学工業（株）
製）を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメ
チルケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用
意し、前記した材料からなる組成物を５０℃で十分撹拌
した後、上記した製造法で作製した空セルに５０℃で、
開口部から注入した。注入完了後、開口部を封止し、５
０℃で光源に超高圧水銀灯を用いて紫外線（強度：５７
ｍＷ／ｃｍ²）を１０秒照射し、高分子分散型液晶から
なる液晶セルを完成した。こうして完成した液晶セルの
電圧保持率は４０℃で３８．１％で吸着材を含んだ高分
子分散型液晶を用いた（実施例１）の液晶セルに比べか
なり低い値を示した。

【００２９】尚、電界処理を行う温度は限定されるもの
ではないが、本発明の実施例のように重合性材料の重合
前に電界処理を行う場合は、液晶と重合性材料からなる
組成物が相溶状態を示す温度で、また重合性材料の重合
を完了し形成した高分子分散型液晶に電界処理を行う場
合は、高分子分散型液晶に使用した液晶が等方性を示す
温度で電界処理を行う方が液晶セルの電圧保持率は高く
なる。低温では、不純物の移動が悪く吸着材や塗膜への
吸着が悪くその結果電圧保持率はあまり高くならない。
電界処理を行う電界の強度や周波数及び印加時間は上記
実施例に示したものに限定されず、適宜変更して使用で
きる。また、交流に限らず液晶や重合性材料等の材料が
劣化しない範囲で直流電界を印加してもよい。

【００３０】高分子分散型液晶に使用する液晶材料は、
上記実施例に記載したＥ８に限定されるものではなく、
その他のシアノ系液晶や、さらにはフッ素系液晶など種
々のネマチック液晶さらにはコレステリック液晶等を用
いてもよい。今回の実施例では、高分子分散型液晶とし
て液晶相がドロプレット状に分離した形態の高分子分散
型液晶を用いて説明しているが、これに限らず、高分子
の三次元編目構造内に液晶が連続相を形成している形態
の高分子分散型液晶でも同様の効果が達成できる。ま
た、今回の実施例では、高分子分散型液晶中の液晶の割
合は、約８２重量％にしているが、これに限定されるも
のでない。高分子形成モノマーとしては、今回、２エチ
ルヘキシルアクリレートや２ヒドロキシエチルアクリレ
ートを用いたが、それに限定されるものではなく、ネオ
ペンチルグリコールドアクリレート、ヘキサンジオール
ジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエ
チレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレートなど一般に市販されているアクリ
ル系モノマー、さらには広く、アクリル系以外の市販品
も応用可能である。オリゴマーも実施例に示したビスコ
ート８２３（大阪有機化学工業（株）製）に限定される
ものでない。

【００３１】また、重合開始剤もベンジルジメチルケタ
ール（日本化薬（株）製）に限定されるものでなく、メ
ルク（株）製のダロキュア１１７３やチバガイキー
（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア６５１な
どでもよい。

【００３２】さらに、使用する高分子材料は、上記実施
例で示した光硬化性樹脂に限定されるものではなく、熱
硬化性樹脂や熱可塑性樹脂であってもよい。

【００３３】次に、本発明の請求項１６から請求項３０
記載の液晶光学素子及びその製造法について、図面を参
照しながら説明する。図４は、本発明の請求項１６から
請求項１９記載の高分子分散型液晶を用いて作製した液
晶光学素子の概略を示す図である。電極４３上に金属酸
化物などの吸着材４６を含んだ塗膜４７を設けた上下一
対の基板４１、４２をスペーサ兼シール樹脂４４を介し
て貼り合わせ空セルを完成する。完成した空セルに高分
子分散型液晶４５を挟持し、液晶光学素子を完成した。

【００３４】図５は、本発明の請求項２０から請求項２
５記載の高分子分散型液晶を用いた液晶光学素子の製造
法の概略を示す図である。電極５３上に金属酸化物など
の吸着材５６を含んだ塗膜５８を設けた上下一対の基板
５１、５２をスペーサ兼シール樹脂５４を介して貼り合
わせ空セルに、開口部より液晶と未硬化の光重合性ある
いは熱重合性の重合性材料からなる組成物５５を注入す
る。注入完了後、前記組成物５５に電極５３を通して電
界５７を一定時間印加する。その後、引き続いて電界除
去後、あるいは電界を印加しながら重合性材料の重合を
完了し、高分子分散型液晶からなる液晶光学素子を完成
した。

【００３５】図６は、本発明の請求項２６から請求項３
０記載の高分子分散型液晶を用いた液晶光学素子の製造
法の概略を示す図である。電極６３上に金属酸化物など
の吸着材６６を含んだ塗膜６８を設けた上下一対の基板
６１、６２をスペーサ兼シール樹脂６４を介して貼り合
わせ空セルに、開口部より液晶と未硬化の光重合性ある
いは熱重合性の重合性材料からなる組成物を注入する。
注入完了後、前記重合性材料の重合を完了し、基板間６
１、６２に形成した高分子分散型液晶６５に電極６３を
通して電界６７を一定時間印加し、高分子分散型液晶か
らなる液晶光学素子を完成した。

【００３６】以下、具体的実施例をあげさらに詳しく説
明する。

【００３７】（実施例６）ポリイミドワニス（日産化学
（株）製：商品名ＳＥ−４１１０）の３．０重量％溶液
を用意した。前記ポリイミド溶液１００ｇに粒子径が
０．２μｍの酸化アルミニウムを０．５ｇ混合した溶液
を調整した。続いて、インジウム・錫酸化物よりなる透
明電極（ＩＴＯ電極）を形成したガラス基板を２枚用意
し、各ガラス基板のＩＴＯ電極上に前記した酸化アルミ
ニウムを混合したポリイミド溶液を２３００ｒｐｍ．、
６０秒の条件で回転塗布した後、２６０℃、１時間で焼
成し、酸化アルミニウムを混合したポリイミドの塗膜を
設けた。このポリイミド塗膜の膜厚は約８０ｎｍであっ
た。

【００３８】このように処理した２枚のガラス基板を開
口部を残し、ポリイミド塗膜面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。次に、液晶材料としてＥ８（メルクジャパン
（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーとし
て、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２ヒ
ドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマー
としてビスコート８２８（大阪有機化学工業（株）製）
を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチル
ケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用意
し、前記材料からなる組成物を５０℃で十分撹拌した
後、上記した製造法で作製した空セルに５０℃で、開口
部から注入した。注入完了後、開口部を封止し、５０℃
で光源に超高圧水銀灯を用いて紫外線（強度：５７ｍＷ
／ｃｍ²）を１０秒照射し、高分子分散型液晶からなる
液晶セルを完成した。こうして完成した液晶セルの電圧
保持率は４０℃で６２．１％であった。

【００３９】（実施例７）ポリイミドワニス（日産化学
（株）製：商品名ＳＥ−４１１０）の３．０重量％溶液
を用意した。前記ポリイミド溶液１００ｇに粒子径が
０．２μｍの酸化アルミニウムを０．５ｇ混合した溶液
を調整した。続いて、インジウム・錫酸化物よりなる透
明電極（ＩＴＯ電極）を形成したガラス基板を２枚用意
し、各ガラス基板のＩＴＯ電極上に前記した酸化アルミ
ニウムを混合したポリイミド溶液を２３００ｒｐｍ．、
６０秒の条件で回転塗布した後、２６０℃、１時間で焼
成し、酸化アルミニウムを混合したポリイミドの塗膜を
設けた。このポリイミド塗膜の膜厚は約８０ｎｍであっ
た。

【００４０】このように処理した２枚のガラス基板を開
口部を残し、ポリイミド塗膜面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。次に、液晶材料としてＥ８（メルクジャパン
（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーとし
て、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２ヒ
ドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマー
としてビスコート８２８（大阪有機化学工業（株）製）
を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチル
ケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用意
し、前記材料からなる組成物を５０℃で十分撹拌し相溶
状態にした後、上記した製造法で作製した空セルに５０
℃で、開口部から注入した。注入完了後、５０℃で前記
組成物にＩＴＯ電極を通して、５Ｖ、３０Ｈｚの交流電
界を３０分印加した。開口部を封止し、電界を除去した
後、直ちに５０℃で超高圧水銀灯を光源に用いて紫外線
（強度：５７ｍＷ／ｃｍ²）を１０秒照射し、高分子分
散型液晶からなる液晶セルを完成した。こうして完成し
た液晶セルの電圧保持率は４０℃で６４．０％であっ
た。

【００４１】（実施例８）ポリイミドワニス（日産化学
（株）製：商品名ＳＥ−４１１０）の３．０重量％溶液
を用意した。前記ポリイミド溶液１００ｇに粒子径が
０．２μｍの酸化アルミニウムを０．５ｇ混合した溶液
を調整した。続いて、インジウム・錫酸化物よりなる透
明電極（ＩＴＯ電極）を形成したガラス基板を２枚用意
し、各ガラス基板のＩＴＯ電極上に前記した酸化アルミ
ニウムを混合したポリイミド溶液を２３００ｒｐｍ．、
６０秒の条件で回転塗布した後、２６０℃、１時間で焼
成し、酸化アルミニウムを混合したポリイミドの塗膜を
設けた。このポリイミド塗膜の膜厚は約８０ｎｍであっ
た。

【００４２】このように処理した２枚のガラス基板を開
口部を残し、ポリイミド塗膜面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。次に、液晶材料としてＥ８（メルクジャパン
（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーとし
て、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２ヒ
ドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマー
としてビスコート８２８（大阪有機化学工業（株）製）
を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチル
ケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用意
し、前記材料からなる組成物を５０℃で十分撹拌し相溶
状態にした後、上記した製造法で作製した空セルに５０
℃で、開口部から注入した。注入完了後、５０℃で前記
組成物にＩＴＯ電極を通して、５Ｖ、３０Ｈｚの交流電
界を３０分印加した。開口部を封止し、電界（５Ｖ、３
０Ｈｚ）を印加しながら、５０℃で超高圧水銀灯を光源
に用いて紫外線（強度：５７ｍＷ／ｃｍ²）を１０秒照
射し、高分子分散型液晶からなる液晶セルを完成した。
こうして完成した液晶セルの電圧保持率は４０℃で６
４．７％であった。

【００４３】（実施例９）ポリイミドワニス（日産化学
（株）製：商品名ＳＥ−４１１０）の３．０重量％溶液
を用意した。前記ポリイミド溶液１００ｇに粒子径が
０．２μｍの酸化アルミニウムを０．５ｇ混合した溶液
を調整した。続いて、インジウム・錫酸化物よりなる透
明電極（ＩＴＯ電極）を形成したガラス基板を２枚用意
し、各ガラス基板のＩＴＯ電極上に前記した酸化アルミ
ニウムを混合したポリイミド溶液を２３００ｒｐｍ．、
６０秒の条件で回転塗布した後、２６０℃、１時間で焼
成し、酸化アルミニウムを混合したポリイミドの塗膜を
設けた。このポリイミド塗膜の膜厚は約８０ｎｍであっ
た。

【００４４】このように処理した２枚のガラス基板を開
口部を残し、ポリイミド塗膜面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。次に、液晶材料としてＥ８（メルクジャパン
（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーとし
て、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２ヒ
ドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマー
としてビスコート８２８（大阪有機化学工業（株）製）
を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチル
ケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用意
し、前記材料からなる組成物を５０℃で十分撹拌し相溶
状態にした後、上記した製造法で作製した空セルに５０
℃で、開口部から注入した。注入完了後、開口部を封止
し、超高圧水銀灯を光源に用いて紫外線（強度:５７ｍ
Ｗ／ｃｍ²）を１０秒照射し、高分子分散型液晶を形成
した後、８０℃で前記高分子分散型液晶にＩＴＯ電極を
通して、５Ｖ、３０Ｈｚの交流電界を３０分印加し、液
晶セルを完成した。こうして完成した液晶セルの電圧保
持率は４０℃で６０．５％であった。

【００４５】（実施例１０）ポリイミドワニス（日産化
学（株）製：商品名ＳＥ−４１１０）の３．０重量％溶
液を用意した。前記ポリイミド溶液１００ｇに粒子径が
０．２μｍの酸化アルミニウム０．２ｇと粒子径が０．
２μｍの二酸化ケイ素０．２ｇ及び酸化カルシウム０．
２ｇを混合した溶液を調整した。続いて、インジウム・
錫酸化物よりなる透明電極（ＩＴＯ電極）を形成したガ
ラス基板を２枚用意し、各ガラス基板のＩＴＯ電極上に
前記した金属酸化物を混合したポリイミド溶液を２３０
０ｒｐｍ．、６０秒の条件で回転塗布した後、２６０
℃、１時間で焼成し、金属酸化物を混合したポリイミド
の塗膜を設けた。このポリイミド塗膜の膜厚は約８０ｎ
ｍであった。

【００４６】このように処理した２枚のガラス基板を開
口部を残し、ポリイミド塗膜面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。次に、液晶材料としてＥ８（メルクジャパン
（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーとし
て、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２ヒ
ドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマー
としてビスコート８２８（大阪有機化学工業（株）製）
を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチル
ケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用意
し、前記材料からなる組成物を５０℃で十分撹拌した
後、上記した製造法で作製した空セルに５０℃で、開口
部から注入した。注入完了後、開口部を封止し、５０℃
で光源に超高圧水銀灯を用いて紫外線（強度：５７ｍＷ
／ｃｍ²）を１０秒照射し、高分子分散型液晶からなる
液晶セルを完成した。こうして完成した液晶セルの電圧
保持率は４０℃で６３．０％であった。

【００４７】次に比較のための実験例を説明する。

【００４８】（比較例２）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極（ＩＴＯ電極）を形成したガラス基板を２枚
用意し、各ガラス基板のＩＴＯ電極上にポリイミドワニ
ス（日産化学（株）製：商品名ＳＥ−４１１０）の３．
０％溶液を２３００ｒｐｍ．、６０秒の条件で回転塗布
した後、２６０℃、１時間で焼成し、ポリイミドの塗膜
を設けた。このポリイミド塗膜の膜厚は約８０ｎｍであ
った。このように処理した２枚のガラス基板を開口部を
残し、ポリイミド塗膜面が互いに対向するようにスペー
サとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫外線硬
化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用いて、
紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完成し
た。次に、液晶材料としてＥ８（メルクジャパン（株）
製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーとして、２エ
チルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２ヒドロキシ
エチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマーとしてビ
スコート８２８（大阪有機化学工業（株）製）を０．６
００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール
（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用意し、前記材
料からなる組成物を５０℃で十分撹拌し相溶状態にした
後、上記した製造法で作製した空セルに５０℃で、開口
部から注入した。注入完了後、開口部を封止し、超高圧
水銀灯を光源に用いて紫外線（強度:５７ｍＷ／ｃｍ²）
を１０秒照射し、高分子分散型液晶からなる液晶セルを
完成した。こうして完成した液晶セルの電圧保持率は４
０℃で４８．６％で、吸着材を混合したポリイミド塗膜
を用いた実施例６記載の液晶セルに比べ低い値を示し
た。

【００４９】（比較例３）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極（ＩＴＯ電極）を形成したガラス基板を２枚
用意し、各ガラス基板のＩＴＯ電極上にポリイミドワニ
ス（日産化学（株）製：商品名ＳＥ−４１１０）の３．
０％溶液を２３００ｒｐｍ．、６０秒の条件で回転塗布
した後、２６０℃、１時間で焼成し、ポリイミドの塗膜
を設けた。このポリイミド塗膜の膜厚は約８０ｎｍであ
った。

【００５０】このように処理した２枚のガラス基板を開
口部を残し、ポリイミド塗膜面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。次に、液晶材料としてＥ８（メルクジャパン
（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーとし
て、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２ヒ
ドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマー
としてビスコート８２８（大阪有機化学工業（株）製）
を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチル
ケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用意
し、前記材料からなる組成物を５０℃で十分撹拌し相溶
状態にした後、上記した製造法で作製した空セルに５０
℃で、開口部から注入した。注入完了後、５０℃で前記
組成物にＩＴＯ電極を通して、５Ｖ、３０Ｈｚの交流電
界を３０分印加した。開口部を封止し、電界を除去した
後、直ちに５０℃で超高圧水銀灯を光源に用いて紫外線
（強度：５７ｍＷ／ｃｍ²）を１０秒照射し、高分子分
散型液晶からなる液晶セルを完成した。こうして完成し
た液晶セルの電圧保持率は４０℃で５１．６％で、吸着
材を混合したポリイミド塗膜を用い、電界処理を施した
実施例７や実施例８記載の液晶セルに比べ低い値を示し
た。

【００５１】（比較例４）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極（ＩＴＯ電極）を形成したガラス基板を２枚
用意し、各ガラス基板のＩＴＯ電極上にポリイミドワニ
ス（日産化学（株）製：商品名ＳＥ−４１１０）の３．
０％溶液を２３００ｒｐｍ．、６０秒の条件で回転塗布
した後、２６０℃、１時間で焼成し、ポリイミドの塗膜
を設けた。このポリイミド塗膜の膜厚は約８０ｎｍであ
った。

【００５２】このように処理した２枚のガラス基板を開
口部を残し、ポリイミド塗膜面が互いに対向するように
スペーサとして直径１３μｍのガラス繊維を分散した紫
外線硬化型樹脂で貼り合わせ、光源に超高圧水銀灯を用
いて、紫外線により前記樹脂を硬化接着し、空セルを完
成した。次に、液晶材料としてＥ８（メルクジャパン
（株）製）を８．２００ｇ、高分子形成モノマーとし
て、２エチルヘキシルアクリレート０．６００ｇと２ヒ
ドロキシエチルアクリレート０．６００ｇ、オリゴマー
としてビスコート８２８（大阪有機化学工業（株）製）
を０．６００ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチル
ケタール（日本化薬（株）製）を０．０６０ｇを用意
し、前記材料からなる組成物を５０℃で十分撹拌し相溶
状態にした後、上記した製造法で作製した空セルに５０
℃で、開口部から注入した。注入完了後、開口部を封止
し、超高圧水銀灯を光源に用いて紫外線（強度:５７ｍ
Ｗ／ｃｍ²）を１０秒照射し、高分子分散型液晶を形成
した後、８０℃で前記高分子分散型液晶にＩＴＯ電極を
通して、５Ｖ、３０Ｈｚの交流電界を３０分印加し、液
晶セルを完成した。こうして完成した液晶セルの電圧保
持率は４０℃で５０．０％で、吸着材を混合したポリイ
ミド塗膜を用い、高分子分散型液晶を形成後に電界処理
を施した実施例９記載の液晶セルに比べ低い値を示し
た。

【００５３】尚、電界処理を行う温度は限定されるもの
ではないが、本発明の上記実施例のように重合性材料の
重合前に電界処理を行う場合は、液晶と重合性材料から
なる組成物が相溶状態を示す温度で、また重合性材料の
重合を完了し形成した高分子分散型液晶に電界処理を行
う場合は、高分子分散型液晶に使用した液晶が等方性を
示す温度で電界処理を行う方が液晶セルの電圧保持率は
高くなる。低温では、不純物の移動が悪く吸着材や塗膜
への吸着が悪くその結果電圧保持率はあまり高くならな
い。電界処理を行う電界の強度や周波数及び印加時間は
実施例に示したものに限定されず、適宜変更して使用で
きる。また、交流に限らず液晶や重合性材料等の材料が
劣化しない範囲で直流電界を印加してもよい。

【００５４】基板の電極上に設ける塗膜は、上記実施例
に記載したように両側の基板上で同じ塗膜を用いてもよ
いし、両側の基板上で異なる塗膜を用いてもよい。ま
た、塗膜中に混合する吸着材も両側の基板上の塗膜に異
なる吸着材を混合してもよい。さらに塗膜材料として
は、実施例に記載したポリイミドに限らず種々の有機系
材料が使用可能である。さらに、これらの塗膜は、ラビ
ング処理などにより配向処理されていてもよい。今回の
実施例では、これら塗膜の膜厚は８０ｎｍのものを用い
たが、これに限定されるものでない。これら塗膜は、片
側の基板上にのみ設けても使用可能である。

【００５５】高分子分散型液晶に使用する液晶材料は、
上記実施例に記載したＥ８に限定されるものではなく、
その他のシアノ系液晶や、さらにはフッ素系液晶など種
々のネマチック液晶さらにはコレステリック液晶等を用
いてもよい。今回の実施例では、高分子分散型液晶とし
て液晶相がドロプレット状に分離した形態の高分子分散
型液晶を用いて説明しているが、これに限らず、高分子
の三次元編目構造内に液晶が連続相を形成している形態
の高分子分散型液晶でも同様の効果が達成できる。ま
た、今回の実施例では、高分子分散型液晶中の液晶の割
合は、約８２重量％にしているが、これに限定されるも
のでない。高分子形成モノマーとしては、今回、２エチ
ルヘキシルアクリレートや２ヒドロキシエチルアクリレ
ートを用いたが、それに限定されるものではなく、ネオ
ペンチルグリコールドアクリレート、ヘキサンジオール
ジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエ
チレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレートなど一般に市販されているアクリ
ル系モノマー、さらには広く、アクリル系以外の市販品
も応用可能である。オリゴマーも実施例に示したビスコ
ート８２８（大阪有機化学工業（株）製）に限定される
ものでない。

【００５６】また、重合開始剤もベンジルジメチルケタ
ール（日本化薬（株）製）に限定されるものでなく、メ
ルク（株）製のダロキュア１１７３やチバガイキー
（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア６５１な
どでもよい。

【００５７】さらに、使用する高分子材料は、実施例で
示した光硬化性樹脂に限定されるものではなく、熱硬化
性樹脂や熱可塑性樹脂であってもよい。

【００５８】

【発明の効果】以上述べたところから明らかなように、
本発明は、高分子分散型液晶中に金属酸化物などからな
る吸着材を混合し、高分子分散型液晶に重合性材料の重
合前あるいは重合完了後に、高分子分散型液晶に電界を
印加することで、液晶光学素子の電荷保持特性を向上で
きる。

【００５９】また、吸着材を高分子分散型液晶中に混合
する代わりに、高分子分散型液晶を挟持する基板に、吸
着材を混合した塗膜を設けた基板を使用し、重合性材料
の重合前あるいは重合完了後に高分子分散型液晶に電界
を印加しても、同様に電荷保持特性の良好な液晶光学素
子が実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の請求項１から請求項４記載の高分子分
散型液晶を用いて作製した液晶光学素子の構成を示す断
面図である。

【図２】本発明の請求項５から請求項１０記載の高分子
分散型液晶を用いた液晶光学素子の製造法の概略を示す
図である。

【図３】本発明の請求項１１から請求項１５記載の高分
子分散型液晶を用いた液晶光学素子の製造法の概略を示
す図である。

【図４】本発明の請求項１６から請求項１９記載の高分
子分散型液晶を用いて作製した液晶光学素子の構成を示
す断面図である。

【図５】本発明の請求項２０から請求項２５記載の高分
子分散型液晶を用いた液晶光学素子の製造法の概略を示
す図である。

【図６】本発明の請求項２６から請求項３０記載の高分
子分散型液晶を用いた液晶光学素子の製造法の概略を示
す図である。

【図７】高分子分散型液晶を用いて作製した液晶光学素
子の表示原理を示す概略図である。

【図８】電圧保持率の測定法を説明する図である。

【符号の説明】

１１上側基板４６吸着
材１２下側基板４７吸着
材を含んだ塗膜１３電極５１上側
基板１４スペーサ兼シール樹脂５２下側
基板１５高分子分散型液晶５３電極１６吸着材５４スペ
ーサ兼シール樹脂２１上側基板５５組成
物２２下側基板５６吸着
材２３電極５７電界２４スペーサ兼シール樹脂５８吸着
材を含んだ塗膜２５組成物６１上側
基板２６吸着材６２下側
基板２７電界６３電極３１上側基板６４スペ
ーサ兼シール樹脂３２下側基板６５高分
子分散型液晶３３電極６６吸着
材３４スペーサ兼シール樹脂６７電界３５高分子分散型液晶６８吸着
材を含んだ塗膜３６吸着材７１電極３７電界７２入射
光４１上側基板７３散乱
光４２下側基板７４液晶４３電極７５高分
子相４４スペーサ兼シール樹脂７６透過
光４５高分子分散型液晶

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】吸着材を混合した高分子分散型液晶を有す
ることを特徴とする液晶光学素子。
【請求項２】吸着材が金属酸化物であることを特徴とす
る請求項１記載の液晶光学素子。
【請求項３】金属酸化物が酸点と塩基点の両者を有する
金属酸化物であることを特徴とする請求項２記載の液晶
光学素子。
【請求項４】金属酸化物が酸点を有する金属酸化物と塩
基点を有する金属酸化物の２種類の混合物であることを
特徴とする請求項２記載の液晶光学素子。
【請求項５】少なくとも一方の基板上に設けた電極が透
明である上下一対の基板間に、液晶と重合性材料からな
る組成物に吸着材を混合した混合物を挟持し、電極を通
して前記混合物に電界を印加した後、電界除去後に前記
重合性材料の重合を完了することを特徴とする液晶光学
素子の製造法。
【請求項６】少なくとも一方の基板上に設けた電極が透
明である上下一対の基板間に、液晶と重合性材料からな
る組成物に吸着材を混合した混合物を挟持し、電極を通
して前記混合物に電界を印加しながら前記重合性材料の
重合を完了することを特徴とする液晶光学素子の製造
法。
【請求項７】液晶と重合性材料からなる組成物に混合す
る吸着材が金属酸化物であることを特徴とする請求項５
または請求項６記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項８】金属酸化物が酸点と塩基点の両者を有する
金属酸化物であることを特徴とする請求項７記載の液晶
光学素子の製造法。
【請求項９】金属酸化物が酸点を有する金属酸化物と塩
基点を有する金属酸化物の２種類の混合物であることを
特徴とする請求項７記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項１０】液晶と重合性材料から成る組成物に吸着
材を混合した混合物に電界を印加する時の温度が、前記
組成物が相溶状態を示す温度であることを特徴とする請
求項５または請求項６記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項１１】少なくとも一方の基板上に設けた電極が
透明である上下一対の基板間に、液晶と重合性材料から
なる組成物に吸着材を混合した混合物を挟持し、前記重
合性材料の重合を行い、基板間に吸着材を含んだ高分子
分散型液晶を挟持した後、電極を通して前記高分子分散
型液晶に電界を印加することを特徴とする液晶光学素子
の製造法。
【請求項１２】液晶と重合性材料からなる組成物に混合
する吸着材が金属酸化物であることを特徴とする請求項
１１記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項１３】金属酸化物が酸点と塩基点の両者を有す
る金属酸化物であることを特徴とする請求項１２記載の
液晶光学素子の製造法。
【請求項１４】金属酸化物が酸点を有する金属酸化物と
塩基点を有する金属酸化物の２種類の混合物であること
を特徴とする請求項１２記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項１５】吸着材を含む高分子分散型液晶に電界を
印加する時の温度が、液晶が等方性を示す温度であるこ
とを特徴とする請求項１１記載の液晶光学素子の製造
法。
【請求項１６】少なくとも一方の基板上に設けた電極が
透明である上下一対の基板間に高分子分散型液晶を挟持
した液晶光学素子において、該基板が、電極上に吸着材
を混合した塗膜を設けた構成の基板であることを特徴と
する液晶光学素子。
【請求項１７】吸着材が金属酸化物であることを特徴と
する請求項１６記載の液晶光学素子。
【請求項１８】金属酸化物が酸点と塩基点の両者を有す
る金属酸化物であることを特徴とする請求項１７記載の
液晶光学素子。
【請求項１９】金属酸化物が酸点を有する金属酸化物と
塩基点を有する金属酸化物の２種類の混合物であること
を特徴とする請求項１７記載の液晶光学素子。
【請求項２０】少なくとも一方の基板上に設けた電極が
透明である上下一対の基板の電極上に吸着材を混合した
塗膜を設け、該基板間に、液晶と重合性材料からなる組
成物を挟持し、電極を通して前記組成物に電界を印加し
た後、電界除去後に前記重合性材料の重合を完了するこ
とを特徴とする液晶光学素子の製造法。
【請求項２１】少なくとも一方の基板上に設けた電極が
透明である上下一対の基板の電極上に吸着材を混合した
塗膜を設け、該基板間に、液晶と重合性材料からなる組
成物を挟持し、電極を通して前記組成物に電界を印加し
ながら前記重合性材料の重合を完了することを特徴とす
る液晶光学素子の製造法。
【請求項２２】電極上に設けた塗膜に混合する吸着材が
金属酸化物であることを特徴とする請求項２０または請
求項２１記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項２３】金属酸化物が酸点と塩基点の両者を有す
る金属酸化物であることを特徴とする請求項２２記載の
液晶光学素子の製造法。
【請求項２４】金属酸化物が酸点を有する金属酸化物と
塩基点を有する金属酸化物の２種類の混合物であること
を特徴とする請求項２２記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項２５】液晶と重合性材料から成る組成物に電界
を印加する時の温度が、前記組成物が相溶性を示す温度
であることを特徴とする請求項２０または請求項２１記
載の液晶光学素子の製造法。
【請求項２６】少なくとも一方の基板上に設けた電極が
透明である上下一対の基板の電極上に吸着材を混合した
塗膜を設け、該基板間に、液晶と重合性材料からなる組
成物を挟持し、前記組成物の重合を行い、基板間に高分
子分散型液晶を挟持した後、電極を通して前記高分子分
散型液晶に電界を印加することを特徴とする液晶光学素
子の製造法。
【請求項２７】電極上に設けた塗膜に混合する吸着材が
金属酸化物であことを特徴とする請求項２６記載の液晶
光学素子の製造法。
【請求項２８】金属酸化物が酸点と塩基点の両者を有す
る金属酸化物であることを特徴とする請求項２７記載の
液晶光学素子の製造法。
【請求項２９】金属酸化物が酸点を有する金属酸化物と
塩基点を有する金属酸化物の２種類の混合物であること
を特徴とする請求項２７記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項３０】高分子分散型液晶に電界を印加するとき
の温度が、液晶が等方性を示す温度であることを特徴と
する請求項２６記載の液晶光学素子の製造法。