JPH0699135B2 - 球状シリカゲルの製造法 - Google Patents
球状シリカゲルの製造法Info
- Publication number
- JPH0699135B2 JPH0699135B2 JP1039957A JP3995789A JPH0699135B2 JP H0699135 B2 JPH0699135 B2 JP H0699135B2 JP 1039957 A JP1039957 A JP 1039957A JP 3995789 A JP3995789 A JP 3995789A JP H0699135 B2 JPH0699135 B2 JP H0699135B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica gel
- slurry
- spherical silica
- water
- silica hydrogel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/16—Preparation of silica xerogels
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
- B01J21/08—Silica
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/0009—Use of binding agents; Moulding; Pressing; Powdering; Granulating; Addition of materials ameliorating the mechanical properties of the product catalyst
- B01J37/0027—Powdering
- B01J37/0045—Drying a slurry, e.g. spray drying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/152—Preparation of hydrogels
- C01B33/154—Preparation of hydrogels by acidic treatment of aqueous silicate solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/157—After-treatment of gels
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は球状シリカゲルの製造法に関するものであり、
詳しくは、例えば、オレフィンの重合触媒担体として適
した球状シリカゲルの製造法に関するものである。
詳しくは、例えば、オレフィンの重合触媒担体として適
した球状シリカゲルの製造法に関するものである。
[従来技術とその問題点] 従来より、オレフィンの重合開始触媒を担持するための
担体として球状シリカゲルが広く利用されている。これ
は球状シリカゲルが適度な細孔を有する不活性な球状物
であるため、重合開始剤の担持面からも、また、特に気
相重合における系内の流動性の面からも望ましいからで
ある。
担体として球状シリカゲルが広く利用されている。これ
は球状シリカゲルが適度な細孔を有する不活性な球状物
であるため、重合開始剤の担持面からも、また、特に気
相重合における系内の流動性の面からも望ましいからで
ある。
これら担体として使用する球状シリカゲルの場合、通
常、表面積、平均細孔径、細孔容積、粒子強度、及び平
均粒径などの各種の物性値を厳密にコントロールするこ
とが要求される。一般的に望ましい球状シリカゲルの物
性値としては例えば、次の範囲のものが挙げられる。
常、表面積、平均細孔径、細孔容積、粒子強度、及び平
均粒径などの各種の物性値を厳密にコントロールするこ
とが要求される。一般的に望ましい球状シリカゲルの物
性値としては例えば、次の範囲のものが挙げられる。
表 面 積 50〜700m2/g 平均細孔径 20〜1000Å 細孔容積 0.3〜2.0ml/g 平均粒径 5μm〜5mm 粒子強度 1〜4 ところが、これらの各物性値を全て満足できる球状シリ
カゲルを製造することは非常に難しく、また、その製造
コストも高いものであった。
カゲルを製造することは非常に難しく、また、その製造
コストも高いものであった。
従来、微細な球状シリカゲルの製造法として、例えば、
コロイド状シリカを水に対して混和性を有する重合可能
な有機材料をバインダーとして、0.5〜50μmに微粒子
球状粒子に成形する方法が知られている(特公昭54−95
88号参照)しかしながら、この方法では、製造途中にお
いて、調製されたシリカゾル粒子と有機材料との混合物
を500℃以上の温度で4時間以上も焼結させてポリマー
化した有機材料を除去する必要があり、製造プロセスが
面倒である。また、最終的に得られる球状シリカゲルの
物性値は原料として用いるコロイド状シリカの物性値に
よって決定されてしまうので、製品の物性値をコントロ
ールすることが難しいとの欠点もある。
コロイド状シリカを水に対して混和性を有する重合可能
な有機材料をバインダーとして、0.5〜50μmに微粒子
球状粒子に成形する方法が知られている(特公昭54−95
88号参照)しかしながら、この方法では、製造途中にお
いて、調製されたシリカゾル粒子と有機材料との混合物
を500℃以上の温度で4時間以上も焼結させてポリマー
化した有機材料を除去する必要があり、製造プロセスが
面倒である。また、最終的に得られる球状シリカゲルの
物性値は原料として用いるコロイド状シリカの物性値に
よって決定されてしまうので、製品の物性値をコントロ
ールすることが難しいとの欠点もある。
一方、有機材料などの有機成分を用いないで球状シリカ
ゲルを製造する方法として、例えば、シリカゾルを噴霧
乾燥することにより球状シリカゲルを得る方法が提案さ
れている。(特開昭53−65295号参照)しかし、この方
法の場合、生成する球状シリカゲルが中空状あるいは窪
みのある不均一な球状物となり、そのため、流動性が劣
る上、粒子強度のバラツキが大きいと言う欠点がある。
ゲルを製造する方法として、例えば、シリカゾルを噴霧
乾燥することにより球状シリカゲルを得る方法が提案さ
れている。(特開昭53−65295号参照)しかし、この方
法の場合、生成する球状シリカゲルが中空状あるいは窪
みのある不均一な球状物となり、そのため、流動性が劣
る上、粒子強度のバラツキが大きいと言う欠点がある。
また、珪酸ナトリウムと硫酸とを23〜50℃の温度で混合
してpH9.8〜10.4の混合溶液を調製し、そこでシリカヒ
ドロゲルスラリーを形成し熟成後、pHを3以下に低下さ
せ、更に、pHを8〜10.2に上昇して熟成した後、噴霧乾
燥する方法も知られている。(特公昭47−35676号参
照)しかし、この方法は処理工程が多く操作が煩雑で工
業的に不利な上、粒子強度のコントロールが難しい。
してpH9.8〜10.4の混合溶液を調製し、そこでシリカヒ
ドロゲルスラリーを形成し熟成後、pHを3以下に低下さ
せ、更に、pHを8〜10.2に上昇して熟成した後、噴霧乾
燥する方法も知られている。(特公昭47−35676号参
照)しかし、この方法は処理工程が多く操作が煩雑で工
業的に不利な上、粒子強度のコントロールが難しい。
更に、珪酸ナトリウム水溶液と鉱酸との反応により得た
シリカヒドロゲルスラリーに、アンモニア水溶液を混合
した後、湿式粉砕し、次いで、これを噴霧乾燥する方法
も知られている。(特開昭62−275014号参照)しかし、
この方法においても、製品シリカゲルの粒子強度をコン
トロールすることは難しかった。
シリカヒドロゲルスラリーに、アンモニア水溶液を混合
した後、湿式粉砕し、次いで、これを噴霧乾燥する方法
も知られている。(特開昭62−275014号参照)しかし、
この方法においても、製品シリカゲルの粒子強度をコン
トロールすることは難しかった。
[発明の課題と解決手段] 本発明者は上記実情に鑑み、有機成分を用いることなく
球状シリカゲルを製造する際に、表面積、平均細孔径、
細孔容積及び平均粒径の制御に加えて、粒子強度の調節
も可能な球状シリカゲルの工業的有利な製造法について
鋭意検討を重ねた結果、アルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを
反応させて得られたシリカヒドロゲルを粉砕処理した
後、噴霧乾燥する場合のシリカヒドロゲルのスラリー濃
度が製品の球状シリカゲルの粒子強度に重要な影響を与
えることを見い出し、本発明を完成するに至った。
球状シリカゲルを製造する際に、表面積、平均細孔径、
細孔容積及び平均粒径の制御に加えて、粒子強度の調節
も可能な球状シリカゲルの工業的有利な製造法について
鋭意検討を重ねた結果、アルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを
反応させて得られたシリカヒドロゲルを粉砕処理した
後、噴霧乾燥する場合のシリカヒドロゲルのスラリー濃
度が製品の球状シリカゲルの粒子強度に重要な影響を与
えることを見い出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の要旨は、アルカリ金属珪酸塩と鉱酸
とを反応させて得たシリカヒドロゲルを湿式粉砕処理し
た後、このシリカヒドロゲルと水とのスラリーを噴霧乾
燥することにより球状シリカゲルを得る方法において、
前記スラリーにおける水の存在量をシリカヒドロゲルに
対して、0.2〜1.5重量倍に調節することを特徴とする球
状シリカゲルの製造法に存する。
とを反応させて得たシリカヒドロゲルを湿式粉砕処理し
た後、このシリカヒドロゲルと水とのスラリーを噴霧乾
燥することにより球状シリカゲルを得る方法において、
前記スラリーにおける水の存在量をシリカヒドロゲルに
対して、0.2〜1.5重量倍に調節することを特徴とする球
状シリカゲルの製造法に存する。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明においては、先ず、アルカリ金属珪酸塩の水溶液
と鉱酸水溶液とを反応させシリカヒドロゾルを製造する
が、アルカリ金属珪酸塩としては、例えば、珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウムが挙げられ、通常、珪酸ナトリウム
が一般的に好ましい。一方、鉱酸としては、通常、硫
酸、塩酸、硝酸などが挙げられる。アルカリ金属珪酸塩
と鉱酸との反応は回文法でも、連続法でもよく、その製
造条件は特に限定されるものではない。しかし、この反
応で生成するシリカヒドロゾル中のSiO2濃度は通常、10
〜22重量%の範囲となるように条件を選ぶのが望まし
い。要するに、前記ゾル中のSiO2濃度が前記範囲よりも
低い場合には、シリカヒドロゾルがゲル化する時間が長
く工業的に不利であり、また前記範囲よりも高い場合に
は、ゲル化時間が短すぎて均一なシリカヒドロゲルが生
成しない。そのゾル中のSiO2濃度を調節するためには、
通常、アルカリ金属珪酸塩と鉱酸の濃度及びその使用量
を適宜、選定すればよい。通常、アルカリ金属珪酸塩の
水溶液濃度は15〜27SiO2重量%であり、鉱酸の水溶液濃
度は3〜18Nの範囲から選ばれる。
と鉱酸水溶液とを反応させシリカヒドロゾルを製造する
が、アルカリ金属珪酸塩としては、例えば、珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウムが挙げられ、通常、珪酸ナトリウム
が一般的に好ましい。一方、鉱酸としては、通常、硫
酸、塩酸、硝酸などが挙げられる。アルカリ金属珪酸塩
と鉱酸との反応は回文法でも、連続法でもよく、その製
造条件は特に限定されるものではない。しかし、この反
応で生成するシリカヒドロゾル中のSiO2濃度は通常、10
〜22重量%の範囲となるように条件を選ぶのが望まし
い。要するに、前記ゾル中のSiO2濃度が前記範囲よりも
低い場合には、シリカヒドロゾルがゲル化する時間が長
く工業的に不利であり、また前記範囲よりも高い場合に
は、ゲル化時間が短すぎて均一なシリカヒドロゲルが生
成しない。そのゾル中のSiO2濃度を調節するためには、
通常、アルカリ金属珪酸塩と鉱酸の濃度及びその使用量
を適宜、選定すればよい。通常、アルカリ金属珪酸塩の
水溶液濃度は15〜27SiO2重量%であり、鉱酸の水溶液濃
度は3〜18Nの範囲から選ばれる。
ここで生成したシリカヒドロゾルは次いで、ゲル化しシ
リカヒドロゲルとする。そして、シリカヒドロゲルは混
合物から分離し充分に水洗する。
リカヒドロゲルとする。そして、シリカヒドロゲルは混
合物から分離し充分に水洗する。
本発明ではシリカヒドロゲルを湿式粉砕するが、その前
に、シリカヒドロゲルを水熱処理するのが好ましい。こ
の水熱処理は通常、シリカヒドロゲルを脱塩水中に懸濁
させ、これに例えば、アンモニア水などを加えることに
より系内のpHを1〜10に調整した後、50〜200℃の温度
で1〜50時間、保持することにより実施される。この際
のpHが前記範囲外の場合には、シリカの溶解度が高くな
るので好ましくない。
に、シリカヒドロゲルを水熱処理するのが好ましい。こ
の水熱処理は通常、シリカヒドロゲルを脱塩水中に懸濁
させ、これに例えば、アンモニア水などを加えることに
より系内のpHを1〜10に調整した後、50〜200℃の温度
で1〜50時間、保持することにより実施される。この際
のpHが前記範囲外の場合には、シリカの溶解度が高くな
るので好ましくない。
水熱処理を終えた混合物は、通常、シリカヒドロゲルを
分離した後、次いで、これを粉砕処理するが、通常、分
離したシリカヒドロゲルを衝撃式粉砕機、ジェット粉砕
機、ボールミル、石臼ミル等の機械式粉砕機等で予備的
に100〜200μm程度に荒粉砕しておくのが望ましい。こ
の荒粉砕ではシリカヒドロゲルに付着する表面水の除去
もできるとの効果も有する。
分離した後、次いで、これを粉砕処理するが、通常、分
離したシリカヒドロゲルを衝撃式粉砕機、ジェット粉砕
機、ボールミル、石臼ミル等の機械式粉砕機等で予備的
に100〜200μm程度に荒粉砕しておくのが望ましい。こ
の荒粉砕ではシリカヒドロゲルに付着する表面水の除去
もできるとの効果も有する。
本発明においては、シリカヒドロゲルを水とのスラリー
とした後、このスラリーを湿式粉砕し、そして、湿式粉
砕後のスラリーを引き続き噴霧乾燥することにより球状
シリカゲルを得るものである。本発明では、このスラリ
ー化に用いる水の使用量、すなわち、スラリー中の水の
存在量をシリカヒドロゲルに対して、0.2〜1.5重量倍、
好ましくは0.3〜1.4重量倍に調節することを必須の条件
とするものである。この際の水の使用量があまり少ない
場合には、スラリー状態とならず噴霧乾燥により球状粒
子が得られず粒強度を高くすることができない。逆に、
あまり多すぎる場合には、粒子強度が十分に上がらな
い。なお、シリカヒドロゲルの比表面積が400m2/g以上
の場合には、充分な粒子強度を得るスラリー濃度に調節
すると、スラリーの粘度が高くなりすぎ、撹拌及び湿式
粉砕が不能となることがあるが、この場合、スラリーの
pHを1〜3に調整すると良好な処理ができるので好まし
い。
とした後、このスラリーを湿式粉砕し、そして、湿式粉
砕後のスラリーを引き続き噴霧乾燥することにより球状
シリカゲルを得るものである。本発明では、このスラリ
ー化に用いる水の使用量、すなわち、スラリー中の水の
存在量をシリカヒドロゲルに対して、0.2〜1.5重量倍、
好ましくは0.3〜1.4重量倍に調節することを必須の条件
とするものである。この際の水の使用量があまり少ない
場合には、スラリー状態とならず噴霧乾燥により球状粒
子が得られず粒強度を高くすることができない。逆に、
あまり多すぎる場合には、粒子強度が十分に上がらな
い。なお、シリカヒドロゲルの比表面積が400m2/g以上
の場合には、充分な粒子強度を得るスラリー濃度に調節
すると、スラリーの粘度が高くなりすぎ、撹拌及び湿式
粉砕が不能となることがあるが、この場合、スラリーの
pHを1〜3に調整すると良好な処理ができるので好まし
い。
湿式粉砕は最終的に生成するシリカゲル粒子の表面状態
及び形状に大きな影響を与えるが、湿式粉砕に用いる粉
砕機としては、通常、ボールミル、振動ミル、撹拌ボー
ルミル、ロッドミル、摩擦円板ミル、石臼式コロイドミ
ル等が挙げられる。この湿式粉砕の処理は、通常、スラ
リー中のシリカヒドロゲルが粒子径1〜50μm、好まし
くは10〜30μm状態となるまで実施するのが望ましい。
及び形状に大きな影響を与えるが、湿式粉砕に用いる粉
砕機としては、通常、ボールミル、振動ミル、撹拌ボー
ルミル、ロッドミル、摩擦円板ミル、石臼式コロイドミ
ル等が挙げられる。この湿式粉砕の処理は、通常、スラ
リー中のシリカヒドロゲルが粒子径1〜50μm、好まし
くは10〜30μm状態となるまで実施するのが望ましい。
本発明では、このようにして得た特定割合の水を含有す
るシリカヒドロゲルのスラリーを噴霧乾燥し球状シリカ
ゲルとするが、この際の噴霧方式としては、通常、加圧
ノズル方式、回転ディスク方式、二流体方式などの方法
を適用することができる。また、乾燥熱風の温度として
は、通常10〜500℃程度である。この噴霧乾燥により、
粒径1〜200μm程度の希望する粒径範囲のシリカゲル
を得ることができる。特に、ポリオレフィン重合触媒担
体用のシリカゲルの粒径としては30〜100μmのものが
適する。
るシリカヒドロゲルのスラリーを噴霧乾燥し球状シリカ
ゲルとするが、この際の噴霧方式としては、通常、加圧
ノズル方式、回転ディスク方式、二流体方式などの方法
を適用することができる。また、乾燥熱風の温度として
は、通常10〜500℃程度である。この噴霧乾燥により、
粒径1〜200μm程度の希望する粒径範囲のシリカゲル
を得ることができる。特に、ポリオレフィン重合触媒担
体用のシリカゲルの粒径としては30〜100μmのものが
適する。
[発明の効果] 本発明によれば、有機成分を用いることなく、シリカヒ
ドロゲル−水スラリーの水分量を制御するだけで、重合
触媒担体として適した微細な粒状シリカゲルを簡単に製
造することができる。そして、本発明で製造される球状
シリカゲルは表面積、平均細孔径、細孔容積などの物性
値に加えて、粒子強度に優れていると言う独特な効果を
有する。
ドロゲル−水スラリーの水分量を制御するだけで、重合
触媒担体として適した微細な粒状シリカゲルを簡単に製
造することができる。そして、本発明で製造される球状
シリカゲルは表面積、平均細孔径、細孔容積などの物性
値に加えて、粒子強度に優れていると言う独特な効果を
有する。
[実施例] 次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の既述
に限定されるものではない。
本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の既述
に限定されるものではない。
実施例1〜3 珪酸ナトリウム水溶液と硫酸とを混合し反応させること
により、SiO2濃度18.5重量%のシリカヒドロゾルを生成
させ、次いで、これを1時間放置することによりゲル化
しシリカヒドロゲルとした。
により、SiO2濃度18.5重量%のシリカヒドロゾルを生成
させ、次いで、これを1時間放置することによりゲル化
しシリカヒドロゲルとした。
次いで、この混合物からシリカヒドロゲルを濾別し水洗
した後、これを脱塩水と混合し、これに28重量%アンモ
ニア水を加え系内のpHを8.5に調整し、引き続き、この
スラリーを95℃の温度に昇温し同温度で38時間、水熱処
理を施した。
した後、これを脱塩水と混合し、これに28重量%アンモ
ニア水を加え系内のpHを8.5に調整し、引き続き、この
スラリーを95℃の温度に昇温し同温度で38時間、水熱処
理を施した。
その後、混合物から再びシリカヒドロゲルを濾別し、こ
のゲルを衝撃型粉砕機(奈良機械制作所製、自由粉砕機
M−4A型)により粗粉砕処理した後、このゲルを第1表
に示す割合に予め、秤量した脱塩水と混合しスラリー化
し、次いで、このスラリーを石臼型湿式粉砕機(増幸産
業(株)製、スーパーマスコロイダー)により処理し、
シリカヒドロゲルの湿式粉砕を行った。
のゲルを衝撃型粉砕機(奈良機械制作所製、自由粉砕機
M−4A型)により粗粉砕処理した後、このゲルを第1表
に示す割合に予め、秤量した脱塩水と混合しスラリー化
し、次いで、このスラリーを石臼型湿式粉砕機(増幸産
業(株)製、スーパーマスコロイダー)により処理し、
シリカヒドロゲルの湿式粉砕を行った。
そして、湿式粉砕後の各スラリーをディスク式スプレー
ドライヤー(大川原化工機(株)社製、CS−100)を用
いて、ディスク周速約45m/secの条件下、また、入り口
熱風温度370℃及び出口熱風温度150℃にて噴霧乾燥する
ことにより、微細球状のシリカゲルを回収した。
ドライヤー(大川原化工機(株)社製、CS−100)を用
いて、ディスク周速約45m/secの条件下、また、入り口
熱風温度370℃及び出口熱風温度150℃にて噴霧乾燥する
ことにより、微細球状のシリカゲルを回収した。
このようにして回収された球状シリカゲルにつき、各
々、平均粒径、表面積、及び粒子強度を測定したとこ
ろ、第1表に示す結果を得た。
々、平均粒径、表面積、及び粒子強度を測定したとこ
ろ、第1表に示す結果を得た。
なお比較のためスラリー中の水分量を0.2(重量倍)よ
り小さくしたところ、スラリーとならずフィードできな
かった。また1.5(重量倍)より大きくしたところ、粒
子強度が悪すぎて、測定準備中に解砕された。
り小さくしたところ、スラリーとならずフィードできな
かった。また1.5(重量倍)より大きくしたところ、粒
子強度が悪すぎて、測定準備中に解砕された。
なお、超音波洗浄機としては、神明台工業(株)製、VO
150FS−Sを使用し、粒度分布測定機としては、堀場
(株)製、CAPA−700(自然沈降による測定法式)を用
いた。
150FS−Sを使用し、粒度分布測定機としては、堀場
(株)製、CAPA−700(自然沈降による測定法式)を用
いた。
実施例4〜6 実施例1の方法において、水熱処理をpH6〜7で72℃の
温度で7時間行ない、また、噴霧乾燥前のスラリーのpH
を2.0とし、この際の水分量を第2表に示す割合とし
て、その他は同様な方法で球状シリカゲルを製造したと
ころ、回収された球状シリカゲルの物性値は第2表に示
す通りであった。
温度で7時間行ない、また、噴霧乾燥前のスラリーのpH
を2.0とし、この際の水分量を第2表に示す割合とし
て、その他は同様な方法で球状シリカゲルを製造したと
ころ、回収された球状シリカゲルの物性値は第2表に示
す通りであった。
実施例7〜9 実施例4の方法と同様にシリカヒドロゲルと球状シリカ
ゲルを製造したところ、回収された球状シリカゲルの物
性値は第3表に示す通りであった。
ゲルを製造したところ、回収された球状シリカゲルの物
性値は第3表に示す通りであった。
Claims (2)
- 【請求項1】アルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを反応させて
得たシリカヒドロゲルを湿式粉砕処理した後、このシリ
カヒドロゲルと水とのスラリーを噴霧乾燥することによ
り球状シリカゲルを得る方法において、前記スラリーに
おける水の存在量をシリカヒドロゲルに対して、0.2〜
1.5重量倍に調節することを特徴とする球状シリカゲル
の製造法。 - 【請求項2】シリカヒドロゲル−水スラリーのpHを1〜
3に調節することを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載の製造法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1039957A JPH0699135B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 球状シリカゲルの製造法 |
| EP90114201A EP0468070B1 (en) | 1989-02-20 | 1990-07-25 | A method for preparing spherular silica gel particles |
| US07/845,528 US5589150A (en) | 1989-02-20 | 1992-03-04 | Method for preparing spherular silica gel particles |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1039957A JPH0699135B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 球状シリカゲルの製造法 |
| US07/845,528 US5589150A (en) | 1989-02-20 | 1992-03-04 | Method for preparing spherular silica gel particles |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02221112A JPH02221112A (ja) | 1990-09-04 |
| JPH0699135B2 true JPH0699135B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=26379365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1039957A Expired - Fee Related JPH0699135B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 球状シリカゲルの製造法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5589150A (ja) |
| EP (1) | EP0468070B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0699135B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007160277A (ja) * | 2005-12-16 | 2007-06-28 | Kao Corp | ハイドロゲル粒子の製造方法、並びに、それによって製造されるハイドロゲル粒子及びそれを用いた分散体 |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1006235A3 (fr) * | 1992-03-10 | 1994-06-14 | Solvay | Procede pour la fabrication d'une poudre microspheroidale a faible dispersite, poudre microspheroidale a faible dispersite ainsi obtenue, catalyseurs pour la polymerisation d'alpha-olefines et procede de polymerisation d'alpha-olefines. |
| BE1005718A3 (fr) * | 1992-03-10 | 1993-12-28 | Solvay | Procede pour la fabrication d'une poudre microspheroidale a faible dispersite, poudre microspheroidale a faible dispersite ainsi obtenue, catalyseurs pour la polymerisation d'alpha-olefines et procede de polymerisation d'alpha-olefines. |
| BR9301438A (pt) * | 1993-04-05 | 1994-11-15 | Petroleo Brasileiro Sa | Processo de preparação de catalisador esférico tipo ziegler para polimerização de alfa-olefinas, catalisador esférico, processo de obtenção de polietileno esférico de altíssimo peso molecular e polietileno esférico de altíssimo pelo molecular |
| DE69705121T2 (de) * | 1996-05-31 | 2001-09-27 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Amorphe fällungskieselsäure |
| KR100342941B1 (ko) * | 1996-05-31 | 2002-08-22 | 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 | 무정형의침전된실리카 |
| US6329315B1 (en) | 1996-06-21 | 2001-12-11 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Frangible, spray dried agglomerated supports, method of making such supports, and olefin polymerization catalysts supported thereon |
| JP2001089128A (ja) * | 1998-04-10 | 2001-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | 球状シリカ粒子の製造方法 |
| US6380265B1 (en) * | 1998-07-09 | 2002-04-30 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Dispersion of fine porous inorganic oxide particles and processes for preparing same |
| US6841609B2 (en) | 1998-07-09 | 2005-01-11 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Formulation suitable for ink receptive coatings |
| US6313061B1 (en) * | 1998-12-22 | 2001-11-06 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Method of making frangible spray dried agglomerated supports and olefin polymerization catalysts supported thereon |
| FR2796638B1 (fr) * | 1999-07-21 | 2001-09-14 | Ceramiques Tech Et Ind S A | Structure monolithe nid d'abeilles en materiau ceramique poreux, et utilisation comme filtre a particules |
| AU2001288316A1 (en) * | 2000-08-28 | 2002-03-13 | Research Triangle Institute | Attrition resistant bulk iron catalysts and processes for preparing and using same |
| KR100427260B1 (ko) * | 2001-06-01 | 2004-04-17 | 한국화학연구원 | 미크론 사이즈 실리카의 제조방법 |
| US20090056541A1 (en) * | 2001-08-01 | 2009-03-05 | Davison Dale A | Method and apparatus for high resolution flash chromatography |
| CA2570907A1 (en) | 2004-06-15 | 2006-01-05 | W.R. Grace & Co. -Conn. | Chemically assisted milling of silicas |
| CN100369942C (zh) * | 2006-01-26 | 2008-02-20 | 吉林市吉清科技开发有限公司 | 气相流化床乙烯聚合催化剂微球形二氧化硅载体的制备方法及设备 |
| AU2007226533B2 (en) * | 2006-03-15 | 2012-12-13 | Reaction Sciences, Inc. | Method for making silicon for solar cells and other applications |
| EP2408554B1 (de) * | 2009-03-16 | 2016-12-14 | Basf Se | Katalysatorträger auf silicagel-basis |
| JP5599164B2 (ja) * | 2009-05-29 | 2014-10-01 | 花王株式会社 | 歯磨剤 |
| CN102167337B (zh) * | 2011-03-21 | 2013-02-20 | 冷水江三A化工有限责任公司 | 一种二氧化硅气凝胶及其制备方法 |
| EA202000367A1 (ru) * | 2020-02-21 | 2021-08-31 | Старк Свисс Аг | Способ производства микронизированного силикагеля |
| CN111234057B (zh) * | 2020-03-25 | 2022-03-22 | 上海弘岸化工有限公司 | 硅胶载体和硅胶负载的烷基铝茂金属催化剂、长链分支聚乙烯及其制备方法和应用 |
| US12350641B2 (en) * | 2021-07-16 | 2025-07-08 | Clearh2O, Inc. | Methods of high throughput hydrocolloid bead production and apparatuses thereof |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1094798A (en) * | 1965-05-04 | 1967-12-13 | Grace W R & Co | Process for the production of microspheroidal silica |
| US3501269A (en) * | 1967-04-20 | 1970-03-17 | Grace W R & Co | Process for preparing silica gel |
| DE1667078B2 (de) * | 1967-10-31 | 1979-07-19 | W.R. Grace & Co., New York, N.Y. (V.St.A.) | Verfahren zur Herstellung von kugelförmigen Kieselsäurehydrogelen |
| US3607777A (en) * | 1968-06-18 | 1971-09-21 | Grace W R & Co | Process for preparing microspheroidal desiccant silica gel |
| US3959174A (en) * | 1971-08-24 | 1976-05-25 | W. R. Grace & Co. | Method of selectively producing high pore volume silica gel |
| US4127641A (en) * | 1975-12-10 | 1978-11-28 | Joseph Crosfield And Sons Limited | Process for the preparation of precipitated silicas having morphology similar to pyrogenic silicas |
| JPS5365295A (en) * | 1976-11-24 | 1978-06-10 | Saga Daigakuchiyou | Process for separating and concentrating caustic soda in caustification reation |
| JPS549588A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-24 | Hitachi Ltd | Semiconductor control rectifier equipment |
| JPS58135119A (ja) * | 1982-02-01 | 1983-08-11 | Fuji Debuison Kagaku Kk | シリカゲルの製造方法 |
| GB8419708D0 (en) * | 1984-08-02 | 1984-09-05 | Shell Int Research | Preparation of silica spheres |
| CA1271307A (en) * | 1985-06-27 | 1990-07-10 | Iwao Ohshima | Process for manufacturing high purity silica |
| JPS62113713A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-25 | Osaka Soda Co Ltd | シリカゲルの製造法 |
| JPH0699133B2 (ja) * | 1985-12-18 | 1994-12-07 | 東ソー株式会社 | 液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法 |
| JPH0764542B2 (ja) * | 1986-05-22 | 1995-07-12 | 東ソー株式会社 | 液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法 |
| JP2545282B2 (ja) * | 1989-04-17 | 1996-10-16 | 日東化学工業株式会社 | 球状シリカ粒子の製造方法 |
-
1989
- 1989-02-20 JP JP1039957A patent/JPH0699135B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-07-25 EP EP90114201A patent/EP0468070B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-03-04 US US07/845,528 patent/US5589150A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007160277A (ja) * | 2005-12-16 | 2007-06-28 | Kao Corp | ハイドロゲル粒子の製造方法、並びに、それによって製造されるハイドロゲル粒子及びそれを用いた分散体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0468070B1 (en) | 1993-11-18 |
| US5589150A (en) | 1996-12-31 |
| JPH02221112A (ja) | 1990-09-04 |
| EP0468070A1 (en) | 1992-01-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0699135B2 (ja) | 球状シリカゲルの製造法 | |
| US6663963B2 (en) | Very high structure, highly absorptive hybrid silica and methods for making same | |
| JPH0660011B2 (ja) | 球体状のシリカ、その製造法及びエラストマーの補強への使用 | |
| JP3719687B2 (ja) | シリカゲルの製造方法 | |
| JP2001523162A (ja) | エーロゲルの造粒方法 | |
| JPH10501738A (ja) | 球状吸着剤粒子の製造方法 | |
| CN104583125A (zh) | 包括一个膜浓缩步骤的用于生产沉淀二氧化硅的方法 | |
| US2669547A (en) | Gel powder preparation | |
| JPH0324410B2 (ja) | ||
| US5643347A (en) | Process for manufacture of silica granules | |
| JP2001089128A (ja) | 球状シリカ粒子の製造方法 | |
| JP2002326809A (ja) | 少なくとも二つの珪酸フラクシヨンを含有する珪酸 | |
| JPH04321512A (ja) | 沈降ケイ酸ペースト、その製造方法および沈降ケイ酸ペーストを用いて沈降ケイ酸を疎水性化する方法 | |
| JP3454554B2 (ja) | 非晶質シリカ粒状体及びその製法 | |
| US2763622A (en) | Craking catalyst preparation | |
| US2455445A (en) | Gel catalyst | |
| JP5989888B2 (ja) | 高温分解工程を含む沈殿シリカの製造方法 | |
| JP2007522292A (ja) | 触媒用担体の製造 | |
| JP2005154158A (ja) | 多孔質粒状塩基性炭酸マグネシウム及びその製造方法 | |
| JPH0764542B2 (ja) | 液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法 | |
| JPH0692251B2 (ja) | 酸化アルミニウムを基にした顆粒の製造法 | |
| US2898304A (en) | Preparation of spherical contact masses | |
| JPS6065725A (ja) | チタニヤ球状粒子の製造法 | |
| JPH11302011A5 (ja) | ||
| JPH0699133B2 (ja) | 液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081207 Year of fee payment: 14 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |