JPH0713995B2

JPH0713995B2 - 基板搬送装置

Info

Publication number: JPH0713995B2
Application number: JP60148185A
Authority: JP
Inventors: 樹宏津田; 太朗乙武; 忍徳島; 昭雄西方; 康久松本
Original assignee: Nippon Kogaku KK
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1985-07-08
Filing date: 1985-07-08
Publication date: 1995-02-15
Anticipated expiration: 2010-02-15
Also published as: JPS629643A

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本装置は半導体装置の製造工程におけるフオトマスクや
ウエハ等の搬送装置の改良に関するものである。

〔発明の背景〕

近年半導体産業の成長に伴なつて、フオトマスクを製作
するフオトリピータや製作されたマスクの検査装置の作
業の効率化が要求されている。特にフオトリピータやマ
スク検査装置におけるマスクホルダへのマスクの供給
（ロード）及び搬出（アンロード）は、従来その殆んど
が手作業で行なわれており、作業効率は極めて低い状態
におかれている。またマスクのロード、アンロードの作
業が自動化されている場合でも、その対象となるマスク
サイズは一種類に限られ、対象サイズ外のマスクについ
ては従来通りの手作業によつてロード、アンロードの作
業を行なうか、あるいはマスクサイズに応じてマスク搬
送機のマスク吸着用の配管を変えたり、マスクを収納す
るマスクカセツトの位置決め部材の位置を変えるなどの
手作業による準備が必要であり、いずれにしても作業効
率は低いものである。更に手作業による場合は、作業者
から発生する塵埃のため製造されたマスクに欠陥を生じ
るなどの不都合もある。このことはマスクに限らず、半
導体ウエハ等の搬送の場合も同様のことが言える。

〔発明の目的〕

本発明は上記のような欠点を解消し、複数サイズのマス
クやウエハ等をフオトリピータ（露光装置）あるいは検
査装置の基板ホルダ上に、使い勝手よくかつ自動的にロ
ード、アンロードしうる基板搬送装置を提供することを
目的としている。

〔発明の概要〕

本発明はマスクやウエハ等の基板の搬送装置において、
複数個のロード用及びアンロード用のカセツト設置台の
夫々に、カセツトサイズ検知手段を備え、該各検知手段
より発する信号を比較して、該信号が一致すれば上記搬
送装置のシーケンスを開始し、不一致の場合は停止する
ように構成したことを技術的要点としている。

〔発明の実施例〕

第１図は本発明の一実施例を示すマスク露光装置に付設
したマスク搬送装置の斜視図、第２図はカセツト設置台
上のカセツトの詳細図、第３図はカセツトサイズの検知
装置の説明図、第４図はアライメントの説明図、第５図
はローダの斜視図、第６図は搬送装置の制御ブロツク図
である。

第１図に示すようにマスク搬送装置は大別して３つの部
分から構成されている。第１の部分は未露光のマスク及
び露光済みのマスクを収容するマスクカセツト2a,2bを
載置するロード及びアンロードのカセツト設置台1a,1b
の部分、第２の部分はマスクホルダにマスクを供給する
に当つて、マスクを位置決めするプリアライメント部分
（20,21,22）、更に第３の部分は、マスクホルダより露
光済みのマスクを取り出し、アンロード用カセツトに収
納し、続いてロード用カセツトから未露光のマスクを搬
送し、プリアライメントを行なつた後マスクホルダに供
給するローダ部（30,31,32,40,41）の部分である。

以下各部分の構成について第１の部分であるロード及び
アンロードカセツト台の部分から述べることとする。

第２図において、カセツト設置台（１）上に係着された
クランプレバ（３）の把手（3a）を、支点（3b）を中心
に矢印（４）の方向に回転させると、クランプレバ
（３）の当接部材（3c）は、カセツト設置台（１）上に
載置されたロード用又はアンロード用マスクカセツト
（２）を押圧し、カセツト（２）は押されて位置決め部
材（５）及び（６）に当接する。位置決め部材（５），
（６）はカセツトサイズ（例えば５″,6″及び７″）に
応じて異なる当接部（5a），（5b），（5c）及び（6
a），（6b），（6c）を備えているので、カセツトのサ
イズに応じ、いずれかの当接部に当接し、カセツト
（２）の位置決めが行なわれる。又カセツト設置台
（１）には、第３図にみるように３個のカセツトサイズ
検知用の突起（７），（８），（９）が装着されてお
り、各検知用突起は穴（10），（11），（12）内にばね
（7b），（8b），（9b）を介して上下動自在に挿嵌され
ている。カセツト設置台（１）上のカセツト（２）は、
位置決め部材（５），（６）により、そのサイズに応じ
て位置が固定するので、検知用突起（７），（８），
（９）いずれかを押圧することになり、その結果押圧さ
れた上記突起はその下端に設けた遮光羽根（7a），（8
a），（9a）のいずれかをフオトセンサ（13），（1
4），（15）中に挿入させ、遮光されたフオトセンサは
信号を発信する。これによりカセツト設置台（１）上の
カセツトのサイズを知ることができる。なお上記検知装
置において、ばね（7b），（8b），（9b）は突起
（７），（８），（９）を上方向に付勢しているが、そ
の付勢力はカセツトの自重より小さく設定されている。
またカセツトはそのサイズに応じ、検知用突起（７），
（８），（９）のうちの唯１個だけを押圧するように構
成されており、１個のカセツトに対し２個以上の検知用
突起が干渉して押圧されることはない。

カセツト（２）内のマスクをローダ部へ搬出入するに当
つてカセツト（２）の位置を決めるため、第２図にみる
ようにカセツト設置台（１）の下部にカセツト設置台昇
降装置（16）が設けられており、さらにカセツト（２）
内の最下段のマスクを検索検知する近接センサ（不図
示）も備えられている。

カセツト（２）内のマスクの搬出入は、ロード用カセツ
トの場合は、最下段に収納されたマスクから順次上方に
収納されたマスクを搬出し、アンロード用カセツトの場
合はカセツト内に収納されているマスクの内最下段のマ
スクの一段下の空き収納溝から順次下方の空き溝へマス
クを搬入するように構成されている。

次に第２の部分のプリアライメント部の構成について述
べる。第４図においてプリアライメントベース（20）上
に位置決め部材（21）と押圧部材（22）とがA,B方向に
のみ摺動可能に設けられており、位置決め部材（21）と
押圧部材（22）には夫々５″,6″,7″のマスク用の位置
決めピン（21a），（21b），（21c）と（22a），（22
b），（22c）とがその高さを違えて固着されている。プ
リアライメント開始信号により上記位置決め部材（21）
と押圧部材（22）とは退避機構（図示せず）により所定
の位置に退避し、検知手段（図示せず）により退避完了
信号を発信する。該退避完了信号により、搬送すべきマ
スク（25）を載置したアーム（41）は、垂直方向に上下
し、マスク（25）のサイズに応じてその垂直方向の所定
位置に停止する。すなわち搬送するマスク（25）のサイ
ズに対応する位置決めピン（21a），（21b），（21c）
及び（22a），（22b），（22c）の何れかにマスクを当
接せしめうる位置に停止するのである。この垂直方向の
停止位置の設定は後述するローダ部の垂直駆動機構（3
2）の固定部分に備えた３個のフオトセンサ（35），（3
6），（37）により決定される。

ローダがアーム（41）上のマスク（25）を所定位置に位
置せしめた後、位置決め部材（21）の前記退避機構（図
示せず）を消勢すると、位置決め部材（21）はばね（21
b）によりＢ方向に移動し、ストツパ（23）に当接し停
止する。位置決め部材（21）がストツパ（23）に当接し
たことが検知されると、次に押圧部材（22）の退避機構
を消勢する。その結果押圧部材（22）はばね（22d）に
よりＡ方向に摺動し、マスク（25）の両端部（25a）及
び（25b）をマスク（25）のサイズに対応する位置決め
ピンに当接して停止する。第４図においては６″のマス
クであるから、マスク（25）の両端部（25a），（25b）
は位置決めピン（21b），（22b）に当接している。

以上によりマスク（25）はアーム（41）上においてA,B
方向の位置決めが完了する。マスク（25）の位置決め完
了を検知するとアーム（41）はマスク（25）を真空吸着
し、位置決め部材（21）及び押圧部材（22）は前記退避
機構により夫々Ａ方向,B方向に移動して所定の退避位置
に停止し、A,B方向のプリアライメントは完了する。A,B
方向に直交するC,D方向（第１図参照）に関しても同様
の方法でプリアライメントを行なうことによりマスク
（25）のプリアライメントは完了する。

次にローダ部の構成を第５図について述べる。マスク
（25）を搬送するアーム（41）と一体となつたスライダ
（40）は、スライダ駆動機構（図示せず）によりレール
（30）上を摺動する。アーム（41）には階段状に夫々１
対のマスク載置面（42），（43），（44）が形成されて
おり、マスク（25）のサイズ５″,6″,7″に応じて載置
しうるようになつている。各載置面（42），（43），
（44）にはマスク吸着用の夫々１対の吸着溝（42a），
（43a），（44a）が設けられていて、搬送マスクのサイ
ズに応じて上記吸着溝のいずれかが電磁弁（図示せず）
により真空源に接続され、載荷されたマスクを真空吸着
しうるように構成されている。レール（30）は回転駆動
機構（31）上に回転自在に係着されており、その先端を
ロードカセツト側、露光機本体側、アンロードカセツト
側へ向けることができる。更に回転駆動機構（31）は垂
直駆動機構（32）上に上下動自在に係着されており、レ
ール（30）及び回転駆動機構（31）を上下方向に移動さ
せることができる。この上下動におけるレール（30）の
位置決めはフオトセンサ（33），（34），（35），（3
6），（37）を、回転駆動機構（31）に固着された遮光
羽根（38）が遮光することにより行なわれる。前述のプ
リアライメント部へマスク（25）を移動し、マスクのサ
イズに応じて垂直方向の位置決めを行なうのもこのフオ
トセンサ（33）〜（37）と遮光羽根（38）との関係によ
るのである。上記のようにローダ部は腕伸縮機構を構成
するスライダ（40）、アーム（41）及びレール（30）と
該腕伸縮機構を回転させる回転駆動機構（31）と、該腕
伸縮機構と回転駆動機構（31）とを上下動させる垂直駆
動機構（32）とより所謂円筒座標系の運動を行なえるよ
うに構成されている。

さて、第６図は上記第１図〜第５図に示した機構を統括
制御する制御系の回路ブロツク図である。主制御回路MC
は第２図に示したようなロード側カセツト設置部LCとア
ンロード側カセツト設置部ULC、第５図に示したローダ
部LD、及び第４図に示したプリアライメント機構部PAL
等を統括制御する。ロード側カセツト設置部LC、アンロ
ード側カセツト設置部ULCの夫々には、先に説明した通
りカセツトサイズを検出するセンサー13、14、15と設置
台の上下動のリミツト位置を検出するセンサー17、18と
が設けられるとともに、近接センサーPSと、設置台を上
下動させるためのパルスモータPMとが設けられる。また
プリアライメント機構部PALには、位置決め部材21と押
圧部材22との退避動作や、押圧動作を行なうための駆動
機構（退避機構）ACTが設けられ、さらにプリアライメ
ント開始時に位置決め部材21と押圧部材22とがともに退
避位置にきたとき、退避完了信号を出力する退避検知セ
ンサーSSが設けられる。一方、ローダ部LDには第５図に
示すように、アーム41を駆動するスライダ40と、アーム
41を水平面内で回転させる回転駆動機構31と、アーム41
全体を上下動させる垂直駆動機構32とが設けられる。さ
らに基板の露光装置や検査装置等の本体装置50への受け
渡しの際に、アーム40の高さ位置を２段階で検出するた
めの２つのセンサー33,34が設けられるとともに、プリ
アライメント時にアーム41の高さ位置を基板のサイズに
応じて３段階で検出するための３つのセンサー35,36,37
とが設けられている。またローダ部LDのアーム41には、
第５図に示したように、基板サイズに対応した３つの吸
着溝42a,43a,44aが形成されているが、各吸着溝はそれ
ぞれ電磁弁B₁，B₂，B₃を介して共通の真空源VSに接続さ
れている。この電磁弁B₁，B₂，B₃は主制御部MCによつて
択一的に選択される。例えばロード側カセツト設置部LC
内のセンサー13が検出信号を出力し、アンロード側カセ
ツト設置部ULC内のセンサー13も検出信号を出力してい
る状態において、主制御部MCはロード側とアンロード側
のカセツトがともに同一サイズ（ここでは５インチ用）
のものであると判断して、マスクの吸着の際は電磁弁B₃
を使うように選択する。もちろん、カセツトサイズが異
なる場合、又はアンロード側に空きカセツトが装着され
ていない場合、主制御部MCはカセツトサイズの検出信号
が一致しないことを判別して、オペレータに警報を発す
るとともに、その時点で装置全体を待機状態にする。

次に本発明に係るマスク搬送装置の動作について説明す
る。例として６″のマスク（25）を露光装置（50）によ
り露光する場合を設定し、これについて時系列的に述べ
ることにする。

第１図において、先づオペレーターはロード用カセツト
設置台（1a）、アンロード用カセツト設置台（1b）に
６″のマスク用カセツト（2a），（2b）を載置する。こ
のとき両カセツト設置台（1a），（1b）は最上昇点に位
置決めされる。６″のカセツト（2a），（2b）を載置す
ることで、前記カセツト設置台（1a），（1b）上の検知
用突起（８）が押圧され、フオトセンサ（14）よりサイ
ズ判別信号を発信する。ロード用とアンロード用カセツ
トのサイズ判別信号を比較し、両カセツト設置台（1
a），（1b）からの信号が異なる場合はアラームを発し
て停止し、信号が一致する場合は次工程に移る。すなわ
ち両カセツト設置台（1a），（1b）は下降を開始し、カ
セツトに格納されているマスクの内最下段に収納されて
いるマスクを検索し更にローダの６″用マスク載置面
（43）上の真空吸着溝（43a）に電磁弁により真空源を
接続する。また（35），（36），（37）の３個のフオト
センサのうち６″用のセンサ（36）を遮光羽根（38）が
遮光する時のみ垂直駆動機構（32）が停止するように制
御回路を切替える。

第２図においてカセツト設置台（１）が下降し、該設置
台（１）に固着された遮光羽根（17）が上部原点フオト
センサ（18）を遮光すると、カセツト台昇降部（16）内
のパルスモータ（図示せず）に備えたパルスエンコーダ
がパルスカウントを開始する。カセツト設置台（１）が
更に下降し、最下段収納マスクが近接センサ（不図示）
の検知距離内に達すると、該センサより信号が発せら
れ、それによりその時の上記パルスカウント数から最下
段収納マスクの収納溝のカセツト下面からの段数を検知
し、ロード用カセツトの場合はその収納溝（すなわち最
下段収納マスク）を、アンロード用カセツトならばその
収納溝直下の空き収納溝をローダ部のマスク受け渡し位
置に移動させる。カセツトの取付下面からの各収納溝位
置までの寸法は、本機構を動作せしむるに充分なだけの
精度が保証されているので、最下段マスク収納溝のカセ
ツト下面からの段数を検知し得れば、その収納溝寸法に
対応するパルスカウント値だけカセツトを移動すること
によりターゲツトマスク又は収納溝をローダとの受け渡
し位置に移動させることができる。なお上記近接センサ
のマスク位置検知精度は、カセツトのマスク収納溝１ピ
ツチ分内に納まればよいので、それ程高精度のセンサを
使用する必要はない。又アンロード用カセツトにおい
て、カセツト内にマスクが１枚も収納されていない場合
は、カセツト設置台（１）は下降を続け、下部原点フオ
トセンサ（19）を遮光羽根（17）が遮光する時点でカセ
ツト設置台（１）は上昇に転ずる。この時パルスカウン
ト数は１度０にリセツトされ、この点から該パルスは再
カウントされ最上部マスク収納溝をローダとのマスク受
け渡し位置に移動させる。このようにパルスカウント数
を０にリセツトするのは上部原点フオトセンサ（18）よ
りカウントを開始したパルスのパルスサイクルの誤差が
累積して生じるカセツト設置台（１）の移動量の誤差を
上昇行程の移動量に加算させないためであり、このよう
に構成することで上部原点フオトセンサ（18）と下部原
点フオトセンサ（19）との機械的な寸法位置を設定して
おくだけで各マスク収納溝のローダ部受け渡し位置への
移動精度が向上する。

露光装置本体（50）上のマスクホルダ（51）上にマスク
（25）が載置されている場合は、両カセツト設置台（1
a），（1b）が下降中にローダはレール（30）の先端を
露光機側へ向け、垂直駆動機構（32）によりレールの高
さをマスクホルダー（51）への進入高さZ₀（第１図参
照）に位置決めし、続いてレール（30）上をスライダ
（40）が移動して、マスクホルダ（51）に進入し所定位
置にて停止、垂直駆動機構（32）を作動してアーム（4
1）を定位置Z₁（第１図参照）まで上昇せしめ、上昇途
中でマスク（25）をアーム（41）のマスク載置面（43）
上に載置し真空吸着する。次にスライダー（40）がレー
ル（30）上を後退してマスク（25）を搬出、回転駆動機
構（31）を作動してレール（30）の先端をアンロード用
カセツトの方へ向ける。両カセツトの最下段収納マスク
検索が終了し、ターゲツトマスク又はターゲツト溝がロ
ーダとのマスク受け渡し位置に移動されると、ローダは
マスク（25）をアーム（41）に吸着したまゝ、アンロー
ド用カセツト（2b）に進入し、マスク（25）をマスク収
納溝に挿入しながら定位置まで進んで停止する。この位
置ではマスク（25）はカセツト収納溝上に完全に収納さ
れている。ついでマスク載置面（43）の真空吸着を止
め、アーム（41）は垂直駆動機構（32）により定位置Z₀
まで下降、下降途中にてマスク（25）はカセツト収納溝
に収納される。

以上によりマスクの搬出工程は終了し、次に供給工程に
移る。ローダの回転駆動機構（31）を作動してレール
（30）をロード用カセツトの方に向け、スライダ（40）
がレール（30）上を前進して、ロード用カセツト（2a）
の最下段収納マスクの下にアーム（41）を挿入し定位置
で停止させる。続いて垂直駆動機構（32）が作動してア
ーム（41）は所定位置まで上昇し、上昇中にマスク（2
5）を載置面（43）上に載置せしめ真空吸着する。その
後スライダ（40）はレール（30）上を定位置まで後退
し、マスク（25）をカセツトより完全に搬出すると回転
駆動機構（31）が作動してレール（30）は露光装置本体
（50）の方へ向く。このあとプリアライメント工程に移
り、レール（30）に垂直駆動機構（32）により下降し、
遮光羽根（38）がフオトセンサ（36）を遮光すると下降
を停止し、アーム（41）はマスク（25）の真空吸着を止
め待機する。この時前述のようにプリアライメント部の
位置決め部材（21）と押圧部材（22）とは所定位置に退
避している。プリアライメントを完了するとアーム（4
1）は再びマスク（25）を真空吸着し、定位置Z₁まで上
昇した後停止し、アーム（41）がマスクホルダ（51）上
にマスクを進入させて定位置で停止し、マスク（25）の
真空吸着を解除した後、アーム（41）は下降を開始し、
下降途中でマスク（25）はマスクホルダ（51）上に載置
される。アーム（41）が定位置まで下降すると、レール
（30）は後退して定位置で停止し、マスク供給工程は完
了する。

マスクホルダ（51）に載置されたマスク（25）は、真空
吸着され露光工程に入り、露光が終了すると露光終了信
号を受けた搬送装置が以後上記と同様のマスク搬出、供
給工程を繰返す。

尚ロードカセツト内部のマスクブランクをすべて供給し
終つた場合、又はアンロードカセツト内部のすべてのマ
スク収納溝にマスクが収納された場合は、ロード又はア
ンロードカセツト設置台（1a），（1b）は最高位置まで
上昇し、警報を発しオペレータにカセツト交換を求め
る。

以上のマスク搬送装置の各部の動作は、第６図に示すよ
うに主制御装置MCを中心として構成された制御回路によ
り制御されるので、全動作は自動的かつ作業効率高く作
動する。

なお上記実施例はマスクの露光工程における例である
が、マスクの検査工程にも利用され、又マスクに限らず
（レチクル）にも使用することができる。さらに半導体
ウエハの自動搬送にも全く同様に利用できる。

また本実施例では、ロードカセツトからマスクを取り出
し、処理の終つたマスクを別のアンロードカセツトに搬
送するようにしたが、例えば検査装置等の場合は、不良
のマスク（又はウエハ）と正常のマスクとを分けるよう
な搬送方式も考えられる。

具体的には、検査の結果、不良となつたマスクはアンロ
ードカセツトに搬送し、正常なマスクは再びロードカセ
ツトに戻すようなシーケンスにすればよい。

ところで、第５図に示したアーム（41）のマスクサイズ
に対応した吸着溝42a,43a,44aのうち、どの吸着溝を使
うかを判断するのに、どちらか一方のカセツト設置台か
らのカセツトサイズ検出信号（フオトセンサー13,14,15
からの出力信号）のみを使つて、第６図に示した電磁弁
B₁，B₂，B₃のいずれかを選択するようにしてもよい。

〔発明の効果〕

本発明は複数寸法の基板を搬送する基板搬送機におい
て、ロード用カセツト及びアンロード用カセツト設置台
にカセツトサイズ（基板サイズ）判別のための検知手段
を備えて、上記両カセツト設置台上に載置されたカセツ
トにより基板のサイズ判別信号を発信せしめ、両カセツ
ト設置台のサイズ判別信号を比較して、次のシークエン
スを実行するように構成したので、次に述べるような優
れた効果を上げることができた。

（１）両カセツト設置台上のカセツトのサイズが異なつ
ている場合は機器は動作せず、従つて誤動作によるトラ
ブルを防止しうる。

（２）上記サイズ判別信号により基板吸着溝の真空源へ
の接続及びプリアライメント部への停止位置の設定が行
なわれるためオペレーターはカセツトをカセツト設置台
上に載置するだけでそれ以後の工程はすべて自動化さ
れ、作業効率を格段に向上さしめた。

特に今日の工場内の自動化の進展に伴い工場内で自動運
搬ロボツトが基板収納カセツトを運搬する様な場合、ロ
ボツトがカセツトをカセツト収納台に乗せるだけで、搬
送装置が動作するため、ロボツトに他の動作をさせる必
要もなく、省力化，完全自動化の面でも有利である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すマスク搬送装置の斜視
図、第２図はカセツト設置台の斜視図、第３図はカセツ
ト設置台のサイズ判別装置の説明図、第４図はプリアラ
イメントの説明図、第５図はローダの斜視図、第６図は
制御ブロツク図である。図中（１）はカセツト設置台、（２）はマスクカセツ
ト、（30）はレール、（31）は回転駆動機構、（32）は
垂直駆動機構、（40）はスライダ機構、（41）はアー
ム、（50）は露出装置、（51）はマスクホルダである。

フロントページの続き (72)発明者西方昭雄東京都品川区西大井１丁目６番３号日本光学工業株式会社大井製作所内 (72)発明者松本康久東京都品川区西大井１丁目６番３号日本光学工業株式会社大井製作所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】収納する基板のサイズに応じてサイズの異
なる複数種のカセットを載置可能な複数個のカセット設
置台を有する基板搬送装置において、上記カセット設置台それぞれに設けられ、上記カセット
設置台に載置されたカセットのサイズを検知してカセッ
トサイズに応じたカセットサイズ検知信号を出力するカ
セットサイズ検知手段と、上記カセット検知手段それぞれから出力されるカセット
サイズ検知信号を比較し、該比較結果に基づいて搬送動
作を制御する制御手段と、を具備することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】収納する基板のサイズに応じてサイズの異
なる複数種のカセットを載置可能な複数個のカセット設
置台を有する基板搬送装置において、上記カセット設置台それぞれに設けられ、上記カセット
設置台に載置されたカセットのサイズを検知してカセッ
トサイズに応じたカセットサイズ検知信号を出力するカ
セットサイズ検知手段と、上記カセット検知手段それぞれから出力されるカセット
サイズ検知信号を比較し、該比較結果に基づいて搬送動
作を制御する制御手段と、搬送する基板サイズ毎に異なる吸着部を有し、該吸着部
に基板を吸着すると共に、前記複数個のカセット間で基
板の搬送を行う搬送手段と、上記搬送手段の吸着部に接続される真空源と、上記カセットサイズ検知手段それぞれから出力されるカ
セットサイズ検知信号が一致した時に、上記カセットに
収納された基板のサイズに対応する上記搬送手段の吸着
部と上記真空源とを接続する接続手段と、を具備することを特徴とする基板搬送装置。