JPH072746A

JPH072746A - アシルアミノフェノールの製造方法

Info

Publication number: JPH072746A
Application number: JP6091831A
Authority: JP
Inventors: James A Foster; ジェームズ・エイ・フォスター; Werner H Mueller; ヴェルナー・ハー・ミュラー; Debra A Ryan; デブラ・エイ・ライアン; Hartmut Wiezer; ヘルトムート・ヴィーツァー
Original assignee: Hoechst Celanese Corp
Current assignee: CNA Holdings LLC
Priority date: 1993-04-30
Filing date: 1994-04-28
Publication date: 1995-01-06
Also published as: ES2131604T3; EP0622354B1; CN1108241A; US5648535A; CN1054370C; EP0622354A3; DE69418768D1; ATE180767T1; DE69418768T2; EP0622354A2

Abstract

(57)【要約】【目的】ニトロフェノールのアミノフェノールへの水
素添加およびアミノフェノールのアシル化を同時に反応
器内で行う、Ｎ−アシルアミノフェノールの改良製造方
法を提供する。【構成】ニトロフェノール、アシル酸無水物および水
素を連続撹拌タンク反応器へ連続的に加え、ニトロフェ
ノールのアミノフェノールへの水素添加およびアミノフ
ェノールのアシル化を同時に該反応器内で行ってＮ−ア
シルアミノフェノール生成物を形成し、該生成物を該反
応器から連続的に取り出すことよりなる、Ｎ−アシルア
ミノフェノールの改良された製造方法を特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ニトロフェノールを水
素添加してアミノフェノールへ転化し、そして同時に該
アミノフェノールをアシル化することによる、Ｎ−アシ
ルアミノフェノールの製造に関する。本発明は特に、ｐ
−ニトロフェノールを水素添加し、そして上記のように
形成されたｐ−アミノフェノールを同時にアセチル化す
ることによる、Ｎ−アセチル−ｐ−アミノフェノールの
一段階での生成および連続生成に用いられる。

【０００２】

【従来の技術】従来のＮ−アセチル−ｐ−アミノフェノ
ール（ＡＰＡＰ）の製造方法は、ｐ−ニトロフェノール
（ＰＮＰ）を還元してｐ−アミノフェノール（ＰＡＰ）
を製造し、その後これをアセチル化してＮ−アセチル−
ｐ−アミノフェノールを製造するものである。ｐ−アミ
ノフェノールを製造するためのｐ−ニトロフェノールの
還元では、触媒、例えば白金、パラジウム、ニッケル、
貴金属触媒、または白金、パラジウムもしくは貴金属触
媒の酸化物の存在下でｐ−ニトロフェノールを水素添加
する。気体状水素が還元剤として一般に用いられる。ア
セチル化剤は普通、無水酢酸である。反応媒質は酢酸、
水、水−イソプロパノール混合物またはその他の不活性
媒質であり得る。

【０００３】上記の一連の反応は米国特許第３，０７
６，０３０号明細書および第３，３４１，５８７号明細
書に記載されているように同時に行われてきた。これら
の同時反応に関する特許明細書に記載されいるプロセス
では、ｐ−ニトロフェノールおよび無水酢酸を反応の初
めに加え、そしてｐ−ニトロフェノールの水素添加を、
常に系のｐ−アミノフェノールの量よりも過剰量の無水
酢酸の存在下で行う。ＡＰＡＰの一段階合成法は、酸化
に対して不安定なｐ−アミノフェノールを単離および精
製する必要がない方法であるという点で都合がよい。

【０００４】上記の反応はまた段階的な方法でも行われ
ており、この場合にはｐ−ニトロフェノールの水素添加
はアセチル化工程の前に完了する。この段階的な反応法
は米国特許第４，２６４，５２５号明細書ではさらに細
分化されており、そこでは水素添加工程を中断し、アシ
ル化を行った後、少なくとも１つの水素添加工程がさら
に続き、このそれぞれの後に別のアシル化工程が続く。
この場合、いずれもｐＨは約７．０未満に保たれてい
る。米国特許第４，６７０，５８９号明細書では、少な
くとも５％のｐ−ニトロフェノールをまず水素添加して
ｐ−アミノフェノールに転化し、そしてｐ−アミノフェ
ノールをＮ−アシル−ｐ−アミノフェノールへアシル化
しながら、残りのｐ−ニトロフェノールを水素添加して
いる。この場合、８０％のｐ−ニトロフェノールを水素
添加する前は、無水酢酸をモル過剰で用いてはいない。

【０００５】上記の段階的な反応法はやっかいなもので
あり、そのような方法では、アシル化反応の開始前に適
当な割合の初期還元反応が確実に生じるようするための
微妙な調整を必要とするので、特に商業的規模で操業す
るのは難しい。一段階反応でも、そのような方法は回分
反応器で一般に行われるので、過度に効率的なものでは
なかった。都合の悪いことには、ニトロ基の還元、特に
芳香族化合物のニトロ基の還元では、ニトロソ、ヒドラ
ゾ、アゾおよびアゾキシ化合物を含めた高度に反応性で
不安定な中間体が次々に還元されることが分かった。こ
れらの反応性中間体はいくつかの好ましくない副生成物
となり、それらは、しばしば著しい着色の原因となる。
回分反応器による還元では、これらの反応性中間体を極
めて少なくすることはできない。同じく、ｐ−ニトロフ
ェノールのそのアシル誘導体への転化は非常に発熱的で
ある。回分操作では、反応からの発熱はひっきりなしに
変化しているので、正確な温度調整を行うことを難しく
している。

【０００６】米国特許第３，０７６，０３０号明細書で
は、ｐ−ニトロフェノールおよび無水酢酸を同時に反応
させてＮ−アシル−ｐ−アミノフェノールを得る一段階
法を、水素、ニトロフェノール、必要ならば不活性溶
剤、および無水酢酸を同時にまたは向流的にパラジウム
触媒床上に導く連続プロセスに容易に採用することがで
きることを示している。しかしながら、ｐ−ニトロフェ
ノールのアシル化誘導体への転化は非常に発熱的である
ため、どの固定床反応器の直径も外部から行い得る冷却
の程度によって制限され、従って、供給原料中のｐ−ニ
トロフェノールの濃度は熱の除去速度によって制限され
てしまう。

【０００７】芳香族ニトロ化合物を連続的に撹拌槽型反
応器内で還元することは公知である。しかしながら、撹
拌槽型反応器を用いてアミノフェノールおよびそのアシ
ル化誘導体を同時に連続的に生成する一段階法を行うこ
とは、これまでに提案されていない。

【０００８】鎮痛剤として使用するため、Ｎ−アシル−
ｐ−アミノフェノールは非常に純粋でなければならず、
着色していてはいけない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記問題点に鑑み、本
発明は、着色が少ない純粋なＮ−アシル−ｐ−アミノフ
ェノールを一段階法で調製する方法を提供することを目
的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の方法は、従来の
回分操作で製造されるものより着色の程度が少ないＮ−
アシル−ｐ−アミノフェノールを製造するものである。
事実、Ｎ−アシル−ｐ−アミノフェノールは下記のよう
な本発明によって、純粋な白色固体結晶生成物として製
造することができる。さらに、装置の洗浄および定期補
修を何回もする必要がなくなるので、本発明ではＮ−ア
シル−ｐ−アミノフェノールは従来法よりも短時間で連
続的に製造される。さらにまた、本発明の方法は回分反
応器または連続床反応器におけるような複雑な温度調整
を必要としない。

【００１１】本発明は、ニトロフェノールを接触水素添
加してアミノフェノールに転化し、そして同時に連続的
に撹拌槽型反応器中でアシル酸無水物を用いてアミノフ
ェノールをＮ−アシルアミノフェノールへアシル化する
ことよりなる、Ｎ−アシルアミノフェノールの製造方法
を提供する。回分式水素添加に較べて、連続法では、非
常に着色した副生成物を形成する反応中間体の濃度を最
少限にすることによって高純度の生成物が得られる。連
続法はまた操作がより簡単である。発熱は一定であり、
発熱がひっきりなしに変化する回分反応に較べて制御が
容易である。

【００１２】本発明では、ニトロフェノールを水素添加
触媒および少なくとも１当量のアシル酸無水物の存在下
で気体状水素で還元して、Ｎ−アシルアミノフェノール
を製造する。意外なことに、ニトロフェノールの還元は
室温でおよび従来の反応に較べて比較的低い圧力で行う
ことができる。しかしながら、もちろんより高い圧力お
よび／または温度を用いてもよい。重要なことは、反応
を、生成物が連続的に取り出される撹拌槽型反応器中で
連続的に行うことである。本発明の方法ではすぐれた品
質、純度、色および外観のアシルアミノフェノールが少
なくとも７５％、一般には少なくとも９８％の収率で製
造される。

【００１３】本発明における試薬として有用なニトロフ
ェノールにはｐ−ニトロフェノールおよびｏ−ニトロフ
ェノール、並びに１つ以上の芳香族環上の水素が所望の
同時反応に悪影響を及ぼさない置換基で置き換えられた
それらの誘導体がある。アシル酸無水物という語は、官
能基［Ｒ^１ＣＯ］_２ＯおよびＲ^２ＨＣ＝Ｃ＝Ｏを意味す
る。式中、Ｒ^１はＣ_１〜Ｃ_４アルキルよりなる群から選
ばれるものであり、Ｒ^２はＨまたはＣ_１〜Ｃ_３アルキル
である。しかしながら、高級アルキル化合物が適当な反
応条件で同様な挙動をしないだろうと考える理由もな
い。

【００１４】本発明の最も好ましい具体例では、Ｎ−ア
シル−ｐ−アミノフェノールは、ｐ−ニトロフェノール
（ＰＮＰ）の水素添加および無水酢酸でのｐ−アミノフ
ェノールのアシル化を同時に行うことによって製造す
る。

【００１５】本発明の方法は室温で実施することができ
るが、約５０〜１７５℃のより高い温度が好ましい。約
６０〜１００℃の温度を用いるのが好ましい。本発明の
方法は１〜１００気圧で行うことができる。約５〜５０
気圧が好ましい。出発物質のニトロフェノールの単位に
おける実際の金属として計算した触媒量は０．０５〜３
０重量％である。微粉砕パラジウム金属、木炭担持パラ
ジウム、シリカゲル、アルミナ、ケイソウ土、酸化クロ
ム、酸化ジルコニウム、ベントナイト、アスベスト等を
用いるとすぐれた結果が得られる。炭素担持パラジウム
が好ましい。触媒自体はペレット、グラニュール、粉末
等の形でもよく、金属は、金属の形または水素の存在下
でイン・シチューで還元される金属化合物の形で、担体
上に沈殿させてもよい。

【００１６】本発明の反応は不活性溶剤中で行うことが
できるが、反応混合物を反応温度で溶液に保つのに必要
な上記反応混合物の体積を増加することに有利性は見ら
れない。エーテルや炭化水素のような溶剤および有機酸
を使用することができる。「不活性」という語は、希釈
剤が出発物質、反応最終生成物、アミノフェノール中間
体、触媒または反応に使用するアシル酸無水物と反応し
ないことを意味する。無水物に関する酸を希釈剤として
使用すると、好ましくない成分を反応混合物に加えるこ
とがないので最も都合がよい。あるいは、溶剤は、反応
の副生成物となるどのような小さな分子とも反応する化
合物、すなわちアミンをアシル酸無水物でアシル化した
後に残る、酸と反応するブタノールのようなアルコール
でもよい。

【００１７】反応にかかわるアシル酸無水物の量は、１
当量ないしこれを越える妥当な過剰量の間で選択する。
ニトロフェノール１当量当たり、１〜１．２当量の無水
物を使用することによってすぐれた結果が得られる。大
過剰量の無水物はジアシル化生成物をもたらすことにな
るので避けるべきである。

【００１８】本発明の方法で用いられる反応器は、それ
自体明白な撹拌槽型反応器であり、単に確実に最適な混
合を行うための１つ以上のインペラーを取り付けた槽よ
りなるものである。槽にじゃま板を取り付けると反応体
の混合をさらに促すことができる。操作の際、ニトロフ
ェノール、アシル酸無水物および不活性溶剤、例えば無
水物反応体に関連する酸、並びに触媒を反応器に供給す
る。水素をバブリングさせて、ニトロフェノールをアミ
ノフェノールに還元する。炭素担持パラジウムのような
触媒スラリー濃度は一般に反応器内容物の約１〜３０重
量％である。ニトロフェノールは一般に反応器供給物の
約１０〜４０重量％よりなる。ニトロフェノールの量が
これより多ければ、反応器に必要な溶剤量および再循環
させなければならない量が少なくなる。反応器中の滞留
時間は温度、存在する触媒量、水素圧の大きさおよび存
在するアシル酸無水物の過剰量によって変わるが、だい
たい約０．２５〜２時間であり、１時間未満が一般的で
ある。生成物は反応器から連続的に取り出される。生成
物の反応器中の割合は反応器に供給するニトロフェノー
ルの濃度によるが、生成物の量を約２５〜４０重量％に
保つのが好ましい。反応器から取り出された触媒は再循
環させることができる。例えば、炭素担持パラジウム触
媒は再使用することができる。反応器中の触媒濃度は一
定に維持しなければならない。生成物液体流中にフィル
ターを使用することによって、あるいは撹拌機の働きや
じゃま板の使用により反応器内に静止帯域を形成するこ
とによって、または取り出される触媒を最少にするため
に生成物を反応器の静止帯域から取り出す同様な手段を
含めた様々な手段によって、触媒を反応器内に維持する
ことができる。

【００１９】次の実施例は本発明を説明するためのもの
であり、本発明の範囲を限定するものではない。断りが
なければ、全ての部および％は重量によるものである。

【００２０】

【実施例１〜１２】Ｎ−アセチル−ｐ−アミノフェノール（ＡＰＡＰ）の製
造２リッターの連続撹拌槽型反応器（ＣＳＴＲ）を本実施
例に使用した。反応器はオートクレーブ・エンジニアリ
ング社製造の２リッターの撹拌式オートクレーブからな
り、１４００ｍｌの処理容量を有するような設計であっ
た。オートクレーブには最適な混合を行うためにじゃま
板および２つのインペラーが取り付けられていた。装置
全体は３１６ステンレス鋼でできており、最大圧８００
ｐｓｉｇおよび最高温度１３８℃で操作することができ
た。触媒を反応器内に保持するために、生成物取出管に
内部フィルターが取り付けられていた。

【００２１】使用した触媒は、プレシャス・メタル社製
造の炭素担持３％Ｐｄ触媒（５０％水湿潤性）であっ
た。水素添加触媒２８ｇを空の反応器に仕込んだ。この
仕込量は２重量％の装填率であった。氷酢酸を適当なレ
ベルに達するまで、ポンプで反応器へ送った。

【００２２】アルドリッチ・ケミカル社から購入したｐ
−ニトロフェノール（９８％の呼称純度）を２．５ガロ
ン容器中の氷酢酸（ベイカー・アナライズド社）に溶解
した。この容器は窒素でパージして空気を除いてあり、
反応器の容量形ポンプの１つの取入口に接続されてい
た。ＰＮＰ供給原料の試料はガスクロマトグラフィーに
よって分析した。アルドリッチ社から購入した無水酢酸
（９９＋％）はそのままで使用するか、または一部の実
施例では氷酢酸で希釈し、装置の第２容量形ポンプが到
達しうる送入速度に適合するように使用した。また、窒
素を使用して無水酢酸から空気を除いた。ＰＮＰ供給原
料および無水酢酸供給液を、重量データを得るための目
盛を用いて反応器へ連続的にポンプで送った。供給送入
速度は無水酢酸が少しモル過剰である状態を維持するよ
うに調整した。

【００２３】水素は、一定の水素圧を維持しながら、反
応によって消費されるのにともなって反応器へ供給し
た。

【００２４】反応温度のＡＰＡＰ生成物流は、一定の窒
素のパージの下で２．５ガロン容器に連続的に捕集し
た。約１５００〜１６００ｇの生成物流を操作終了時に
ＡＰＡＰの単離のために捕集した。

【００２５】空気に触れることを出来るだけ少なくしな
がら、生成物流の一部分をロータリー・エヴァポレータ
ーに移した。酢酸および反応によって生じた水を真空
（２０インチＨｇ）および最少限の加熱（〜７０℃）
で、半固体物質が形成するまで頂部から除去した。半固
体物質を焼結ガラスブフナー漏斗を用いて濾過し、そし
て冷脱イオン水（〜５℃）を用いてＡＰＡＰケーキを洗
浄した。１．８対１（ｗ／ｗ）の水対ＡＰＡＰの洗浄液
比で、２または３回に分けて洗浄した。母液および洗浄
溶液を一緒にし、それをＧＣによって分析した。湿った
ＡＰＡＰケーキを真空オーブン中で４５℃にて一晩、窒
素パージを少し行った真空下で乾燥した。これらの反応
条件、供給速度および反応性データを表Ｉに示す。また
ＡＰＡＰ生成物純度は表ＩＩに記す。

【００２６】

【表１】

【００２７】

【表２】

【００２８】

【表３】

【００２９】

【表４】

【００３０】これらの結果から考察すると、反応温度が
ＰＮＰの転化に少し影響しているようだった。しかしな
がら、ＰＮＰの転化率のさらに精密な測定を行ったとこ
ろ、１００℃や１３８℃に比して６０℃では最終生成物
中のＰＮＰのレベルが少し増加することが分かった。さ
らに、６０℃といった一層低い温度で合成された粗（乾
燥）ＡＰＡＰ中の不純物のレベルはすこし高くなってい
た。不純物レベルはより高い温度で減少した。

【００３１】反応器圧に関するＰＮＰの転化率について
は、１００℃で反応圧が５００ｐｓｉｇから１５０ｐｓ
ｉｇへ大きく低下すると、同程度のＳＴＹでＰＮＰの転
化率は１００％から９２％に減少した。

【００３２】ＳＴＹ（space time yield：空間時間収
率）は、毎時１リッターの反応器液体容積当たりのＡＰ
ＡＰのモルとして計算した。ＳＴＹはＰＮＰおよびＡｃ
_２Ｏの供給速度を変えることによって変化させた。本実
施例で行った最高速度である３〜４モル／Ｌ／ｈでは、
ＰＮＰの転化率に有意な影響はなかった。

【００３３】真空オーブンで乾燥した粗ＡＰＡＰ試料の
純度はＧＣによって測定した。ＡＰＡＰの純度は一般に
９９〜９９．５重量％であり、微量の４−アセトキシア
セトアミノフェン、および時にはＡＰＡＰより重い未知
化合物、酢酸および水が含まれていた。分析値を表ＩＩ
にまとめる。分析値を水および酢酸を含まない生成物に
対して標準化すると、標準化したＡＰＡＰ純度は一般に
９９．６〜９９．８重量％となる。実施例１１では、前
の実施例１０からの母液（ＭＬ）および第１洗浄液をＰ
ＮＰ供給溶液に再循環させた。これはＡＰＡＰ２６ｇ、
ＰＮＰ１１ｇ、未知物質約５ｇおよび主に洗浄液からの
水２００ｇをＰＮＰ供給液へ加えたことになる。この実
施例で得られる生成物の色限界”ＬＯＣ（Limit of Col
or）”はそれでも非常に低く、未知物質の再循環が粗生
成物の品質に悪影響を及ぼさなかったことを示してい
た。３１重量％のＰＮＰ供給液が室温でまだ溶解できる
ので、供給液中の水の存在はＰＮＰ溶解度を低下させる
ことにはならなかった。

【００３４】回分操作の実施例１２を同じ反応器で行っ
て、ＣＳＴＲ操作の適性および生成物の純度を比較し
た。表ＩおよびＩＩの結果から、回分操作の実施例では
ＧＣ分析によると意外に純粋な生成物が得られた。しか
しながら、回分操作で得られたＡＰＡＰは淡黄色であ
り、ＣＳＴＲ生成物のような白色に近い色ではなかっ
た。詳しく測定してはいないが、回分操作で得られたＡ
ＰＡＰのＬＯＣはＣＳＴＲ操作から得られるＡＰＡＰよ
りも著しく高いと思われる。実験室規模での回分操作は
連続操作よりもずっと難しく、結局、反応温度の調整が
困難であった。

【００３５】

【実施例１３〜２０】実施例１〜１２で使用した２リッ
ターのＣＳＴＲを少し変更した。反応器の固形物装填量
を多くするため、装置の供給管および生成物取出管を、
電気加熱テープでヒートトレースした。ＰＮＰ供給液の
ためのポンプヘッドも、ヘッド上に大きな加熱マントル
を置くことによって加熱した。

【００３６】氷酢酸に溶解したＰＮＰおよび無水酢酸を
同時にかつ連続的に２リッターオートクレーブに供給
し、ここでＰＮＰを接触水素添加してＰＡＰを得、続い
て無水物によってアセチル化してＡＰＡＰを得た。ＡＰ
ＡＰは操作温度で溶液中に留まっていた。粗ＡＰＡＰ生
成物流は熱溶液として連続的に反応器から出た。水素添
加触媒は、反応器内の生成物取出管に取り付けたフィル
ターによって反応器内に残り、該フィルターは先の実施
例におけるように液相中に没している。約５０重量％の
溶剤（酢酸および水）をロータリー・エヴァポレーター
によってオーバーヘッドからフラッシュした後、粗ＡＰ
ＡＰを生成物流から単離した。残っているＡＰＡＰスラ
リーは〜１５℃でクラッシュ結晶化し、濾過し、そこか
ら母液を得た。粗ＡＰＡＰケーキを同じ重量の冷水で洗
浄し、各洗浄後に洗浄液を２回濾過した。湿った粗ＡＰ
ＡＰケーキを真空オーブン中で４５〜５０℃、２０イン
チＨｇで乾燥して、乾燥した粗ＡＰＡＰケーキを得た。

【００３７】表ＩＩＩ〜ＩＶに全ての実施例の操作条
件、供給速度および生成物分析値を示す。回分操作であ
る２つの実施例１９および２０では、水素添加触媒は不
可逆的に劣化した。

【００３８】

【表５】

【００３９】

【表６】

【００４０】

【表７】

【００４１】乾燥ＡＰＡＰケーキのＬＯＣ値は対照チャ
ート（contorol chart）によって分析した。対照の上限
は５５であり、対照の下限は１８であった。表ＩＶか
ら、ＣＳＴＲからのＡＰＡＰ生成物は有用なＬＯＣ値を
有し、回分操作の実施例に較べて色が著しく良くなって
いた。

【００４２】ＣＳＴＲ操作の実施例の場合の平均的な選
択率（ＡＰＡＰへのＰＮＰ転化について標準化した）は
９８．３±０．８％であった。選択率が低い一つの理由
はＡＡＡによるものであった。未確認不純物には、ＰＡ
Ｐの前に溶離する２つの軽質成分、ＰＮＰの後そしてＡ
ＰＡＰの前に溶離する５つの不純物、およびＡＡＡの後
に溶離する４つの重質成分がある。

【００４３】ＡＰＡＰの平均ＳＴＹが３．４±０．４モ
ル／Ｌ／ｈにおける、ＣＳＴＲ操作の実施例でのＰＮＰ
の平均転化率は、９９．４±０．８％であった。

【００４４】回分操作の実施例である実施例１９および
２０では、無水酢酸を加える前に約３０％のＰＮＰが水
素添加された。回分反応器の組成を無水酢酸を加える直
前に分析した。無水酢酸を加える前に、実施例１９では
２８％のＰＮＰがＰＡＰへ転化し、実施例２０では２２
％のＰＮＰがＰＡＰへ転化した。回分操作の初期に非常
に大きな発熱が生じるので、好ましい反応温度である１
００℃での正確な温度制御は初めは不可能であった。Ｃ
ＳＴＲ操作では、温度制御は全く問題にならず、せいぜ
い１〜２℃変わるだけであった。

【００４５】回分操作の実施例での選択率は９６．７％
および９９．０％であり、これらはＣＳＴＲ操作の選択
率に近似している。しかしながら、両回分操作とも、先
のＣＳＴＲ操作で設定した対照の上限よりＬＯＣが高い
値であった。回分操作で１００％の転化率を達成するの
は難しいため、両回分操作からの母液はＰＮＰおよびＰ
ＡＰが多かった。

【００４６】回分操作の実施例で得られた転化率はＣＳ
ＴＲ操作の場合よりも著しく低く、一つは９５．８％で
あり、もう一つは９０．０％であった。回分操作で完全
な転化率を得るのはより難しく、いずれも着色物質の先
駆体であるＰＮＰおよびＰＡＰが高いレベルで残ってい
た。

【００４７】Ｐｄ／Ｃ触媒はこれらの回分操作の間に活
性を失った。これはおそらくＰＮＰおよびＰＡＰの転化
が不完全なことによるものである。回分操作では最少限
にすることができないＰＮＰの水素添加中間体は、触媒
表面を被毒するより高分子量の副生成物を生じると考え
られる。ＣＳＴＲ操作では一般に回分操作と較べて触媒
寿命が高くなる。

【００４８】二番目の回分操作である実施例２０でのＡ
ＰＡＰのＳＴＹは約１．４モル／Ｌ／ｈと推算された。
これはＣＳＴＲ操作で測定されたＡＰＡＰのＳＴＹであ
る３．４±０．４モル／Ｌ／ｈよりもかなり小さな値で
あった。

【００４９】

【実施例２１〜２４】細流床反応器でいくつかの実施例
を行って、ＡＰＡＰの品質および反応器の生産性をＣＳ
ＴＲと較べた。細流床では、回分型水素添加と同様によ
り品質の低い生成物が生じると予想された。しかしなが
ら、細流床の場合は撹拌反応器よりも経費を少なくする
ことができる。

【００５０】触媒床の長さが２０インチの簡単な細流床
反応器を直径２インチのパイプからつくった。反応器の
圧力等級は１５０ｐｓｉｇであった。加熱は、反応器管
の外側を包んだ加熱テープによって行った。反応器には
１リッターの触媒を充填した。４×８メッシュのエンゲ
ルハード社製０．５％Ｐｄ／Ｃ触媒を本実施例のために
選んだ。

【００５１】細流床を用いた実施例を全部で４つ行っ
た。反応は発熱反応であり、温度制御は供給液中のＰＮ
Ｐの濃度を下げることによってのみ行うことができた。
そのため、ＣＳＴＲ操作と同程度の反応温度を維持しな
がら、ＣＳＴＲ操作で用いた濃度と同程度の濃度を細流
床で用いることはできなかった。

【００５２】最初の実験では、１６重量％のＰＮＰを反
応器に入れ（無水酢酸での希釈の後）、反応温度を外部
加熱を用いずに２００℃にした。反応器温度を〜１００
℃にするために、反応器に入るＰＮＰの濃度を３〜４重
量％に下げた。３つの実施例をこれらのＰＮＰ濃度で行
ったところ、温度は１１０℃となり、定常状態が得られ
た。これらの操作条件、供給速度および結果を、表Ｖお
よびＶＩに示す。

【００５３】反応選択率は温度およびＰＮＰ供給速度に
よって変わった。２００℃でのＰＮＰのＡＰＡＰへの選
択率は、７０％の転化率でわずか８７％であり、１１０
℃でこれより遅い供給速度では９４〜９７％に増加し
た。供給液中のＰＮＰ濃度がより高いため、完全な転化
は１１０℃のみで得られ、２００℃ではわずか７０％で
あった。

【００５４】細流床を用いて得られた選択率は、同様に
反応条件は同じではなかったがＣＳＴＲで得られたもの
より不良であった。同じ転化率、好ましくは１００％、
での比較が真の違いを最もよく示すものであろう。

【００５５】細流床およびＣＳＴＲの選択率を較べる
と、ＣＳＴＲにおいて選択率が絶対的に〜３％にまで改
良されたことがデータから分かった。さらに、細流床を
用いた最後の２つの実施例における母液および洗浄液
に、かなり着色したいくつかの成分が存在した。緑色な
いし深青色の液体が得られた。ステンレス鋼の腐食によ
って生じる微量金属は検出されなかったので、Ｘ線によ
る分析から、着色成分は有機成分らしいことが分かっ
た。ＡＰＡＰの色は最終生成物の品質において極めて重
要なパラメーターであり、そして液が着色されているこ
とは、同じ成分がまたＡＰＡＰ中の汚染物質になりうる
ことを示していた。また、これらの液を再循環させるこ
とができるかどうかは非常に疑問である。

【００５６】最終粗（乾燥）ＡＰＡＰのＬＯＣは、４つ
の実施例で大きく異なっていた。２００℃で得られた生
成物のＬＯＣは１２９５という非常に不良な値であり、
まさに反応温度が高かった結果であろう。１１０℃で
は、ＬＯＣはずっと低いが、実施例で異なった。実施例
２２における２３４という比較的高いＬＯＣは、おそら
く試料の洗浄方法によるものであろう。２３および５５
という低いＬＯＣである実施例２３および２４では、母
液の除去の後の粗ケーキのすすぎに新鮮な洗浄水を使用
しなかった。これらの値はＣＳＴＲで得られたＬＯＣと
同程度である。

【００５７】ＰＮＰのＡＰＡＰへの転化は非常に発熱性
であるので、細流床反応器管の直径は、外部から行い得
る冷却の程度によって限定され、そして供給液中のＰＮ
Ｐ濃度はこの熱の除去速度によって限定されるであろ
う。細流床に較べて、ＣＳＴＲは冷却に利用できる表面
積が比較的大きく、さらにＣＳＴＲには放熱ピークがな
い。本来的に、ＣＳＴＲは細流床よりもすぐれたものを
製造することができるであろう。

【００５８】簡単な実験室規模の細流床なので外部から
の冷却をしていないため、この反応器で得られたＳＴＹ
は予想されるものより低かった。それでも、細流床で得
られるＳＴＹはＣＳＴＲで得られるＳＴＹより１桁小さ
かった。表Ｖに示すように、１００％のＰＮＰ転化率に
おいて、細流床で得られたＡＰＡＰのＳＴＹは毎時１リ
ッターの触媒当たりわずか０．２〜０．３モルであっ
た。ＣＳＴＲでは、毎時１リッターの触媒当たり最高４
モルのＳＴＹが得られた。

【００５９】

【表８】

【００６０】

【表９】

【００６１】

【実施例２５】本実施例では、供給液としてのｐ−ニト
ロフェノールの代わりにｏ−ニトロフェノールを用いて
Ｎ−アセチル−ｏ−アミノフェノールを製造した他は、
実施例８を繰り返した。実施例８の操作条件は表Ｉに示
してある。ｏ−ニトロフェノールの転化率は９９％を越
え、Ｎ−アセチル−ｏ−アミノフェノールへの選択率は
９８％を越える。

【００６２】

【実施例２６】無水酢酸の代わりに無水酪酸を用い、そ
して溶剤としての酢酸の代わりに酪酸を用いる他は、実
施例８を前記２リッターの撹拌槽型反応器で再び繰り返
した。無水酪酸のＣＳＴＲへの供給速度は毎分３５．２
ｇであり、そして酪酸中で５０重量％に希釈する。操作
条件は全て表Ｉと同じである。生成するのは、Ｎ−ブチ
リル−ｐ−アミノフェノールである。ｐ−ニトロフェノ
ールの転化率ははぼ９９％であり、生成物への選択率は
９８％を越える。

【００６３】本発明は以下の実施態様を含んで成る。１．Ｎ−アシルアミノフェノールの製造方法であって：
ニトロフェノール、アシル酸無水物および水素を連続撹
拌槽型反応器へ連続的に添加する工程、並びに、ニトロ
フェノールのアミノフェノールへの水素添加およびアミ
ノフェノールのアシル化を同時に該反応器内で行ってＮ
−アシルアミノフェノール生成物を生成せしめ、該生成
物を該反応器から連続的に取り出す工程を含んで成る方
法。２．該アシル酸無水物を該ニトロフェノールに対してほ
ぼ同量ないし２０％過剰のモル比で加える、前項１に記
載の方法。３．該連続撹拌槽型反応器を約５０〜１７５℃に維持す
る、前項１に記載の方法。４．該連続撹拌槽型反応器を約６０〜１００℃に維持す
る、前項３に記載の方法。５．該ニトロフェノールを約１気圧〜１００気圧の水素
圧の下で水素添加する、前項１に記載の方法。６．該ニトロフェノールを約５気圧〜５０気圧の水素圧
の下で水素添加する、前項５に記載の方法。７．該ニトロフェノールを水素添加触媒の存在下で水素
添加する、前項１に記載の方法。８．該水素添加触媒がパラジウムである、前項７に記載
の方法。９．該水素添加触媒が炭素に担持されたパラジウムであ
る、前項８に記載の方法。１０．該ニトロフェノールを該反応器へ溶剤に溶解して
供給する、前項１に記載の方法。１１．該生成物を該反応器から液体の形で取り出す、前
項１に記載の方法。１２．反応体の反応器における滞留時間が約０．２５〜
２時間である、前項１に記載の方法。１３．固体生成物を該反応器から出る該液体生成物から
結晶化し、そして該結晶化で残る液体を該反応器へ再循
環させる、前項１１に記載の方法。１４．該アシル酸無水物が［Ｒ^１ＣＯ］_２ＯまたはＲ^２
ＨＣ＝Ｃ＝Ｏ（Ｒ^１はＣ_１〜Ｃ_４アルキルであり、Ｒ^２
はＨまたはＣ_１〜Ｃ_３アルキルである）の構造式を有す
る、前項１に記載の方法。１５．該ニトロフェノールがｐ−ニトロフェノールおよ
びｏ−ニトロフェノール並びにこれらの置換誘導体より
なる群から選ばれる、前項１に記載の方法。１６．該ニトロフェノールがｐ−ニトロフェノールであ
り、該アシル酸無水物が無水酢酸である、前項１に記載
の方法。１７．該無水酢酸を該ｐ−ニトロフェノールに対してほ
ぼ同量ないし２０％過剰のモル比で加える、前項１６に
記載の方法。１８．該連続撹拌槽型反応器を約５０〜１７５℃に維持
する前項１６に記載の方法。１９．該ｐ−ニトロフェノールを約１気圧〜１００気圧
の水素圧の下で水素添加する、前項１６に記載の方法。２０．該ｐ−ニトロフェノールを約５気圧〜５０気圧の
水素圧の下で水素添加する、前項１９に記載の方法。２１．ｐ−ニトロフェノールを水素添加触媒の存在下で
水素添加する、前項１６に記載の方法。２２．該水素添加触媒がパラジウムである、前項２１に
記載の方法。２３．該水素添加触媒が白金である、前項２１に記載の
方法。２４．該水素添加触媒が炭素に担持されたパラジウムで
ある、前項２１に記載の方法。２５．該ｐ−ニトロフェノールを該反応器へ溶剤に溶解
して供給する、前項１６に記載の方法。２６．該溶剤が酢酸である、前項２５に記載の方法。２７．該生成物が該反応器から液体の形で取り出され
る、前項１６に記載の方法。２８．反応体の反応器における滞留時間が約０．５〜２
時間である、前項１６に記載の方法。２９．固体生成物を該反応器から出る該液体生成物から
結晶化し、そして該結晶化で残る液体を該反応器へ再循
環させる、前項１６に記載の方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ヴェルナー・ハー・ミュラーアメリカ合衆国ノース・カロライナ州 28226，シャーロット，ウィンドフィールド・レーン 4725 (72)発明者デブラ・エイ・ライアンアメリカ合衆国テキサス州78413，コーパス・クリスティ，オーバーブルック・サークル 4914 (72)発明者ヘルトムート・ヴィーツァードイツ連邦共和国デー−6239 エップシュタイン／タウヌス，アム・ヘルツハイン１ベー

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｎ−アシルアミノフェノールの製造方法
であって：ニトロフェノール、アシル酸無水物および水
素を連続撹拌槽型反応器へ連続的に添加する工程、並び
に、ニトロフェノールのアミノフェノールへの水素添加
およびアミノフェノールのアシル化を同時に該反応器内
で行ってＮ−アシルアミノフェノール生成物を生成せし
め、該生成物を該反応器から連続的に取り出す工程を含
んで成る方法。
【請求項２】該アシル酸無水物を該ニトロフェノール
に対してほぼ同量ないし２０％過剰のモル比で加える、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】該連続撹拌槽型反応器を約５０〜１７５
℃に維持する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】該連続撹拌槽型反応器を約６０〜１００
℃に維持する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】該ニトロフェノールを約１気圧〜１００
気圧の水素圧の下で水素添加する、請求項１に記載の方
法。
【請求項６】該ニトロフェノールを約５気圧〜５０気
圧の水素圧の下で水素添加する、請求項５に記載の方
法。
【請求項７】該ニトロフェノールを水素添加触媒の存
在下で水素添加する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】該水素添加触媒がパラジウムである、請
求項７に記載の方法。
【請求項９】該水素添加触媒が炭素に担持されたパラ
ジウムである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】該ニトロフェノールを該反応器へ溶剤
に溶解して供給する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】該生成物を該反応器から液体の形で取
り出す、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】反応体の反応器における滞留時間が約
０．２５〜２時間である、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】固体生成物を該反応器から出る該液体
生成物から結晶化し、そして該結晶化で残る液体を該反
応器へ再循環させる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】該アシル酸無水物が［Ｒ^１ＣＯ］_２Ｏ
またはＲ^２ＨＣ＝Ｃ＝Ｏ（Ｒ^１はＣ_１〜Ｃ_４アルキルで
あり、Ｒ^２はＨまたはＣ_１〜Ｃ_３アルキルである）の構
造式を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】該ニトロフェノールがｐ−ニトロフェ
ノールおよびｏ−ニトロフェノール並びにこれらの置換
誘導体よりなる群から選ばれる、請求項１に記載の方
法。
【請求項１６】該ニトロフェノールがｐ−ニトロフェ
ノールであり、該アシル酸無水物が無水酢酸である、請
求項１に記載の方法。
【請求項１７】該無水酢酸を該ｐ−ニトロフェノール
に対してほぼ同量ないし２０％過剰のモル比で加える、
請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】該連続撹拌槽型反応器を約５０〜１７
５℃に維持する請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】該ｐ−ニトロフェノールを約１気圧〜
１００気圧の水素圧の下で水素添加する、請求項１６に
記載の方法。
【請求項２０】該ｐ−ニトロフェノールを約５気圧〜
５０気圧の水素圧の下で水素添加する、請求項１９に記
載の方法。
【請求項２１】ｐ−ニトロフェノールを水素添加触媒
の存在下で水素添加する、請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】該水素添加触媒がパラジウムである、
請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】該水素添加触媒が白金である、請求項
２１に記載の方法。
【請求項２４】該水素添加触媒が炭素に担持されたパ
ラジウムである、請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】該ｐ−ニトロフェノールを該反応器へ
溶剤に溶解して供給する、請求項１６に記載の方法。
【請求項２６】該溶剤が酢酸である、請求項２５に記
載の方法。
【請求項２７】該生成物が該反応器から液体の形で取
り出される、請求項１６に記載の方法。
【請求項２８】反応体の反応器における滞留時間が約
０．５〜２時間である、請求項１６に記載の方法。
【請求項２９】固体生成物を該反応器から出る該液体
生成物から結晶化し、そして該結晶化で残る液体を該反
応器へ再循環させる、請求項１６に記載の方法。