JPH075291B2 - ジルコニア均一分散ムライト質微粉末の製造方法 - Google Patents
ジルコニア均一分散ムライト質微粉末の製造方法Info
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- JPH075291B2 JPH075291B2 JP61040474A JP4047486A JPH075291B2 JP H075291 B2 JPH075291 B2 JP H075291B2 JP 61040474 A JP61040474 A JP 61040474A JP 4047486 A JP4047486 A JP 4047486A JP H075291 B2 JPH075291 B2 JP H075291B2
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- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 41
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 title claims description 39
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 32
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 claims description 7
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 2
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 2
- 229910000734 martensite Inorganic materials 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003754 zirconium Chemical class 0.000 description 2
- OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N zirconium nitrate Chemical compound [Zr+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000505 Al2TiO5 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- PASHVRUKOFIRIK-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate dihydrate Chemical compound O.O.[Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O PASHVRUKOFIRIK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910002077 partially stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N propan-2-yl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、微細で焼結性に優れ、しかも高強度高靱性の
複合セラミックスが得られるジルコニア均一分散ムライ
ト質微粉末の製造方法に関する。
複合セラミックスが得られるジルコニア均一分散ムライ
ト質微粉末の製造方法に関する。
ムライトは3Al2O3・2SiO2(Al2O3/SiO2のモル比=1.
5)の化学組成で示されるケイ酸アルミニウムを指称す
るものであるが、ジェイ・エイ・パスク(J・A・Pas
k)の研究論文(「Ceramic International」、9(4).
107〜113.(1983))によると、Al2O3/SiO2のモル比が
1.50ないし2.87の範囲でアルミナ(Al2O3)と固溶体を
形成する。
5)の化学組成で示されるケイ酸アルミニウムを指称す
るものであるが、ジェイ・エイ・パスク(J・A・Pas
k)の研究論文(「Ceramic International」、9(4).
107〜113.(1983))によると、Al2O3/SiO2のモル比が
1.50ないし2.87の範囲でアルミナ(Al2O3)と固溶体を
形成する。
このムライトは、従来より化学工業磁器や耐火物等に含
まれる結晶相として知られていたが、近年ガラス相や不
純物を含まない高純度ムライトセラミックスは高温強
度、高温クリープ特性、低熱膨張率など熱的特性に優れ
ることから、窒化けい素、炭化けい素、ジルコニアと共
に、高温構造用セラミック候補材料として有望視されて
いる。しかし、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ジルコニアと
比べると、ムライトは強度、破壊靱性等の機械的特性の
面で劣り、現在これらの特性の改善が急務とされてい
る。
まれる結晶相として知られていたが、近年ガラス相や不
純物を含まない高純度ムライトセラミックスは高温強
度、高温クリープ特性、低熱膨張率など熱的特性に優れ
ることから、窒化けい素、炭化けい素、ジルコニアと共
に、高温構造用セラミック候補材料として有望視されて
いる。しかし、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ジルコニアと
比べると、ムライトは強度、破壊靱性等の機械的特性の
面で劣り、現在これらの特性の改善が急務とされてい
る。
ニールス・クラウセン(Nils Claussen)等の研究論文
(J.of.Am Ceram.Soc.63〔3−4〕228〜229.(198
0))により、ジルコニア(ZrO2)の添加がムライトの
焼結性や機械的特性を向上させることが可能であること
が明らかになって以来、ジルコニア−ムライト系複合セ
ラミックの研究が盛んに行なわれてきている。
(J.of.Am Ceram.Soc.63〔3−4〕228〜229.(198
0))により、ジルコニア(ZrO2)の添加がムライトの
焼結性や機械的特性を向上させることが可能であること
が明らかになって以来、ジルコニア−ムライト系複合セ
ラミックの研究が盛んに行なわれてきている。
従来、ジルコニア−ムライト系複合セラミックスは、ジ
ルコン(ZrO2・SiO2)とアルミナの混合物、あるいはム
ライトとジルコニアの混合物を粉砕、焼成して製造され
てきた。しかしジルコンとアルミナあるいはムライトと
ジルコニアの均一混合や微粉砕が難しかったり、焼成時
に多大のエネルギーを要したりといった問題がある。ま
たこれら従来の製造方法では強度や破壊靱性の向上に不
可欠な正方晶ジルコニア(t−ZrO2)の他に、単斜晶ジ
ルコニア(m−ZrO2、これは強度、破壊靱性の向上に寄
与しない。)も共存するといった問題もある。なおt−
ZrO2は粒径が0.6μm以下の場合に安定であり、さらに
マルテンサイト変態による強度および破壊靱性の改善に
有効なt−ZrO2は粒径が0.3μm以下のものであると言
われている。従来の方法で得られる粉末中に存在する有
効なt−ZrO2量は全ジルコニアの約30%である。
ルコン(ZrO2・SiO2)とアルミナの混合物、あるいはム
ライトとジルコニアの混合物を粉砕、焼成して製造され
てきた。しかしジルコンとアルミナあるいはムライトと
ジルコニアの均一混合や微粉砕が難しかったり、焼成時
に多大のエネルギーを要したりといった問題がある。ま
たこれら従来の製造方法では強度や破壊靱性の向上に不
可欠な正方晶ジルコニア(t−ZrO2)の他に、単斜晶ジ
ルコニア(m−ZrO2、これは強度、破壊靱性の向上に寄
与しない。)も共存するといった問題もある。なおt−
ZrO2は粒径が0.6μm以下の場合に安定であり、さらに
マルテンサイト変態による強度および破壊靱性の改善に
有効なt−ZrO2は粒径が0.3μm以下のものであると言
われている。従来の方法で得られる粉末中に存在する有
効なt−ZrO2量は全ジルコニアの約30%である。
本発明者らは、すでにゾル−ゲル法による高純度ムライ
ト質微粉末の製造方法を提案しているが、(特開昭61−
281013)本発明はこの経済性に優れる製造方法を応用し
て、前記の諸問題を解決する微細で焼結性に優れ、しか
も高強度高靱性のジルコニア−ムライト系複合セラミッ
クスが得られるジルコニア(t−ZrO2)均一分散ムライ
ト質微粉末の製造方法を新たに提供することを目的とす
る。
ト質微粉末の製造方法を提案しているが、(特開昭61−
281013)本発明はこの経済性に優れる製造方法を応用し
て、前記の諸問題を解決する微細で焼結性に優れ、しか
も高強度高靱性のジルコニア−ムライト系複合セラミッ
クスが得られるジルコニア(t−ZrO2)均一分散ムライ
ト質微粉末の製造方法を新たに提供することを目的とす
る。
上記の目的を達成するため、本発明者らは鋭意研究した
結果、ベーマイトゾルと非晶質シリカ分散水溶液のAl2O
3/SiO2のモル比が1.5以上のムライト質ゾルに、ジルコ
ニアゾルをZrO2換算で30体積%以下加え、この混合ゾル
をpH値が2以下になるまで濃縮して生成したゲルを乾
燥、粉砕、加熱することによりジルコニア均一分散ムラ
イト質微粉末の製造に成功したものである。
結果、ベーマイトゾルと非晶質シリカ分散水溶液のAl2O
3/SiO2のモル比が1.5以上のムライト質ゾルに、ジルコ
ニアゾルをZrO2換算で30体積%以下加え、この混合ゾル
をpH値が2以下になるまで濃縮して生成したゲルを乾
燥、粉砕、加熱することによりジルコニア均一分散ムラ
イト質微粉末の製造に成功したものである。
本発明では反応性の高いベーマイトゾル(r−AlO(O
H))を用いることが特徴で、通常のジプサイト(Al2O3
・3H2O)から成るアルミナゾルを用いた場合は、ジプ
サイトが安全な構造をとるため、シリカ成分との反応性
が低く、高温度・長時間の焼成処理を行なっても未反応
のシリカ(クリストバライト)やアルミナが残存して優
れた特性のムライト質マトリックスを製造することがで
きない。
H))を用いることが特徴で、通常のジプサイト(Al2O3
・3H2O)から成るアルミナゾルを用いた場合は、ジプ
サイトが安全な構造をとるため、シリカ成分との反応性
が低く、高温度・長時間の焼成処理を行なっても未反応
のシリカ(クリストバライト)やアルミナが残存して優
れた特性のムライト質マトリックスを製造することがで
きない。
このベーマイトゾルは、ベーマイトの分散水溶液を80℃
以上に加熱しながら硝酸、塩酸等の無機酸や酢酸、ギ酸
等の有機酸を適量加え解膠することによって得られる。
以上に加熱しながら硝酸、塩酸等の無機酸や酢酸、ギ酸
等の有機酸を適量加え解膠することによって得られる。
またスピネル型欠陥構造をとり活性度の高いガンマ−ア
ルミナ(r−Al2O3)を前記の酸で解膠することによっ
ても反応性の高いベーマイトゾルを得ることができる。
ルミナ(r−Al2O3)を前記の酸で解膠することによっ
ても反応性の高いベーマイトゾルを得ることができる。
非晶質シリカ分散水溶液についてはとくに限定しない
が、反応活性が高いコロイダルシリカ(シリカゾル)や
高純度シリカ微粒子のサスペンションが好ましい。
が、反応活性が高いコロイダルシリカ(シリカゾル)や
高純度シリカ微粒子のサスペンションが好ましい。
コロイダルシリカはシリカの超微粒子が水中に分散して
いるコロイド水溶液で、シリカ微粒子には湿式法で製造
されたホワイトカーボンや乾式法のヒュームドシリカが
ある。
いるコロイド水溶液で、シリカ微粒子には湿式法で製造
されたホワイトカーボンや乾式法のヒュームドシリカが
ある。
ジルコニアゾルはオキシ塩化ジルコニウム,硝酸ジルコ
ニウム等のジルコニウム塩の水溶液に、ジルコニウム塩
に存在する塩素,硝酸を中和させる尿素,ヘキサメチレ
ンテトラミン等を加えることによって得られる。
ニウム等のジルコニウム塩の水溶液に、ジルコニウム塩
に存在する塩素,硝酸を中和させる尿素,ヘキサメチレ
ンテトラミン等を加えることによって得られる。
本発明は、まず前記のベーマイトゾルと非晶質シリカ分
散水溶液をAl2O3/SiO2モル比がムライト組成の1.5ある
いはアルミナと固溶体を形成する1.5以上2.87以下の範
囲の比率に混合してムライト質ゾルを作る。次いでこの
ムライト質ゾルにジルコニアゾルをZrO2換算で30体積%
以下加え高速ブレンダーで混合する。ZrO2の含有量を30
体積%以下に限定しているが、好ましくは10〜20体積%
で、30体積%を超える場合は焼結体の機械的強度が低下
する。
散水溶液をAl2O3/SiO2モル比がムライト組成の1.5ある
いはアルミナと固溶体を形成する1.5以上2.87以下の範
囲の比率に混合してムライト質ゾルを作る。次いでこの
ムライト質ゾルにジルコニアゾルをZrO2換算で30体積%
以下加え高速ブレンダーで混合する。ZrO2の含有量を30
体積%以下に限定しているが、好ましくは10〜20体積%
で、30体積%を超える場合は焼結体の機械的強度が低下
する。
次にジルコニア−ムライト系混合ゾルをpH値が2以下に
なるまで加熱等により濃縮してゲル化する。pH値を2以
下に限定した理由は、この範囲において生成するムライ
ト(質)ゲル組成が化学量論的に均質となる共に、ゲル
容積が極小となって取扱い易くなるためである。pH値が
2を超えるとゲル容積が増大したり、またムライト
(質)ゲル組成の制御が難しくなって焼結体特性の優れ
たジルコニア−ムライト系複合セラミックスが得られな
くなり適当でない。
なるまで加熱等により濃縮してゲル化する。pH値を2以
下に限定した理由は、この範囲において生成するムライ
ト(質)ゲル組成が化学量論的に均質となる共に、ゲル
容積が極小となって取扱い易くなるためである。pH値が
2を超えるとゲル容積が増大したり、またムライト
(質)ゲル組成の制御が難しくなって焼結体特性の優れ
たジルコニア−ムライト系複合セラミックスが得られな
くなり適当でない。
このようにして生成したジルコニア−ムライト系複合ゾ
ルを100℃以上の温度で乾燥してから、ボールミルや攪
拌ミル等の粉砕装置でコンタミネーションに留意しなが
ら微粉砕する。得られたゲル微粉末は非晶質であるた
め、1250℃以上の大気雰囲気で焼成したり、また高温高
圧下で水熱処理したりして結晶化することによって、結
晶子径が25〜30nmと微細で焼結性に優れ、しかも分散相
として0.3μm以下のt−ZrO2が単相として存在するた
め、機械的特性に優れた複合セラミックスを提供するジ
ルコニア均一分散ムライト質粉末を生成する。
ルを100℃以上の温度で乾燥してから、ボールミルや攪
拌ミル等の粉砕装置でコンタミネーションに留意しなが
ら微粉砕する。得られたゲル微粉末は非晶質であるた
め、1250℃以上の大気雰囲気で焼成したり、また高温高
圧下で水熱処理したりして結晶化することによって、結
晶子径が25〜30nmと微細で焼結性に優れ、しかも分散相
として0.3μm以下のt−ZrO2が単相として存在するた
め、機械的特性に優れた複合セラミックスを提供するジ
ルコニア均一分散ムライト質粉末を生成する。
本発明により得られたジルコニア−ムライト質系複合微
結晶粉末の特長を列挙すると以下のとおりである。
結晶粉末の特長を列挙すると以下のとおりである。
(1)化学量論組成のムライト(質)マトリックス中
に、0.3μm以下の微細な正方晶ジルコニア(t−Zr
O2)が単相で均一に分散しているため、マルテンサイト
変態により強度、破壊靱性等の機械的特性を改善でき
る。
に、0.3μm以下の微細な正方晶ジルコニア(t−Zr
O2)が単相で均一に分散しているため、マルテンサイト
変態により強度、破壊靱性等の機械的特性を改善でき
る。
(2)ムライト(質)マトリックスの結晶子径が25ない
し30nmと微細であるから、焼結性にも優れ1600℃以下の
温度でも容易に理論密度の98%以上の高密度焼結体が得
られる。
し30nmと微細であるから、焼結性にも優れ1600℃以下の
温度でも容易に理論密度の98%以上の高密度焼結体が得
られる。
なお、本発明で開示した方法を、コージエライト、チタ
ン酸アルミニウム、ゲルマニウム酸アルモニウム等をマ
トリックスとしたジルコニア均一分散セラミック微粉末
にも適用が可能であり、本発明は極めて経済性に優れた
複合セラミックス原料粉末製造方法である。
ン酸アルミニウム、ゲルマニウム酸アルモニウム等をマ
トリックスとしたジルコニア均一分散セラミック微粉末
にも適用が可能であり、本発明は極めて経済性に優れた
複合セラミックス原料粉末製造方法である。
以下、実施例について述べる。
実施例−1 市販のガンマ−アルミナ(昭和軽金属社製、γ−Al2O3
“UA−5605"、Al2O399.9%)を70℃以上で水和させてか
ら硝酸を適量加えて80℃以上に加熱することにより生成
したベーマイトゾルに、コロイダルシリカ(日本シリカ
工業社製、“Nipsil B220A"SiO292.4%、Al2O30.5%)
をAl2O3/SiO2モル比がムライト組成の1.5になるように
加え、高速ブレダーで混合した。オキシ塩化ジルコニウ
ム(三和化学社製、ZrOCl299%)の水溶液にヘキサメチ
レンテトラミンを適量加えて生成したジルコニアゾルを
ZrO2量が全体の10体積%になるように調整し、これを前
記のムライト組成ゾルに混合後pH値が2以下になるまで
攪拌しながら加熱濃縮した。生成したゲルを120℃で蒸
発乾固し、これをボールミル(アルミナ内張りポットお
よび部分安定化ジルコニアボール使用)で微粉砕後1300
℃で1時間焼成して得られた粉末のX線回折図を第1図
に示す。検出されたピークはすべてムライトおよびt−
ZrO2に基因するもので、ムライトの結晶子径は30nmであ
った。この粉末を成形、焼結したところ曲げ強度および
破壊靱性に優れる焼結体が得られた。
“UA−5605"、Al2O399.9%)を70℃以上で水和させてか
ら硝酸を適量加えて80℃以上に加熱することにより生成
したベーマイトゾルに、コロイダルシリカ(日本シリカ
工業社製、“Nipsil B220A"SiO292.4%、Al2O30.5%)
をAl2O3/SiO2モル比がムライト組成の1.5になるように
加え、高速ブレダーで混合した。オキシ塩化ジルコニウ
ム(三和化学社製、ZrOCl299%)の水溶液にヘキサメチ
レンテトラミンを適量加えて生成したジルコニアゾルを
ZrO2量が全体の10体積%になるように調整し、これを前
記のムライト組成ゾルに混合後pH値が2以下になるまで
攪拌しながら加熱濃縮した。生成したゲルを120℃で蒸
発乾固し、これをボールミル(アルミナ内張りポットお
よび部分安定化ジルコニアボール使用)で微粉砕後1300
℃で1時間焼成して得られた粉末のX線回折図を第1図
に示す。検出されたピークはすべてムライトおよびt−
ZrO2に基因するもので、ムライトの結晶子径は30nmであ
った。この粉末を成形、焼結したところ曲げ強度および
破壊靱性に優れる焼結体が得られた。
実施例−2 実施例−1と同じ出発原料、調整方法により、Al2O3/S
iO2モル比およびZrO2量をそれぞれ1.8、30体積%の場合
について検討した。得られた粉末のX線回折図を第2図
に示す。検出されたピークはすべてムライトおよびt−
ZrO2に基因するもので、ムライトの結晶子径は25nmであ
った。
iO2モル比およびZrO2量をそれぞれ1.8、30体積%の場合
について検討した。得られた粉末のX線回折図を第2図
に示す。検出されたピークはすべてムライトおよびt−
ZrO2に基因するもので、ムライトの結晶子径は25nmであ
った。
第1図は実施例−1で生成した粉末(ムライト:ZrO2=
90%:10%)のX線回折図形、第2図は実施例−2で生
成した粉末(ムライト:ZrO2=70%:30%)のX線回折
図形である。
90%:10%)のX線回折図形、第2図は実施例−2で生
成した粉末(ムライト:ZrO2=70%:30%)のX線回折
図形である。
Claims (1)
- 【請求項1】ベーマイトゾルと非晶質シリカ分散水溶液
のAl2O3/SiO2のモル比が1.5以上のムライト質ゾルに、
ジルコニアゾルをZrO2換算で30体積%以下加え、この混
合ゾルをpH値が2以下になるまで濃縮して生成したゲル
を乾燥、粉砕、加熱することを特徴とするジルコニア均
一分散ムライト質微粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61040474A JPH075291B2 (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | ジルコニア均一分散ムライト質微粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61040474A JPH075291B2 (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | ジルコニア均一分散ムライト質微粉末の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62202813A JPS62202813A (ja) | 1987-09-07 |
| JPH075291B2 true JPH075291B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=12581619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61040474A Expired - Lifetime JPH075291B2 (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | ジルコニア均一分散ムライト質微粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH075291B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1004293A3 (fr) * | 1989-07-20 | 1992-10-27 | Solvay | Procede de fabrication d'un composite d'oxydes metalliques, poudres composites d'oxydes metalliques et materiaux ceramiques. |
| JPH0497942A (ja) * | 1990-08-17 | 1992-03-30 | Chichibu Cement Co Ltd | ムライト・ジルコニア複合セラミックスの製造方法 |
| GB9105983D0 (en) * | 1991-03-21 | 1991-05-08 | Atomic Energy Authority Uk | Interlayered clay-based materials |
| JP4025455B2 (ja) * | 1999-03-31 | 2007-12-19 | 京セラ株式会社 | 複合酸化物セラミックス |
| US8758671B2 (en) * | 2012-04-30 | 2014-06-24 | Corning Incorporated | Control of clay crystallite size for thermal expansion management |
| CN120484628A (zh) * | 2025-06-13 | 2025-08-15 | 宁波派特勒新材料股份有限公司 | 一种实用于电泳基材上面高附着力高硬度的粉末涂料 |
-
1986
- 1986-02-27 JP JP61040474A patent/JPH075291B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62202813A (ja) | 1987-09-07 |
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