JPH0694644A - 受光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】製造プロセスが非常に簡単で、しかも、種々の
検知対象に対して簡単に対応することができ、製作及び
コスト的に非常に有利にする。 【構成】半導体基板２５ａに第１の受光素子２７及び第
２の受光素子２８を平面的に形成し、その平面的に形成
された第１の受光素子２７及び第２の受光素子２８のそ
れぞれの受光面２７ａ，２８ａに対してそれぞれ複数の
スリット３０，３１からなる回折格子２９を配置する。
このとき、第１の受光素子２７の受光面２７ａに対して
形成された複数のスリット３０と第２の受光素子２８の
受光面２８ａに対して形成された回折格子２９上の複数
のスリット３０，３１の形状及び形成ピッチＰが同一と
なっている。さらに、第１の受光素子２７に対する複数
のスリット３０に対して、第２の受光素子２８に対する
複数のスリット３１が互いに位相がズレた状態で形成さ
れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は受光装置に係り、詳しく
は空間フィルタ型センサ素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、空間フィルタ型センサ素子は外乱
ノイズに対して強い性質を有することから、特殊な速度
計測等に利用されている。本出願人はこの空間フィルタ
型センサ素子の優れた特性に着目して空間フィルタ型セ
ンサ素子を用いた検反装置を提案している。

【０００３】図１０に示すように、この検反装置４１は
織前Ｗ１とエキスパンションバー４２との間に設置さ
れ、上部に透明な材質からなる窓４３が嵌め込まれた収
容ボックス４４と、収容ボックス４４の上面に窓４３を
覆うように配置された反射板４５とを備えている。この
反射板４５の織布Ｗと対向する下面は鏡面に加工されて
いる。そして、織前Ｗ１にて織成された織布Ｗは巻き取
りローラに巻き取られながら収容ボックス４４の上面と
反射板４５の下面にて挟まれた状態で移動する。

【０００４】そして、移動する織布Ｗに対して、収容ボ
ックス４４内ではセンサヘッド４６が織布Ｗの幅方向を
走行レール４７に沿って所定速度で往復移動する。その
際、センサヘッド４６は検出窓４６ａから織布Ｗに対し
て垂直に光を照射し、織布Ｗに照射された光は織布Ｗの
裏面で直接あるいは織布Ｗの経糸Ｔの間隙を通って反射
板４５の下面にて反射される。センサヘッド４６はその
反射光を検出窓４６ａから受光し、特に織布Ｗの経糸方
向の欠点を検反するようになっている。

【０００５】即ち、図１１に示すように、センサヘッド
４６の内部には投光器４８が設置され、投光器４８から
の光の通過経路にハーフミラー４９が配置されている。
ハーフミラー４９の同図上方には織布Ｗから所定距離Ｈ
をおいて凸レンズ５０が、凸レンズ５０から所定距離Ｄ
をおいて空間フィルタ５１がそれぞれ設けられている。
投光器４８から照射された光はハーフミラー４９で照射
して織布Ｗに垂直に照射され、織布Ｗの上面（同図１１
における下面）側に配置された反射板４５に経糸Ｔの間
隙から達して反射する。そして、この反射光がハーフミ
ラー４９を透過して凸レンズ５０を経て空間フィルタ５
１に収束され、明るさとして結像する。

【０００６】空間フィルタ５１は受光ピッチが一定ピッ
チＰになるよう配設された多数の受光素子５２ａ，５２
ｂを備えた２個の櫛型フィルタ部５３ａ，５３ｂが対向
配置されて構成されている。各櫛型フィルタ部５３ａ，
５３ｂから延出する各受光素子５２ａ，５２ｂの長手方
向は織布Ｗの経糸Ｔの像と平行になるように配置されて
いる。その結果、空間フィルタ５１に結像する織布Ｗの
経糸Ｔの像は受光素子５２ａ，５２ｂの長手方向と平行
になった状態でその長手方向に対して垂直に移動する。
こうして、経糸Ｔ方向の検出感度を高くして特に織布の
経方向の欠点を検知するようになっている。

【０００７】そして、両櫛型フィルタ部５３ａ，５３ｂ
は受光した光を電気信号に変換して出力し、各櫛型フィ
ルタ部５３ａ，５３ｂからの出力の差分を差動演算回路
５４より求めている。そして、この差分に基づく出力信
号の出力周波数ｆのゲインが予め設定した値を越えた時
に、判定回路５５が織布Ｗに経糸切れ等の欠点があるこ
とを判定し、ランプ点灯や警告音発生等の適宜な方法に
より警告を行うようにしている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、空間フィル
タ５１は、多数の受光素子５２ａ，５２ｂを一定ピッチ
Ｐに配設した櫛型フィルタ部５３ａ，５３ｂを対向配置
したものである。従って、その受光面の形状が特殊形状
をしていることから、製造プロセスは非常に複雑で高度
な技術を要していた。しかも、受光素子５２ａ，５２ｂ
のピッチＰは被検知対象によってピッチが決まることか
ら、被検知対象に応じたピッチＰの空間フィルタを用意
する必要があった。従って、多品種少量の製品を余儀な
くされ、個々の空間フィルタは非常に高価なものになっ
ていた。

【０００９】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、製造プロセスが非常に
簡単で、しかも、種々の検知対象に対して簡単に対応す
ることができ、製作及びコスト的に非常に有利な受光装
置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め、第１の発明は、半導体基板に受光素子を平面的に形
成し、その平面的に形成された受光素子の受光面に対し
て回折格子を配置したことをその要旨とする。

【００１１】第２の発明は、半導体基板に第１の受光素
子及び第２の受光素子を平面的に形成し、その平面的に
形成された第１の受光素子及び第２の受光素子のそれぞ
れの受光面に対してそれぞれ複数のスリットからなる回
折格子を配置し、第１の受光素子の受光面に対して形成
された複数のスリットと第２の受光素子の受光面に対し
て形成された回折格子上の複数のスリットの形状及び形
成ピッチを同一にするとともに、第１の受光素子に対す
る複数のスリットに対して、第２の受光素子に対する複
数のスリットが互いに位相がズレた状態で形成されたこ
とをその要旨とする。

【００１２】

【作用】従って、第１の発明によれば、平面的に形成さ
れた受光素子は回折格子に形成されたスリットに対向す
る部分が光感知部分となる。従って、受光装置はこれを
一対用意することにより、受光素子を一定ピッチに配設
した一対の櫛型フィルタ部を互いに対向配置した空間フ
ィルタ部としての機能を有することになる。

【００１３】第２の発明によれば、平面的に形成された
第１の受光素子及び第２の受光素子は回折格子に形成さ
れたスリットに対向する部分がそれぞれ光感知部分とな
る。また、回折格子には第１の受光素子の受光面に対し
て形成された複数のスリットと第２の受光素子の受光面
に対して形成された複数のスリットの形状及び形成ピッ
チは同一にするとともに、第１の受光素子に対する複数
のスリットに対して、第２の受光素子に対する複数のス
リットが互いに位相がズレた状態で形成されている。

【００１４】従って、受光装置は第１の受光素子と第２
の受光素子の受光面に対して配置された前記回折格子に
より、受光素子を一定ピッチに配設した一対の櫛型フィ
ルタ部を互いに対向配置した空間フィルタ部としての機
能を有することになる。

【００１５】

【実施例】以下、本発明を織布の経糸の欠点を検出する
検反装置に具体化した一実施例を図１〜図８に従って説
明する。

【００１６】図８に示すように、開口装置を構成する綜
絖枠１の開口運動により形成される経糸Ｔの開口に緯入
れされた緯糸が筬２によって織布Ｗの織前Ｗ１に打ち付
けられ、織布Ｗが形成される。織布Ｗはエキスパンショ
ンバー３を経由してプレスローラ４及びサーフェスロー
ラ５の協働による引き取り作用によって所定速度で引き
取られ、巻取りローラ６に巻き取られる。織前Ｗ１とエ
キスパンションバー３との間には検反装置７が配設さ
れ、検反装置７は収容ボックス８と反射板９とを備えて
いる。収容ボックス８は織布Ｗの幅以上の長さを有し、
その長手方向が織布Ｗの幅方向となるように織布通過位
置よりも下方に配設されている。

【００１７】図６，７に示すように、収容ボックス８の
上部にはガラスあるいは合成樹脂の透明部材よりなる窓
８ａが形成され、収容ボックス８内に埃、風綿などの異
物が侵入しないようになっている。また、収容ボックス
８の上には窓８ａを覆う反射板９がボルト９ａにより着
脱可能に取付けられ、織布Ｗは収容ボックス８の上面と
反射板９の下面との間に挟まれた状態で移動するように
なっている。反射板９の織布Ｗと対向する下面は鏡面に
加工されている。

【００１８】収容ボックス８内には、その底部に織布Ｗ
の幅以上の長さを有する走行レール１０が敷設されてい
る。走行レール１０には２つのセンサヘッド１１が各検
出窓１１ａがそれぞれ外側を向くように連結部材１２を
介して一定間隔を隔して一体となるとともに、ベース１
３を介して走行レール１０上を移動可能に設置されてい
る。

【００１９】ベース１３の一側部には走査用ベルト１４
が固定され、走査用ベルト１４はＡＣサーボモータより
なるモータ１５の駆動軸に取着されたプーリ１６と走行
レール１０を挟んで対向位置にあるプーリ１７に巻掛け
られている。従って、２つのセンサヘッド１１は図示し
ないコントローラに基づくモータ１５の正逆回転に伴っ
て一定間隔を隔した状態で走行レール１０に沿って織布
Ｗの幅方向に一定速度Ｖで往復移動するようになってい
る。この往復移動により各センサヘッド１１は織布Ｗを
幅方向に二分するそれぞれ半分ずつの領域を走査するよ
うになっている。

【００２０】各センサヘッド１１にはその往復移動に対
して追従可能なＦＰＣ（フレキシブル配線板）よりなる
配線ケーブル１８が接続されている。この配線ケーブル
１８はセンサヘッド１１への給電及びセンサヘッド１１
からの検出信号をコントローラに出力する機能等を有し
ている。

【００２１】次に、センサヘッド１１の構成及びセンサ
ヘッド１１からの検出信号の判定処理について図１〜４
に従って説明する。なお、センサヘッド１１は２つ配設
されているが、どちらも同じ構成であるので図６の左側
のセンサヘッド１１について説明する。

【００２２】図１に示すように、センサヘッド１１のケ
ース１９内部には前方（同図における左方）に発光体と
しての投光器２０が下向きに固定され、この投光器２０
の下方にはハーフミラー２１が垂直方向に対して４５度
傾斜した状態で配置されている。さらに、ハーフミラー
２１の前方にはミラー２２が垂直方向に対してハーフミ
ラー２１とは反対側に４５度傾斜した状態で配置されて
いる。ミラー２２の上方には検出窓１１ａに嵌め込まれ
た状態で凸レンズ２３が配置されている。また、ハーフ
ミラー２１の後方には凸レンズ２４が配置され、凸レン
ズ２４の後方には四角板状の受光体２５が設置されてい
る。

【００２３】図２に示すように、受光体２５の受光面側
には半導体基板２５ａが設けられ、該半導体基板２５ａ
には二分割受光素子２６が形成されている。このとき、
二分割受光素子２６はその半導体基板２５ａに平面的に
形成された長方形の第１の受光素子２７と同じく第２の
受光素子２８から構成されている。そして、第１の受光
素子２７及び第２の受光素子２８の受光面２７ａ，２８
ａを覆うように回折格子２９が受光体２５に対して対向
配置されている。

【００２４】この回折格子２９には前記第１の受光素子
２７及び第２の受光素子２８に対向した位置にそれぞれ
長方形状のスリット３０，３１が複数個（本実施例では
８個）づつ形成されている。このとき、スリット３０，
３１は回折格子２９上にそれぞれピッチＰで該長方形状
の長手方向に対して直角方向に等間隔かつ平行に複数個
づつ形成されている。さらに、スリット３０とスリット
３１はそれぞれ交互にＰ／２だけ位相がズレた状態で回
折格子２９上に形成されている。このとき、スリット３
０，３１の前記ピッチＰは後述する経糸Ｔの像ｔのピッ
チＰｔ（図３参照）に一致するよう形成されている。

【００２５】従って、第１，第２の受光素子２７，２８
はスリット３０，３１を介して受光される受光量に応じ
た電気的な出力信号φ１，φ２が後述する経糸不良検出
回路３２に出力するようになる。このとき、スリット３
１はスリット３０に対してピッチＰ／２だけズレている
ので、出力信号φ２は出力信号φ１に対して該ピッチＰ
等によって規定される時間δｔだけ遅れた信号に極めて
類似した信号として経糸不良検出回路３２に出力され
る。

【００２６】図３に示すように、前記スリット３０，３
１は受光面２７ａ，２８ａに結像する織布Ｗの経糸Ｔの
像ｔが該スリット３０，３１の長方形上の長手方向と平
行な状態を維持したまま該スリット３０，３１を順次横
切るように受光面２７ａ，２８ａ上を移動するように配
置されている。このとき、経糸Ｔの像ｔは一定のピッチ
Ｐｔで結像されている。

【００２７】図２に示すように、第１の受光素子２７及
び第２の受光素子２８からの各出力信号φ１，φ２は経
糸不良検出回路３２に出力される。経糸不良検出回路３
２はそれぞれ差動演算回路３３、全波整流回路３４、尖
頭値検波回路３５、ローパスフィルタ３６、比較回路３
７及びセンサヘッド１１の外に設けられた判定回路３８
より構成されている。

【００２８】経糸不良検出回路３２において、まず差動
演算回路３３は第１の受光素子２７及び第２の受光素子
２８の出力信号φ１，φ２の差分（＝φ１−φ２）を求
めて出力信号ＳＧ１として出力する。全波整流回路３４
はその出力信号ＳＧ１を全波整流して出力信号ＳＧ２と
して出力し、尖頭値検波回路３５はその出力信号ＳＧ２
のピーク値をホールドした状態で整形して出力信号ＳＧ
３として出力する。さらに、ローパスフィルタ３６はそ
の出力信号ＳＧ３を平滑化処理して出力信号ＳＧ４とし
て出力する。そして、比較回路３７はローパスフィルタ
３６の出力信号ＳＧ４が予め設定された基準値Et（EN／
２）より大きいか否かを判断し、大きい場合にはその大
きな状態の継続時間をクロックパルスＣＬＫで計数し、
その計数値ｎを継続時間Ｂとして判定回路３８に出力す
る。

【００２９】判定回路３８は継続時間Ｂと予め設定した
基準時間tsとを比較し、継続時間Ｂが基準時間tsを越え
た時、織布Ｗに織り段などの経糸方向の異常があると判
断する。なお、基準時間tsは予め試験運転で求める。ま
た、判定回路３８の判定信号は織機の制御装置や作業者
に異常を知らせる報知装置に出力され、経糸Ｔの異常が
検出されたときには、初期の運転を停止させたりラン
プ、ブザー等で作業者に知らせるようになっている。

【００３０】次に、上記のように構成された検反装置の
作用について説明する。図６に示すように、織前Ｗ１に
て織成された織布Ｗは巻取りローラ６に巻き取られなが
ら検反装置７の収容ボックス８の上面と反射板９の下面
との間を移動する。収容ボックス８内では図示しないコ
ンローラの駆動制御によりモータ１５が正逆回転する
と、各プーリ１６，１７を介して走査用ベルト１４が正
逆回転する。この走査用ベルト１４の正逆回転に伴って
２つのセンサヘッド１１は一定間隔を隔した状態で走行
レール１０に沿って織布Ｗの幅方向に一定速度Ｖで往復
移動する。その結果、各センサヘッド１１は織布Ｗを幅
方向に二分するそれぞれ半分ずつの領域を走査する。

【００３１】その際、図示しない電源から配線ケーブル
１８を介して両センサヘッド１１に給電され、図１に示
すように両センサヘッド１１の内部では投光器２０が発
光する。投光器２０の光は下方へ照射され、ハーフミラ
ー２１にて水平方向に反射された後、さらにミラー２２
にて上方へ反射される。ミラー２２からの光は凸レンズ
２３にて平行光となり、検出窓１１ａを通って織布Ｗの
検反領域に対して垂直に照射される。

【００３２】織布Ｗに照射された光は織布Ｗの裏面で直
接あるいは織布Ｗの経糸Ｔの間隙を通って反射板９の下
面にて反射され、反射光として再び検出窓１１ａから入
射する。この反射光は凸レンズ２３を通過するとともに
ミラー２２で水平方向に反射され、ハーフミラー２１を
透過して凸レンズ２４にて集束されて第１，第２の受光
素子２７，２８の受光面２７ａ，２８ａに織布Ｗの模様
として結像する。

【００３３】図３は、回折格子２９と受光面２７ａ，２
８ａに結像された織布Ｗの像ｗを模式的に示した図であ
る。この織布Ｗの像ｗは例えば図６の左側のセンサヘッ
ド１１が同図において左方向へ移動する際には、センサ
ヘッド１１の移動速度Ｖと織布Ｗの製織速度（巻取り速
度）ｖに基づいて受光面２７ａ，２８ａ上をＡ矢印方向
へ相対移動する。また、このセンサヘッド１１が右方向
へ移動する際には、織布Ｗの像ｗは受光面２７ａ，２８
ａ上をＢ矢印方向へ相対移動する。（なお、図６の右側
のセンサヘッド１１に対して織布Ｗの像ｗはセンサヘッ
ド１１の左方向及び右方向の移動に対してそれぞれ逆Ｂ
矢印方向及び逆Ａ矢印方向へ受光面２７ａ，２８ａ上を
相対移動する。）その際、経糸Ｔの像ｔは第１の受光素
子２７及び第２の受光素子２８に対してそのスリット３
０，３１の長手方向に対して平行な状態を維持したまま
Ａ矢印方向またはＢ矢印方向へ受光面２７ａ，２８ａ上
を移動する。そのため、第１の受光素子２７及び第２の
受光素子２８は経糸方向に対する検出感度が極めて良好
となるとともに、緯糸方向に対する検出感度が極めて鈍
くなる。第１の受光素子２７及び第２の受光素子２８は
経糸間隙及び経糸Ｔの像ｇ１，ｔをそれぞれ明部及び暗
部として受光し、出力信号φ１，φ２として経糸不良検
出回路３２に出力される。経糸不良検出回路３２では差
動演算回路３３が第１の受光素子２７及び第２の受光素
子２８からの各出力信号φ１，φ２に基づいてその出力
差分を算出し、ＳＧ１として出力する。

【００３４】ここで、図４に示すように、反射光として
凸レンズ２３に入射する像の長さをＬ０、第１，第２の
受光素子２７，２８の受光面２７ａ，２８ａに結像する
像の長さをＬ１とすると、結像倍率ｍは次式で表され
る。

【００３５】ｍ＝Ｌ１／Ｌ０ そして、経糸不良検出回路３２の差動演算回路３３から
出力される出力信号ＳＧ１の出力周波数ｆは第１の受光
素子２７及び第２の受光素子２８に配したスリット３
０，３１のピッチＰ、センサヘッド１１の走査速度をＶ
とすると次式で表される。

【００３６】ｆ＝（ｍ／Ｐ）Ｖ 結像倍率ｍ、ピッチＰは一定であるため、センサヘッド
１１の走査速度Ｖに比例する出力信号が得られる。

【００３７】即ち、経糸不良検出回路３２において、図
５に示すように検反領域において経糸Ｔに異常がない場
合には、経糸不良検出回路３２において差動演算回路３
３から出力される出力信号ＳＧ１の振幅値が所定のレベ
ルENより小さな変動レベルになる。逆に、経糸Ｔに織り
段などの異常がある場合には、出力信号ＳＧ１の振幅値
が所定のレベルENより大きな変動レベルになる。差動演
算回路３３からの出力信号ＳＧ１は全波整流回路３４で
全波整流されて出力信号ＳＧ２として出力され、出力信
号ＳＧ２は尖頭値検波回路３５でピーク値をホールドさ
れた出力信号ＳＧ３として出力される。さらに、出力信
号ＳＧ３はローパスフィルタ３６で平滑化処理を受けて
出力信号ＳＧ４として比較回路３７に出力される。

【００３８】比較回路３７では出力信号ＳＧ４が予め設
定された基準値Etよりも大きいか否かが判断され、大き
な場合にはその大きな状態の継続時間Ｂがクロックパル
スＣＬＫで計数され、その計数値ｎが継続時間Ｂとして
判定回路３８に出力される。そして、継続時間Ｂが基準
時間tsより長ければ判定回路３８で異常有りと判断され
る。差動演算回路３３の出力信号ＳＧ１の変動レベルが
所定のレベルENより小さな場合は、比較回路３７におい
て継続時間Ｂが計数されず、比較回路３７から判定回路
３８へのクロックパルスＣＬＫの出力がないため、判定
回路３８は異常なしと判断する。この判断に基づき経糸
不良警告用のランプ点灯や警告音発生等によりオペレー
タに経糸不良の警告が行われる。

【００３９】従って、本実施例の検反装置によれば、セ
ンサヘッド１１内に配設された受光体２５に織布の経糸
不良検出用の第１，第２の受光素子２７，２８を形成
し、該第１，第２の受光素子２７，２８の対向する位置
に回折格子２９を配設した。そして、受光面２７ａ，２
８ａに結像する織布Ｗの経糸Ｔの像ｔが回折格子２９に
形成されたスリット３０，３１の長方形状の長手方向に
対して平行な状態を維持したままスリット３０，３１の
長手方向とは一致しない方向に相対移動するように配置
されている。その結果、第１，第２の受光素子２７，２
８は経糸方向に対する検出感度が極めて良好とすること
ができる。

【００４０】よって、検反装置７によれば経糸切れ等の
経糸方向の欠点（不良）とともに、織機を停止させて再
起動する際に発生する止段や織機の運転中にできる機械
段などの織り段を含む経糸方向の欠点をも確実に検知す
ることができる。また、この検反装置７では織布Ｗの経
糸Ｔの欠点の発生をオペレータに警告するランプ点灯や
警告音等を設けたので、オペレータは経糸Ｔに発生した
欠点をただちに認知することができる。

【００４１】さらに、第１，第２の受光素子２７，２８
と対向する位置にそれぞれスリット３０，３１を形成し
た回折格子２９を配設するだけで上述のように従来技術
における空間フィルタ５１の櫛形フィルタ部５３ａ，５
３ｂと同等の機能を持たせることができる。

【００４２】従って、高度な製造技術を必要とする櫛形
フィルタ部５３ａ，５３ｂを形成する必要がなくなる。
また、経糸Ｔのピッチがそれぞれ違う何種類かの経糸Ｔ
をそれぞれ検反する場合においても、予めそれぞれの経
糸Ｔのピッチに適したスリット３０，３１のピッチＰの
回折格子２９をそれぞれ用意しておく。そして、経糸Ｔ
のピッチに適するスリット３０，３１のピッチＰの回折
格子２９を選択することによって容易に何種類もの経糸
Ｔの検反作業を行うことができる。

【００４３】また、２つのセンサヘッド１１により織布
Ｗを幅方向に二分する半分ずつの領域を検反させたの
で、幅広な織布Ｗや織り速度の速い織布Ｗに対しても検
反領域における走査密度を高くすることができるため、
幅広な織布Ｗや織り速度の速い織布Ｗに対しても精度の
高い検反を実現することができる。

【００４４】さらに、センサヘッド１１は窓８ａに透明
な部材が嵌め込まれた収容ボックス８内に収容されて外
部と遮断されているため、埃や風綿が収容ボックス８内
に侵入できないので埃や風綿によるセンサヘッド１１の
誤検出を防止することができる。また、織布Ｗは収容ボ
ックス８の窓８ａに摺接しながら移動するため窓８ａの
清掃効果を有している。そのため、窓８ａに埃や風綿が
付着することがなく、窓８ａの上面は常に清浄な状態に
維持されるので埃や風綿によるセンサヘッド１１の誤検
出を防止することもできる。

【００４５】また、収容ボックス８は織布Ｗの下側に配
置されているため、緯糸挿入ミス及び経糸切れ時におけ
る織前Ｗ１付近での修復作業、あるいは筬等の保守作業
の邪魔にならない。また、窓８ａのほぼ全面を反射板９
にて覆っているため、センサヘッド１１が配置された織
布Ｗの下方には、工場の照明等による外乱光がほとんど
なく、外乱光の入射を防止する特別な対策を取る必要が
ない。

【００４６】尚、本発明は上記実施例に限定されるもの
ではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で例えば次のよ
うに構成することができる。 （１）上記実施例では受光装置を検反装置に具体化した
が、特に検反装置に限定されるものではなく、空間フィ
ルタを利用した各種センサに用いてもよい。例えば、速
度センサに利用した場合、速度センサに内蔵された第
１，第２の受光素子２７，２８がその受光面２７ａ，２
８ａに結像される被測定物の像の光量の時間的な変化を
検出する。そして、その検出信号がコントローラに出力
され、コントローラがその検出信号に基づいて該被測定
物の速度を演算することとなる。また、この速度センサ
はコントローラの演算処理方法を適宜変更することによ
って、第１，第２の受光素子２７，２８からの検出信号
に基づいて、被測定物の速度だけでなく加速度及び距離
等も演算することができる。

【００４７】（２）上記実施例ではスリット３０，３１
のピッチＰを受光面２７ａ，２８ａに結像する織布Ｗの
経糸Ｔの像ｔのピッチＰｔと同一に構成したが、スリッ
ト３０，３１のピッチＰを像ｔのピッチＰｔに対して任
意に設定してもよい。

【００４８】（３）上記実施例において、図３に示すよ
うに、前記スリット３０，３１は受光面２７ａ，２８ａ
に結像する織布Ｗの経糸Ｔの像ｔが該スリット３０，３
１の長方形状の長手方向と平行な状態を維持したまま該
スリット３０，３１を順次横切るように受光面２７ａ，
２８ａ上を移動するように配置されている。従って、受
光面２７ａ，２８ａに形成された第１，第２の受光素子
２７，２８が経糸Ｔの欠点を検出できるようになってい
る。

【００４９】これを、前記スリット３０，３１は受光面
２７ａ，２８ａに結像する織布Ｗの緯糸Ｙの像ｙが該ス
リット３０，３１の長方形状の長手方向と平行な状態を
維持したまま該スリット３０，３１を順次横切るように
受光面２７ａ，２８ａ上を移動するように配置する。そ
して、受光面２７ａ，２８ａに形成された第１，第２の
受光素子２７，２８が緯糸Ｙの欠点を検出するよう構成
してもよい。（尚、図３に示すｇ２は緯糸間隙である） また、経糸Ｔの欠点を検出する第１，第２の受光素子２
７，２８とともに、緯糸Ｙの欠点を検出するための前記
第１，第２の受光素子２７，２８と同型の受光素子（例
えば、第３，第４の受光素子）を追加する。そして、第
１，第２の受光素子２７，２８が経糸Ｔの欠点を検出す
ると同時に、前記第３，第４の受光素子で緯糸Ｙの欠点
を検出するよう構成してもよい。このとき、緯糸Ｙの欠
点は新たに形成された経糸不良検出回路と同型の緯糸不
良検出回路で判別されるようになっている。

【００５０】（４）上記実施例では、スリット３０，３
１を回折格子２９に形成した。これを、スリット３０の
みを形成した回折格子を第１の受光素子２７と対向する
位置に配置し、スリット３１のみを形成した回折格子を
第２の受光素子２８と対向する位置に配置してもよい。

【００５１】（５）上記実施例では、１つの半導体基板
２５ａ上に第１，第２の受光素子２７，２８を平面的に
形成した。これを、図９に示すように、別個の半導体基
板２５ａ，２５ｂに対して、それぞれ第１，第２の受光
素子２７，２８を平面的に形成してもよい。そして、例
えば、セラミック基板３９上に各半導体基板２５ａ，２
５ｂをロウ付けし、その上に回折格子２９を対向配置す
るようにしてもよい。

【００５２】（６）上記実施例では、第１，第２の受光
素子２７，２８のスリット３０，３１の数を互いに８個
に設定したが、該スリット３０，３１の数は同数であれ
ば任意に設定してもよい。

【００５３】（７）上記実施例では、検反装置７を織前
Ｗ１とエキスパンションバー３との間に設置したが、検
反装置７をプレスローラ４と巻取りローラ６との間に配
設してもよい。

【００５４】（８）上記実施例では、収容ボックス８を
織布Ｗの下側に配設したが、収容ボックス８は織布Ｗの
上側に配設してもよい。 （９）上記実施例では、２つのセンサヘッド１１を配設
したが、センサヘッド１１の配設数は１つでも３つ以上
の複数台としてもよい。

【００５５】（１０）上記実施例では検反装置７を織機
に設置することにより製織工程で織布Ｗの欠点を検知さ
せたが、製織工程後の検反工程において検反装置７を単
独に使用してもよい。

【００５６】（１１）上記実施例では収容ボックス８の
窓８ａの上側に反射板９を配置したが、反射板９を配置
しなくてもよい。この場合、織布Ｗの裏面にて反射した
光を検出することにより織布Ｗの欠点を判別することが
できる。

【００５７】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、製
造プロセスが非常に簡単で、しかも、種々の検知対象に
対して簡単に対応することができ、製作及びコスト的に
非常に有利にできる優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を具体化した一実施例におけるセンサヘ
ッドの一部を破断した斜視図である。

【図２】一実施例における二分割受光体及び回折格子の
正面図と二分割受光体からの出力信号が処理される順序
を示すブロック図である。

【図３】一実施例におけるスリットと受光面に結像する
織布の像との相対位置関係を示す模式図である。

【図４】一実施例においてレンズと受光部の関係を示す
概略図である。

【図５】一実施例において差動演算回路からの出力信号
が成形される順序を示す波形図である。

【図６】本発明を具体化した一実施例における検反装置
の斜視図である。

【図７】一実施例の検反装置における図６のＸ−Ｘ線断
面図である。

【図８】一実施例における織機に配設された検反装置を
示す斜視図である。

【図９】本発明の別例を示す受光体及び回折格子の正面
図と受光体からの出力信号が処理される順序を示すブロ
ック図である。

【図１０】従来技術における検反装置の斜視図である。

【図１１】従来技術における検反装置における検反の原
理図である。

【符号の説明】

２７，２８…受光素子としての第１，第２の受光素子、
２７ａ，２８ａ…受光面、２９…回折格子、３０，３１
…スリット、２５ａ，２５ｂ…半導体基板、Ｐ…ピッ
チ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安藤 敦久 愛知県刈谷市豊田町２丁目１番地 株式会 社豊田自動織機製作所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 半導体基板に受光素子を平面的に形成
   し、その平面的に形成された受光素子の受光面に対して
   複数のスリットからなる回折格子を配置した受光装置。
2. 【請求項２】 半導体基板に第１の受光素子及び第２の
   受光素子を平面的に形成し、その平面的に形成された第
   １の受光素子及び第２の受光素子のそれぞれの受光面に
   対してそれぞれ複数のスリットからなる回折格子を配置
   し、第１の受光素子の受光面に対して形成された複数の
   スリットと第２の受光素子の受光面に対して形成された
   回折格子上の複数のスリットの形状及び形成ピッチを同
   一にするとともに、第１の受光素子に対する複数のスリ
   ットに対して、第２の受光素子に対する複数のスリット
   が互いに位相がズレた状態で形成された受光装置。