JPH0740457A

JPH0740457A - コーティング物品

Info

Publication number: JPH0740457A
Application number: JP5190351A
Authority: JP
Inventors: Tadayoshi Matsunaga; 忠與松永; Shunji Kono; 俊司河野
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1993-07-30
Filing date: 1993-07-30
Publication date: 1995-02-10

Abstract

(57)【要約】【目的】長期にわたって防汚性を維持し、反射防止特性
などの光学特性の優れたコーティング物品を提供する。【構成】下記一般式（１）【化１】（ここでＸは【化２】であり、Ｒ₁はＨ、ＣＨ₃およびＦから選ばれ、ａは２
から４までの整数、ｂは３から１４までの整数、ｃは１
または０、ｄ＝２−ｃである。Ｒ₂はメチル基，エチル
基，フルオロアルキル基およびＸから選ばれる。）で示
されるシロキサン単位を有する、ポリシロキサンを主成
分としてなるコーティング組成物を１ｎｍ以上２０ｎｍ
以下の厚みで被覆したことを特徴とするコーティング物
品。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、耐擦傷性、反射防止性
あるいは耐加工性を有し、表面に高耐久性の汚れ付着防
止処理を施したコーティング物品に関する。特に、プラ
スチックレンズ、オプチカルフィルター、プラスチック
ミラーあるいはプラスチックハーフミラーなどに利用さ
れる。

【０００２】

【従来の技術】表層が主として二酸化硅素あるいはフッ
化マグネシウムからなる無機系の膜の表面は、高エネル
ギー表面であり、汚れの成分である種々の化合物が付着
しやすい。また、一旦付着した汚れが除きにくいという
欠点も有している。真空蒸着あるいはスパッタリングで
ＳｉＯｘあるいはＭｇＦｘを膜付けしたものは、一般に
数ｎｍから十数ｎｍの範囲で、凹凸あるいはポーラスで
あり、このことが汚れの除きにくさの原因にもなってい
る。指紋などの汚れは、反射防止された物品の上では反
射干渉色が変化するため透明基板に比較し一層目立ち易
く、汚れの付着しにくい表面が嘱望されている。

【０００３】そこで、表面に撥水・撥油性の塗膜を形成
させる方法で改善する試みがなされている。例えば、特
公平２−３６９２１号公報では、末端シラノールの有機
ポリシロキサンを被覆した光学物品が、また、特公平４
−６１３２５号公報では、有機シラン化合物で基材表面
を処理する方法が知られている。特開平５−２５３０４
号公報には表面に水酸基を有する被処理体にパーフルオ
ロアルキル基を有するシラン系化合物を気相で反応させ
る方法が開示されている。撥水・撥油性の効果を高めた
組成物として、特開平２−８２８５号公報では長鎖のフ
ルオロアルキル基を有する（メタ）アクリレートとシリ
コン含有の重合性不飽和単量体の共重合体に平均粒子径
が５μｍ以下の粒状物を含有せしめた塗料組成物、ある
いは特開平４−３１４７７１号公報では長鎖のパーフル
オロオロアルキル基またはパーフルオロアルキルエーテ
ル基を有する有機シラザン共重合体からなる被膜形成組
成物が知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】フッ素系の有機化合物
は一般に低エネルギー表面を形成するが、反射防止物品
上に低エネルギー被膜を形成させる場合は光学的特性を
変化させない膜厚で被覆し、耐擦傷性、表面硬度および
耐久性を満足させる必要がある。このような条件を満足
させるべく鋭意検討を行った結果、本願発明に到達し
た。

【０００５】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、プラ
スチック基材上に、下記一般式（１）

【化３】（ここでＸは

【化４】であり、Ｒ₁はＨ、ＣＨ₃およびＦから選ばれ、ａは２
から４までの整数、ｂは３から１４までの整数、ｃは１
または０、ｄ＝２−ｃである。Ｒ₂はメチル基，エチル
基，フルオロアルキル基およびＸから選ばれる。）で示
されるシロキサン単位を有する、ポリシロキサンを主成
分としてなるコーティング組成物を１ｎｍ以上２０ｎｍ
以下の厚みで被覆したことを特徴とするコーティング物
品に関する。

【０００６】一般式（１）で表される、フルオロアルキ
ルアシル基含有のポリシロキサンのエステル残基のメチ
レンの個数（ａ）は、エステルの化学安定性の点から２
以上が必要である。５以上になると、被覆表面を斜めか
ら見た場合に白濁がかかり使用できない。パーフルオロ
メチレンの個数（ｂ）は３から１４個であることが必要
である。２以下では、撥水・撥油効果は充分ではない。
１５以上では、溶剤への溶解性が極端に低下し、実用的
な溶剤が得られないことおよび被覆表面を斜めから見た
場合に白濁がかかることから使用できない。

【０００７】一般式（１）で表される化合物は、パーフ
ルオロ（メタ）アクリレートあるいはパーフルオロ−α
−フルオロアクリレートとＳｉＨ基の付加反応により合
成することができる。

【０００８】具体的なパーフルオロ（メタ）アクリレー
トあるいはパーフルオロ−α−フルオロアクリレートと
して、次のものが例示される。２−（パーフルオロブチ
ル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ
ペンチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフ
ルオロペンチル）プロピル（メタ）アクリレート、２−
（パーフルオロペンチル）ブチル（メタ）アクリレー
ト、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）クリ
レート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）
アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）ブチル
（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エ
チル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−５−
メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−
（パ−フルオロ−７−メチルオクチル）エチル（メタ）
アクリレート、２−（パ−フルオロ−９−メチルデシ
ル）エチル（メタ）アクリレートおよびそれらのα−フ
ルオロアクリレート体などである。

【０００９】シラン化合物としてはジクロロアルキルシ
ラン、ジアルコキシアルキルシランあるいはジクロロシ
ラン、ジアルコキシシランなどが使用でき、ハイドロシ
レーションによって、単量体を合成し、続いて、公知の
方法でポリシロキサンに重合せしめることによってポリ
シロキサンを得ることができる。

【００１０】あるいは、ＳｉＨ基を含むポリオルガノシ
ロキサンに触媒の存在下で前記のアクリレート類を付加
させてもよい。

【００１１】一般式（１）の化合物以外に、Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）_nＲ´_3-n（ここでＲはメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基またはブチル基、Ｒ' はメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチ
ル基基、ｎは１、２、または３である）基を有するシロ
キサン単位を含んでもよい。具体的にはビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシシラン、ビニルジメ
トキシメチルシラン、ビニルメトキシジメチルシラン、
γ−（メタ）アクリロイルプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−（メタ）アクリロイルプロピルジメトキシメチ
ルシランなどのシリコン含有単量体とヒドロシラン化合
物との付加反応で得られる化合物を、前記のパーフルオ
ロ基含有のシラン化合物と共重合することによって得る
ことができる。このシリコン含有単量体は０．５モル％
以上１０モル％以下で共重合されているのが好ましい。

【００１２】フルオロアルキルポリシロキサンの膜厚み
は１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が必要である。１ｎｍ未満で
は無機薄膜がポーラスあるいは凹凸のある表面を有して
いるため、均一に被覆することは困難である。またヒー
トサイクル等の熱刺激により、機能の劣化が生じやすく
なり使用することはできない。好ましくは２ｎｍ以上で
ある。２０ｎｍを越えると、基板に施した光学機能を著
しく損なうため使用することはできない。さらに、２０
ｎｍ以上の膜厚では、被覆層に擦過きずが認められるた
め使用することはできない。好ましくは１０ｎｍ以下で
ある。

【００１３】次に、塗布方法としてはスピンコート、デ
ィップコート、カーテンフローコート法を使用すること
ができる。さらに、印刷法によっても塗布可能である。
塗布後は、常温および加熱乾燥をおこない、また必要に
応じて、シラノールの脱水縮合触媒、あるいは縮合助剤
を使用することができる。例えば、アルミニウムアセチ
ルアセトナート、オクチル酸スズ化合物、有機カルボン
酸アルカリ塩類があげられる。

【００１４】被膜の塗布状態は、接触角、反射干渉色に
よる間接的測定の他に、透過型電子顕微鏡による断面の
観察や、Ｘ線電子分光法（ＥＳＣＡ，ＸＰＳ）で表面の
元素分析を行うことにより確認できる。Ｘ線電子分光法
では、表面近傍を構成する原子の種類、濃度および結合
状態を分析することができる。Ｘ線を試料表面にあてる
角度により、１０ｎｍまでの深さの化学構造を知ること
ができる。有機物の場合は、９０度で約１０ｎｍの深さ
まで、６０度で約５ｎｍの深さまで分析できる。

【００１５】本発明においては、ガラス、プラスチック
などの基材を使用することができる。プラスチック基材
としては、有機高分子からなる光学部品であればとくに
限定されない。具体例としては、ポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレートおよびその共重合体、ジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート重合体およびその
共重合体、（臭素化）ビスフェノールＡのジ（メタ）ア
クリレートのウレタン変成モノマーの重合体およびその
共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリアリレー
ト、不飽和ポリエステル、ＡＢＳ樹脂、ポリ４−メチル
ペンテン−１、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニール、ポ
リスルホン、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリエーテルスルホン、ポリパラキシリレン、ポリ
メチルメタクリレートのグルタールイミド化物、Ｎ置換
のマレイミド類を共重合体成分とする重合体、ポリウレ
タンおよびエポキシ樹脂などが例示される。これらの表
面にハードコートの被膜を設けたものを基板として用い
ることもできる。これら基板の上に、真空蒸着法、イ
オンプレーティング法あるいはスパッタリング法などの
ケミカルベーパーデポジション（ＰＶＤ法）あるいは、
溶液コート法で多層膜を被覆することができる。

【００１６】十分な撥水、撥油性を示すために、静止接
触角は１０５度以上あることが好ましい。表面に凹凸を
付与することにより、接触角は高くすることができる。
例えば、二酸化硅素の表面に数ｎｍから数十ｎｍの範囲
で凹凸をつけることも可能である。また、コーティング
組成物中に数ｎｍから数十ｎｍの疎水性の微粒子を混合
することも可能であるが、数百ｎｍ以上の凹凸はつける
ことはできない。光の波長レベルの凹凸は、反射干渉色
やモワレ模様を発現させ、コーティング物品の機能を低
下させる傾向があるからである。

【００１７】コーティング物品の反射率は３％以下であ
ることが好ましい。反射率が３％を越えると、ＣＲＴフ
ィルターの場合には、画面がコーティング物品の表面反
射のために見えにくくなるからである。

【００１８】また、これらのコーティング膜は低屈折率
であり、基板の上に直接塗布しても高反射防止が可能で
ある。またこのコーティング膜と二酸化硅素あるいはフ
ッ化マグネシウムの無機薄膜と組み合わせ、光学膜厚み
を設計すれば高機能の光学特性を基材に付与することが
可能である。

【００１９】本発明の防汚コーティング剤は、高い防汚
性を示すことから、光学物品に好適に用いることができ
る。その他にも、インクジェットプリンターのインキツ
ボ内面へのコートに使用するとインキの付着が防止でき
る。印刷用の平版材のインキ撥油層に使用すると、高精
細な印刷ができる。また、各種ロールの表面にコーテす
ると、摩擦抵抗の減少にも効果を有する。さらに、本発
明によるポリシロキサンは、末端を種々に化学修飾する
こともでき、Ｃｌ、−ＯＨ以外にも、二重結合、アルコ
キシ基、アシロキシ基を導入し、加熱などの方法で、不
溶不融の膜とすることも可能である。

【００２０】

【実施例】次に、本発明を実施例を用いてより詳細に説
明する。実施例中、「部」は、「重量部」を示す。

【００２１】実施例１（１）プラスチック基板シリカゾル（１３５部）、γ−グリシドキシプロピルメ
チルジメトキシシラン１２９部）の加水分解物、γ−ク
ロロプロピルトリメトキシシラン（７０部）のの加水分
解物を主としてなるエタノール溶液をポリメチルメタク
リレートのキャスト成型板（２ｍｍ厚）の両面に塗布硬
化したものを用いた。

【００２２】（２）光学薄膜前記コーティング基板に無機物質のＺｒＯ₂／ＴｉＯ₂
／Ｙ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、ＳｉＯ₂を真空蒸着法でこの
順序にそれぞれλ／４（λ＝５４０ｎｍ）の膜厚に設定
し、（１）の基板の両面に多層被覆した。全光線透過率
は９８．１８％であり、反射率は５４０ｎｍで０．２２
％であった。

【００２３】（３）コーティング用ポリシロキサンの合
成下記混合物をジクロロメチルシラン（５２モル％）１１．５ｇ、ジエ
チルエーテル５０ｇ、塩化白金酸５０ｍｇを、３００Ｃ
Ｃのコンデンサー付きのフラスコに入れ、ジエチルエー
テルが還流するように穏やかに加熱攪拌しながら２−
（パーフルオロオクチル）エチルメタアクリレート（４
８モル％）５０ｇを１時間かけて滴下した。そのまま４
時間緩やかに加熱を続け反応を終えた。

【００２４】続いて、メチルイソブチルケトンを５０ｇ
加え、大量の水を瞬時に加えた。白色の餅状のポリマが
水／メチルイソブチルケトンの界面に生成した。次に、
油層を分離し、エバポレーターで沸騰水浴温度で濃縮し
油状の濃縮物を得た。この濃縮物と、先に得られた餅状
のポリマとを合わせ、トリクロロトリフルオロエタンに
溶解し、大量のメタノールに投入後、得られたポリマー
をろ集した。乾燥後は柔軟なフレーク状の固体となり、
収率は６３％であった。

【００２５】（４）コーティング液の調整（３）で得られたポリマーをパーフルオロ（２−ブチル
テトラヒドロフラン）に０．４重量％となるように溶解
し、１／１００部のトリクロロメチルシランを加え、コ
ーティング液とした。

【００２６】（５）コーティング（２）で得た反射防止処理板に、（４）で得たコーティ
ング液を２０ｃｍ／ｍｉｎの速度でディップコートし
た。室温で３０分乾燥後７０℃のオーブン中で１時間キ
ュアし、光学物品を得た。

【００２７】（６）特性評価（反射スペクトルの測定）光学物品の片面をサンドペー
パーでこすり、艶消しのための黒色塗料を塗布したのち
片面の反射スペクトルを測定した。５４０ｎｍで０．４
５％と優れた反射特性が得られた。

【００２８】（静止接触角）水およびｎ−ヘキサデカン
の液滴を光学物品表面に乗せ、液滴と表面の接触角（静
止接触角）を測定した。水で１２１度、ヘキサデカンで
７８度の接触角を示した。

【００２９】（被膜の元素分析）Ｘ線光電子分光法で元
素分析を行った。ＭｇｋαをＸ線源に用い、出力は１０
ｋｖ（２０ｍＡ）であった。光電子の検出角度としては
９０度、および６０度について行った。検出深さは検出
角度９０度で１０ｎｍ，６０度で５ｎｍである。検出角
度９０度の元素分析値でＣを１とした時の、Ｆ元素の比
は１．２１，Ｓｉの比は１．２０，酸素の比は２．５６
であり、検出角度６０度の元素分析値でＣを１とした時
の、Ｆ元素の比は１．２３，Ｓｉの比は０．１２、酸素
の比は０．３２であった。

【００３０】（膜厚み）光学物品の厚み方向の超薄切片
を作成し、透過型電子顕微鏡にて断面写真をとり、膜厚
みを求めた。反射防止膜上に、２．５ｎｍの均一な膜が
確認できた。

【００３１】（耐久性）光学物品表面を人工汗液を染み
込ませた布で５００ｇ荷重下で２００回擦った後に静止
接触角を測定した。水で１１３度、ヘキサデカンで７１
度を示し、優れた耐久性を示した。これらの結果を表１
に示す。

【００３２】比較例１実施例１で得たポリシロキサンの２．０重量％溶液を実
施例１と同様に、ディップコートした。膜厚みは２４ｎ
ｍであった。反射特性は５４０ｎｍで３．２％と大き
く、表面の反射干渉色は、紫色が青緑色に変化した。

【００３３】Ｘ線光電子分光法による、元素分析では９
０度の検出角度で、Ｃを１とした時の、Ｆ元素の比は
１．２１，Ｓｉの比は０．０６，酸素の比は０．２４で
あった。

【００３４】比較例２実施例１で得たポリシロキサンの０．０５％溶液を実施
例１と同様に、ディップコートした。断面の電子顕微鏡
写真では、微小範囲で膜のある部分と無い部分が認めら
れ、平均すると１ｎｍ以下であった。接触角は、水で７
６度、ｎ−ヘキサデカンで３８度であり、満足する特性
を示さなかった。

【００３５】実施例２ポリシロキサンの組成を次のように変更した。

【００３６】 γ−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシランとジクロロメチルシランの反応物 −−−Ａ 2-（パ−フルオロ−7-メチルオクチル）エチルメタクリレ−トとジクロロメチルシランの反応物 −−−Ｂを実施例１と同様にして合成した。

【００３７】続いて、Ａを２部、Ｂを９８部メチルイソ
ブチルケトンに溶解し、大量の氷水の中に投入した。生
成したポリマーをロ集するとともに、油層をエバポレー
ターで濃縮した。ポリマーと濃縮物をトリクロロトリフ
ルオロエタンに溶解し、メタノール中に投入し、底に分
離したオイル状物質を回収した。１昼夜室温で放置する
と、褐色のワックス状の物質が得られた。

【００３８】この物質をパーフルオロ（２−ブチルテト
ラヒドロフラン）に０．８重量％の濃度になるように溶
解し、コーティング液とした。

【００３９】このコート液を実施例１で得たプラスチッ
ク基板にコートし光学物品を得た。表１に示すとおり、
優れた特性を示した。

【００４０】表２にＸ線光電子分光法で求めた元素組成
比を示す。

【００４１】実施例３ポリシロキサンの組成を次のように変更した。

【００４２】ヘキスト社製ＭＡＥ−１０１４とジクロロ
メチルシランの反応物を実施例１と同様にしてポリシロ
キサンを合成した。

【００４３】ヘキスト社製ＭＡＥ−１０１４は、フルオ
ロアルキルメタクリレート混合物であり、フルオロアル
キルの炭素数が８から１４までのものが含まれていた。

【００４４】得られたポリシロキサンの０．３重量％溶
液を、実施例１と同様にディップコートし、光学物品を
得た。

【００４５】表１に示す通り優れた特性を示した。

【００４６】実施例４（１）プラスチック基板イソプロピルマレイミド２６．５ｇ，スチレン１８．５
ｇ，ジビニルベンゼン５．０ｇ，アゾビスイソブチロニ
トリル０．０５ｇを混合し、ガスケットを介して組み立
てたガラスセル中に密閉し、注型重合法により、厚さ
１．５ｍｍの板を作成した。この板のガラス転移温度は
１９０℃を示した。

【００４７】γーグリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン１６０ｇに０．０１規定の塩酸水溶液３６．６ｇを
１０℃に保ちつつ攪拌しながら徐々に滴下した。次にこ
の溶液にメタノール１０５．８ｇ，ジメチルホルムアミ
ド５２．９ｇ，シリコーン飼い面活性剤０．５を添加混
合し、さらにコロイド状五酸化アンチモンゾル（日産化
学社製、平均粒子径５０ｍμ）８３．３ｇ，アルミニウ
ムアセチルアセトネート５．０ｇを添加し、ハードコー
ト用のコーティング液とした。先に得られた基板を８０
℃の１０％ＮａＯＨ水溶液で３分処理した後、ハードコ
ート用のコーティング液をディップコートしプラスチッ
ク基板とした。

【００４８】（２）光学薄膜前記コーティング基板に無機物質のＹ₂０₃、Ｔｉ
Ｏ₂、ＭｇＦ₂をこの順序でそれぞれλ／４，λ／２、
λ／４（λ＝５２１ｎｍ）の膜厚みで真空蒸着し、光学
薄膜を作成した。

【００４９】反射率は５２１ｎｍで０．１３％を示し、
反射干渉色は紫色であった。

【００５０】（３）コーティング用ポリシロキサンの合
成実施例１と同様に行った。

【００５１】（４）コーティング液の調整（３）で得られたポリマーをパーフルオロ（２−ブチル
テトラヒドロフラン）に０．５重量％となるように溶解
し、１／１００部のトリクロロメチルシランを加えコ
ーティング液とした。

【００５２】（５）コーティング（２）で得た反射防止処理板に、（４）で得たコーティ
ング液を２０ｃｍ／ｍｉｎの速度でディップコートを行
った。室温で３０分乾燥後７０℃のオーブン中で１時間
キュアを行い光学物品を得た。

【００５３】結果を表１に示すが、優れた光学特性と防
汚性を示した。

【００５４】表２に表面の元素分析値を示した。

【００５５】比較例３ 2-（パ−フルオロ−プロピル) エチルメタクリレートと
ジクロロメチルシランの反応物からオイル状のポリマー
を得た。このポリマーの０．２重量％のメチルイソブチ
ルケトン溶液にトリメトキシメチルシランを１／５０部
添加し、１／１０規定塩酸を微量添加し１時間攪拌し、
コーティング液とした。

【００５６】実施例４と同様にプラスチック基板にディ
ップコートし光学物品を得た。

【００５７】表１に示す通り、防汚性が満足できるもの
ではなかった。

【００５８】

【表１】

【表２】

【００５９】

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば次の
効果が得られる。

【００６０】（１）反射防止効果などに優れた光学特性
を有するコーティング物品が得られる。

【００６１】（２）指紋、水垢などの汚れが付着しにく
く、かつ付着しても洗浄あるいは払拭することが容易で
ある。

【００６２】（３）防汚特性の耐久性に優れる。

【００６３】（４）実用上問題のない表面硬度を有し、
擦過きずができにくい。

【００６４】（５）極寒地においても、凍り、雪が付着
しない。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所 // Ｂ２９Ｋ 83:00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（１）【化１】（ここでＸは【化２】であり、Ｒ₁はＨ、ＣＨ₃およびＦから選ばれ、ａは２
から４までの整数、ｂは３から１４までの整数、ｃは１
または０、ｄ＝２−ｃである。Ｒ₂はメチル基，エチル
基，フルオロアルキル基およびＸから選ばれる。）で示
されるシロキサン単位を有する、ポリシロキサンを主成
分としてなるコーティング組成物を１ｎｍ以上２０ｎｍ
以下の厚みで被覆したことを特徴とするコーティング物
品。
【請求項２】該ポリシロキサンの少なくとも一つの末端
のＳｉが、クロル、アルコキシ、アシロキシ基およびＯ
Ｈ基から選ばれる１つを有していることを特徴とする請
求項１記載のコーティング物品。
【請求項３】該ポリシロキサンが、Ｓｉ（ＯＲ）_nＲ'
_3-n（ここでＲはメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基およびブチル基から選ばれる。Ｒ'はメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基およびブ
チル基から選ばれる。ｎは１、２または３である。）基
を有するシロキサン単位を０．５モル％以上、１０モル
％以下の割合で含むことを特徴とする請求項１または２
記載のコーティング物品。
【請求項４】コーティング物品の表面をＸ線光電子分光
法で測定し、表面からの光電子脱出角度が９０度のとき
の分析値が、炭素数を１としたときの原子数割合で、フ
ッ素原子が０．６５以上、２．５以下の範囲、酸素原子
が０．０１以上、８．５以下の範囲、硅素原子が０以
上、４．３以下の範囲になり、表面からの光電子脱出角
度が６０度のときの分析値で炭素数を１としたときの原
子数割合が、フッ素が０．６５以上、２．８以下の範
囲、酸素原子が０．０１以上、４．３以下の範囲、硅素
原子が０以上、２．２以下の範囲であることを特徴とす
る請求項１記載のコーティング物品。
【請求項５】表層膜が主として二酸化ケイ素あるいはフ
ッ化マグネシウムからなる単層または多層の反射防止膜
か設けられたプラスチック基材の表面に、該ポリシロキ
サンを主成分としてなるコーティング組成物を被覆した
ことを特徴とする請求項１記載のコーティング物品。
【請求項６】該コーティング物品が、オプチカルフィル
ターであることを特徴とする請求項１記載のコーティン
グ物品。