JPH07118502B2 - Wafer handling method and device in cassette - Google Patents
Wafer handling method and device in cassetteInfo
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- JPH07118502B2 JPH07118502B2 JP1017856A JP1785689A JPH07118502B2 JP H07118502 B2 JPH07118502 B2 JP H07118502B2 JP 1017856 A JP1017856 A JP 1017856A JP 1785689 A JP1785689 A JP 1785689A JP H07118502 B2 JPH07118502 B2 JP H07118502B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、カセット内のウエハのハンドリング方法お
よび装置に関し、詳しくは、半導体製造ラインにおい
て、カセットのウエハ収納ピッチの相違に影響されずに
カセット内に配置されたウエハをカセットから効率よく
取り出すことができるようなウエハハンドリング処理の
改良に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for handling wafers in a cassette, and more particularly, in a semiconductor manufacturing line, a cassette is not affected by a difference in a wafer storage pitch of the cassette. The present invention relates to improvement of a wafer handling process so that a wafer placed inside can be efficiently taken out from a cassette.
[従来の技術] 半導体の基本材料であるウェハは、製造ラインにおいて
はカセットに収納されて、各処理装置間を搬送されて装
置の所定位置に載置される。[Prior Art] A wafer, which is a basic material of a semiconductor, is housed in a cassette in a manufacturing line, conveyed between processing apparatuses, and placed at a predetermined position of the apparatus.
第2図(a)に示すように、カセット2には多数のウェ
ハ1が、上下方向に一定のギャップをなして積層され
る。各処理装置においては、図(b)に示すように、カ
セット2の前方のウエハ出し口側にウエハ取出機構4が
設けられていて、この機構は、モータ4aにより上下移動
機構4bが回転アーム4cを垂直に移動させ、回転アーム4c
の先端に設けられた吸着アーム4dがウェハ1に接触し、
ウエハの端部をウエハ1の裏面側から吸着してウエハを
取り出す。なお、ウエハ1をカセット2に収納する場合
には、前記と逆の動作となる。また、図示矢印Aは吸着
アーム4dに対する吸着エアー管を示す。As shown in FIG. 2A, a large number of wafers 1 are stacked on the cassette 2 with a certain gap in the vertical direction. In each processing apparatus, as shown in FIG. 2B, a wafer unloading mechanism 4 is provided in front of the cassette 2 on the side of the wafer unloading port. Vertically move the rotating arm 4c
The suction arm 4d provided at the tip of the wafer contacts the wafer 1,
The edge of the wafer is sucked from the back surface side of the wafer 1 to take out the wafer. When the wafer 1 is stored in the cassette 2, the operation is the reverse of the above. Further, an arrow A shown in the figure indicates a suction air tube for the suction arm 4d.
[解決しようとする課題] ウエハを収納するカセットは、通常、プラスチック製で
あり、製造メーカによって、その収納ピッチに相違があ
るため、ウエハ取出機構4とカセット2との関係を微調
整しなければ、自動的にウェハの取出しができない。[Problems to be Solved] Since a cassette for storing wafers is usually made of plastic and the storage pitch varies depending on the manufacturer, the relationship between the wafer unloading mechanism 4 and the cassette 2 must be finely adjusted. , The wafer cannot be taken out automatically.
しかし、カセットを装着する都度、微調整を行うと装置
の処理効率が低下する。However, if a fine adjustment is made every time the cassette is mounted, the processing efficiency of the device will decrease.
また、上記のウエハの取出しにあっては、ウエハ取出機
構4は、別途の制御回路により制御されるが、この制御
は、カセット2内のすべての位置にウェハ1が収納され
た、いわば満杯の状態として上記一定のギャップ間隔で
遂次移動する方式がとられる。しかしながら、各処理装
置における処理段階で不良のウェハが取り去らされるこ
とがあって、満杯でなく、一部が欠落した状態となる場
合も起こる。このような欠落部分に対しても上記の吸着
動作を行うことは明らかに時間のロスとなる。Further, in the above-mentioned wafer taking-out, the wafer taking-out mechanism 4 is controlled by a separate control circuit, but this control is such that the wafer 1 is stored at all positions in the cassette 2, that is, it is full. As a state, a method of sequentially moving at the constant gap interval is adopted. However, a defective wafer may be removed at the processing stage in each processing apparatus, and a case may occur in which the wafer is not full and a part of the wafer is missing. Obviously, performing the above-mentioned suction operation on such a missing portion causes a loss of time.
この発明は、このような従来の問題点を解決するもので
あって、カセットの収納ピッチが相違していても、或い
はウエハが欠落していても、カセット内のウエハ位置に
対応するハンドリングのZ座標及び対応する画素書号を
自動測定し、そのデータをもとに容易にハンドリング処
理することができるカセット内のウエハのハンドリング
方法および装置を提供することを目的とする。The present invention solves such a conventional problem and, even if the storage pitches of the cassettes are different or the wafers are missing, the handling Z corresponding to the wafer position in the cassette is performed. An object of the present invention is to provide a method and an apparatus for handling a wafer in a cassette, which is capable of automatically measuring coordinates and a corresponding pixel number and performing a handling process easily based on the data.
[課題を解決するための手段] このような目的を達成するためのこの発明のカセット内
のウエハのハンドリング方法の特徴は、ウェハの出し口
と反対側のカセットの背面或いはこの背面に隣接して後
ろ側に固定されてウエハが収納される高さに対応して設
けられたリニア光センサと、このリニア光センサに対し
て出し口側から光を照射する光源と、この光源をカセッ
トの高さ方向に沿って上下に移動させる移動機構とを備
えていて、光源をカセットの高さ方向に沿って上又は下
方向に移動させて、その移動に応じて得られるリニア光
センサの出力によりウエハが存在する位置を得て、得ら
れた位置にウエハを取出すアームを位置付けるものであ
る。[Means for Solving the Problems] The feature of the method for handling a wafer in a cassette of the present invention for achieving such an object is that the wafer is provided on the back surface of the cassette on the side opposite to the wafer outlet or adjacent to this back surface. A linear optical sensor that is fixed to the rear side and is provided corresponding to the height at which wafers are stored, a light source that irradiates the linear optical sensor with light from the outlet side, and this light source is the height of the cassette. A moving mechanism for moving the wafer up and down along the direction, and moving the light source upward or downward along the height direction of the cassette, and the wafer is detected by the output of the linear optical sensor obtained according to the movement. This is to obtain an existing position and position an arm for taking out the wafer at the obtained position.
また、前記の構成に加えて、さらに、カセット内のウエ
ハのハンドリング装置の特徴は、カセットの高さ方向に
沿ってカセットのウエハが収納されている範囲に亙って
上又は下方向に移動させて、ウエハの位置を検出してウ
エハが存在する位置をデータとしてメモリに記憶してお
き、このデータをメモリから読出してこのデータに従っ
てウエハを取出すアームをウエハのある位置に位置決め
する制御位置を備えるものである。Further, in addition to the above-mentioned configuration, a feature of the wafer handling device in the cassette is that the wafer is moved upward or downward along the height direction of the cassette over the range in which the wafers in the cassette are stored. A control position for detecting the position of the wafer, storing the position of the wafer in the memory as data, reading this data from the memory, and positioning the arm for taking out the wafer according to this data at a certain position of the wafer. It is a thing.
[作用] 上記の構成によるカセット内のウェハの位置の検出にあ
っては、光源よりの光ビームが上下移動機構により垂直
方向に移動するとき、カセット内のウェハに遮られてウ
ェハの収納された位置応じてリニア光センサの対応する
位置の受光素子が光を受光しなくなるので、これにより
カセット内の実際のウエハの位置を検出することができ
る。[Operation] In the detection of the position of the wafer in the cassette having the above-described configuration, when the light beam from the light source moves in the vertical direction by the vertical movement mechanism, the wafer in the cassette is blocked and stored. Since the light receiving element at the corresponding position of the linear optical sensor does not receive light depending on the position, it is possible to detect the actual position of the wafer in the cassette.
すなわち、カセットが装着されたときに、このカセット
に対して光源をカセットの高さ方向に沿って上又は下方
向に移動させてイメージセンサで受光してウエハの位置
を検出することにより、イメージセンサでの受光位置
は、カセットが装着される都度ダイナミックに決定さ
れ、従来のLEDの受光素子を個別的に配列した場合のよ
うな位置の固定性がなくなる。そこで、移動に応じて得
られるリニア光センサの出力は、その都度、現実のウエ
ハの位置をカセット対応に表している。That is, when the cassette is mounted, the light source is moved up or down along the height direction of the cassette with respect to the cassette, and the image sensor receives the light to detect the position of the wafer. The light receiving position is dynamically determined every time the cassette is mounted, and the position fixing property as in the case where the light receiving elements of the conventional LED are individually arranged is lost. Therefore, the output of the linear optical sensor obtained according to the movement represents the actual wafer position in each case in correspondence with the cassette.
その結果、ウエハが存在する位置を得れば、カセットの
サイズのばらつきや取付状態、設置状態に無関係に実際
の現在のカセット内のウエハの位置をそのまま検出で
き、製造メーカによって収納ピッチに相違があるために
カセットを装着する都度行う微調整をしなくても済む。As a result, if the position where the wafer exists can be obtained, the actual current position of the wafer in the cassette can be detected as it is, regardless of the variation in the size of the cassette, the mounting state, and the mounting state. Because of this, there is no need to make fine adjustments each time the cassette is installed.
この受光信号をリニア光センサの出力として得て、例え
ば、その出力信号をデータ処理すれば、カセット内の実
際のウエハの位置が容易に得られ、かつ必要に応じてそ
の収納されるピッチの情報も得ることができる。なお、
もし所定の位置にウェハが欠落しているときは、光ビー
ムが受光されて欠落として検出され、その上にあるウエ
ハの位置が検出されることになる。By obtaining this received light signal as the output of the linear optical sensor and processing the output signal, for example, the actual position of the wafer in the cassette can be easily obtained, and if necessary, information on the pitch to be stored. You can also get In addition,
If the wafer is missing at a predetermined position, the light beam is received and detected as missing, and the position of the wafer above it is detected.
このように、ウエハのある位置情報をリニア光センサか
ら得て、それをハンドリング機構を制御する制御回路に
送出すれば、吸着アームを位置決めする位置情報とする
ことができ、効率的なウエハ取出し処理が可能となる。In this way, if certain position information of the wafer is obtained from the linear optical sensor and sent to the control circuit that controls the handling mechanism, it can be used as position information for positioning the suction arm, and an efficient wafer unloading process can be performed. Is possible.
なお、光ビームの光源にはレーザダイオードが簡易で好
都合であり、そのビームを細く絞ることにより分解能が
向上するが、ウェハは厚さが非常に薄くてウェハ表面に
よりビームの無用な反射光がS/N比を低下させ、確実な
検出ができないようなときには、その表面に対して低角
度で光ビームを傾斜して照射することにより、ウェハに
よる光ビームの遮断が確実になり、その検出を精度を向
上させることができる。A laser diode is simple and convenient for the light source of the light beam, and the resolution is improved by narrowing the beam finely, but the wafer is very thin and unnecessary reflection light of the beam is reflected by the wafer surface. When the / N ratio is reduced and reliable detection is not possible, the light beam is obliquely irradiated to the surface at a low angle to ensure that the light beam is blocked by the wafer and the detection is accurate. Can be improved.
[実施例] 第1図(a),(b)はこの発明によるカセット内のウ
エハのハンドリング方法および装置の実施例の構成図で
ある。同図(a)において、ウェハ1を収納したカセッ
ト2は載置台3に載置される。カセットの背面には、第
2図(a)に示した切欠き部2aがあるので、載置台3の
対応する位置に切欠き部3aを設け、ここにCCDのリニア
光センサとして1ラインイメージセンサ5を取り付け
る。なお、この1ラインイメージセンサ5は、カセット
2におけるウェハ1の出し入れ口側と反対側のカセット
2の背面に直接或いはこの背面に隣接した位置でウエハ
1が収納される高さ方向に対応して設けられていればよ
い。[Embodiment] FIGS. 1A and 1B are configuration diagrams of an embodiment of a method and apparatus for handling a wafer in a cassette according to the present invention. In FIG. 1A, the cassette 2 containing the wafer 1 is placed on the placing table 3. Since the notch portion 2a shown in FIG. 2 (a) is provided on the back surface of the cassette, the notch portion 3a is provided at the corresponding position of the mounting table 3 and the 1-line image sensor is provided as a linear optical sensor of the CCD. Attach 5. The 1-line image sensor 5 corresponds to the height direction in which the wafer 1 is stored directly on the back surface of the cassette 2 on the side opposite to the loading / unloading side of the wafer 1 in the cassette 2 or at a position adjacent to this back surface. It should be provided.
また、カセット2の出し入れ口の前面側に隣接して設け
られている上下移動機構4bの適当な箇所に光源4eを取り
付ける。このようにすれば、上下移動機構4bの移動によ
り、光源4eの光ビームBがウェハ間のギャップを通して
1ラインイメージセンサ5に受光されるが、ウェハが有
るときはそれが遮断されてウェハの位置が検出される。Further, the light source 4e is attached to an appropriate location of the vertical movement mechanism 4b provided adjacent to the front side of the loading / unloading opening of the cassette 2. In this way, the light beam B of the light source 4e is received by the 1-line image sensor 5 through the gap between the wafers by the movement of the vertical movement mechanism 4b, but when there is a wafer, it is blocked and the wafer position is changed. Is detected.
こうして検出された信号は、増幅器とA/Dコンバータ、
そしてデジタルコンパレータ等のレベル判定回路等とを
有する信号処理回路6を介して制御装置7に入力され
る。制御装置7は、各種の処理プログラムを記憶したRO
M等を有する演算処理装置(MPU)と、各種のデータを記
憶するRAM等からなるメモリ等とを備えていて、処理装
置7は、1ラインイメージセンサ5から得られる信号を
前記信号処理回路6を介して1ラインイメージセンサ5
を構成する各単位受光素子である画素5a(なお、画素5a
は図では拡大して示している)対応の信号として得られ
る“1",“0"を受けて、そのうちの“0"の位置を光を受
けない位置、すなわち、ウエハ1が存在する位置として
処理する。The signal detected in this way is the amplifier and A / D converter,
Then, it is input to the control device 7 via a signal processing circuit 6 having a level determination circuit such as a digital comparator. The control device 7 is an RO that stores various processing programs.
The processing unit 7 includes an arithmetic processing unit (MPU) having M and the like, a memory including RAM for storing various data, and the like, and the processing unit 7 converts the signal obtained from the 1-line image sensor 5 into the signal processing circuit 6 1 line image sensor 5 via
Pixel 5a (each pixel 5a
Is shown enlarged in the figure) "1" and "0" obtained as corresponding signals are received, and the position of "0" among them is the position where light is not received, that is, the position where the wafer 1 exists. To process.
なお、信号処理回路6は、そのレベル判定回路により、
閾値以下の信号があるときに、ウエハがあると判定し
て、“0"の信号を発生し、そうでないときに“1"の信号
を発生する。このように閾値を設けて判定することによ
り1ラインイメージセンサの各画素の特性のばらつきを
キャンセルすることができる。この場合、“1"と“0"と
は、反転させて論理を逆にして用いてもよいことはもち
ろんである。The signal processing circuit 6 is
When there is a signal below the threshold value, it is determined that there is a wafer, and a signal of "0" is generated, and when it is not, a signal of "1" is generated. By thus setting the threshold and making the determination, it is possible to cancel the variation in the characteristics of each pixel of the one-line image sensor. In this case, it goes without saying that "1" and "0" may be used by inverting and inverting the logic.
さて、処理装置7は、MPUの制御により、あらかじめモ
ータ4aと上下移動機構4bにより光学検出器の光源4eをカ
セット2の高さ範囲内で移動させる。また、このとき、
内蔵されたZ位置検出器によりモータ4aの回転数をカウ
ントすることで吸着アーム4dのZ位置を検出し、検出さ
れたZ位置に対応するメモリのアドレスに、1ラインイ
メージセンサ5により得られる検出データを記憶する。
ウエハ取出しにおいては、吸着アーム4dのZ座標方向
(上下方向の位置)の移動に対応して記憶された検出デ
ータをメモリから読出し、吸着アーム4dをウェハの存在
するZ位置に遂次位置決めしてウエハの取出しを行う。
この場合、ウェハが欠落した位置はジャンプされること
になることは当然である。Now, the processing device 7 moves the light source 4e of the optical detector within the height range of the cassette 2 in advance by the motor 4a and the vertical movement mechanism 4b under the control of the MPU. Also, at this time,
The Z position of the suction arm 4d is detected by counting the number of rotations of the motor 4a by the built-in Z position detector, and the detection obtained by the 1-line image sensor 5 at the memory address corresponding to the detected Z position. Store data.
In taking out the wafer, the detection data stored corresponding to the movement of the suction arm 4d in the Z-coordinate direction (vertical position) is read from the memory, and the suction arm 4d is sequentially positioned at the Z position where the wafer exists. The wafer is taken out.
In this case, it is natural that the position where the wafer is missing is jumped.
ここで、制御装置7は、1ラインイメージセンサ5のイ
メージ信号のうちからウエハの位置を連続する“0"のビ
ットとして受けて、この“1",“0"の情報をデータ処理
することで、ウエハとウエハとの間のピッチ及びそれぞ
れの位置を算出する。算出されたウエハ間のピッチ或い
は位置は、メモリに記憶されて、上下移動機構4のモー
タ4aに送出されることで、吸着アーム4dが所望のウエハ
1の位置に位置付けられてウエハ1が取出されることに
なる。なお、カセット2の底の位置でも光が遮断される
ので、その位置検出ができ、載置台3を基準としたカセ
ット2及びその内部に配置されたウエハ1の位置関係は
すべて検出することができる。また、このような基準位
置を算出して決定しなくても、最初のウエハの位置さえ
判れば、他のウエハは、全て位置検出ができることにな
る。そして、前記の最初の位置だけは、吸着アーム4dを
制御して従来のような検出の仕方であってもよい。Here, the controller 7 receives the wafer position as a continuous “0” bit from the image signal of the 1-line image sensor 5 and processes the information of “1” and “0” by data processing. , The pitch between the wafers and the respective positions are calculated. The calculated pitch or position between the wafers is stored in the memory and sent to the motor 4a of the vertical movement mechanism 4 so that the suction arm 4d is positioned at the desired position of the wafer 1 and the wafer 1 is taken out. Will be. Since the light is blocked even at the bottom position of the cassette 2, the position can be detected, and the positional relationship between the cassette 2 and the wafer 1 arranged inside the cassette 2 with respect to the mounting table 3 can be detected. . Further, even if such a reference position is not calculated and determined, if only the position of the first wafer is known, the positions of all the other wafers can be detected. Then, only the above-mentioned first position may be detected in the conventional manner by controlling the suction arm 4d.
図(b)は、光源4eと光ビームの方向を詳細に示すもの
で、光源にはレーザダイオード41を使用し、レンズ42に
よりコリメートし、ピンホール43によりビーム径を細く
絞る。ビームBは、隣接ウェハ1aと1b間の一定のギャッ
プGを丁度通過できるような角度、例えば、2〜3度に
傾斜させる。これにより、ウェハ表面の反射光に妨害さ
れず厚さの薄いウェハでも確実に検出することができ
る。FIG. 2B shows the light source 4e and the direction of the light beam in detail. A laser diode 41 is used as the light source, collimation is performed by a lens 42, and a beam diameter is narrowed down by a pinhole 43. The beam B is inclined at an angle such that it can pass through a constant gap G between the adjacent wafers 1a and 1b, for example, 2 to 3 degrees. As a result, even a thin wafer can be reliably detected without being obstructed by the reflected light from the wafer surface.
以上説明してきたが、実施例では、CCDの1ラインイメ
ージセンサを用いているが、ウエハの高さ方向に直線状
に配列されて、光の受光位置の信号が直線状に配列され
た位置に対応して得られるようなリニア光センサであれ
ばどのようなものであってもよい。As described above, in the embodiment, the CCD one-line image sensor is used. However, the signals are arranged linearly in the height direction of the wafer, and the signal of the light receiving position is arranged linearly. Any linear optical sensor that can be obtained correspondingly may be used.
[発明の効果] 以上の説明から理解できるように、この発明にあって
は、ウエハのピッチサイズが相違していても、また、ウ
エハの欠落等があったとしても、実際に存在しているウ
エハの位置(或いはその有無)をCCD等のリニア光セン
サにより確実に検出できるので、その検出位置データ或
いは、その有無を示すデータにより吸着アーム等のウエ
ハハンドリング機構を制御することができ、従来のよう
に各ウェハの位置に対して無駄なアーム動作が省略され
てハンドリング処理ができ、カセットの装着からウエハ
の取出処理に至るウエハハンドリング処理の作業時間を
短縮することができ、処理効率を向上させることができ
る。[Effects of the Invention] As can be understood from the above description, in the present invention, even if the pitch size of the wafer is different, or even if there is a missing wafer, it actually exists. Since the position of the wafer (or its presence / absence) can be reliably detected by a linear optical sensor such as a CCD, the wafer handling mechanism such as the suction arm can be controlled by the detected position data or the data indicating the presence / absence of the wafer. As described above, the useless arm operation is omitted for each wafer position, and the handling process can be performed, and the work time of the wafer handling process from the mounting of the cassette to the taking-out process of the wafer can be shortened and the processing efficiency is improved. be able to.
第1図(a)および(b)は、この発明によるカセット
内のウエハのハンドリング方法および装置の一実施例の
構成図、第2図(a)および(b)は、カセットにウェ
ハを収納した斜視外観図と従来のウェハのウエハ取出し
方法の説明図である。 1……ウェハ、2……カセット、 2a,3a……切欠き部、3……載置台、 4……ウエハ取出機構、4a……モータ、 4b……上下移動機構、4c……回転アーム、 4d……吸着アーム、4e……光源、 41……レーザダイオード、42……レンズ、 43……ピンホール、5……1ラインイメージセンサ。FIGS. 1 (a) and 1 (b) are configuration diagrams of an embodiment of a method and apparatus for handling wafers in a cassette according to the present invention, and FIGS. 2 (a) and 2 (b) show wafers stored in a cassette. It is a perspective external view and explanatory drawing of the conventional wafer removal method of a wafer. 1 ... Wafer, 2 ... Cassette, 2a, 3a ... Notch, 3 ... Mounting table, 4 ... Wafer take-out mechanism, 4a ... Motor, 4b ... Vertical movement mechanism, 4c ... Rotating arm, 4d ... Suction arm, 4e ... Light source, 41 ... Laser diode, 42 ... Lens, 43 ... Pinhole, 5 ... 1 line image sensor.
Claims (4)
なして収納されたウェハをハンドリングするカセット内
ウエハのハンドリング方法において、前記ウェハの出し
口と反対側の前記カセットの背面に直接またはこの背面
の後ろでこの背面に隣接した位置のいずれかに固定され
て前記ウエハが収納される高さに対応して設けられたリ
ニア光センサと、このリニア光センサに対して前記出し
口側から光を照射する光源と、この光源を前記カセット
の高さ方向に沿って上下に移動させる移動機構とを備
え、前記光源を前記カセットの高さ方向に沿って上又は
下方向に移動させて、その移動に応じて得られる前記リ
ニア光センサの出力により前記ウエハが存在する位置を
得て、得られた位置にウエハを取出すアームを位置付け
ることを特徴とするカセット内ウエハのハンドリング方
法。1. A method of handling wafers in a cassette for handling wafers housed in a cassette with a certain gap in the up-down direction, directly or on the back surface of the cassette on the side opposite to the outlet of the wafer. A linear optical sensor fixed to one of the positions behind the back surface of the wafer and corresponding to the height at which the wafer is accommodated, and the linear optical sensor emits light from the outlet side. A light source for irradiating and a moving mechanism for moving the light source up and down along the height direction of the cassette, and moving the light source up or down along the height direction of the cassette, and moving the light source. The position of the wafer is obtained from the output of the linear optical sensor obtained in accordance with the above, and the arm for taking out the wafer is positioned at the obtained position. Method of handling a set in the wafer.
なして収納されたウェハをハンドリングするカセット内
ウエハのハンドリング装置において、前記ウェハの出し
口と反対側の前記カセットの背面に直接またはこの背面
の後ろでこの背面に隣接した位置のいずれかに固定され
て前記ウエハが終了される高さに対応して設けられたリ
ニア光センサと、このリニア光センサに対して前記出し
口側から光を照射する光源と、この光源を前記カセット
の高さ方向に沿って上下に移動させる移動機構と、この
移動機構を制御して前記光源を前記カセットの高さ方向
に沿って前記カセットのウエハが収納されている範囲に
亙って上又は下方向に移動させて、その移動に応じて得
られる前記リニア光センサの出力を受けて前記ウエハが
存在する位置をそれぞれ検出してこれらの位置をデータ
としてメモリに記憶し、前記カセットからウエハと取出
す際に、前記データをメモリから読出してこのデータに
従って前記カセットからウエハを取出すアームをウエハ
のある位置に位置決めする制御装置とを備えることを特
徴とするカセット内ウエハのハンドリング装置。2. A wafer handling device in a cassette for handling wafers housed in a cassette with a certain gap in the up-down direction, directly or on the back surface of the cassette on the side opposite to the wafer outlet. A linear photosensor provided at a position which is fixed to one of the positions adjacent to the back surface behind the wafer and corresponds to a height at which the wafer is finished, and light from the exit side to the linear photosensor. A light source for irradiation, a moving mechanism for moving the light source up and down along the height direction of the cassette, and a mechanism for controlling the moving mechanism to store the light source in the cassette along the height direction of the cassette. The position where the wafer is present is determined by receiving the output of the linear photosensor obtained according to the movement by moving the wafer upward or downward over the range. Each position is detected and stored in the memory as data, and when the wafer is taken out from the cassette, the data is read from the memory and the arm for taking out the wafer from the cassette is positioned at a certain position of the wafer according to the data. A device for handling wafers in a cassette, comprising: a controller.
を取出すアームを有するウエハハンドリング機構であ
り、前記光源は、このウエハハンドリング機構に取付け
られていることを特徴とする請求項2記載のカセット内
ウエハのハンドリング装置。3. The cassette according to claim 2, wherein the moving mechanism is a wafer handling mechanism having an arm for taking out a wafer from the cassette, and the light source is attached to the wafer handling mechanism. Wafer handling equipment.
光素子が配置されたCCDで構成され、光源から前記リニ
ア光センサに照射される光は、傾斜していることを特徴
とする請求項2記載のカセット内ウエハのハンドリング
装置。4. The linear light sensor is composed of a CCD in which a plurality of unit light receiving elements are linearly arranged, and the light emitted from the light source to the linear light sensor is inclined. Item 2. A wafer handling device in a cassette according to item 2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1017856A JPH07118502B2 (en) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | Wafer handling method and device in cassette |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1017856A JPH07118502B2 (en) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | Wafer handling method and device in cassette |
Publications (2)
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