JPH069517B2 - セフアロスポリンcの製法 - Google Patents
セフアロスポリンcの製法Info
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- JPH069517B2 JPH069517B2 JP59042203A JP4220384A JPH069517B2 JP H069517 B2 JPH069517 B2 JP H069517B2 JP 59042203 A JP59042203 A JP 59042203A JP 4220384 A JP4220384 A JP 4220384A JP H069517 B2 JPH069517 B2 JP H069517B2
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- JP
- Japan
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- phosphite
- hydrogen
- phenyl
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12P—FERMENTATION OR ENZYME-USING PROCESSES TO SYNTHESISE A DESIRED CHEMICAL COMPOUND OR COMPOSITION OR TO SEPARATE OPTICAL ISOMERS FROM A RACEMIC MIXTURE
- C12P35/00—Preparation of compounds having a 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring system, e.g. cephalosporin
- C12P35/06—Cephalosporin C; Derivatives thereof
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Genetics & Genomics (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はセフアロスポリンCの改良製法に関する。特に
本発明は不要のデスアセチルセフアロスポリンCも生成
するセフアロスポリンC生成性微生物発酵中培養媒質へ
のある有機および無機りん化合物添加に関する。
本発明は不要のデスアセチルセフアロスポリンCも生成
するセフアロスポリンC生成性微生物発酵中培養媒質へ
のある有機および無機りん化合物添加に関する。
上記りん化合物添加は不純物デスアセチルセフアロスポ
リンCの発酵を非常に抑制するので、発酵肉汁からセフ
アロスポリンCを回収できまた後に7−アミノセフアロ
スポラン酸(7−ACA)に転化できる。
リンCの発酵を非常に抑制するので、発酵肉汁からセフ
アロスポリンCを回収できまた後に7−アミノセフアロ
スポラン酸(7−ACA)に転化できる。
セフアロスポリンC〔3−アセトキシメチル−7β−
(D−5−アミノ−5−カルボキシペンタンアミド)セ
フ−3−エム−4−カルボン酸)はそれ自体ある程度抗
生物質活性をもつが、主に準合成セフアロスポリン抗生
物質製造の出発物質として重要ものである。故にセフア
ロスポリンCは知られた方法で3−アセトキシメチル−
7β−アミノセフ−3−エム、カルボン酸(7−AC
A)に転化でき、これは広範な市販セフアロスポリン抗
生物質製造用重要中間体として使用できる。
(D−5−アミノ−5−カルボキシペンタンアミド)セ
フ−3−エム−4−カルボン酸)はそれ自体ある程度抗
生物質活性をもつが、主に準合成セフアロスポリン抗生
物質製造の出発物質として重要ものである。故にセフア
ロスポリンCは知られた方法で3−アセトキシメチル−
7β−アミノセフ−3−エム、カルボン酸(7−AC
A)に転化でき、これは広範な市販セフアロスポリン抗
生物質製造用重要中間体として使用できる。
セフアロスポリンCは特にエメリセロプシス−セフアロ
スポリウム(Emericellopsis-Cephalosporium)属の菌
を含む種々の微生物の発酵によつてえられることが知ら
れている。セフアロスポリン−C生成性微生物の例は、
セフアロスポリウム(Cephalosporum)の原ブロック
株、即ちセフアロスポリウム種、I.M.I. 49137
(ATCC 11550)および英国特許第1,109,362
号に記載の突然変異株8650(ATCC14553)
の様なその突然変異体、英国特許第1,503,851号に記載
のセフアロスポリウム種I.B.M.1131および英国特許
第1,400,433号に記載のセフアロスポリウム種株、F.
12(ATCC 20339)がある。文献に報告され
ているセフアロスポリンC生成性有機体の他の例には英
国特許第1,488,822号に記載のセフアロスポリウム ポ
リアリューラム(polyaleurum)Y−505(−PFE
RMNo.1160)、英国特許第1,488,821号
に記載のセフアロスポリウム アクレモニウム(acremo
nium)K−121(ATCC 20427)およびセフ
アロスポリウム アクレモニウム N−75(ATCC
20428)およびセフアロスポリウム ポリアリュ
ーラム 199(ATCC 20359)および英国特
許第1,389,714号に記載のY505(ATCC 203
60)というその突然変異体がある。セフアロスポリン
Cは一般にセフアロスポリウム アクレモニウム(アク
レモニウム クリソジエナム (Chrysogenum)とも知
られている)の高生産性突然変異株を用いて工業的に生
産される。この突然変異体およびその製法の例は文献に
広く記載されている。
スポリウム(Emericellopsis-Cephalosporium)属の菌
を含む種々の微生物の発酵によつてえられることが知ら
れている。セフアロスポリン−C生成性微生物の例は、
セフアロスポリウム(Cephalosporum)の原ブロック
株、即ちセフアロスポリウム種、I.M.I. 49137
(ATCC 11550)および英国特許第1,109,362
号に記載の突然変異株8650(ATCC14553)
の様なその突然変異体、英国特許第1,503,851号に記載
のセフアロスポリウム種I.B.M.1131および英国特許
第1,400,433号に記載のセフアロスポリウム種株、F.
12(ATCC 20339)がある。文献に報告され
ているセフアロスポリンC生成性有機体の他の例には英
国特許第1,488,822号に記載のセフアロスポリウム ポ
リアリューラム(polyaleurum)Y−505(−PFE
RMNo.1160)、英国特許第1,488,821号
に記載のセフアロスポリウム アクレモニウム(acremo
nium)K−121(ATCC 20427)およびセフ
アロスポリウム アクレモニウム N−75(ATCC
20428)およびセフアロスポリウム ポリアリュ
ーラム 199(ATCC 20359)および英国特
許第1,389,714号に記載のY505(ATCC 203
60)というその突然変異体がある。セフアロスポリン
Cは一般にセフアロスポリウム アクレモニウム(アク
レモニウム クリソジエナム (Chrysogenum)とも知
られている)の高生産性突然変異株を用いて工業的に生
産される。この突然変異体およびその製法の例は文献に
広く記載されている。
多年のあらゆる研究にも拘らずセフアロスポリンCの工
業的発酵法は未だ十分満足なものでない。殆んどのセフ
アロスポリンCを生成する微生物、特に工業的製造に使
われる高生成株はその化学的物理的性質が同じため望む
セフアロスポリンC生成物から分離が極めてむつかしい
不純物、デスアセチルセフアロスポリンCの相当量を同
時に生成する。発酵中生成される全セフアロスポリンC
核の約15%量のデスアセチルセフアロスポリンCの存
在はセフアロスポリンC(又はより普通にその溶媒抽出
可能な誘導体)の回収の際デスアセチルセフアロスポリ
ンC(又はその誘導体)が混在する。更にセフアロスポ
リンC(又はその誘導体)は工業的にあとの7−ACA
への転化前に普通精製されないので、7−ACAの製品
品質も初めの発酵肉汁中のデスアセチルセフアロスポリ
ンCの同時生成によつて悪影響をうける。
業的発酵法は未だ十分満足なものでない。殆んどのセフ
アロスポリンCを生成する微生物、特に工業的製造に使
われる高生成株はその化学的物理的性質が同じため望む
セフアロスポリンC生成物から分離が極めてむつかしい
不純物、デスアセチルセフアロスポリンCの相当量を同
時に生成する。発酵中生成される全セフアロスポリンC
核の約15%量のデスアセチルセフアロスポリンCの存
在はセフアロスポリンC(又はより普通にその溶媒抽出
可能な誘導体)の回収の際デスアセチルセフアロスポリ
ンC(又はその誘導体)が混在する。更にセフアロスポ
リンC(又はその誘導体)は工業的にあとの7−ACA
への転化前に普通精製されないので、7−ACAの製品
品質も初めの発酵肉汁中のデスアセチルセフアロスポリ
ンCの同時生成によつて悪影響をうける。
従来のセフアロスポリンC製法は主としてより高いセフ
アロスポリンC生産性をもつ新微生物のセフアロスポリ
ンC生産を増す発酵添加物に関している。故に例えば実
質的にセフアロスポリンCを高収率生成するセフアロス
ポリウム アクレモニウムの突然変異株が開発されてい
る。セフアロスポリンCを生成有機体の発酵中セフアロ
スポリンCの収率を上げる様栄養媒質に種々の添加物を
加えることが示唆されている。故に亜硫酸ナトリウム、
メタ重亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、ヒドロ
亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、および硫酸ナ
トリウムの様ないおう化合物の使用は英国特許第820,42
2号に発表されており、メチオニン、塩化カルシウム、
塩化マグネシウム、硫酸アンモニウム、およびある炭水
化物、油と脂肪酸の使用は英国特許第983,755号に発表
されており、ノルヴアリンとノルロイシンの使用は英国
特許第975,393号に発表されており、フエニル酢酸の使
用は英国特許第975,394号に発表されており、またε−
カプロラクタム、2−ブタノン、第2ブチルアルコール
と1,3−ブタンジオールの使用は英国特許第1,503,851号
に発表されている。セフアロスポリンC発酵中のデスアセチルセフアロスポリンC
の同時生成問題はセフアロスポリンCとしてより高率のセフアロスポリンC
核生成微生物生成法又は抽出-分離法(例えば米国特許第
4,059,573号)の形でのみ提出されている。
アロスポリンC生産性をもつ新微生物のセフアロスポリ
ンC生産を増す発酵添加物に関している。故に例えば実
質的にセフアロスポリンCを高収率生成するセフアロス
ポリウム アクレモニウムの突然変異株が開発されてい
る。セフアロスポリンCを生成有機体の発酵中セフアロ
スポリンCの収率を上げる様栄養媒質に種々の添加物を
加えることが示唆されている。故に亜硫酸ナトリウム、
メタ重亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、ヒドロ
亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、および硫酸ナ
トリウムの様ないおう化合物の使用は英国特許第820,42
2号に発表されており、メチオニン、塩化カルシウム、
塩化マグネシウム、硫酸アンモニウム、およびある炭水
化物、油と脂肪酸の使用は英国特許第983,755号に発表
されており、ノルヴアリンとノルロイシンの使用は英国
特許第975,393号に発表されており、フエニル酢酸の使
用は英国特許第975,394号に発表されており、またε−
カプロラクタム、2−ブタノン、第2ブチルアルコール
と1,3−ブタンジオールの使用は英国特許第1,503,851号
に発表されている。セフアロスポリンC発酵中のデスアセチルセフアロスポリンC
の同時生成問題はセフアロスポリンCとしてより高率のセフアロスポリンC
核生成微生物生成法又は抽出-分離法(例えば米国特許第
4,059,573号)の形でのみ提出されている。
デスアセチルセフアロスポリンCは初めセフアロスポリ
ウム アクレモニウムの培養物液で検出された。アブ
ラハムらはこの物質の生成はセフアロスポリンCの酵素
的脱アセチル化によると考えた。(Biochem.J.81、59
1−596、1961)。次いでセフアロスポリンCを
脱アセチル化できるテステラーゼ酵素が種々の源泉、例
えば柑橘類、細菌、放線菌類、小麦胚芽、哺乳動物肝臓
と腎臓およびロードトルラ(Rhodotorula)から単離さ
れている。Develop.Ind.Microbiol8、417−423(196
7)にピサノらはセフアロスポリウム属中にエステラー
ゼ活性は広がつていると報告している。大部分のこのア
セチルエステラーゼ酵素は広い基質耐性をもつと思われ
る。即ちβ−ナフチル アセテイトとトリアセチンは活
性物質であり、セフアロスポリンCに対するその活性は
特異とは思われない。マツクドナルド,K,D.,ニュ
ーヨーク、アカデミツクプレス変輯Second Internation
al Symp.on Genetics of Industrial Microorgnisms,Pr
oc.,451−472ページ(1975)のNueschらおよ
びAgr.Biol.Chem.39(6)、1303−1309(1975)
のフザサワらは各別個にセフアロスポリウム アクレモ
ニウムの細胞外肉汁澄液からセフアロスポリンCエスト
ラーゼ活性を部分精製しこの酵素活性の存在がC.アク
レモニウム発酵におけるデスアセチルセフアロスポリン
Cの発生の原因にある程度なつていると結論した。同様
にエストラーザ活性はセフアロスポリンC生成性ストレ
プマイセス ストレプトマイセテス クラバリゲルス
(Streptmyces Clavuligerus)(Antimicrob.Agents Ch
emother1、237-241(1972))中で検出されている。しか
しフーバーはAppl.Microbiol.16(7)、1011−1014(19
68)中で発酵法におけるデスアセチルセフアロスポリ
ンCの生成はセフアロスポリンCの非酵素的加水分解に
よるものであると証明している。セフアロスポリンC生
成が酵素的と非酵素的両方の加水分解によるものであ
り、酵素的アセチルエストラーゼ活性が特別な役割をす
るというのが本発明の考えである。
ウム アクレモニウムの培養物液で検出された。アブ
ラハムらはこの物質の生成はセフアロスポリンCの酵素
的脱アセチル化によると考えた。(Biochem.J.81、59
1−596、1961)。次いでセフアロスポリンCを
脱アセチル化できるテステラーゼ酵素が種々の源泉、例
えば柑橘類、細菌、放線菌類、小麦胚芽、哺乳動物肝臓
と腎臓およびロードトルラ(Rhodotorula)から単離さ
れている。Develop.Ind.Microbiol8、417−423(196
7)にピサノらはセフアロスポリウム属中にエステラー
ゼ活性は広がつていると報告している。大部分のこのア
セチルエステラーゼ酵素は広い基質耐性をもつと思われ
る。即ちβ−ナフチル アセテイトとトリアセチンは活
性物質であり、セフアロスポリンCに対するその活性は
特異とは思われない。マツクドナルド,K,D.,ニュ
ーヨーク、アカデミツクプレス変輯Second Internation
al Symp.on Genetics of Industrial Microorgnisms,Pr
oc.,451−472ページ(1975)のNueschらおよ
びAgr.Biol.Chem.39(6)、1303−1309(1975)
のフザサワらは各別個にセフアロスポリウム アクレモ
ニウムの細胞外肉汁澄液からセフアロスポリンCエスト
ラーゼ活性を部分精製しこの酵素活性の存在がC.アク
レモニウム発酵におけるデスアセチルセフアロスポリン
Cの発生の原因にある程度なつていると結論した。同様
にエストラーザ活性はセフアロスポリンC生成性ストレ
プマイセス ストレプトマイセテス クラバリゲルス
(Streptmyces Clavuligerus)(Antimicrob.Agents Ch
emother1、237-241(1972))中で検出されている。しか
しフーバーはAppl.Microbiol.16(7)、1011−1014(19
68)中で発酵法におけるデスアセチルセフアロスポリ
ンCの生成はセフアロスポリンCの非酵素的加水分解に
よるものであると証明している。セフアロスポリンC生
成が酵素的と非酵素的両方の加水分解によるものであ
り、酵素的アセチルエストラーゼ活性が特別な役割をす
るというのが本発明の考えである。
リールシュらのマツクドナルド。K.D.ニューヨー
ク、アカデミツクプレス編Second International Symp.
on Gentics of Industrial Microorganisms,Proc.,17
9−195ページ(1976)およびフエリツクスらの
FEMS Microbiol.ctt.8、55−58(1980)はデ
スアセチルセフアロスポリンCもデスアセトキシセフア
ロスポリンCからセフアロスポリンC生合成における細
胞内中間体であることを示している。
ク、アカデミツクプレス編Second International Symp.
on Gentics of Industrial Microorganisms,Proc.,17
9−195ページ(1976)およびフエリツクスらの
FEMS Microbiol.ctt.8、55−58(1980)はデ
スアセチルセフアロスポリンCもデスアセトキシセフア
ロスポリンCからセフアロスポリンC生合成における細
胞内中間体であることを示している。
セフアロスポリウム アクレモニウムから部分精製した
アセチルエストラーゼの酵素活性はエステラーゼの抑制
剤と認められたジイソプロピルフルオロホスフエイト
(Agr.Bicl.Chem.39(6)、1303−1309、19
75)によつて抑制されると報告された。しかしこのり
んアセチルエストラーゼ抑制剤を激しい毒性と高価のた
めセフアロスポリンCの工業的製造には使用できない。
アセチルエストラーゼの酵素活性はエステラーゼの抑制
剤と認められたジイソプロピルフルオロホスフエイト
(Agr.Bicl.Chem.39(6)、1303−1309、19
75)によつて抑制されると報告された。しかしこのり
んアセチルエストラーゼ抑制剤を激しい毒性と高価のた
めセフアロスポリンCの工業的製造には使用できない。
セフアロスポリンCの大気中での性質のためこれは発酵
肉汁から溶媒抽出法でより容易に回収できる様その誘導
体に通常変えられる。この誘導体の例は英国特許出願第
2,021,640Aに記載されている。特に好ましい1方法は
米国特許第3,573,296号に発表されている。この好まし
い方法によつてえられるセフアロスポリンC誘導体は米
国特許第3,830,809号に発表されている様に結晶性ビス
ージクロロヘキシルアミン塩として回収できる。次いで
発酵肉汁から回収されたセフアロスポリンC又はその誘
導体は普通の方法、例えば米国特許3,932,392号の方法
によつて裂開されて7−ACAとなる。
肉汁から溶媒抽出法でより容易に回収できる様その誘導
体に通常変えられる。この誘導体の例は英国特許出願第
2,021,640Aに記載されている。特に好ましい1方法は
米国特許第3,573,296号に発表されている。この好まし
い方法によつてえられるセフアロスポリンC誘導体は米
国特許第3,830,809号に発表されている様に結晶性ビス
ージクロロヘキシルアミン塩として回収できる。次いで
発酵肉汁から回収されたセフアロスポリンC又はその誘
導体は普通の方法、例えば米国特許3,932,392号の方法
によつて裂開されて7−ACAとなる。
上に記載のとおり発酵中全セフアロスポリン核(セフア
ロスポリンCとデスアセチルセフアロスポリンC)の約
15%の量でえられたデスアセチルセフアロスポリンC
不純物は望むセフアロスポリンC製品と全く同じ化学的
性質をもつている。故にセフアロスポリンCを溶媒抽出
可能な誘導体に変えるとデスアセチルセフアロスポリン
Cも同じ誘導体に変り分離されたセフアロスポリンC誘
導体にはデスアセチルセフアロスポリンC誘導体が混在
している。したがつてデスアセチルセフアロスポリンC
としてえられるセフアロスポリン核の割合を減少すれば
純セフアロスポリンC誘導体生成物となることはわかる
であろう。更にこの誘導体は7−ACAに転化前に通常
精製されないので発酵肉汁のデスアセチルセフアロスポ
リン量の減少はより良い7−ACA製品品質となる。
ロスポリンCとデスアセチルセフアロスポリンC)の約
15%の量でえられたデスアセチルセフアロスポリンC
不純物は望むセフアロスポリンC製品と全く同じ化学的
性質をもつている。故にセフアロスポリンCを溶媒抽出
可能な誘導体に変えるとデスアセチルセフアロスポリン
Cも同じ誘導体に変り分離されたセフアロスポリンC誘
導体にはデスアセチルセフアロスポリンC誘導体が混在
している。したがつてデスアセチルセフアロスポリンC
としてえられるセフアロスポリン核の割合を減少すれば
純セフアロスポリンC誘導体生成物となることはわかる
であろう。更にこの誘導体は7−ACAに転化前に通常
精製されないので発酵肉汁のデスアセチルセフアロスポ
リン量の減少はより良い7−ACA製品品質となる。
本発明はセフアロスポリンC発酵中デスアセチルセフア
ロスポリンC生成抑制剤として働らくあるりん化合物を
提供するものである。えられる発酵肉汁はデスアセチル
セフアロスポリンCに対しセフアロスポリンCを著しく
高い割合で含むので回収したセフアロスポリンC製品品
質、引いてはこのセフアロスポリンC製品からつくつた
最終7−ACA中間体の品質を改良する。
ロスポリンC生成抑制剤として働らくあるりん化合物を
提供するものである。えられる発酵肉汁はデスアセチル
セフアロスポリンCに対しセフアロスポリンCを著しく
高い割合で含むので回収したセフアロスポリンC製品品
質、引いてはこのセフアロスポリンC製品からつくつた
最終7−ACA中間体の品質を改良する。
本発明はセフアロスポリンC生成性微生物の浸漬好気性
培養によるセフアロスポリンCの改良製法に関する。特
に本発明は培養媒質中にある有機および無機りん化合物
添加によるセフアロスポリンC生成性でありデスアセチ
ルセフアロスポリンCも生成する微生物の発酵中のデス
アセチルセフアロスポリンC生成抑制法に関する。
培養によるセフアロスポリンCの改良製法に関する。特
に本発明は培養媒質中にある有機および無機りん化合物
添加によるセフアロスポリンC生成性でありデスアセチ
ルセフアロスポリンCも生成する微生物の発酵中のデス
アセチルセフアロスポリンC生成抑制法に関する。
本発明によるりん化合物抑制剤は一般式: をもつ。上記式中式中R1、R2およびR3は各無関係に
任意に置換されたアルキル、アリール又はアラルキルを
表わし;R4は任意に置換されたアルキル又は−OR10
(R10は水素又は任意に置換されたアルキル、アリール
又はアラルキルを表わす)を表わし;R5は水素又は任
意に置換されたアルキル、アリール又はアラルキルを表
わし;R6は水素、ヒドロキシ、アルケニル、アルカノ
イル又は任意に置換されたアルキル基を表わし;かつR
8とR9はいづれも水素又はいづれもクロロである。これ
らの化合物はセフアロスポリンCの発酵製造中デスアセ
チルセフアロスポリンCの生成を効果的に減少する。更
にこれら化合物はジイソピロピルフルオロホスフエイト
よりも実質的に毒性小さく一般に比較的安価であるので
大規模セフアロスポリンC製造に実用できる。
任意に置換されたアルキル、アリール又はアラルキルを
表わし;R4は任意に置換されたアルキル又は−OR10
(R10は水素又は任意に置換されたアルキル、アリール
又はアラルキルを表わす)を表わし;R5は水素又は任
意に置換されたアルキル、アリール又はアラルキルを表
わし;R6は水素、ヒドロキシ、アルケニル、アルカノ
イル又は任意に置換されたアルキル基を表わし;かつR
8とR9はいづれも水素又はいづれもクロロである。これ
らの化合物はセフアロスポリンCの発酵製造中デスアセ
チルセフアロスポリンCの生成を効果的に減少する。更
にこれら化合物はジイソピロピルフルオロホスフエイト
よりも実質的に毒性小さく一般に比較的安価であるので
大規模セフアロスポリンC製造に実用できる。
本発明の方法が発酵肉汁中においてセフアロスポリンC
生成性でありデスアセチルセフアロスポリンCも生成す
る微生物を用いる以外は本発明法は普通のセフアロスポ
リンC製造用発酵法に使用できる。この微生物の例は文
献・英国特許出願2,060,60A等に記載されている。他の
セフアロスポリンC生成性微生物はデスアセチルセフア
ロスポリンC生成についてこの分野でよく知られた普通
の試験法により容易に試験できる。
生成性でありデスアセチルセフアロスポリンCも生成す
る微生物を用いる以外は本発明法は普通のセフアロスポ
リンC製造用発酵法に使用できる。この微生物の例は文
献・英国特許出願2,060,60A等に記載されている。他の
セフアロスポリンC生成性微生物はデスアセチルセフア
ロスポリンC生成についてこの分野でよく知られた普通
の試験法により容易に試験できる。
本発明に用いる最も好ましいセフアロスポリンC生成性
微生物はセフアロスポリンCとデスアセチルセフアロス
ポリンCの両方を生成するセフアロスポリウム アクレ
モニウム(アクレモニウム クリソジエナムとも知られ
ている)株である。代表的セフアロスポリウム アクレ
モニウム製造株はデスアセチルセフアロスポリンCとし
て全セフアロスポリンC核(セフアロスポリンCとデサ
セチルセフアロスポリンC)の約15%を生成する。
微生物はセフアロスポリンCとデスアセチルセフアロス
ポリンCの両方を生成するセフアロスポリウム アクレ
モニウム(アクレモニウム クリソジエナムとも知られ
ている)株である。代表的セフアロスポリウム アクレ
モニウム製造株はデスアセチルセフアロスポリンCとし
て全セフアロスポリンC核(セフアロスポリンCとデサ
セチルセフアロスポリンC)の約15%を生成する。
本発明の方法は普通のセフアロスポリンC発酵法によつ
てセフアロスポリンC栄養媒質中で好気性条件、好まし
くは浸漬培養液中でセフアロスポリンC生成性微生物
(セフアロスポリンCとデスアセチルセフアロスポリン
Cを生成しうる)を培養して行なうとよい。本発明はあ
るりん化合物を栄養媒質中に加えることにより発酵時デ
スアセチルセフアロスポリンCの生成を実質的に減少し
て不要のデスアセチルセフアロスポリンCに比べ望むセ
フアロスポリンCを実質的に含む最終肉汁がえられると
いう発見に基づく。
てセフアロスポリンC栄養媒質中で好気性条件、好まし
くは浸漬培養液中でセフアロスポリンC生成性微生物
(セフアロスポリンCとデスアセチルセフアロスポリン
Cを生成しうる)を培養して行なうとよい。本発明はあ
るりん化合物を栄養媒質中に加えることにより発酵時デ
スアセチルセフアロスポリンCの生成を実質的に減少し
て不要のデスアセチルセフアロスポリンCに比べ望むセ
フアロスポリンCを実質的に含む最終肉汁がえられると
いう発見に基づく。
使用する栄養媒質は炭素と窒素の同化性源を含む必要が
ありまた必要ならば成長促進物質および無機塩を加え
る。適当する炭素源には例えばグルコース、蔗糖、澱
粉、可溶性澱粉、植物油、動物油、デキストリンおよび
麦芽糖がある。
ありまた必要ならば成長促進物質および無機塩を加え
る。適当する炭素源には例えばグルコース、蔗糖、澱
粉、可溶性澱粉、植物油、動物油、デキストリンおよび
麦芽糖がある。
適当する窒素源には例えば天然窒素含有物質又はそれか
らつくつた物質、例えば肉抽出液、ペプトン、カゼイ
ン、コーン浸漬液、酵母抽出液、大豆粉、トリプトン、
綿実粉、麦ふすまがある。窒素を含む有機又は無機化合
物、例えば尿素、硝酸塩およびアンモニウム塩、例えば
酢酸アンモニウム、塩化又は硫酸アンモニウムも使用で
きる。
らつくつた物質、例えば肉抽出液、ペプトン、カゼイ
ン、コーン浸漬液、酵母抽出液、大豆粉、トリプトン、
綿実粉、麦ふすまがある。窒素を含む有機又は無機化合
物、例えば尿素、硝酸塩およびアンモニウム塩、例えば
酢酸アンモニウム、塩化又は硫酸アンモニウムも使用で
きる。
発酵アンモニウム媒質に使われる無機塩は硫酸塩、硝酸
塩、塩化物、炭酸塩等で、これらはセフアロスポリンC
製造に使われている。
塩、塩化物、炭酸塩等で、これらはセフアロスポリンC
製造に使われている。
使用できる成長促進剤には例えばシステイン、シスチ
ン、チオサルフエイト、メチルオレフエイト、特にメチ
オニンがあり、また鉄、亜鉛、銅およびマンガンの様な
微量元素もある。
ン、チオサルフエイト、メチルオレフエイト、特にメチ
オニンがあり、また鉄、亜鉛、銅およびマンガンの様な
微量元素もある。
温度、pHおよび発酵時間の様な培養条件は使用微生物が
望むセフアロスポリンCの最大量を堆積する様選ばれ
る。温度は通常約15−45℃、好ましくは約25℃に
保たれ、また発酵は約1−20日間、好ましくは4−1
0日間、最も好ましくは約6日間である。
望むセフアロスポリンCの最大量を堆積する様選ばれ
る。温度は通常約15−45℃、好ましくは約25℃に
保たれ、また発酵は約1−20日間、好ましくは4−1
0日間、最も好ましくは約6日間である。
今やある有機および無機りん化合物をセフアロスポリン
C生成性微生物の培養中培養媒質に加えると発酵肉汁中
のデスアセチルセフアロスポリンCの生成を実質的に減
少することが発見されたのである。このデスアセチルセ
フアロスポリンの生成減少はセフアロスポリンC生成性
微生物の培養中一般に生成されるアセチルエステラーゼ
酵素の抑制結果と信じられている。
C生成性微生物の培養中培養媒質に加えると発酵肉汁中
のデスアセチルセフアロスポリンCの生成を実質的に減
少することが発見されたのである。このデスアセチルセ
フアロスポリンの生成減少はセフアロスポリンC生成性
微生物の培養中一般に生成されるアセチルエステラーゼ
酵素の抑制結果と信じられている。
本発明の方法に使用できるりん化合物は式: で表わされる。式中R1、R2およびR3は各無関係に任
意に置換されたアルキル、アリール又はアラルキルを表
わし;R4は任意に置換されたアルキル又は−OR
10(但しR10は水素又は任意に置換されたアルキル、ア
リール又はアラルキルを表わす)を表わし;R5は水素
又は任意に置換されたアルキル、アリール又はアラルキ
ルを表わし;R6は水素、ヒドロキシアルケニル、アル
カノイル又は任意に置換されたアルキル基を表わし;か
つR8とR9はいづれも水素又はいづれもクロロである。
意に置換されたアルキル、アリール又はアラルキルを表
わし;R4は任意に置換されたアルキル又は−OR
10(但しR10は水素又は任意に置換されたアルキル、ア
リール又はアラルキルを表わす)を表わし;R5は水素
又は任意に置換されたアルキル、アリール又はアラルキ
ルを表わし;R6は水素、ヒドロキシアルケニル、アル
カノイル又は任意に置換されたアルキル基を表わし;か
つR8とR9はいづれも水素又はいづれもクロロである。
好ましいりん化合物は式I、II、IIIおよびIVにおいて
R1、R2およびR3が各無関係に直鎖又は分岐鎖C1−C
10アルキル、フエニル又はフエニル(C1−C4)アルキ
ルを表わし(上記アルキル基又はフエニルアルキルのア
ルキル部分はクロロ、ブロモ、フルオロ、アイオド又は
カルボキシの様な置換基1又は2以上、好ましくは1乃
至3で任意に置換されており、また、上記フエニル又は
フエニルアルキル部分はC1−C6アルキル、C1−C6ア
ルコキシおよびハロから無関係に選ばれた置換基1又は
2以上、好ましくは1乃至3で任意に置換されてい
る)、を表わし;R4はハロ基1又は2以上、好ましく
は1−3で任意に置換されたC1−C6アルキル又は−O
R10(但しR10は水素、C1−C10アルキル、フエニ
ル、又はフエニル(C1−C4であり、アルキル(上記ア
ルキル、フエニルおよびフエニルアルキル基は上記R1
について定義したとおり任意に置換されていてもよい)
を表わし;R5は水素、C1−C10アルキル、フエニル、
又はフエニル(C1−C4)アルキル(上記アルキル、フ
エニルおよびフエニルアルキル基は上記R1について定
義したとおり任意に置換されていてもよい)を表わし;
R6は水素、ヒドロキシ、C2−C6アルケニル、C2−C
6アルカノイル、又はC1−C6アルキル(上記アルキル
基はシアノ、C2−C6アルカノイル又はカルボ(C1−
C6)アルコキシの様な置換基1又は2以上、好ましく
は1−3で任意に置換されていてもよい)を表わし;か
つR8とR9はいづれも水素又はいづれもクロロである様
な式I、II、IIIおよびIVをもつ化合物である。
R1、R2およびR3が各無関係に直鎖又は分岐鎖C1−C
10アルキル、フエニル又はフエニル(C1−C4)アルキ
ルを表わし(上記アルキル基又はフエニルアルキルのア
ルキル部分はクロロ、ブロモ、フルオロ、アイオド又は
カルボキシの様な置換基1又は2以上、好ましくは1乃
至3で任意に置換されており、また、上記フエニル又は
フエニルアルキル部分はC1−C6アルキル、C1−C6ア
ルコキシおよびハロから無関係に選ばれた置換基1又は
2以上、好ましくは1乃至3で任意に置換されてい
る)、を表わし;R4はハロ基1又は2以上、好ましく
は1−3で任意に置換されたC1−C6アルキル又は−O
R10(但しR10は水素、C1−C10アルキル、フエニ
ル、又はフエニル(C1−C4であり、アルキル(上記ア
ルキル、フエニルおよびフエニルアルキル基は上記R1
について定義したとおり任意に置換されていてもよい)
を表わし;R5は水素、C1−C10アルキル、フエニル、
又はフエニル(C1−C4)アルキル(上記アルキル、フ
エニルおよびフエニルアルキル基は上記R1について定
義したとおり任意に置換されていてもよい)を表わし;
R6は水素、ヒドロキシ、C2−C6アルケニル、C2−C
6アルカノイル、又はC1−C6アルキル(上記アルキル
基はシアノ、C2−C6アルカノイル又はカルボ(C1−
C6)アルコキシの様な置換基1又は2以上、好ましく
は1−3で任意に置換されていてもよい)を表わし;か
つR8とR9はいづれも水素又はいづれもクロロである様
な式I、II、IIIおよびIVをもつ化合物である。
式Iをもつホスフアイト化合物の例はトリメチルホスフ
アイトトリエチル ホスフアイト、トリイソプロピル
ホスフアイト、トリブチル ホスフアイト、トリフエニ
ル ホスフアイトおよびトリス(2−クロロエチル)ホ
スフアイトである。ベンジル ジエチル ホスフアイト
およびジフエニル イソデシル ホスフアイトの様な混
合官能ホスフアイトも使用できる。
アイトトリエチル ホスフアイト、トリイソプロピル
ホスフアイト、トリブチル ホスフアイト、トリフエニ
ル ホスフアイトおよびトリス(2−クロロエチル)ホ
スフアイトである。ベンジル ジエチル ホスフアイト
およびジフエニル イソデシル ホスフアイトの様な混
合官能ホスフアイトも使用できる。
式IIをもつりん化合物の例には亜りん酸、ジベンジル、
ホスフアイト、ジブチル ホスフアイト、ジエチル、ホ
スフアイト、ジイソプロピル、ホスフアイト、ジメチル
ホスフアイト、ジフエニル ホスフアイト、トリエチ
ル ホスフアイノ アセテイト、2−クロロエチル、ホ
スホン酸、ジエチル シアノメチル、ホスフオネイト、
ジメチル メチル ホスフオネイト、ジメチル ホスフ
エイト、トリメチル ホスフオノアセテイト、ジエチル
エチル ホスフオネイト、ジエチル カルボメトキシ
メチル ホスフオネイト、ジエチル ジエチル アセ
チル ホスフオネイト、ジメチルアセチルメチル ホス
フオネイト、ジメチル シアノメチル ホスフオネイ
ト、ジエチル アリル ホスフオネイトおるび2−カル
ボキシエチル ホスフオン酸がある。
ホスフアイト、ジブチル ホスフアイト、ジエチル、ホ
スフアイト、ジイソプロピル、ホスフアイト、ジメチル
ホスフアイト、ジフエニル ホスフアイト、トリエチ
ル ホスフアイノ アセテイト、2−クロロエチル、ホ
スホン酸、ジエチル シアノメチル、ホスフオネイト、
ジメチル メチル ホスフオネイト、ジメチル ホスフ
エイト、トリメチル ホスフオノアセテイト、ジエチル
エチル ホスフオネイト、ジエチル カルボメトキシ
メチル ホスフオネイト、ジエチル ジエチル アセ
チル ホスフオネイト、ジメチルアセチルメチル ホス
フオネイト、ジメチル シアノメチル ホスフオネイ
ト、ジエチル アリル ホスフオネイトおるび2−カル
ボキシエチル ホスフオン酸がある。
式IIIをもつ化合物には次亜りん酸、モノメチルホスフ
オネイト、モノエチルホスフオネイトおよび2,2,2-トリ
クロロエチル ホスホロジクロリダイトがある。
オネイト、モノエチルホスフオネイトおよび2,2,2-トリ
クロロエチル ホスホロジクロリダイトがある。
式IVをもつピロホスフアイト化合物にはテトラメチルピ
ロホスフアイトとテトラエチルピロホスフアイトがあ
る。
ロホスフアイトとテトラエチルピロホスフアイトがあ
る。
好ましいりん化合物は抑制剤には亜りん酸、次亜りん
酸、ジイソプロピル ホスフアイト、トリイソプロピル
ホスフアイト、ジベンジル ホスフアイト、ジメチル
ホスフアイト、トリブチル ホスフアイト、トリエチ
ル ホスフオノアセテイト、2−クロロエチル ホスフ
オン酸、テトラエチルピロホスフアイト、ジエチル シ
アノメチル ホスフオネイト、ジメチル メチル ホス
フオネイト、2,2,2-トリクロロエチル ホスフオロジク
ロリダイト、ジメチル ホスフエイト、ジフエニル ホ
スフアイト、トリフエニル ホスフアイト、トリメチル
ホスフアイト、ジブチル ホスフアイト、トリス(2
−クロロエチル)ホスフアイト、トリメチル ホスフオ
ノ アセテイト、ジエチルエチル ホスフオネイト、ジ
エチル カルボメトキシメチル ホスホネイト、ジエチ
ル アセチル ホスホネイト、ジメチル アセチルメチ
ル ホスホネイト、ジメチル シアノメチル ホスホネ
イトおよびジエチル アリル ホスホネイトがある。
酸、ジイソプロピル ホスフアイト、トリイソプロピル
ホスフアイト、ジベンジル ホスフアイト、ジメチル
ホスフアイト、トリブチル ホスフアイト、トリエチ
ル ホスフオノアセテイト、2−クロロエチル ホスフ
オン酸、テトラエチルピロホスフアイト、ジエチル シ
アノメチル ホスフオネイト、ジメチル メチル ホス
フオネイト、2,2,2-トリクロロエチル ホスフオロジク
ロリダイト、ジメチル ホスフエイト、ジフエニル ホ
スフアイト、トリフエニル ホスフアイト、トリメチル
ホスフアイト、ジブチル ホスフアイト、トリス(2
−クロロエチル)ホスフアイト、トリメチル ホスフオ
ノ アセテイト、ジエチルエチル ホスフオネイト、ジ
エチル カルボメトキシメチル ホスホネイト、ジエチ
ル アセチル ホスホネイト、ジメチル アセチルメチ
ル ホスホネイト、ジメチル シアノメチル ホスホネ
イトおよびジエチル アリル ホスホネイトがある。
特に好ましい化合物には亜りん酸、次亜りん酸、ジイソ
プロピル、ホスフアネイト、トリイソプロピル ホスフ
アイト、ジベンジル ホスフアイト、ジメチル ホスフ
アイトおよび トリブチル ホスフアイトがある。
プロピル、ホスフアネイト、トリイソプロピル ホスフ
アイト、ジベンジル ホスフアイト、ジメチル ホスフ
アイトおよび トリブチル ホスフアイトがある。
最も好ましいりん化合物抑制剤は亜りん酸である。
りん化合物は約100乃至3000ppm(重量基
準)、好ましくは約200乃至1000ppmの最終肉
汁濃度となる様使用するとよい。抑制化合物は発酵中一
時に又は一定間隔で添加できる。
準)、好ましくは約200乃至1000ppmの最終肉
汁濃度となる様使用するとよい。抑制化合物は発酵中一
時に又は一定間隔で添加できる。
有機りん化合物は約70乃至140時間の発酵進行中に
1回又は数回に添加するのが最も便利である。無機りん
化合物は接種直後から約140時間迄の発酵進行中に添
加できる。また化合物は殺菌前の発酵媒質中にバツチで
きる。
1回又は数回に添加するのが最も便利である。無機りん
化合物は接種直後から約140時間迄の発酵進行中に添
加できる。また化合物は殺菌前の発酵媒質中にバツチで
きる。
本発明の方法による上記りん化合物使用は発酵肉汁中の
デスアセチルセフアロスポリンCの割合(セフアロスポ
リンCとデスアセチルセフアロスポリンCの全セフアロ
スポリン核を基準として)を実質的に低下することが発
見されている。代表的セフアロスポリンC発酵に化合物
使用の場合、デスアセチルセフアロスポリンCの濃度は
非処理発酵時の約15%(全セフアロスポリン核に対
し)に比べて約4%に減少されたのである。
デスアセチルセフアロスポリンCの割合(セフアロスポ
リンCとデスアセチルセフアロスポリンCの全セフアロ
スポリン核を基準として)を実質的に低下することが発
見されている。代表的セフアロスポリンC発酵に化合物
使用の場合、デスアセチルセフアロスポリンCの濃度は
非処理発酵時の約15%(全セフアロスポリン核に対
し)に比べて約4%に減少されたのである。
処理した振とうフラスコ発酵において生成されたセフア
ロスポリン核の全量は変らず残ると思われ、かくしてセ
フアロスポリンC力価は一般に適当量だけ増加される。
大規模発酵においてはりん抑制化合物使用がセフアロス
ポリンC量増加となるに至つていない。しかしセフアロ
スポリンC濃度が一定に止つていてさえ処理した発酵中
のデスアセチルセフアロスポリンCの減量はより高純度
のセフアロスポリンC製品回収を非常に可能にするであ
ろう。
ロスポリン核の全量は変らず残ると思われ、かくしてセ
フアロスポリンC力価は一般に適当量だけ増加される。
大規模発酵においてはりん抑制化合物使用がセフアロス
ポリンC量増加となるに至つていない。しかしセフアロ
スポリンC濃度が一定に止つていてさえ処理した発酵中
のデスアセチルセフアロスポリンCの減量はより高純度
のセフアロスポリンC製品回収を非常に可能にするであ
ろう。
本発明のりん化合物は酵素濃度でその抑制活性をもつと
示された。故にセフアロスポリンCエステラーゼ活性は
DEAEセフアデツクスA50管クロマトグラフ法によ
りセフアロスポリウム アクレモニウム肉汁上澄液から
部分的に精製され、このプレパレイシヨンの加水分解活
性(セフアロスポリンCのデスアセチルセフアロスポリ
ンCへの転化をフオローしHPLCによつて測定した場
合)が式I、II、IIIおよびIVをもつりん化合物によつ
て抑制されることが発見された。
示された。故にセフアロスポリンCエステラーゼ活性は
DEAEセフアデツクスA50管クロマトグラフ法によ
りセフアロスポリウム アクレモニウム肉汁上澄液から
部分的に精製され、このプレパレイシヨンの加水分解活
性(セフアロスポリンCのデスアセチルセフアロスポリ
ンCへの転化をフオローしHPLCによつて測定した場
合)が式I、II、IIIおよびIVをもつりん化合物によつ
て抑制されることが発見された。
発酵完了後セフアロスポリンC製品は米国特許第3,573,
296号に記載の様な知られた方法によつて溶媒抽出法に
よつて容易に回収できる様な誘導体に転化される。発酵
によつてえたセフアロスポリンC又はその誘導体は次い
で既知法によつて多くの準合成セフアロスポリンC製造
の重要中間体7−ACAに変えられる。本発明によるり
ん抑制化合物使用によつてセフアロスポリンC又はその
誘導体および最終7−ACA中間体はより効果的にまた
非処理肉汁法と比較した場合非常に高純度でえられる。
296号に記載の様な知られた方法によつて溶媒抽出法に
よつて容易に回収できる様な誘導体に転化される。発酵
によつてえたセフアロスポリンC又はその誘導体は次い
で既知法によつて多くの準合成セフアロスポリンC製造
の重要中間体7−ACAに変えられる。本発明によるり
ん抑制化合物使用によつてセフアロスポリンC又はその
誘導体および最終7−ACA中間体はより効果的にまた
非処理肉汁法と比較した場合非常に高純度でえられる。
次の実施例は本発明を例証するためのもので、如何なる
意味でも本発明の範囲を特記した実施態様に限定するも
のではない。実施例に使用したppmは重量対重量基準
である。以下におけるCephCはセフアロスポリンCを、
またDephCはデスアセチル セフアロスポリンCを表わ
す。
意味でも本発明の範囲を特記した実施態様に限定するも
のではない。実施例に使用したppmは重量対重量基準
である。以下におけるCephCはセフアロスポリンCを、
またDephCはデスアセチル セフアロスポリンCを表わ
す。
実施例1 セフアロスポリウム アクレモニウム(デスアセチルCe
phCも生成する高cephC生成性突然変異株)の標準振とう
フラスコ発酵液を次の方法でよつてつくつた。冷凍保存
培養液からのコーン浸漬液−グルコース主体の種媒質接
種から種培養を開始した。種フラスコを260rpmで
振とうしながら28℃で3日培養し、10%接種量を生
産段階発酵開始に使用した。生成媒質はコーン浸漬液、
PHARMMEDIA(テキサス州フオース ウオース、トシイダ
ース オイル ミル社販売の綿実粉)、デキストリン、
大豆油、メチオニンおよび硫酸アンモニウムの平衡組成
物に基づいた。フラスコを260rpm、25℃で全6
日間振とうし、次いで肉汁試料を稀釈、過してHPL
C法によつてcephCとDes cephCを分析した。抑制剤は下
記量を4日目(96時間)に加えた。結果は次のとお
り: 実施例2 実施例1に記載の標準振とうフラスコ発酵条件と同じ生
成用培養液を用いて無機と有機りん化合物を接種後0.
48および96時間の進行中の発酵液に加えて最終抑制
剤肉汁液濃度100乃至800ppmとした。結果は次
表のとおり: 実施例3 実施例1の標準振とうフラスコ発酵条件および同じ生成
用培養液を用いて無機りん抑制化合物を媒質に加えた後
121℃のオートクレイプ中で20分間殺菌した。結果
を次表に示す。
phCも生成する高cephC生成性突然変異株)の標準振とう
フラスコ発酵液を次の方法でよつてつくつた。冷凍保存
培養液からのコーン浸漬液−グルコース主体の種媒質接
種から種培養を開始した。種フラスコを260rpmで
振とうしながら28℃で3日培養し、10%接種量を生
産段階発酵開始に使用した。生成媒質はコーン浸漬液、
PHARMMEDIA(テキサス州フオース ウオース、トシイダ
ース オイル ミル社販売の綿実粉)、デキストリン、
大豆油、メチオニンおよび硫酸アンモニウムの平衡組成
物に基づいた。フラスコを260rpm、25℃で全6
日間振とうし、次いで肉汁試料を稀釈、過してHPL
C法によつてcephCとDes cephCを分析した。抑制剤は下
記量を4日目(96時間)に加えた。結果は次のとお
り: 実施例2 実施例1に記載の標準振とうフラスコ発酵条件と同じ生
成用培養液を用いて無機と有機りん化合物を接種後0.
48および96時間の進行中の発酵液に加えて最終抑制
剤肉汁液濃度100乃至800ppmとした。結果は次
表のとおり: 実施例3 実施例1の標準振とうフラスコ発酵条件および同じ生成
用培養液を用いて無機りん抑制化合物を媒質に加えた後
121℃のオートクレイプ中で20分間殺菌した。結果
を次表に示す。
実施例4 標準培養液生成と発酵法により30撹拌槽発酵機中で
セフアロスポリウム アクレモニウムを発酵させた。コ
ーン浸漬液−フア−マメイデイア−グルコース媒質上プ
ロパージ(proparge)した種培養液を使つて容器の媒質
容量の10%に接種した。発酵媒質はコーン浸漬液、大
豆粉、および有機炭素と窒素として大豆油より成るもの
であつた。発酵中グルコース シロップと大豆油を供給
した。96時間において試験発酵機にトリブチルホスフ
アイトを最終的汁濃度300ppmまで加えた。添加効
果を下記セフアロスポリンCとデスアセチルセフアロス
ポリンCの濃度変化について記録している。
セフアロスポリウム アクレモニウムを発酵させた。コ
ーン浸漬液−フア−マメイデイア−グルコース媒質上プ
ロパージ(proparge)した種培養液を使つて容器の媒質
容量の10%に接種した。発酵媒質はコーン浸漬液、大
豆粉、および有機炭素と窒素として大豆油より成るもの
であつた。発酵中グルコース シロップと大豆油を供給
した。96時間において試験発酵機にトリブチルホスフ
アイトを最終的汁濃度300ppmまで加えた。添加効
果を下記セフアロスポリンCとデスアセチルセフアロス
ポリンCの濃度変化について記録している。
トリブチル ホスフアイト添加はデスアセチルセフアロ
スポリンC生成量を対照試験におけるceph核の15.0
%から9.1%まで低下したのである。
スポリンC生成量を対照試験におけるceph核の15.0
%から9.1%まで低下したのである。
実施例5 普通のセフアロスポリンC媒質と普通の方法を用いて3
000撹拌槽発酵機中でセフアロスポリウム アクレ
モニウムを発酵した。100時間においてジメチル水素
ホスフアイトを最終汁濃度600ppmまで加えた。添
加抑制剤の結果は次のとおりである。
000撹拌槽発酵機中でセフアロスポリウム アクレ
モニウムを発酵した。100時間においてジメチル水素
ホスフアイトを最終汁濃度600ppmまで加えた。添
加抑制剤の結果は次のとおりである。
実施例6 次の添加りん化合物も振とうフラスコ発酵法で試験した
処デスアセチルセフアロスポリンC生成に対して抑制活
性を示した: トリエチル ホスホノアセテイト、 2−クロロエチル ホスホン酸、 テトラエチルピロホスフアイト、 ジエチル シアノメチル ホスホネイト、 2,2,2-トリクロロエチル ホスホロジクロリダイト、 ジメチル ホスフエイト、 トリメチル ホスフアイト、 トリエチル ホスフアイト、 ジブチル ホスフアイト、 トリ(2−クロロエチル)ホスフアイト、 トリメチル ホスホノアセテイト、 ジエチル エチル ホスホネイト、 トリブチル ホスフアイト、 トリフエニル ホスフアイト、 ジエチル カルボメオキシメチル ホスホネイト、 ジメチル アセチルメチル ホスホネイト、 ジメチル シアノメチル ホスホネイト、 ジエチル アリル ホスホネイト、 実施例7 次の添加りん化合物も発酵機内で試験した処デスアセチ
ルセフアロスポリンC生成に対して抑制活性を示した: トリエチル ホスホノアセテイト、 2−クロロエチル ホスホン酸、 テトラエチルピロホスフアイト、 ジエチル シアノメチル ホスホネイト、 ジメチル メチル ホスホネイト、 2,2,2-トリクロロエチル ホスホロジクロリダイト、 ジメチル ホスフエイト、 トリエチル ホスフアイト、 ジフエニル ホスフアイト、 トリフエニル ホスフアイト、 ジイソプロピル ホスフアイト、 トリイソプロピル ホスフアイト。
処デスアセチルセフアロスポリンC生成に対して抑制活
性を示した: トリエチル ホスホノアセテイト、 2−クロロエチル ホスホン酸、 テトラエチルピロホスフアイト、 ジエチル シアノメチル ホスホネイト、 2,2,2-トリクロロエチル ホスホロジクロリダイト、 ジメチル ホスフエイト、 トリメチル ホスフアイト、 トリエチル ホスフアイト、 ジブチル ホスフアイト、 トリ(2−クロロエチル)ホスフアイト、 トリメチル ホスホノアセテイト、 ジエチル エチル ホスホネイト、 トリブチル ホスフアイト、 トリフエニル ホスフアイト、 ジエチル カルボメオキシメチル ホスホネイト、 ジメチル アセチルメチル ホスホネイト、 ジメチル シアノメチル ホスホネイト、 ジエチル アリル ホスホネイト、 実施例7 次の添加りん化合物も発酵機内で試験した処デスアセチ
ルセフアロスポリンC生成に対して抑制活性を示した: トリエチル ホスホノアセテイト、 2−クロロエチル ホスホン酸、 テトラエチルピロホスフアイト、 ジエチル シアノメチル ホスホネイト、 ジメチル メチル ホスホネイト、 2,2,2-トリクロロエチル ホスホロジクロリダイト、 ジメチル ホスフエイト、 トリエチル ホスフアイト、 ジフエニル ホスフアイト、 トリフエニル ホスフアイト、 ジイソプロピル ホスフアイト、 トリイソプロピル ホスフアイト。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチヤ−ド・ポ−ル・エランダ− アメリカ合衆国ニユ−ヨ−ク州13104マン リウス・ベイサ−・ドライブ8376
Claims (15)
- 【請求項1】セフアロスポリンCを生成すると共にデス
アセチルセフアロスポリンCも生成する微生物を栄養媒
質中で培養することによるセフアロスポリンCの製法に
おいて、上記媒質中に式: (式中、R1、R2およびR3は各無関係に直鎖又は分岐
鎖C1−C10アルキル、フエニル又はフエニル(C1−C
4)アルキルを表わし上記アルキル基又はフエニルアル
キルのアルキル部分は任意に1又は2以上のハロ又はカ
ルボキシ置換基で置換されておりまた上記フエニル基又
はフェニルアルキルのフエニル部分は任意に1又は2以
上のC1−C6アルキルC1−C6アルコキシ又はハロ置換
基で置換されており;R4は任意に1又は2以上のハロ
基で置換されたC1−C6アルキル又は−OR10を表わ
し、但しR10は水素又は上記R1について定義したと
おりの基を表わし;R5は水素又は上記R1について定義
したとおりの基を表わし;R6は水素、ヒドロキシ、C2
−C6アルケニル、C2−C6アルカノイル又はC1−C6
アルキルを表わし、上記アルキル基は任意に1又は2以
上のシアノ、C2−C6アルカノイル又はカルボ(C1−
C6)アルコキシ基によつて置換されており;かつR8と
R9はいづれも水素又はいづれもクロロを表わす)で示
されるりん化合物を約100乃至3000ppmの濃度に
加えることを特徴とする改良製法。 - 【請求項2】微生物がセフアロスポリウム属のセフアロ
スポリンC生成性株である特許請求の範囲第1項記載の
方法。 - 【請求項3】微生物がセフアロスポリウム アクレモニ
ウムのセフアロスポリンCの生成性株である特許請求の
範囲第1項に記載の方法。 - 【請求項4】りん化合物が式: (但し、R1、R2およびR3は各無関係にC1−C10アル
キル、ハロ−置換C1−C10アルキル、フエニル又は
ベンジルを表わす)で示される特許請求の範囲第1項、
2項又は3項に記載の方法。 - 【請求項5】R1、R2およびR3が各無関係にメチル、
エチル、イソプロピル、n−ブチル、フエニル、ベンジ
ル、イソデシル又は2−クロロエチルである特許請求の
範囲第4項に記載の方法。 - 【請求項6】りん化合物が式: (式中R4がC1−C6アルキル、ハロ−置換C1−C6ア
ルキル又は−OR10であり、かつR10が水素、C1−C6
アルキル、ハロ−置換C1−C10アルキル、フエニル又
はベンジルであり;R5が水素、C1−C10アルキル、ハ
ロ−置換C1−C10アルキル、フエニル又はベンジルで
あり;かつR6が水素、ヒドロキシ、C2−C6アルケニ
ル、C1−C6アルキル、C2−C6アルカノイル又はC2
−C6アルカノイル、、カルボ(C1−C6)アルコキシ
又はシアノにより置換されたC1−C6アルキルである)
で示される特許請求の範囲第1項、2項又は3項に記載
の方法。 - 【請求項7】R4が2−クロロエチル又は−OR10(但
しR10は水素、ベンジル、n−ブチル、エチル、イソプ
ロピル、メチル、フエニル又は2,2,2−トリクロロエチ
ルとする)であり;R5が水素、エチル、メチル、2−
クロロエチル、n−ブチル、フエニル、イソプロピル又
はベンジルであり;かつR6が水素、ヒドロキシ、アリ
ル、シアノメチル、カルボエトキシメチル、メチル、カ
ルボメトキシメチル、エチル、アセチル又はアセチルメ
チルである特許請求の範囲第6項に記載の方法。 - 【請求項8】りん化合物が式: (式中R5が水素、C1−C10アルキル、ハロ−置換C1
−C10アルキル、フエニル又はベンジルであり;かつR
8とR9がいづれも水素又はいづれもクロロである)をも
つものである特許請求の範囲第1項、2項又は3項に記
載の方法。 - 【請求項9】R5が水素メチル、エチル又は2,2,2−トリ
クロロエチルルである特許請求の範囲第8項に記載の方
法。 - 【請求項10】りん化合物がテトラメチルピロホスフア
イト又はテトラエチルピロホスフアイトである特許請求
の範囲第1項、2項又は3項に記載の方法。 - 【請求項11】りん化合物が亜りん酸、次亜りん酸、ジ
イソプロピルホスフアイト、トリイソプロピル ホスフ
アイト、ベンジルホスフアイト、ジメチル ホスフアイ
ト、トリブチルホスフアイト、トリエチル ホスホノア
セテイト、2−クロロエチルホスホン酸、テトラエチル
ピロホスフアイト、ジエチルアノメチルホスホネイト、
ジメチル メチルホスホネイト、2,2,2-トリクロロエチ
ル ホスホロジクロリダイト、ジメチル ホスフエイ
ト、ジフエニルホスフアイト、トリフエニルホスフアイ
ト、トリメチルホスフアイト、ジブチルホスフアイト、
トリス(2−クロロエチル)ホスフアイト、トリメチル
ホスホノアセテイト、ジエチル エチル ホスホネイ
ト、ジエチル カルボ メトキシ メチル ホスホネイ
ト、ジエチル アセチル ホスホネイト、ジメチル ア
セチルメチル ホスホネイト、ジメチル シアノメチル
ホスホネイトおよびジエチル アリル ホスホネイト
より成る群から選ばれたものである特許請求の範囲第1
項、2項又は3項に記載の方法。 - 【請求項12】りん化合物が亜りん酸、次亜りん酸、ジ
イソプロピルホスフアイト、トリイソプロピル ホスフ
アイト、ジベンジル ホスフアイト、ジメチル ホスフ
アイトおよびトリブチル ホスフアイトより成る群から
選ばれたものである特許請求の紐囲第1項、2項又は3
項に記載の方法。 - 【請求項13】りん化合物が亜りん酸である特許請求の
範囲第1項、2項又は3項に記載の方法。 - 【請求項14】接種後約70乃至140時間の発酵中に
有機りん化合物を加える特許請求の範囲第1項、2項又
は3項に記載の方法。 - 【請求項15】殺菌前又は接種0乃至140時間後に無
機りん化合物を培養媒質中に加える特許請求の範囲第1
項、2項又は3項に記載の方法。
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