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JPH0643301A - Optical parts - Google Patents

Optical parts

Info

Publication number
JPH0643301A
JPH0643301A JP21863192A JP21863192A JPH0643301A JP H0643301 A JPH0643301 A JP H0643301A JP 21863192 A JP21863192 A JP 21863192A JP 21863192 A JP21863192 A JP 21863192A JP H0643301 A JPH0643301 A JP H0643301A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
structural unit
iii
photosensitive resin
optical component
base material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21863192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeki Nakamu
茂樹 中務
Mitsuo Matsumoto
光郎 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
Priority to JP21863192A priority Critical patent/JPH0643301A/en
Publication of JPH0643301A publication Critical patent/JPH0643301A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 複屈折が小さく、かつ耐熱性に優れており、
しかも感光性樹脂層の密着性が高い光学部品を提供する
こと。 【構成】 ノルボルナン骨格、ジメタノペルヒドロナフ
タレン骨格又はトリメタノペルヒドロアントラセン骨格
を有するポリカーボネート、ポリエステルカーボネート
又はポリエステルからなる基材の表面に感光性樹脂槽が
設けられている光学部品。
(57) [Summary] [Purpose] Has low birefringence and excellent heat resistance.
Moreover, it is to provide an optical component having high adhesion of the photosensitive resin layer. An optical component in which a photosensitive resin tank is provided on the surface of a base material made of polycarbonate, polyester carbonate or polyester having a norbornane skeleton, a dimethanoperhydronaphthalene skeleton or a trimetanoperhydroanthracene skeleton.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光学部品に関する。FIELD OF THE INVENTION This invention relates to optical components.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、回折格子、平板マイクロレンズア
レイ等の透明基材の表面に微細な凹凸を有する光学部品
が広く用いられている。例えば回折格子は、従来の分光
用途に加えて、光ディスクのピックアップ中のレーザー
ビーム分割用素子、画像表示装置の光学的ローパスフィ
ルターなどに使用されている。また、平板マイクロレン
ズアレイとしては、CCDまたは液晶パネルの各画素の
上に形成されたものがある。
2. Description of the Related Art In recent years, optical components such as a diffraction grating and a flat plate microlens array having fine irregularities on the surface of a transparent substrate have been widely used. For example, a diffraction grating is used for a laser beam splitting element in an optical disk pickup, an optical low-pass filter for an image display device, and the like, in addition to conventional spectral applications. As the flat plate microlens array, there is an array formed on each pixel of a CCD or a liquid crystal panel.

【0003】現在、表面に凹凸を有する光学部品の作製
方法としては、(1)ガラス基板上にフォトレジストを
塗布し、レジストパターンを形成した後、ガラスをエッ
チングしてガラス面上に表面凹凸パターンを形成する方
法、(2)ポリメタクリル酸メチル(PMMA)等の透
明樹脂を用いて射出成形する方法、(3)ガラス、PM
MA、ビスフェノールA型のポリカーボネート(P
C)、非晶質ポリオレフィン等の透明樹脂基板上に感光
性樹脂膜を形成して、フォトリソグラフィーにより凹凸
を形成する方法がある。
Currently, as a method of manufacturing an optical component having an uneven surface, (1) a photoresist is applied on a glass substrate to form a resist pattern, and then the glass is etched to form a surface uneven pattern on the glass surface. (2) Injection molding using a transparent resin such as polymethylmethacrylate (PMMA), (3) Glass, PM
MA, bisphenol A type polycarbonate (P
C), there is a method in which a photosensitive resin film is formed on a transparent resin substrate such as an amorphous polyolefin, and unevenness is formed by photolithography.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記の表面に凹凸を有
する光学部品の作製方法には、それぞれ以下に述べるよ
うな問題点がある。(1)ガラス基板をエッチングして
凹凸パターンを形成する方法では精密に研磨されたガラ
ス基板を用いることにより、良好な光学特性および耐久
性が得られるが、フォトリソグラフィー工程およびエッ
チング工程が繁雑で、生産性が低い。(2)PMMA等
を用いた射出成形法は、生産性には優れているが、高精
度の金型を作成することが困難で時間がかかる上に、金
型作成に要するコストも大きい。(3)フォトリソグラ
フィーにより表面に凹凸を形成する方法のうち、基板と
してガラスを用いた場合は、光学性能および耐久性にお
いて優れているが、精密研磨されたガラス基板はコスト
が高い。又、基板として透明樹脂基板を用いた場合は、
低コストであるが、使用する基板材料に応じて次のよう
な問題がある。
Each of the above methods for producing an optical component having surface irregularities has the following problems. (1) In the method of forming a concavo-convex pattern by etching a glass substrate, good optical characteristics and durability can be obtained by using a glass substrate that has been precisely polished, but the photolithography process and etching process are complicated, Productivity is low. (2) The injection molding method using PMMA or the like is excellent in productivity, but it is difficult and time-consuming to produce a highly accurate die, and the die production cost is also high. (3) Among the methods of forming irregularities on the surface by photolithography, when glass is used as the substrate, the optical performance and durability are excellent, but the precision-polished glass substrate is expensive. When a transparent resin substrate is used as the substrate,
Although the cost is low, there are the following problems depending on the substrate material used.

【0005】PMMAでは飽和吸水率が約2%と大きい
ので、吸水による寸法変化が大きく、高湿度下における
使用では性能が低下する。又、ガラス転移温度が100
℃以下であるので、高温下での使用にも制限がある。P
Cでは、飽和吸水率が0.4%、ガラス転移温度が14
0℃と、吸水性および耐熱性の点ではPMMAよりも優
れているが、複屈折が大きく、特に偏光を用いる用途に
おいては使用不可能である。又、表面硬度が低く傷が付
き易い問題もある。非晶質のポリオレフィンでは、極性
基を有していないことから感光性樹脂との接着性が低い
という問題がある。
Since PMMA has a large saturated water absorption rate of about 2%, the dimensional change due to water absorption is large, and the performance deteriorates when used under high humidity. Also, the glass transition temperature is 100
Since it is below ℃, there is a limit to use at high temperature. P
In C, the saturated water absorption is 0.4% and the glass transition temperature is 14%.
At 0 ° C., it is superior to PMMA in terms of water absorption and heat resistance, but it has a large birefringence and cannot be used particularly in applications using polarized light. There is also a problem that the surface hardness is low and scratches are likely to occur. Amorphous polyolefin does not have a polar group, and thus has a problem of low adhesion to a photosensitive resin.

【0006】本発明の目的は、複屈折が小さく、かつ耐
熱性に優れており、しかも感光性樹脂層の密着性が高い
光学部品を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an optical component having a small birefringence, excellent heat resistance, and high adhesiveness of a photosensitive resin layer.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の本発明の目的は、
ノルボルナン骨格、ジメタノペルヒドロナフタレン骨格
又はトリメタノペルヒドロアントラセン骨格を有するポ
リカーボネート、ポリエステルカーボネート又はポリエ
ステルからなる基材の表面に感光性樹脂層が設けられて
いる光学部品によって達成される。
The above object of the present invention is to:
This is achieved by an optical component in which a photosensitive resin layer is provided on the surface of a substrate made of a polycarbonate, a polyester carbonate or a polyester having a norbornane skeleton, a dimethanoperhydronaphthalene skeleton or a trimetanoperhydroanthracene skeleton.

【0008】すなわち、本発明は下記一般式(I)ない
し(III)
That is, the present invention is represented by the following general formulas (I) to (III)

【化4】 でそれぞれ表される構造単位(I)ないし(III)から
なり、構造単位(I)のモル分率(x)が構造単位(I
I)のモル分率(y)及び構造単位(III)のモル分率
(z)の合計モル分率(y+z)と実質的に等しい樹脂
からなる基材、上記の構造単位(I)及び(II)からな
り、構造単位(I)のモル分率(x)が構造単位(II)
のモル分率(y)と実質的に等しい樹脂からなる基材、
又は上記の構造単位(I)及び(III)からなり、構造
単位(I)のモル分率(x)が構造単位(III)のモル
分率(z)と実質的に等しい樹脂からなる基材の表面に
感光性樹脂層が設けられていることを特徴とする光学部
品である。
[Chemical 4] Of the structural units (I) to (III), and the molar fraction (x) of the structural unit (I) is the structural unit (I).
A base material made of a resin substantially equal to the total mole fraction (y + z) of the mole fraction (y) of I) and the mole fraction (z) of the structural unit (III), the above structural units (I) and ( II) and the mole fraction (x) of the structural unit (I) is the structural unit (II)
A substrate consisting of a resin substantially equal to the mole fraction (y) of
Alternatively, a substrate comprising a resin comprising the above structural units (I) and (III), the molar fraction (x) of the structural unit (I) being substantially equal to the molar fraction (z) of the structural unit (III). An optical component having a photosensitive resin layer provided on the surface thereof.

【0009】本発明の樹脂において、一般式(I)で表
される構造単位(I)のモル分率(x)は略50モル%
である。一般式(II)で表される構造単位(II)のモル
分率(y)は50モル%以下の範囲であり、好ましくは
40モル%以上50モル%以下であることが好ましい。
含有率が20モル%未満であると吸水性が十分に低くな
い場合があり好ましくない。又、一般式(III)で表さ
れる構造単位(III)が少量含まれたポリエステルカー
ボネートより得られる基材は、構造単位(III)が全く
含まれていないポリカーボネートから得られる基材に比
べて力学的物性が優れる。構造単位(III)の好ましい
モル分率(z)は1モル%以上20モル%以下である。
なお、本発明の目的に沿う範囲内で少量の他の任意の構
造単位を含んでいても良い。その重合割合は通常10モ
ル%以下である。
In the resin of the present invention, the molar fraction (x) of the structural unit (I) represented by the general formula (I) is about 50 mol%.
Is. The molar fraction (y) of the structural unit (II) represented by the general formula (II) is in the range of 50 mol% or less, preferably 40 mol% or more and 50 mol% or less.
If the content is less than 20 mol%, the water absorption may not be sufficiently low, which is not preferable. Further, the base material obtained from the polyester carbonate containing a small amount of the structural unit (III) represented by the general formula (III) is superior to the base material obtained from the polycarbonate containing no structural unit (III). Excellent mechanical properties. The preferable mole fraction (z) of the structural unit (III) is 1 mol% or more and 20 mol% or less.
It should be noted that a small amount of any other structural unit may be contained within a range in accordance with the object of the present invention. The polymerization rate is usually 10 mol% or less.

【0010】構造単位(I)におけるnとしては、耐熱
性が高く、又吸収率が小さい基材が得られる点から1又
は2であることが好ましく、原料化合物の製造が容易で
ある点から1であることがより好ましい。構造単位
(I)の具体例としては、以下のものが挙げられる。
The n in the structural unit (I) is preferably 1 or 2 from the viewpoint that a base material having high heat resistance and a low absorptivity can be obtained, and 1 from the viewpoint of easy production of the raw material compound. Is more preferable. Specific examples of the structural unit (I) include the following.

【化5】 又、構造単位(III)におけるAとしては、複屈折及び
吸水率が小さく、耐熱性が高い基材が得られる点から炭
素数20以下の2価の飽和脂環式炭化水素基が好まし
い。構造単位(III)の具体例として、以下のものが挙
げられる。
[Chemical 5] Further, as A in the structural unit (III), a divalent saturated alicyclic hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms is preferable from the viewpoint that a base material having low birefringence and water absorption and high heat resistance can be obtained. Specific examples of the structural unit (III) include the following.

【化6】 [Chemical 6]

【0011】本発明における樹脂は公知の適当な方法に
より製造することができる。すなわち、対応する酸、そ
のエステル、酸塩化物(構造単位(II)に対してはホス
ゲン)、酸無水物、ジオール、そのエステル又はアルコ
キシド等を原料に用い、界面法、溶液法、溶融法等の方
法によって本発明の樹脂を得ることができる。反応の際
は必要に応じて触媒を使用することができる。触媒とし
ては、(1)種々のアルコキシド、(2)アルカリ金
属、(3)アルカリ金属の水素化物、(4)アルカリ金
属水酸化物、(5)金属ハロゲン化物等があげられる。
触媒の使用量は特に限定されないが、通常原料全体に対
して0.0001〜1モル%の範囲である。
The resin used in the present invention can be produced by a known appropriate method. That is, the corresponding acid, its ester, acid chloride (phosgene for the structural unit (II)), acid anhydride, diol, its ester or alkoxide, etc. is used as a raw material, and the interface method, solution method, melting method, etc. The resin of the present invention can be obtained by the above method. During the reaction, a catalyst can be used if necessary. Examples of the catalyst include (1) various alkoxides, (2) alkali metal, (3) alkali metal hydride, (4) alkali metal hydroxide, and (5) metal halide.
Although the amount of the catalyst used is not particularly limited, it is usually in the range of 0.0001 to 1 mol% with respect to the entire raw material.

【0012】反応の条件は用いる原料及び製造法により
異なるが、例えば対応するエステルとジオールとを用い
て溶融法により製造する場合には、原料と触媒とを窒
素、アルゴン、二酸化炭素等の不活性ガス雰囲気下で加
熱して撹拌し、発生するアルコール又はフェニルエステ
ルを用いる場合にはフェノールを留出させることにより
反応を進行させることができる。反応温度は用いる原
料、生成するアルコール又はフェノールの沸点等によっ
て異なるが、通常150〜300℃の範囲である。反応
時間は通常30分から10時間の範囲内から選ばれる。
反応の後半では必要に応じて系を減圧にして反応を追い
込むが、この際の圧は通常0.001〜100mmHg
の範囲である。生成した樹脂は粉末状、塊状、ペレット
状等任意の状態で反応漕から取り出すことができ、一般
の成形用透明樹脂と同様の方法で成形に供することがで
きる。
The reaction conditions vary depending on the starting material and the manufacturing method used. For example, when the corresponding ester and diol are manufactured by the melting method, the starting material and the catalyst are inert such as nitrogen, argon, carbon dioxide, etc. The reaction can be advanced by heating and stirring in a gas atmosphere and distilling phenol when the generated alcohol or phenyl ester is used. The reaction temperature varies depending on the raw material used, the boiling point of the alcohol or phenol produced, and the like, but is usually in the range of 150 to 300 ° C. The reaction time is usually selected from the range of 30 minutes to 10 hours.
In the latter half of the reaction, the system is depressurized as necessary to drive the reaction, but the pressure at this time is usually 0.001 to 100 mmHg.
Is the range. The produced resin can be taken out of the reaction tank in any state such as powder, lump or pellet, and can be used for molding by the same method as that for general transparent resin for molding.

【0013】本発明における樹脂の分子量については、
ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)に
よる平均分子量(ポリスチレン換算)が10,000以
上100,000以下であることが好ましく、20,0
00以上80,000以下であることがより好ましい。
数平均分子量が10,000以下の樹脂は脆く、十分な
強度が得られず、数平均分子量が100,000以上の
樹脂を合成することは困難である。
Regarding the molecular weight of the resin in the present invention,
The average molecular weight (converted to polystyrene) by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 10,000 or more and 100,000 or less, and 20,0.
It is more preferably from 00 to 80,000.
A resin having a number average molecular weight of 10,000 or less is brittle and sufficient strength cannot be obtained, and it is difficult to synthesize a resin having a number average molecular weight of 100,000 or more.

【0014】本発明における感光性樹脂としては、可視
光ないし深紫外光で感光し、現像処理によって凹凸が形
成されるものであれば種々のものを用いることができ
る。基材上に感光性樹脂層を形成する方法としては、ス
ピンコート法、ディップ法などが挙げられる。
As the photosensitive resin in the present invention, various resins can be used as long as they are exposed to visible light or deep ultraviolet light and unevenness is formed by a developing process. Examples of the method for forming the photosensitive resin layer on the base material include a spin coating method and a dipping method.

【0015】なお、本発明の光学部品を構成する基材は
プレス成形法、押出成形法、射出成形法、射出圧縮成形
法等の溶融成形法、キャスト法等によって形成される。
The base material forming the optical component of the present invention is formed by a melt molding method such as a press molding method, an extrusion molding method, an injection molding method, an injection compression molding method, or a casting method.

【0016】[0016]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を説明する。な
お、物性値の測定方法及び試験条件は下記の通りであ
る。 複屈折値:エリプソメーターを用いて633nmのレ
ーザー光を垂直入射させてシングルパスの値を測定し
た。 感光性樹脂膜の密着性:凹凸の形成された面にセロテ
ープを貼り付けた後で剥離して感光性樹脂膜の密着性を
確認した。 耐熱性:100℃のオーブン中に24時間放置し、外
観および回折効率に変化があるかどうか確認した。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples. The methods for measuring physical properties and test conditions are as follows. Birefringence value: A single-pass value was measured by vertically injecting 633 nm laser light using an ellipsometer. Adhesion of the photosensitive resin film: The adhesiveness of the photosensitive resin film was confirmed by sticking cellophane tape on the surface having the irregularities and then peeling it off. Heat resistance: It was left in an oven at 100 ° C. for 24 hours, and it was confirmed whether or not there was a change in appearance and diffraction efficiency.

【0017】(実施例1)下記の式で示される2,3−
ジ(ヒドロキシメチル)−ペルヒドロ−1,4:5,8
−ジメタノナフタレン
(Example 1) 2,3-represented by the following formula
Di (hydroxymethyl) -perhydro-1,4: 5,8
-Dimethanonaphthalene

【化7】 と下記の式で示されるジフェニルカーボネート[Chemical 7] And diphenyl carbonate represented by the following formula

【化8】 とを原料物質として用いて、テトラブチルアンモニウム
テトラフェニルボレートを触媒として、溶融重縮合反応
により下記の式に示すような構造を有する無色透明な樹
脂(数平均分子量(GPC換算):37000)からな
る長円筒状のチップを得た。
[Chemical 8] It is composed of a colorless transparent resin (number average molecular weight (GPC conversion): 37,000) having a structure as shown in the following formula by a melt polycondensation reaction using tetrabutylammonium tetraphenylborate as a catalyst, using and as starting materials. A long cylindrical chip was obtained.

【化9】 チップを乾燥し、押し出し成形機にて、厚さ1mmの樹
脂板を成形し、直径150mmに切り出して円板状の透
明樹脂基材を作製した。上記基材上に市販のポジ型のフ
ォトレジストを厚さが0.2μmになるように塗布し、
乾燥した後、ピッチが30μmの1次元の線上の開口部
を有するフォトマスクを介して紫外線で露光した。アル
カリ水溶液で現像した後、乾燥し、さらに紫外線を全面
に照射することでレジストの着色を除き、回折格子を作
製した。
[Chemical 9] The chip was dried, a resin plate having a thickness of 1 mm was molded by an extrusion molding machine, and cut into a disk having a diameter of 150 mm to prepare a disk-shaped transparent resin base material. Commercially available positive photoresist is coated on the above base material so as to have a thickness of 0.2 μm,
After drying, it was exposed to ultraviolet light through a photomask having a one-dimensional linear opening having a pitch of 30 μm. After developing with an alkaline aqueous solution, it was dried, and the entire surface was irradiated with ultraviolet rays to remove the coloring of the resist, and a diffraction grating was produced.

【0018】(実施例2)原料物質として、2,3−ジ
(ヒドロキシメチル)−ペルヒドロ−1,4:5,8−
ジメタノナフタレンに代えて、下記の式
Example 2 As a raw material, 2,3-di (hydroxymethyl) -perhydro-1,4: 5,8-
Instead of dimethanonaphthalene, the following formula

【化10】 で示される化合物を用いる以外は実施例1と同様にし
て、下記の式に示す構造を有する無色透明な樹脂(数平
均分子量:33000)からなるチップを得て、これよ
り実施例1と同様にして回折格子を作製した。
[Chemical 10] A chip made of a colorless transparent resin (number average molecular weight: 33000) having a structure represented by the following formula was obtained in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by To produce a diffraction grating.

【化11】 [Chemical 11]

【0019】(実施例3)原料物質として、2,3−ジ
(ヒドロキシメチル)−ペルヒドロ−1,4:5,8−
ジメタノナフタレンと下記の式
(Example 3) As a raw material, 2,3-di (hydroxymethyl) -perhydro-1,4: 5,8-
Dimethanonaphthalene and the following formula

【化12】 で示される化合物との混合物(モル比:1対1)を用い
る以外は実施例1と同様にして、下記の式に示す構造を
有する無色透明な樹脂(数平均分子量:39000)か
らなるチップを得て、これより実施例1と同様にして回
折格子を作製した。
[Chemical 12] A chip made of a colorless transparent resin (number average molecular weight: 39000) having a structure represented by the following formula was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixture with the compound represented by (molar ratio: 1: 1) was used. Then, a diffraction grating was produced from this in the same manner as in Example 1.

【化13】 [Chemical 13]

【0020】(実施例4)原料物質として実施例1で用
いた2,3−ジ(ヒドロキシ)−ペルヒドロ−1,4:
5,8−ジメタノナフタレンとジフェニルカーボネート
及び下記の式(IV)
(Example 4) 2,3-di (hydroxy) -perhydro-1,4 used in Example 1 as a starting material:
5,8-Dimethanonaphthalene and diphenyl carbonate and the following formula (IV)

【化14】 で表される化合物との混合物(モル比:10対9対1)
を用いる以外は実施例1と同様にして下記の式に示す構
造を有する無色透明な樹脂(平均分子量:29000)
からなるチップを得て、これより実施例1と同様にして
回折格子を作製した。
[Chemical 14] A mixture with a compound represented by (molar ratio: 10: 9: 1)
A colorless and transparent resin having a structure represented by the following formula (average molecular weight: 29000) in the same manner as in Example 1 except that
A chip made of was obtained, and a diffraction grating was produced in the same manner as in Example 1.

【化15】 [Chemical 15]

【0021】(実施例5)原料物質として、実施例1で
用いた2,3−ジ(ヒドロキシ)−ペルヒドロ−1,
4:5,8−ジメタノナフタレンと上記の式(IV)で示
される化合物との混合物(モル比:1対1)を用いる以
外は実施例1と同様にして、下記の式に示す構造を有す
る無色透明な樹脂(数平均分子量:32000)からな
るチップを得て、これより実施例1と同様にして回折格
子を作製した。
Example 5 As a raw material, 2,3-di (hydroxy) -perhydro-1, used in Example 1, was used.
A structure represented by the following formula was obtained in the same manner as in Example 1 except that a mixture (molar ratio: 1: 1) of 4: 5,8-dimethanonaphthalene and the compound represented by the above formula (IV) was used. A chip made of the colorless transparent resin (number average molecular weight: 32000) was obtained, and a diffraction grating was prepared in the same manner as in Example 1.

【化16】 [Chemical 16]

【0022】(比較例1)基材材料としてPMMA
((株)クラレ製パラペットH−1000)を用いて、
実施例1と同様にして回折格子を作製した。 (比較例2)基材材料としてPC(帝人化成(株)製パ
ンライトAD−5503)を用いて、実施例1と同様に
して回折格子を作製した。 (比較例3)基材材料として脂環式ポリオレフィン(日
本ゼオン(株)製ゼオネックス280)を用いて、実施
例1と同様にして回折格子を作製した。
Comparative Example 1 PMMA as a base material
(Using Kuraray Co., Ltd. Parapet H-1000),
A diffraction grating was produced in the same manner as in Example 1. (Comparative Example 2) A diffraction grating was produced in the same manner as in Example 1 by using PC (Panlite AD-5503 manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) as a base material. (Comparative Example 3) A diffractive grating was produced in the same manner as in Example 1, using an alicyclic polyolefin (Zeonex 280 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) as a base material.

【0023】上記の実施例1〜5および比較例1〜3で
作製した回折格子について、複屈折、膜密着性及び耐熱
性の測定結果を表1に示す。
Table 1 shows the results of measurement of birefringence, film adhesion and heat resistance of the diffraction gratings produced in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 above.

【表1】 [Table 1]

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によれば、複屈折が小さく、かつ
耐熱性に優れており、しかも感光性樹脂層の密着性が高
い光学部品が提供される。
According to the present invention, there is provided an optical component having a small birefringence, excellent heat resistance, and high adhesiveness to a photosensitive resin layer.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記の一般式(I)ないし(III) 【化1】 でそれぞれ表される構造単位(I)ないし(III)から
なり、構造単位(I)のモル分率(x)が構造単位(I
I)のモル分率(y)及び構造単位(III)のモル分率
(z)の合計モル分率(y+z)と実質的に等しい樹脂
からなる基材の表面に感光性樹脂層が設けられているこ
とを特徴とする光学部品。
1. The following general formulas (I) to (III): Of the structural units (I) to (III), and the molar fraction (x) of the structural unit (I) is the structural unit (I).
A photosensitive resin layer is provided on the surface of a substrate made of a resin that is substantially equal to the total mole fraction (y + z) of the mole fraction (y) of I) and the mole fraction (z) of the structural unit (III). An optical component characterized in that
【請求項2】 下記の一般式(I)及び(II) 【化2】 でそれぞれ表される構造単位(I)及び(II)からな
り、構造単位(I)のモル分率(x)が構造単位(II)
のモル分率(y)と実質的に等しい樹脂からなる基材の
表面に感光性樹脂層が設けられていることを特徴とする
光学部品。
2. The following general formulas (I) and (II): The structural unit (I) and the structural unit (II) are represented respectively, and the molar fraction (x) of the structural unit (I) is the structural unit (II).
The optical component is characterized in that a photosensitive resin layer is provided on the surface of a base material made of a resin that is substantially equal to the molar fraction (y).
【請求項3】 下記の一般式(I)及び(III) 【化3】 でそれぞれ表される構造単位(I)及び(III)からな
り、構造単位(I)のモル分率(x)が構造単位(II
I)のモル分率(z)と実質的に等しい樹脂からなる基
材の表面に感光性樹脂層が設けられていることを特徴と
する光学部品。
3. The following general formulas (I) and (III): The structural unit (I) and the structural unit (III) are respectively represented, and the mole fraction (x) of the structural unit (I) is the structural unit (II
An optical component, wherein a photosensitive resin layer is provided on the surface of a base material made of a resin substantially equal to the molar fraction (z) of I).
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