JPH0740522Y2 - 真空成膜装置のビューイングポート - Google Patents
真空成膜装置のビューイングポートInfo
- Publication number
- JPH0740522Y2 JPH0740522Y2 JP1990061900U JP6190090U JPH0740522Y2 JP H0740522 Y2 JPH0740522 Y2 JP H0740522Y2 JP 1990061900 U JP1990061900 U JP 1990061900U JP 6190090 U JP6190090 U JP 6190090U JP H0740522 Y2 JPH0740522 Y2 JP H0740522Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- viewing port
- vacuum
- chamber
- shutter plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【産業上の利用分野】 この考案は、MBE装置、MOCVD装置、CVD装置、スパッタ
リング装置、真空蒸着装置など真空成膜装置のビューイ
ングポートの改良に関する。
リング装置、真空蒸着装置など真空成膜装置のビューイ
ングポートの改良に関する。
真空成膜装置は多くの場合ステンレス、Al製など金属製
の真空容器を用いる。この中に基板を支持する機構、薄
膜材料を収容するるつぼ、これを加熱するためのヒータ
などを備えている。真空容器の内部を見るためにビュー
イングポートが設けられる。これは真空容器の外壁に一
部を隆起させて穴を穿ち厚いガラス窓を設けた構造にな
っている。 薄膜成長する際に薄膜材料が周囲に飛散する。一部がビ
ューイングポートの方にも飛んでガラス窓に付着する。
そうするとビューイングポートが次第に汚れてくる。内
部が見えなくなるといけないので、ビューイングポート
の内側のガラスを掃除しなければならない。 ビューイングポートの部分が開閉できるようになってい
る場合はこれを開いて内側のガラスを布で拭くことがで
きる。 ビューイングポートが真空容器に対して独立しておらず
開閉できない場合は、真空容器を上方へ引き上げた状態
に保ち、手を差し入れてビューイングポートのガラスの
内面を拭く。 ビューイングポートの汚れを防ぐためビューイングポー
トと蒸発源（薄膜材料を加熱、スパッタなどにより気体
にする部分）の間にシャッタを設置したものもある。
の真空容器を用いる。この中に基板を支持する機構、薄
膜材料を収容するるつぼ、これを加熱するためのヒータ
などを備えている。真空容器の内部を見るためにビュー
イングポートが設けられる。これは真空容器の外壁に一
部を隆起させて穴を穿ち厚いガラス窓を設けた構造にな
っている。 薄膜成長する際に薄膜材料が周囲に飛散する。一部がビ
ューイングポートの方にも飛んでガラス窓に付着する。
そうするとビューイングポートが次第に汚れてくる。内
部が見えなくなるといけないので、ビューイングポート
の内側のガラスを掃除しなければならない。 ビューイングポートの部分が開閉できるようになってい
る場合はこれを開いて内側のガラスを布で拭くことがで
きる。 ビューイングポートが真空容器に対して独立しておらず
開閉できない場合は、真空容器を上方へ引き上げた状態
に保ち、手を差し入れてビューイングポートのガラスの
内面を拭く。 ビューイングポートの汚れを防ぐためビューイングポー
トと蒸発源（薄膜材料を加熱、スパッタなどにより気体
にする部分）の間にシャッタを設置したものもある。
ビューイングポートは薄膜成長を繰り返すと汚れるので
たびたび清掃しなければならない。 清掃するための時間は薄膜形成に利用できないのである
から、ビューイングポート清掃をすると薄膜形成の能率
を下げる。 真空容器を長く大気に接触させるので、水分、酸素、炭
酸ガスなど空気中のガスが容器内部に吸着される。この
ため次に容器を真空に引くとき真空度の高まりが悪いと
いう難点がある。またガス中の不純物が薄膜成長に悪影
響を及ぼす。 ビューイングポートの前にシャッタを設けたものもある
が、蒸発源から出た材料は気体状であるのでシャッタの
両側を通って回り込みビューイングポートに達する。シ
ャッタがあってもビューイングポートの汚れを完全に防
ぐ事はできない。 蒸発材料の回り込みを完全に遮断しガラス内壁が汚れな
いようにしたシャッタ付きのビューイングポートを提供
することが本考案の目的である。
たびたび清掃しなければならない。 清掃するための時間は薄膜形成に利用できないのである
から、ビューイングポート清掃をすると薄膜形成の能率
を下げる。 真空容器を長く大気に接触させるので、水分、酸素、炭
酸ガスなど空気中のガスが容器内部に吸着される。この
ため次に容器を真空に引くとき真空度の高まりが悪いと
いう難点がある。またガス中の不純物が薄膜成長に悪影
響を及ぼす。 ビューイングポートの前にシャッタを設けたものもある
が、蒸発源から出た材料は気体状であるのでシャッタの
両側を通って回り込みビューイングポートに達する。シ
ャッタがあってもビューイングポートの汚れを完全に防
ぐ事はできない。 蒸発材料の回り込みを完全に遮断しガラス内壁が汚れな
いようにしたシャッタ付きのビューイングポートを提供
することが本考案の目的である。
本考案の真空成膜装置のビューイングポートは、真空成
膜装置のビューイングポートに通じる連絡管部と、ビュ
ーイングポートの間にシャッタ室を新たに設ける。シャ
ッタ室は前後に開口を有する平板状の空間を形成してい
る。前開口が真空成膜装置の真空容器の連絡管部に、後
開口がビューイングポートに連絡するようにシャッタ
室、ビューイングポートが取り付けられる。 シャッタ室の内部には真空容器側にＯリングを有するシ
ャッタ板がある。これは一端点をシャッタ軸によって支
持される。シャッタ軸は回転進退可能である。外部から
シャッタ軸を回転進退させるための運動導入機があり、
これを操作することによりシャッタ板がシャッタ室の前
開口を閉じる位置と、前開口を開く位置とに移動させる
事ができる。
膜装置のビューイングポートに通じる連絡管部と、ビュ
ーイングポートの間にシャッタ室を新たに設ける。シャ
ッタ室は前後に開口を有する平板状の空間を形成してい
る。前開口が真空成膜装置の真空容器の連絡管部に、後
開口がビューイングポートに連絡するようにシャッタ
室、ビューイングポートが取り付けられる。 シャッタ室の内部には真空容器側にＯリングを有するシ
ャッタ板がある。これは一端点をシャッタ軸によって支
持される。シャッタ軸は回転進退可能である。外部から
シャッタ軸を回転進退させるための運動導入機があり、
これを操作することによりシャッタ板がシャッタ室の前
開口を閉じる位置と、前開口を開く位置とに移動させる
事ができる。
真空容器の内部をビューイングポートから観察する必要
があるのは、成膜工程の前、成膜中、成膜後など多様な
場合があろう。しかし、本考案では成膜中はビューイン
グポートから内部をのぞくことができない。 成膜中はシャッタ室のシャッタ板で前開口を閉ざす。シ
ャッタ板の面にはＯリングがあり、これがシャッタ室前
開口の壁面に押し付けられるのでシャッタ板によりシャ
ッタ室内と真空容器とが完全に分離される。成膜中であ
るから原料の蒸気が真空容器内に充満しているが、シャ
ッタ室は気密封止されているので、原料蒸気がシャッタ
室へ全く入らない。これより後方のビューイングポート
のガラス窓は全く汚れない。 成膜の前、成膜の後はシャッタ板を開いて内部を観察す
ることができる。成膜前に於いては、ビューイングポー
トを通して光を当て、基板がサセプタ上の正しい位置に
あるかどうか確認できる。スパッタリング装置、プラズ
マCVD装置の場合はArガスを通した段階でプラズマが発
生しているかどうか確認することができる。成膜の前後
では原料の蒸気が真空容器中に存在しないからシャッタ
板を開いていてもビューイングポートガラス板に原料蒸
気が付着するということがない。
があるのは、成膜工程の前、成膜中、成膜後など多様な
場合があろう。しかし、本考案では成膜中はビューイン
グポートから内部をのぞくことができない。 成膜中はシャッタ室のシャッタ板で前開口を閉ざす。シ
ャッタ板の面にはＯリングがあり、これがシャッタ室前
開口の壁面に押し付けられるのでシャッタ板によりシャ
ッタ室内と真空容器とが完全に分離される。成膜中であ
るから原料の蒸気が真空容器内に充満しているが、シャ
ッタ室は気密封止されているので、原料蒸気がシャッタ
室へ全く入らない。これより後方のビューイングポート
のガラス窓は全く汚れない。 成膜の前、成膜の後はシャッタ板を開いて内部を観察す
ることができる。成膜前に於いては、ビューイングポー
トを通して光を当て、基板がサセプタ上の正しい位置に
あるかどうか確認できる。スパッタリング装置、プラズ
マCVD装置の場合はArガスを通した段階でプラズマが発
生しているかどうか確認することができる。成膜の前後
では原料の蒸気が真空容器中に存在しないからシャッタ
板を開いていてもビューイングポートガラス板に原料蒸
気が付着するということがない。
第１図は本考案の実施例に係る真空成膜装置のビューイ
ングポートの横断面を示す。第２図、第３図は第１図中
の縦断正面図であり、第１図中のＸ−Ｘ断面を示す。 真空成膜装置の真空容器１には、基板を保持するための
サセプタ、基板ホルダなどと、原料物質を保持するため
のるつぼや電極、ヒータなどが設けられるが、これらは
図示しない。真空成膜装置は真空容器１の内部を真空に
引く真空排気装置、ヒータなどに給電するための電源、
測定器、制御装置などを含むがここでは図示を略す。 真空容器１の外壁の一部に連絡管部２がありその端面に
取付フランジ３が形成されている。連絡管部の直径より
大きい内径をもつシャッタ室４が取付フランジ３に固着
される。シャッタ室４は平板状の空間を内部に有し前後
に開口を持つ。 シャッタ室４の中にはシャッタ板５が設けられる。シャ
ッタ板５の真空容器に近い方の面には円溝がありＯリン
グ６がここに嵌込んである。 シャッタ板５は一端をシャッタ軸７によって片もち支持
されている。シャッタ軸７はシャッタ室４の中心面に対
して直角に設けられ回転進退が可能なようになってい
る。シャッタ軸７には外部から操作できるシャッタ板運
動導入機８が取付られる。外部のつまみ９を回すことに
よってシャッタ軸７、シャッタ板５を回転させる事がで
きる。シャッタ板運動導入機８はシャッタ室４の真空を
保ちながら、回転運動をシャッタ室４内部のシャッタ軸
へ伝えることができる。回転進退の運動導入機の構造は
公知である。 ビューイングポートは、枠体であるビューイングポート
フランジ10と窓ガラス11とよりなる。窓ガラス11はこの
例のように外側に彎曲したものでも良いし、扁平なもの
であっても良い。 シャッタ室４は前開口14を囲む前フランジ12と後開口15
を囲む後フランジ13とを有する。前フランジ12が真空容
器１の取付フランジ３に固着される。後フランジ13にビ
ューイングポートフランジ10が固着される。これらフラ
ンジ間にはガスケット、Ｏリングなどシール材を介して
いる。フランジ間固定はボルト、ナットによってなされ
る。簡単のため、シール材や締結具は図示しない。 以上の構成においてその作用を説明する。このシャッタ
板は開閉することができる。 第２図は閉状態、第３図は開状態を示す。開閉状態の間
をシャッタ板が移動できるが、これは回転運動だけでな
く軸方向への進退運動も含まれる。 第３図に示すように開位置イにおいてシャッタ板５は、
シャッタ室の前開口14から離れている。それだけでなく
軸方向にも後退している。この場合、ビューイングポー
トの窓ガラス11から真空容器１の内部を覗くことができ
る。 シャッタ板を閉じるためには外部からつまみ９を左に回
し、アの位置へシャッタ板を回転させ、さらに軸方向に
シャッタ板を移動させＯリング６がシャッタ室の壁面に
接触するようにする。これが閉状態アである。 真空排気装置（図示せず）によって真空容器１の内部が
真空に引かれているから、シャッタ板５も吸引されて、
Ｏリングが壁面に密着する。この閉状態で真空容器内で
薄膜成長がなされる。原料物質の蒸気が真空容器内に充
満するが、シャッタ板５がシャッタ室４を気密に保って
いるから、蒸気はビューイングポートの窓ガラス11に到
達しない。このため窓ガラスが汚れない。 成膜工程が終了すると、シャッタ板運動導入機８を操作
して、シャッタ板５を少し後退させてから左へ回転させ
る。すると第３図の開状態に戻る。
ングポートの横断面を示す。第２図、第３図は第１図中
の縦断正面図であり、第１図中のＸ−Ｘ断面を示す。 真空成膜装置の真空容器１には、基板を保持するための
サセプタ、基板ホルダなどと、原料物質を保持するため
のるつぼや電極、ヒータなどが設けられるが、これらは
図示しない。真空成膜装置は真空容器１の内部を真空に
引く真空排気装置、ヒータなどに給電するための電源、
測定器、制御装置などを含むがここでは図示を略す。 真空容器１の外壁の一部に連絡管部２がありその端面に
取付フランジ３が形成されている。連絡管部の直径より
大きい内径をもつシャッタ室４が取付フランジ３に固着
される。シャッタ室４は平板状の空間を内部に有し前後
に開口を持つ。 シャッタ室４の中にはシャッタ板５が設けられる。シャ
ッタ板５の真空容器に近い方の面には円溝がありＯリン
グ６がここに嵌込んである。 シャッタ板５は一端をシャッタ軸７によって片もち支持
されている。シャッタ軸７はシャッタ室４の中心面に対
して直角に設けられ回転進退が可能なようになってい
る。シャッタ軸７には外部から操作できるシャッタ板運
動導入機８が取付られる。外部のつまみ９を回すことに
よってシャッタ軸７、シャッタ板５を回転させる事がで
きる。シャッタ板運動導入機８はシャッタ室４の真空を
保ちながら、回転運動をシャッタ室４内部のシャッタ軸
へ伝えることができる。回転進退の運動導入機の構造は
公知である。 ビューイングポートは、枠体であるビューイングポート
フランジ10と窓ガラス11とよりなる。窓ガラス11はこの
例のように外側に彎曲したものでも良いし、扁平なもの
であっても良い。 シャッタ室４は前開口14を囲む前フランジ12と後開口15
を囲む後フランジ13とを有する。前フランジ12が真空容
器１の取付フランジ３に固着される。後フランジ13にビ
ューイングポートフランジ10が固着される。これらフラ
ンジ間にはガスケット、Ｏリングなどシール材を介して
いる。フランジ間固定はボルト、ナットによってなされ
る。簡単のため、シール材や締結具は図示しない。 以上の構成においてその作用を説明する。このシャッタ
板は開閉することができる。 第２図は閉状態、第３図は開状態を示す。開閉状態の間
をシャッタ板が移動できるが、これは回転運動だけでな
く軸方向への進退運動も含まれる。 第３図に示すように開位置イにおいてシャッタ板５は、
シャッタ室の前開口14から離れている。それだけでなく
軸方向にも後退している。この場合、ビューイングポー
トの窓ガラス11から真空容器１の内部を覗くことができ
る。 シャッタ板を閉じるためには外部からつまみ９を左に回
し、アの位置へシャッタ板を回転させ、さらに軸方向に
シャッタ板を移動させＯリング６がシャッタ室の壁面に
接触するようにする。これが閉状態アである。 真空排気装置（図示せず）によって真空容器１の内部が
真空に引かれているから、シャッタ板５も吸引されて、
Ｏリングが壁面に密着する。この閉状態で真空容器内で
薄膜成長がなされる。原料物質の蒸気が真空容器内に充
満するが、シャッタ板５がシャッタ室４を気密に保って
いるから、蒸気はビューイングポートの窓ガラス11に到
達しない。このため窓ガラスが汚れない。 成膜工程が終了すると、シャッタ板運動導入機８を操作
して、シャッタ板５を少し後退させてから左へ回転させ
る。すると第３図の開状態に戻る。
真空成膜装置のビューイングポートの曇りは、連続して
多数の基板上に薄膜を形成してゆく量産装置などでは大
きな問題になる。現在はビューイングポートを取り外し
て洗浄するなど手間を掛けている。これは真空容器の内
部を大気にさらす事になり、能率、生産性を下げる原因
になっている。 しかし成膜前の内部の機器動作を目視で確認することは
重要なことである。ビューイングポートをなくすわけに
はいかない。 本考案はシャッタ板をビューイングポートのガラス窓の
前に設け、シャッタ板によってビューイングポートのガ
ラス窓を遮蔽するようにしている。Ｏリングで気密封止
しているから、原料ガスの回り込みがない。このためビ
ューイングポートに原料物質が付着しない。ビューイン
グポートは常に清浄な状態に保たれる。ビューイングポ
ートが汚れないので清掃の手間がかからない。量産装置
に於いては、作業が中断されることなく、連続的に薄膜
成長を繰り返す事ができるので生産性を高揚する。
多数の基板上に薄膜を形成してゆく量産装置などでは大
きな問題になる。現在はビューイングポートを取り外し
て洗浄するなど手間を掛けている。これは真空容器の内
部を大気にさらす事になり、能率、生産性を下げる原因
になっている。 しかし成膜前の内部の機器動作を目視で確認することは
重要なことである。ビューイングポートをなくすわけに
はいかない。 本考案はシャッタ板をビューイングポートのガラス窓の
前に設け、シャッタ板によってビューイングポートのガ
ラス窓を遮蔽するようにしている。Ｏリングで気密封止
しているから、原料ガスの回り込みがない。このためビ
ューイングポートに原料物質が付着しない。ビューイン
グポートは常に清浄な状態に保たれる。ビューイングポ
ートが汚れないので清掃の手間がかからない。量産装置
に於いては、作業が中断されることなく、連続的に薄膜
成長を繰り返す事ができるので生産性を高揚する。
第１図は本考案の実施例に係る真空成膜装置ビューイン
グポート近傍の断面図。 第２図は第１図中のＸ−Ｘ断面図であってシャッタが閉
じられた状態を示す図。 第３図は第１図中のＸ−Ｘ断面図であってシャッタが開
かれた状態を示す図。 １……真空容器 ２……連絡管部 ３……取付フランジ ４……シャッタ室 ５……シャッタ板 ６……Ｏリング ７……シャッタ軸 ８……シャッタ板運動導入機 ９……つまみ 10……ビューイングポートフランジ 11……窓ガラス 12……前フランジ 13……後フランジ
グポート近傍の断面図。 第２図は第１図中のＸ−Ｘ断面図であってシャッタが閉
じられた状態を示す図。 第３図は第１図中のＸ−Ｘ断面図であってシャッタが開
かれた状態を示す図。 １……真空容器 ２……連絡管部 ３……取付フランジ ４……シャッタ室 ５……シャッタ板 ６……Ｏリング ７……シャッタ軸 ８……シャッタ板運動導入機 ９……つまみ 10……ビューイングポートフランジ 11……窓ガラス 12……前フランジ 13……後フランジ
Claims (1)
- 【請求項１】前後に開口を有する平板状の空間を形成し
ており真空成膜装置の真空容器のビューイングポートに
通じる連絡管部先端に前開口が連絡するように取り付け
られるシャッタ室と、シャッタ室の後開口に連絡するよ
う取り付けられるビューイングポートと、シャッタ室の
内部に設けられ真空容器側の面にＯリングを有するシャ
ッタ板と、シャッタ板の一端点を支持するシャッタ軸
と、外部からシャッタ軸を回転進退運動操作するための
運動導入機とよりなり、運動導入機を操作することによ
りシャッタ板がシャッタ室の前開口を閉じる位置と前開
口を開く位置とに移動させることができるようにした事
を特徴とする真空成膜装置のビューイングポート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990061900U JPH0740522Y2 (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | 真空成膜装置のビューイングポート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990061900U JPH0740522Y2 (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | 真空成膜装置のビューイングポート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0421557U JPH0421557U (ja) | 1992-02-24 |
| JPH0740522Y2 true JPH0740522Y2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=31590566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990061900U Expired - Fee Related JPH0740522Y2 (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | 真空成膜装置のビューイングポート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740522Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10244144A (ja) * | 1997-03-04 | 1998-09-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 圧力隔壁 |
| JP6447033B2 (ja) * | 2014-11-12 | 2019-01-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 内部観察用サイトグラスの曇り防止装置、撹拌処理システム及び内部観察用サイトグラスの曇り防止方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03197673A (ja) * | 1989-12-26 | 1991-08-29 | Nec Corp | 半導体装置の製造装置 |
-
1990
- 1990-06-12 JP JP1990061900U patent/JPH0740522Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0421557U (ja) | 1992-02-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |