JPH0625041A - オルトアルキルフェノールの製造方法 - Google Patents
オルトアルキルフェノールの製造方法Info
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- JPH0625041A JPH0625041A JP4182070A JP18207092A JPH0625041A JP H0625041 A JPH0625041 A JP H0625041A JP 4182070 A JP4182070 A JP 4182070A JP 18207092 A JP18207092 A JP 18207092A JP H0625041 A JPH0625041 A JP H0625041A
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- Japan
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- reaction
- manganese oxide
- phenol
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 オルト位に水素原子を有するフェノール類と
低級アルコールとをマンガン酸化物触媒の存在下に反応
させてオルトアルキルフェノールを製造する方法におい
て、長時間に亙り安定した運転のもとで、高選択率かつ
高転化率で目的物を得る。 【構成】 マンガン酸化物触媒を、0.1〜20容量%
の還元性ガスが存在する雰囲気下に、1000〜150
0℃の温度で焼成した後、反応に用いる。
低級アルコールとをマンガン酸化物触媒の存在下に反応
させてオルトアルキルフェノールを製造する方法におい
て、長時間に亙り安定した運転のもとで、高選択率かつ
高転化率で目的物を得る。 【構成】 マンガン酸化物触媒を、0.1〜20容量%
の還元性ガスが存在する雰囲気下に、1000〜150
0℃の温度で焼成した後、反応に用いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フェノール類とアルコ
ール類とからオルトアルキルフェノールを製造する方法
に関するものである。オルトクレゾール、2,6−キシ
レノール等のオルトアルキルフェノールは、酸化防止
剤、消毒剤、防腐剤として、また、農薬、医薬、フェノ
ール樹脂、可塑剤等の原料として有用な化合物である。
ール類とからオルトアルキルフェノールを製造する方法
に関するものである。オルトクレゾール、2,6−キシ
レノール等のオルトアルキルフェノールは、酸化防止
剤、消毒剤、防腐剤として、また、農薬、医薬、フェノ
ール樹脂、可塑剤等の原料として有用な化合物である。
【0002】
【従来の技術】フェノールとメタノールとを金属酸化物
触媒の存在下に気相接触反応させてオルト位メチル化フ
ェノールを製造する方法は公知であり、工業的に実施さ
れている。金属酸化物触媒としては、酸化アルミニウ
ム、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ク
ロム、酸化亜鉛などが使用できる。しかしながら、酸化
マグネシウムは、オルト位選択率は高いものの、活性が
低く、高温で反応を行うと触媒寿命が短くなる。また、
酸化アルミニウムは、活性は高いものの、選択率が低く
副生物が多い。酸化鉄は、活性は高いが、選択率が低
く、また、活性低下が大きいので触媒寿命が短い。
触媒の存在下に気相接触反応させてオルト位メチル化フ
ェノールを製造する方法は公知であり、工業的に実施さ
れている。金属酸化物触媒としては、酸化アルミニウ
ム、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ク
ロム、酸化亜鉛などが使用できる。しかしながら、酸化
マグネシウムは、オルト位選択率は高いものの、活性が
低く、高温で反応を行うと触媒寿命が短くなる。また、
酸化アルミニウムは、活性は高いものの、選択率が低く
副生物が多い。酸化鉄は、活性は高いが、選択率が低
く、また、活性低下が大きいので触媒寿命が短い。
【0003】一方、マンガン系触媒は、活性及び選択性
がともに高く、種々の提案がある。(特公昭51−11
101号、特開昭54−32425号、同54−812
31号、同55−30494号、同55−76830
号、同57−53422号、同57−81425〜7
号、同57−85332号、同60−34923号、同
60−218345号公報等)。しかしながら、触媒の
機械的強度が不十分であり、反応や再生操作によって粉
化し、反応系がつまることがあった。圧壊強度の優れた
触媒として、特開昭57−81425号公報には、酸化
マンガンに酸化ケイ素、アルカリ金属等と、特定の結晶
型の酸化アルミニウムとの混成触媒を使用する選択的ア
ルキル化方法が記載されている。また、特開昭57−9
4247号公報には、触媒の粉化による欠点を解決する
ものとして、触媒を外殻で覆い、触媒と外殻との間に空
隙を形成させた内包型触媒が記載されている。
がともに高く、種々の提案がある。(特公昭51−11
101号、特開昭54−32425号、同54−812
31号、同55−30494号、同55−76830
号、同57−53422号、同57−81425〜7
号、同57−85332号、同60−34923号、同
60−218345号公報等)。しかしながら、触媒の
機械的強度が不十分であり、反応や再生操作によって粉
化し、反応系がつまることがあった。圧壊強度の優れた
触媒として、特開昭57−81425号公報には、酸化
マンガンに酸化ケイ素、アルカリ金属等と、特定の結晶
型の酸化アルミニウムとの混成触媒を使用する選択的ア
ルキル化方法が記載されている。また、特開昭57−9
4247号公報には、触媒の粉化による欠点を解決する
ものとして、触媒を外殻で覆い、触媒と外殻との間に空
隙を形成させた内包型触媒が記載されている。
【0004】特開昭55−143921号公報には、酸
化マンガン含有触媒を還元性ガスにより前処理して用い
る方法が記載されている。この方法では、100〜80
0℃という比較的低い温度で処理されているが、これは
該公報に記載されているように、通常の空気中または窒
素などの雰囲気下で焼成されたとき、触媒表面上に存在
すると考えられる反応性に富んだ酸素種を取り去ること
を目的としている為である。
化マンガン含有触媒を還元性ガスにより前処理して用い
る方法が記載されている。この方法では、100〜80
0℃という比較的低い温度で処理されているが、これは
該公報に記載されているように、通常の空気中または窒
素などの雰囲気下で焼成されたとき、触媒表面上に存在
すると考えられる反応性に富んだ酸素種を取り去ること
を目的としている為である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、マン
ガン酸化物触媒を用いる方法において、優れた触媒強度
を有する触媒によって、長時間高選択率かつ高転化率で
オルトアルキルフェノールを製造する方法を提供するこ
とである。
ガン酸化物触媒を用いる方法において、優れた触媒強度
を有する触媒によって、長時間高選択率かつ高転化率で
オルトアルキルフェノールを製造する方法を提供するこ
とである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、オルト位に水
素原子を有するフェノール類と低級アルコールとをマン
ガン酸化物触媒の存在下に反応させてオルトアルキルフ
ェノールを製造する方法において、マンガン酸化物触媒
を、0.1〜20容量%の還元性ガスが存在する雰囲気
下に、1000〜1500℃の温度で焼成した後、反応
に用いることを特徴とするオルトアルキルフェノールの
製造方法である。本発明で用いられるフェノール類は、
オルト位に1個または2個の水素原子を有するフェノー
ル化合物で、下記一般式で示される。
素原子を有するフェノール類と低級アルコールとをマン
ガン酸化物触媒の存在下に反応させてオルトアルキルフ
ェノールを製造する方法において、マンガン酸化物触媒
を、0.1〜20容量%の還元性ガスが存在する雰囲気
下に、1000〜1500℃の温度で焼成した後、反応
に用いることを特徴とするオルトアルキルフェノールの
製造方法である。本発明で用いられるフェノール類は、
オルト位に1個または2個の水素原子を有するフェノー
ル化合物で、下記一般式で示される。
【0007】
【化1】
【0008】(式中、R1 、R2 、R3 及びR4 は、そ
れぞれ独立に水素原子、水酸基、炭素数1〜10のアル
キル基、または置換基を有していてもよい芳香族炭化水
素基である。)このような化合物の具体例としては、フ
ェノール、クレゾール類、キシレノール類、トリメチル
フェノール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール
類、フェニルフェノール類、ナフチルフェノール類、ヒ
ドロキノンなどが挙げられる。低級アルコールとして
は、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−
プロパノール、n−ブタノール、i−ブタノール、t−
ブタノール、ペンタノール、ヘキサノールなどが挙げら
れる。
れぞれ独立に水素原子、水酸基、炭素数1〜10のアル
キル基、または置換基を有していてもよい芳香族炭化水
素基である。)このような化合物の具体例としては、フ
ェノール、クレゾール類、キシレノール類、トリメチル
フェノール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール
類、フェニルフェノール類、ナフチルフェノール類、ヒ
ドロキノンなどが挙げられる。低級アルコールとして
は、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−
プロパノール、n−ブタノール、i−ブタノール、t−
ブタノール、ペンタノール、ヘキサノールなどが挙げら
れる。
【0009】本発明の方法において使用されるマンガン
酸化物触媒は、マンガン酸化物を含む触媒である。具体
的には、一酸化マンガン、三二酸化マンガン、二酸化マ
ンガン、四三酸化マンガン等のマンガン酸化物からなる
触媒を挙げることができる。更に、これらの触媒は、ア
ルミナ、シリカ等の担体、水ガラス、ホウ酸、リン酸、
粘土系成分等の粘結材、活性炭などが含まれていてもよ
い。
酸化物触媒は、マンガン酸化物を含む触媒である。具体
的には、一酸化マンガン、三二酸化マンガン、二酸化マ
ンガン、四三酸化マンガン等のマンガン酸化物からなる
触媒を挙げることができる。更に、これらの触媒は、ア
ルミナ、シリカ等の担体、水ガラス、ホウ酸、リン酸、
粘土系成分等の粘結材、活性炭などが含まれていてもよ
い。
【0010】本発明の方法では、上記のマンガン酸化物
触媒を、還元性ガスの存在下で、1000〜1500℃
の温度で焼成して用いる。還元性ガスの存在下とは、還
元性ガスが存在する雰囲気を意味する。還元性ガスと
は、水素、一酸化炭素、アンモニア、メタノール、エタ
ノール、メタン、エタン、プロパン、ブタン等、または
これらの混合物が挙げられる。これらの中でも、焼成温
度が高いため、水素、一酸化炭素、およびこれらの混合
物が好ましい。これらの還元性ガスは、二酸化炭素、窒
素、水蒸気等で希釈して用いることもできるし、また、
酸素が共存していてもよい。酸素が存在することが好ま
しい場合もある。還元性ガスの濃度としては、0.1〜
20容量%程度、好ましくは1〜10容量%の範囲であ
る。0.1容量%未満であると反応後の触媒強度が低下
し、また20容量%を越えると反応活性が低下する。
触媒を、還元性ガスの存在下で、1000〜1500℃
の温度で焼成して用いる。還元性ガスの存在下とは、還
元性ガスが存在する雰囲気を意味する。還元性ガスと
は、水素、一酸化炭素、アンモニア、メタノール、エタ
ノール、メタン、エタン、プロパン、ブタン等、または
これらの混合物が挙げられる。これらの中でも、焼成温
度が高いため、水素、一酸化炭素、およびこれらの混合
物が好ましい。これらの還元性ガスは、二酸化炭素、窒
素、水蒸気等で希釈して用いることもできるし、また、
酸素が共存していてもよい。酸素が存在することが好ま
しい場合もある。還元性ガスの濃度としては、0.1〜
20容量%程度、好ましくは1〜10容量%の範囲であ
る。0.1容量%未満であると反応後の触媒強度が低下
し、また20容量%を越えると反応活性が低下する。
【0011】触媒の焼成は、1000〜1500℃、好
ましくは1100〜1400℃で行う。焼成時間は、焼
成温度によって異なるが、通常1〜30時間程度であ
る。焼成温度が高いときにはより短時間で、また焼成温
度が低いときにはより長時間が必要となる。
ましくは1100〜1400℃で行う。焼成時間は、焼
成温度によって異なるが、通常1〜30時間程度であ
る。焼成温度が高いときにはより短時間で、また焼成温
度が低いときにはより長時間が必要となる。
【0012】オルトアルキルフェノールの製造は、フェ
ノール類と低級アルコールとを、前記の触媒の存在下
に、300〜500℃の温度で、反応させることにより
行われる。フェノール類と低級アルコールとのモル比
は、1:1〜1:10、好ましくは、1:3〜1:7の
範囲である。原料の供給速度は、液空間速度で0.1〜
5hr-1程度が好ましく、一般に反応温度が高いところで
は液空間速度は大きく、また反応温度の低い側では液空
間速度は小さくすることが好ましい。
ノール類と低級アルコールとを、前記の触媒の存在下
に、300〜500℃の温度で、反応させることにより
行われる。フェノール類と低級アルコールとのモル比
は、1:1〜1:10、好ましくは、1:3〜1:7の
範囲である。原料の供給速度は、液空間速度で0.1〜
5hr-1程度が好ましく、一般に反応温度が高いところで
は液空間速度は大きく、また反応温度の低い側では液空
間速度は小さくすることが好ましい。
【0013】また、反応系に水を共存させることも可能
である。この際の、フェノール類に対する水のモル比
は、5モル倍程度までが好ましい。反応圧力は、減圧、
常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常1〜10kg
/cm2G程度である。反応は、液相でも気相でも可能であ
るが、反応圧力の点から気相の方が反応が容易である。
反応の形式は、固定床、流動床、移動床のいずれでも可
能である。反応に供された触媒は、適宜酸素含有ガスと
300〜700℃で接触させることにより、再生するこ
とができる。反応生成物は、ガス成分を除去した後、常
法により分離回収する。比較的沸点の低い物質が目的成
分である場合は、蒸留により分離し、低い留分を回収す
る。また、沸点の高い物質が目的成分である場合は、晶
析等の手段が有効である。
である。この際の、フェノール類に対する水のモル比
は、5モル倍程度までが好ましい。反応圧力は、減圧、
常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常1〜10kg
/cm2G程度である。反応は、液相でも気相でも可能であ
るが、反応圧力の点から気相の方が反応が容易である。
反応の形式は、固定床、流動床、移動床のいずれでも可
能である。反応に供された触媒は、適宜酸素含有ガスと
300〜700℃で接触させることにより、再生するこ
とができる。反応生成物は、ガス成分を除去した後、常
法により分離回収する。比較的沸点の低い物質が目的成
分である場合は、蒸留により分離し、低い留分を回収す
る。また、沸点の高い物質が目的成分である場合は、晶
析等の手段が有効である。
【0014】
【発明の効果】本発明の方法によれば、長時間、高選択
率かつ高転化率でオルトアルキルフェノール類を製造す
ることができる。
率かつ高転化率でオルトアルキルフェノール類を製造す
ることができる。
【0015】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明する。 実施例1 (触媒の調製)平均粒子径が50μmの電解二酸化マン
ガンを1000℃で加熱処理して得たマンガン酸化物1
00部に、アビセル(旭化成社製)5部及び少量の水を
加えて混練したものを、回転円盤型転動造粒機に入れ
て、噴霧状の水を振りかけながら1mm程度の粒状物と
した。この粒状物に、噴霧状の水を振りかけながら、同
時に前記混練物を振りかけて、雪だるま式に直径4.5
mmの球状物とした。この球状物を80〜120℃で乾
燥させた後、こう鉢に入れて焼成炉で徐々に加熱し、2
50℃から600℃まで特にゆるやかに昇温するように
加熱し、1250℃まで昇温させ、この温度で、一酸化
炭素4%、水素3%,二酸化炭素4%,酸素1%、残り
は窒素と水蒸気からなる雰囲気で3時間保持し、粒子径
が4.5mmのマンガン酸化物からなる触媒を得た。
明する。 実施例1 (触媒の調製)平均粒子径が50μmの電解二酸化マン
ガンを1000℃で加熱処理して得たマンガン酸化物1
00部に、アビセル(旭化成社製)5部及び少量の水を
加えて混練したものを、回転円盤型転動造粒機に入れ
て、噴霧状の水を振りかけながら1mm程度の粒状物と
した。この粒状物に、噴霧状の水を振りかけながら、同
時に前記混練物を振りかけて、雪だるま式に直径4.5
mmの球状物とした。この球状物を80〜120℃で乾
燥させた後、こう鉢に入れて焼成炉で徐々に加熱し、2
50℃から600℃まで特にゆるやかに昇温するように
加熱し、1250℃まで昇温させ、この温度で、一酸化
炭素4%、水素3%,二酸化炭素4%,酸素1%、残り
は窒素と水蒸気からなる雰囲気で3時間保持し、粒子径
が4.5mmのマンガン酸化物からなる触媒を得た。
【0016】(アルキル化反応)上記で得られた触媒6
6mlを、SUS−304製反応管に充填し、反応温
度:390℃、反応圧力:2kg/cm2 、LHSV:0.
5hr-1の条件下に、メタノール:フェノール:水(モル
比)=6:1:0.5の混合物を供給して反応を行っ
た。20時間後のフェノール転化率は94%、フェノー
ル選択率は98%であった。この反応後の触媒の破壊強
度は5.0kg/cm2であった。更に、生成する2,6−キ
シレノールとo−クレゾールのモル比を2に保つように
反応温度を上昇させながら更に反応を続けた。200時
間後、フェノール選択率は98%であった。この反応後
の触媒の破壊強度は5.0kg/cm2であり、殆ど強度は低
下していなかった。
6mlを、SUS−304製反応管に充填し、反応温
度:390℃、反応圧力:2kg/cm2 、LHSV:0.
5hr-1の条件下に、メタノール:フェノール:水(モル
比)=6:1:0.5の混合物を供給して反応を行っ
た。20時間後のフェノール転化率は94%、フェノー
ル選択率は98%であった。この反応後の触媒の破壊強
度は5.0kg/cm2であった。更に、生成する2,6−キ
シレノールとo−クレゾールのモル比を2に保つように
反応温度を上昇させながら更に反応を続けた。200時
間後、フェノール選択率は98%であった。この反応後
の触媒の破壊強度は5.0kg/cm2であり、殆ど強度は低
下していなかった。
【0017】この触媒を空気/窒素=1/20の混合ガ
スで、500℃にて再生し、同様にして200時間反応
させた。この反応/再生操作を5回繰り返した後、上記
反応条件で20時間反応させたところ、フェノール転化
率は94%、フェノール選択率は96%であった。。こ
のときの触媒の破壊強度は4.8kg/cm2であり、殆ど強
度は低下していなかった。
スで、500℃にて再生し、同様にして200時間反応
させた。この反応/再生操作を5回繰り返した後、上記
反応条件で20時間反応させたところ、フェノール転化
率は94%、フェノール選択率は96%であった。。こ
のときの触媒の破壊強度は4.8kg/cm2であり、殆ど強
度は低下していなかった。
【0018】比較例1 (触媒の調製)実施例1と同様にして造粒した球状物を
80〜120℃で乾燥させた後、こう鉢に入れてガス焼
成炉で徐々に加熱し、250℃から600℃まで特にゆ
るやかに昇温するように加熱し、1250℃まで昇温さ
せ、この温度で、二酸化炭素4%、酸素10%、残りは
窒素と水蒸気からなる雰囲気で、3時間保持し、粒子径
が4.5mmのマンガン酸化物からなる触媒を得た。
80〜120℃で乾燥させた後、こう鉢に入れてガス焼
成炉で徐々に加熱し、250℃から600℃まで特にゆ
るやかに昇温するように加熱し、1250℃まで昇温さ
せ、この温度で、二酸化炭素4%、酸素10%、残りは
窒素と水蒸気からなる雰囲気で、3時間保持し、粒子径
が4.5mmのマンガン酸化物からなる触媒を得た。
【0019】(アルキル化反応)上記で得られた触媒6
6mlを、SUS−304製反応管に充填し、実施例1
と同様に反応を行った。20時間後のフェノール転化率
は94%、フェノール選択率は98%であった。この反
応後の触媒の破壊強度は0.2kg/cm2であり、強度は極
めて低かった。更に、生成する2,6−キシレノールと
o−クレゾールのモル比を2に保つように反応温度を上
昇させながら更に反応を続けた。200時間後、フェノ
ール選択率は98%であった。この反応後の触媒の破壊
強度は0.1kg/cm2であり、強度は極めて低かった。こ
の触媒を空気/窒素=1/20の混合ガスで、500℃
にて再生し、同様にして200時間反応させた。この反
応/再生操作を5回繰り返した後、上記反応条件で20
時間反応させたところ、フェノール転化率は94%、フ
ェノール選択率は96%であった。このときの触媒の破
壊強度は0kg/cm2であり、強度は殆ど測定できなかっ
た。
6mlを、SUS−304製反応管に充填し、実施例1
と同様に反応を行った。20時間後のフェノール転化率
は94%、フェノール選択率は98%であった。この反
応後の触媒の破壊強度は0.2kg/cm2であり、強度は極
めて低かった。更に、生成する2,6−キシレノールと
o−クレゾールのモル比を2に保つように反応温度を上
昇させながら更に反応を続けた。200時間後、フェノ
ール選択率は98%であった。この反応後の触媒の破壊
強度は0.1kg/cm2であり、強度は極めて低かった。こ
の触媒を空気/窒素=1/20の混合ガスで、500℃
にて再生し、同様にして200時間反応させた。この反
応/再生操作を5回繰り返した後、上記反応条件で20
時間反応させたところ、フェノール転化率は94%、フ
ェノール選択率は96%であった。このときの触媒の破
壊強度は0kg/cm2であり、強度は殆ど測定できなかっ
た。
【0020】比較例2 (触媒の調製)実施例1と同様にして造粒した球状物を
80〜120℃で乾燥させた後、こう鉢に入れてガス焼
成炉で徐々に加熱し、250℃から600℃まで特にゆ
るやかに昇温するように加熱し、900℃まで昇温さ
せ、この温度で、一酸化炭素4%、水素3%,二酸化炭
素4%,酸素1%、残りは窒素と水蒸気からなる雰囲気
で、3時間保持し、粒子径が4.5mmのマンガン酸化
物からなる触媒を得た。
80〜120℃で乾燥させた後、こう鉢に入れてガス焼
成炉で徐々に加熱し、250℃から600℃まで特にゆ
るやかに昇温するように加熱し、900℃まで昇温さ
せ、この温度で、一酸化炭素4%、水素3%,二酸化炭
素4%,酸素1%、残りは窒素と水蒸気からなる雰囲気
で、3時間保持し、粒子径が4.5mmのマンガン酸化
物からなる触媒を得た。
【0021】(アルキル化反応)上記で得られた触媒6
6mlを、SUS−304製反応管に充填し、実施例1
と同様に反応を行った。20時間後のフェノール転化率
は94%であったが、その時のフェノール選択率は98
%であった。このときの触媒の破壊強度は測定できなか
った。
6mlを、SUS−304製反応管に充填し、実施例1
と同様に反応を行った。20時間後のフェノール転化率
は94%であったが、その時のフェノール選択率は98
%であった。このときの触媒の破壊強度は測定できなか
った。
Claims (1)
- 【請求項1】 オルト位に水素原子を有するフェノール
類と低級アルコールとをマンガン酸化物触媒の存在下に
反応させてオルトアルキルフェノールを製造する方法に
おいて、マンガン酸化物触媒を、0.1〜20容量%の
還元性ガスが存在する雰囲気下に、1000〜1500
℃の温度で焼成した後、反応に用いることを特徴とする
オルトアルキルフェノールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4182070A JPH0625041A (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | オルトアルキルフェノールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4182070A JPH0625041A (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | オルトアルキルフェノールの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625041A true JPH0625041A (ja) | 1994-02-01 |
Family
ID=16111828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4182070A Pending JPH0625041A (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | オルトアルキルフェノールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0625041A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6617476B2 (en) | 1999-12-15 | 2003-09-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing aromatic ring alkylated phenols |
| US7183883B2 (en) | 2004-07-30 | 2007-02-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | RF circuit component and RF circuit |
-
1992
- 1992-07-09 JP JP4182070A patent/JPH0625041A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6617476B2 (en) | 1999-12-15 | 2003-09-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing aromatic ring alkylated phenols |
| US7183883B2 (en) | 2004-07-30 | 2007-02-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | RF circuit component and RF circuit |
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