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JPH0656656B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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Publication number
JPH0656656B2
JPH0656656B2 JP58184827A JP18482783A JPH0656656B2 JP H0656656 B2 JPH0656656 B2 JP H0656656B2 JP 58184827 A JP58184827 A JP 58184827A JP 18482783 A JP18482783 A JP 18482783A JP H0656656 B2 JPH0656656 B2 JP H0656656B2
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JP
Japan
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magnetic
coating
orientation
solvent
drying
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JP58184827A
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JPS6076023A (ja
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健一 増山
俊光 奥津
孝仁 三好
博 小川
正広 内海
正昭 藤山
杉彦 多田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Priority to US06/654,549 priority patent/US4567057A/en
Priority to DE3436260A priority patent/DE3436260C2/de
Publication of JPS6076023A publication Critical patent/JPS6076023A/ja
Publication of JPH0656656B2 publication Critical patent/JPH0656656B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/842Coating a support with a liquid magnetic dispersion
    • G11B5/845Coating a support with a liquid magnetic dispersion in a magnetic field

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記録媒体の製造方法、特に詳細には磁性粒
子の配向性および表面平滑性の優れた磁気記録媒体を製
造しうる方法に関するものである。
近時、磁気記録媒体のS/N特性改善が強く要求され、
磁性層を構成する磁性粒子の微粒化、あるいは表面平滑
性の向上等によってS/N特性を改善する試みが広くな
されている。
一般的な磁気記録媒体として従来より、溶媒により溶解
された結合剤中に磁性粒子を分散してなる磁性塗布液
を、非磁性支持体表面に塗布して磁性層を形成したもの
が知られている。この種の磁気記録媒体は非磁性支持体
を連続移送しつつ、該支持体の表面に上記磁性塗布液を
塗布し、このようにして形成された塗膜を乾燥、固化し
て磁性層とすることによつて得られるが、最近は磁性層
の磁気ヒステリシス曲線の角形形状性(角形性)を高め
るために、塗膜が固化する前に該塗膜に対して外部磁界
を印加して磁性粒子の容易磁化軸を所望方向に配向させ
る処理が広く行なわれている。
上述のような磁場配向処理を行なつてから次に塗膜乾燥
がなされるまでの間に、一度配向された磁性粒子の配向
性が乱れる傾向があることが一般に認められているが、
その傾向は磁性粒子の粒径が小さいほど高いことが本発
明者らの研究により明らかになつている。したがつて前
述したS/N特性改善のための磁性粒子微粒化は、上記
の点から自ずと制限されることになる。
こでS/N特性を改善する上で、表面平滑性を高めるこ
とが不可欠となるが、この表面平滑性も上記磁性粒子の
配向性と密接に関わり合つている。すなわち配向性を与
えるために磁場配向処理を行なうと、磁性粒子が凝集し
て塗膜が荒れ、表面平滑性が低下するのである。このよ
うな不具合を解消するために、配向磁界によつて磁性粒
子が磁気的に凝集しない程度に塗膜を予備乾燥し、その
後配向処理をしてから再度乾燥処理を行なうようにした
磁気記録媒体の製造方法(特公昭56−36496号)
も提案されているが、このような方法によると磁性粒子
の配向性を十分に高めることができない。
本発明は上記のような事情に鑑みてなされたものであ
り、磁性粒子の配向性が高く、また表面平滑性も高い磁
気記録媒体を製造しうる方法を提供することを目的とす
るものである。
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、連続移送される非
磁性支持体の表面に前述したような磁性塗布液を塗布
し、その後磁場配向、乾燥処理を施して磁気記録媒体を
製造する方法において、磁性塗布液を非磁性支持体表面
に塗布した後、予備配向を行なってから塗膜中の残留溶
媒が塗布前の磁性塗布液中の溶媒量の50〜95%にな
るまで予備乾燥し、次に本配向磁場中に中間乾燥風を導
入して塗膜中の残留溶媒が塗布前の磁性塗布液中の溶媒
量の5〜70%になるまで中間乾燥しつつ本配向を行な
い、その後塗膜中の残留溶媒が塗布前の磁性塗布液中の
溶媒量の5%以下になるまで本乾燥することを特徴とす
るものである。
先に述べた通り、従来技術による磁気記録媒体において
磁性層の表面平滑性が劣化してS/N特性が低下するの
は、磁性粒子の分散性が悪化して凝集し易くなることに
起因している。したがつて、予備乾燥、中間乾燥、本乾
燥と段階的に乾燥を行なう場合に、予備乾燥における磁
性塗膜の乾燥度が比較的低くて、該塗膜の粘度が低い状
態にあると、この塗膜は凝集し易い状態で本配向磁場中
を通過することになり、その際に該塗膜の表面平滑性が
乱れ、かつ配向戻りもあるために本配向の効果も減退さ
せることになる。
そこで、上記構成の本発明におけるように本配向磁場中
に中間乾燥風を導入して、中間乾燥と本配向とが相並行
してなされるようにすれば、比較的低粘度で磁性粒子が
凝集し易くなっている塗膜を直ちに高粘化させて、上記
凝集や配向戻りを抑制しつつ、所期の配向度を付与せし
めることが可能となる。
なお、上記の本配向を行なう本配向磁場と中間乾燥手段
とを各々分離して、それらを支持体移送方向に沿って直
列的に配設し、本配向と中間乾燥とを時間的にずらして
交互に行なうような場合は、上述の作用効果を奏するこ
とは不可能である。またこのような場合と比べると、本
発明方法では本配向磁場と中間乾燥手段との合計の長さ
をより短くすることができ、その結果、処理装置全体の
長さをより短くすることが可能となる。
一方、予備乾燥後の塗膜が過乾燥状態にあると、磁性粒
子の凝集は防げても、配向性の向上は望めず、上記のよ
うに中間乾燥と本配向とが相並行してなされるようにし
も、この過乾燥による配向性の劣化を救うことはできな
い。そこで本発明においては、予備乾燥による乾燥度
を、塗膜中の残留溶媒が塗布前の磁性塗布液中の溶媒量
の50〜95%になるまで、と規定するものである。
また、本配向と相並行してなされる中間乾燥の段階で塗
膜が完全に乾燥してしまうようでは、当然、本配向の効
果が損なわれることになる。そこで本発明においては、
この中間乾燥による乾燥度を、塗膜中の残留溶媒が塗布
前の磁性塗布液中の溶媒量の5〜70%になるまで(この
場合、溶媒は最低でも5%残留する)と規定するもので
ある。
次に、図面を参照して本発明をさらに詳細に説明する。
第1図は本発明の磁気記録媒体の製造方法を実施する装
置の一例を示すものである。長尺、帯状の非磁性支持体
1は送出しロール2から送り出され、連続移送されて巻
取りロール3に巻き取られる。連続移送される非磁性支
持体1の表面(図中上表面)に近接する位置には、一例
として塗布ヘッド4が配置され、該塗布ヘツド4により
支持体1の表面に磁性塗布液5が塗布される。この磁性
塗布液5は、溶媒により溶解された結合剤(バインダ
ー)中に磁性粒子を分散させてなるものであり、この磁
性塗布液5が塗布されて支持体1表面上には塗膜5′が
層成される。
上記塗布ヘツド4から支持体移送方向下流側に向けて順
に、予備配向磁石6、予備乾燥手段7、中間乾燥手段
8、本乾燥手段9が配設され、中間乾燥手段8の外側に
は本配向磁石10が設けられている。
非磁性支持体1は塗膜5′が未乾燥のまま上記予備配向
磁石6の近傍を通過し、このとき該予備配向磁石6によ
つて、塗膜5′中の磁性粒子が所望方向に配向される。
この予備配向磁石6としては単極永久磁石、二極対向永
久磁石、四極対向永久磁石、あるいは電極石等が使用さ
れうる。そしてこの予備配向磁石6は一般に、平均磁束
密度300〜5000Gauss、望ましくは1000〜4000Gauss程度
のものが好適に使用される。
次に非磁性支持体1は、該支持体1の表面に乾燥風を供
給する予備乾燥手段7内に送られ該乾燥手段7において
予備乾燥され、引き続き中間乾燥手段8により中間乾燥
されつつ本配向磁石10により本配向処理され、最後に
本乾燥手段9により本乾燥され、支持体1上の塗膜5′
が固化されて磁性層とされた磁気テープが完成する。
上記予備乾燥においては、塗膜5′中の残留溶媒を、塗
布前の磁性塗布液中の溶媒量の50〜95%まで乾燥させ、
中間乾燥においては5〜70%まで乾燥させ、最後の本乾
燥において5%以下まで乾燥させるのが好ましい。予備
乾燥において上記範囲を超えて乾燥させると、塗膜5′
の粘度が大きくなる結果本配向磁石10による磁性粒子
配向が困難になり、完成した磁気記録媒体の配向角形性
が低下し電磁変換特性が劣化する不具合が発生する。予
備乾燥における乾燥が上記範囲まで達していないと、本
配向磁石10による本配向が、塗膜5′の余りに低粘度
の状態から行なわれるので、塗膜5′中の磁性粒子が凝
集しやすく、磁気記録媒体の表面平滑性が劣つてS/N
の低下をみる。またこの場合には、予備乾燥における乾
燥負荷が高くなるから、中間乾燥手段8および本配向磁
石10の全長が長くなるという不具合も生じる。
前記の非磁性支持体1の素材としてはポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等の
ポリエステル類;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフイン類;セルローストリアセテート、セルロー
スダイアセテート、セルロースアセテートブチレート、
セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース誘
導体;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル
系樹脂;ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド等のプラスチツクの他に用途に応じてアルミニウ
ム、銅、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金など
の非磁性金属類;ガラス、陶器、磁器などのセラミツク
類;紙、バライタまたはポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−ブテン共重合体などの炭素数2〜10の
α−ポリオレフイン類を塗布またはラミネートした紙な
どの紙類も使用できる。これらの非磁性支持体は使用目
的に応じて透明あるいは不透明であつても良い。
又、非磁性支持体の形態はフイルム、テープ、シート、
デイスク、カード、ドラム等いずれでも良く、形態に応
じて種々の材料が必要に応じて選択される。
これらの非磁性支持体の厚みはフイルム、テープ、シー
ト状の場合は約1〜50μm程度、好ましくは1〜30μm
である。又、デイスク、カード状の場合は0.5〜10mm程
度であり、ドラム状の場合は円筒状とし、使用するレコ
ーダーに応じてその型は決められる。
前記の磁性粒子としては強磁性酸化鉄、強磁性二酸化ク
ロム、強磁性合金粉末などが使用できる。
上記の強磁性酸化鉄は一般式FeOxで示した場合のx値が
1.33≦x≦1.50の範囲にある強磁性酸化鉄、すなわち、
マグヘマイト(γ−Fe2O3,x=1.50)、マグネタイト
(Fe3O4,x=1.33)及びこれらのベルトライド化合物
(FeOx,1.33<x<1.50)である。上記のx値は の式で示される。
これらの強磁性酸化鉄には2価の金属が添加されていて
も良い。2価の金属としてはCr,Mn,Co,Ni,Cu,Znなどが
あり、上記酸化鉄に対して0〜10atomic%の範囲で添
加される。
上記の強磁性二酸化クロムはCrO2およびこれにNa,K,Ti,
V,Mn,Fe,Co,Ni,Tc,Ru,Sn,Ce,Pbなどの金属、P,Sb,Teな
どの半導体、またはこれらの金属の酸化物を0〜20wt
%添加したCrO2が使用される。
上記の強磁性酸化鉄および強磁性二酸化クロムの針状比
は2/1〜20/1程度、好ましくは5/1以上、平均長
は0.2〜2.0μm程度の範囲が有効である。
上記の強磁性合金粉末は金属分が75wt%以上であり、金
属分の80wt%またはそれ以上が少なくとも一種の強磁性
金属(すなわち、Fe,Co,Ni,Fe-Co,Fe-Ni,Co-Ni,またはC
o-Ni-Fe)であり、金属分の20wt%またはそれ以下、好
ましくは0.5〜5wt%がAl,Si,S,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Cu,Zn,Y,
Mo,Rh,Pd,Ag,Sn,Sb,Te,Ba,Ta,W,Re,Au,Hy,Pb,Bi,La,Ce,
Pr,Nd,B,Pなどの組成を有するものであり、少量の水、
水酸化物または酸化物を含む場合もある。更に磁性粉を
束ねたものとして特開昭57-124404号公報に記載された
ものが使われる場合もある。
本発明に使用される結合剤(バインダー)としては従来
公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂やこ
れらの混合物が使用される。
熱可塑性樹脂として軟化温度が150℃以下、平均分子
量が10,000〜200,000、重合度が約200〜2000程度のもの
で、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アク
リル酸エステルスチレン共重合体、メタクリル酸エステ
ルアクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルスチレン
共重合体、ウレタンエラストマー、ポリ弗化ビニル、塩
化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジエンア
クリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニル
ブチラール、セルロース誘導体(セルロースアセテート
ブチレート、セルロースダイアセテート、セルロースト
リアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセル
ロース等)、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステ
ル樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂(ポリブタジ
エン、ポリクロロプレン、ポリイソプレン、スチレンブ
タジエン共重合体など)及びこれらの混合物等が使用さ
れうる。
これらの樹脂の例示は特公昭37-6877号、39-12528号、3
9-19282号、40-5349号、40-20907号、41-9463号、41-14
059号、41-16985号、42-6428号、42-11621号、43-4623
号、43-15206号、44-2889号、44-17947号、44-18232
号、45-14020号、45-14500号、47-18573号、47-22063
号、47-22064号、47-22068号、47-22069号、47-22070
号、48-27886号、米国特許3,144,352号;同3,419,420
号;同3,499,789号;同3,713,887号に記載されている。
熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では
200,000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に添加する
ことにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限大
のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分
解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ましい。
具体的には例えばフエノール・ホルマリン−ノボラツク
樹脂、フエノール・ホルマリン−レゾール樹脂、フエノ
ール・フルフラール樹脂、キシレン・ホルムアルデヒド
樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、乾性油変性アルキツド
樹脂、石炭酸樹脂変性アルキツド樹脂、マレイン酸樹脂
変性アルキッド樹脂、(ポリアミン、酸無水物、ポリア
ミド樹脂、その他)、末端イソシアネートポリエステル
湿気硬化型樹脂、末端イソシアネートポリエーテル湿気
硬化型樹脂、ポリイソシアネートプレポリマー(ジイソ
シアネートと低分子量トリオールとを反応させて得た1
分子内に3ケ以上のイソシアネート基を有する化合物、
ジイソシアネートのトリマー及びテトラマー)、ポリイ
ソシアネートプレポリマーと活性水素を有する樹脂(ポ
リエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、アク
リル酸共重合体、マレイン酸共重合体、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート共重合体、パラヒドロキシスチレ
ン共重合体、その他)、及びこれらの混合物等である。
これらの樹脂の例示は特公昭39-8103号、40-9779号、41
-7192号、41-8016号、41-14275号、42-18179号、43-120
81号、44-28023号、45-14501号、45-24902号、46-13103
号、47-22065号、47-22066号、47-22067号、47-22072
号、47-22073号、47-28045号、47-28048号、47−28
922号、米国特許3,144,353号;同3,320,090号;同3,
437,510号;同3,597,273号;同3,781,210号;同3,781,2
11号に記載されている。
これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使われ、
他に添加剤が加えられる。強磁性粉末と結合剤との混合
割合は重量比で強磁性粉末100重量比に対して結合剤
8〜400重量部、好ましくは10〜200重量部の範囲で使用
される。
磁性塗布液5には、前記の結合剤(バインダー)、磁性
粒子の他に添加剤として分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電
防止剤等が加えられてもよい。
本発明に使用される塩化ビニル酢酸ビニル共重合体の中
でもカルボキシル基含有のものが好ましく、これは塩化
ビニル、酢酸ビニルと重合性不飽和カルボン酸との共重
合体であり、重合性不飽和カルボン酸としては、マレイ
ン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソク
ロトン酸等が使用されうる。
強磁性粒子及び前述の結合剤、分散剤、潤滑剤、研磨
剤、帯電防止剤、防錆剤、防黴剤、溶剤等は混練されて
磁性塗布液5とされる。
混練にあたつては、磁性粒子及び上述の各成分は全て同
時に、あるいは個々順次に混練機に投入される。たとえ
ばまた分散剤を含む溶媒中に磁性粒子を加え所定の時間
混練をつづけて磁性塗布液5とする方法などがある。
磁性塗布液5の混練分散にあたつては各種の混練機が使
用される。例えば二本ロールミル、三本ロールミル、ボ
ールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグライダ
ー、Szegvariアトライター、高速インペラー分散機、高
速ストーンミル、高速度衝撃ミル、デイスパー、ニーダ
ー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散機など
である。
混練分散に関する技術は、T.C.PATTON著の“Pain Flow
and Pigment Dispersion”(1964年、John Wiley&Sons
社発行)に述べられている。又、米国特許第2,581,414
号、同2,855,156号にも述べられている。
分散及び塗布溶媒に使用する有機溶媒としては、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系;酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチ
ルエーテル等のエステル系;エーテル、グリコールジメ
チルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキ
サン等のグリコールエーテル系;ベンゼン、トルエン、
キシレン等のタール系(芳香族炭化水素);メチレンク
ロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホ
ルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の
塩素化炭化水素等のものが選択して使用できる。
支持体上へ前記の磁性塗布液5を塗布する方法としては
前述のような塗布ヘッド4を用いる他に、エアードクタ
ーコード、ブレードコート、エアナイフコート、スクイ
ズコート、含浸コート、リバースロールコート、トラン
スフアーロールコート、グラビアコートキスコート、ス
ピンコート等が利用でき、その他の方法も可能であり、
これらの具体的説明は朝倉書店発行の「コーテイング工
学」253頁〜277頁(昭和46.3.20発行)に詳細に記載さ
れている。
又、重層磁気記録体の場合は非磁性支持体1上に上記の
塗布法によつて磁性塗布液5を塗布、乾燥し、この工程
を繰り返して連続塗布操作により2層以上の磁性層を設
けたものである。又、特開昭48-98803号(西ドイツ特許
DT−OS2,309,159号)、同48-99233号(西ドイツ特
許DT−AS2,309,158号)等に記載された如く、多層
同時塗布法によつて同時に2層以上の磁性層を設けても
良い。
磁性層の厚味は乾燥厚味で約0.5〜6μmの範囲となる
ように塗布する。重層の場合は合計で上記の範囲とされ
る。又、この乾燥厚味は磁気記録媒体の用途、形状、規
格などにより決められる。
前記の塗膜5′の乾燥前の表面平滑化処理としてはマグ
ネツトスムーザー、スムーズニングコイル、スムーズニ
ングブレード、スムーズニングブランケット等の方法が
必要に応じて使用される。これらは、特公昭47-38802
号、英国特許1,191,424号、特公昭48-11336号、特開昭4
9-53631号、同50-112005号、同51-77303号等に示されて
いる。
乾燥後の塗膜5′のカレンダリング処理はメタルロール
とコツトンロール、または合成樹脂(たとえばナイロ
ン、ポリウレタンなど)ロール、あるいはメタルロール
とメタルロールなどの2本のロールの間を通すスーパー
カレンダー法によつて行なうのが好ましい。スーパーカ
レンダーの条件は約25〜500kg/cmのロール間圧力で、
約35〜150℃の温度で、5〜200m/minの処理速度で行
なうのが好ましい。温度及び圧力がこれらの上限以上に
なると磁性層および非磁性支持体1に悪影響がある。
又、処理速度が約5m/min以下だと表面平滑化の効果
が得られなく、約200m/min以上だと処理操作が困難と
なる。
これらの表面平滑化処理については米国特許2,688,567
号,同2,998,325号;同3,783,023号;西独公開特許(O
LS)2,405,222号;特開昭49-53631号、同50-10337
号、同50-99506号、同51-92606号、同51-102049号、同5
1-103404号、特公昭52-17404号などに記載されている。
次に以上説明した各各材料から特定のものを選択使用
し、第1図の装置を用いた本発明方法により磁気記録媒
体を製造する実施例について詳しく説明する。
より成る組成物をボールミルで混合分散して磁性塗布液
5を調液し、厚さ15μmのポリエチレンテレフタレー
トのベース(非磁性支持体1)の表面にこの磁性塗布液
5を乾燥厚み5μmになるように塗布し、本乾燥後スー
パーカレンダー処理を施して磁気テープを製造した。本
配向磁石10としては平均磁束密度2000Gaussのソレノ
イドを使用し、得られた磁気テープは1/2インチ幅に栽
断した。
そしてて、第1図の装置において、予備配向磁石6とし
てそれぞれ平均磁束密度1600Daussの単極永久磁石、2
極永久磁石、ソレノイドを使用して3種の磁気テープを
得、それぞれ試料NO.1,2,3とした。
比較試料として各材料等の条件は上記試料NO.1と同様
にして、第1図の予備配向磁石6による予備配向を行な
わない磁気テープ、および従来一般法のようにソレノイ
ドを用いた磁場配向を1回だけ行ない、その後該配向と
は別に乾燥を1回だけ行なつた磁気テープを形成し、そ
れぞれ試料NO.4,5とした。また同じく各材料等の条
件は上記試料NO.1と同様にし、予備配向した後に乾燥
手段中で本配向する方法(例えば特開昭52-141612号公
報に示される)により磁気テープを形成し試料NO.6し
た。さらに各材料等の条件は上記試料NO.1と同様に
し、予備乾燥してから磁場配向し、その後本乾燥する方
法(例えば特公昭56-36496号公報に示される)により磁
気テープを形成し試料NO.7とした。
以上の試料NO.1〜7の磁気テープについてそれぞれ光
沢度比と角形比(残留磁束密度Brを飽和磁束密度Bmで除
した値)を測定した。第2図はその結果を示すものであ
る。この第2図に明確に示されるように、本発明方法に
より得られた磁気記録媒体(試料NO.1〜3)は従来方
法により得られる磁気記録媒体(試料NO.4〜7)に比
べ、光茶話比が高くて表面平滑性に優れたものであるこ
とが分かる。また本発明方法により得られた磁気記録媒
体は磁場配向性に優れ、角形比は極めて得難いとされて
いる0.9に近い高い値を示している。
〔第2実施例〕 前記第1実施例の試料NO.1と磁性粒子の粒径および抗
磁力以外の条件は同一で、Co-γ-Fe2O3の粒径と抗磁力
を4通りに変えた4種類の磁気テープを形成し、それぞ
れ試料NO.8,9,10,11とした。また上記第1実施例におけ
る比較試料NO.5と磁性粒子の粒径および抗磁力以外の
条件は同一で、Co-γ−Fe2O3の粒径と抗磁力を上記試料
NO.8〜11に準じて4通りに変えた4種類の磁気テープ
を比較試料として形成し、それぞれ試料NO.12,13,14,15
とした。下表参照。なお磁性粒子の粒径は比表面(m2
g)で抑えてある。
上記各試料について角形比(Br/Bm)と、ビデオS/N
を測定した結果をそれぞれ第3図、第4図に示す。
前述したように磁性粒子の粒径が小さくなるにつれ(す
なわち比表面積が増大するにつれ)、配向性が乱れる傾
向が有り、第3図においてもその傾向が示されている
が、本発明方法によるもの(試料NO.1および8〜11)
は従来方法によるもの(試料NO.5および12〜15)
に比べ、磁性粒子粒径を小さくしても角形比(Br/Bm)
の低下の傾向が小さく、配向性が乱れる傾向が低いこと
が分かる。
また同じく前述したように、S/N特性は磁性粒子を微
粒化して表面平滑性を高めることによつて改善され、第
4図においてもその傾向が示されているが、本発明方法
によるものは従来方法によるものに比べ、その傾向が特
に顕著であることが分かる。
また従来より、レイン酸含有塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体を結合剤(バインダー)とする磁性塗布液を用い
る場合には、該塗布液中の磁性粒子は一般に配向し難い
とされてきたが、以上説明の実施例においては、この結
合剤を用いても磁性粒子は十分に配向されている。
以上詳細に説明した通り本発明の磁気記録媒体の製造方
法によれば、磁性粒子の配向性に優れて角形比が高く、
しかも表面平滑性に優れてS/N特性が改善された磁気
記録媒体を得ることが可能になる。また本発明では、本
配向磁場中に中間乾燥風を導入するようにしたから、配
向磁場と乾燥手段を全て直列に並べてそれらによる各処
理を時間的にずらして行なう場合に比べれば、処理装置
の長さをより短くすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法を実施する装置の一例を示す概略
図、 第2図は本発明方法による磁気記録媒体と従来の製造方
法による磁気記録媒体の、角形比および光沢度比を比較
して示すグラフ、第3図は本発明方法による磁気記録媒
体と従来の製造方法による磁気記録媒体の、角形比と磁
性粒子比表面積の関係を示すグラフ、 第4図は本発明方法による磁気記録媒体と従来の製造方
法による磁気記録媒体の、ビデオS/Nと磁性粒子比表
面積の関係を示すグラフである。 1……非磁性支持体、4……塗布ヘツド 5……磁性塗布液、5′……塗 膜 6……予備配向磁石、7……予備乾燥手段 8……中間乾燥手段、9……本乾燥手段 10……本配向磁石
フロントページの続き (72)発明者 三好 孝仁 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 小川 博 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 内海 正広 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 藤山 正昭 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 多田 杉彦 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特公 昭45−21547(JP,B1) 特公 昭56−36496(JP,B1)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】連続移送される非磁性支持体の表面に、溶
    媒により溶解された結合剤中に磁性粒子を分散してなる
    磁性塗布液を塗布し、このようにして形成された支持体
    表面の塗膜に磁場配向、乾燥処理を施して磁気記録媒体
    を製造する方法において、 磁性塗布液を非磁性支持体表面に塗布した後、 予備配向を行なってから塗膜中の残留溶媒が塗布前の磁
    性塗布液中の溶媒量の50〜95%になるまで予備乾燥し、 次に本配向磁場中に中間乾燥風を導入して塗膜中の残留
    溶媒が塗布前の磁性塗布液中の溶媒量の5〜70%になる
    まで中間乾燥しつつ本配向を行ない、 その後塗膜中の残留溶媒が塗布前の磁性塗布液中の溶媒
    量の5%以下になるまで本乾燥することを特徴とする磁
    気記録媒体の製造方法。
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