JPH06172036A - 窒化珪素粉末の製造方法 - Google Patents
窒化珪素粉末の製造方法Info
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- JPH06172036A JPH06172036A JP4350958A JP35095892A JPH06172036A JP H06172036 A JPH06172036 A JP H06172036A JP 4350958 A JP4350958 A JP 4350958A JP 35095892 A JP35095892 A JP 35095892A JP H06172036 A JPH06172036 A JP H06172036A
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- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 title claims description 31
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 3
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- -1 and moreover Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000009628 steelmaking Methods 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 不純物の混入が少なく高純度なβ−Si3 N
4 粉末を製造する方法を提供する。 【構成】 α−Si3 N4 粉末からなる原料をガス圧1
00atm以上の不活性ガス中、1800℃以上の温度
で加熱することによりβ−Si3 N4 粉末を製造する。
不純物の混入が少なく高純度なβ−Si3 N4 粉末を製
造することができる。
4 粉末を製造する方法を提供する。 【構成】 α−Si3 N4 粉末からなる原料をガス圧1
00atm以上の不活性ガス中、1800℃以上の温度
で加熱することによりβ−Si3 N4 粉末を製造する。
不純物の混入が少なく高純度なβ−Si3 N4 粉末を製
造することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、α−窒化珪素粉末を原
料としてβ−窒化珪素粉末を製造する方法に関するもの
である。
料としてβ−窒化珪素粉末を製造する方法に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】窒化珪素(Si3 N4 )質焼結体は、高
温強度、耐熱衝撃性、耐食性が優れているために、ガス
タービン部材、熱交換器材料、高温用ベアリングあるい
は製鋼用高温ロール材等の耐熱構造材料に使用されてい
る。
温強度、耐熱衝撃性、耐食性が優れているために、ガス
タービン部材、熱交換器材料、高温用ベアリングあるい
は製鋼用高温ロール材等の耐熱構造材料に使用されてい
る。
【0003】この窒化珪素質焼結体を製造する方法とし
ては、窒化珪素粉末に酸化アルミニウム(Al
2 O3 )、窒化アルミニウム(AlN)やイットリア
(Y2 O3 )等の焼結助剤を添加して原料を調製し、こ
の原料を焼成することが一般に行われている。この場
合、原料の窒化珪素粉末としてβ−窒化珪素粉末を用い
るとα−窒化珪素粉末を用いた場合に比べて、得られる
窒化珪素質焼結体の粒径および組織の制御がしやすく、
信頼性の高い焼結体を製造することができる。
ては、窒化珪素粉末に酸化アルミニウム(Al
2 O3 )、窒化アルミニウム(AlN)やイットリア
(Y2 O3 )等の焼結助剤を添加して原料を調製し、こ
の原料を焼成することが一般に行われている。この場
合、原料の窒化珪素粉末としてβ−窒化珪素粉末を用い
るとα−窒化珪素粉末を用いた場合に比べて、得られる
窒化珪素質焼結体の粒径および組織の制御がしやすく、
信頼性の高い焼結体を製造することができる。
【0004】従来、原料としてのβ−窒化珪素粉末を製
造する方法として、(A)Si粉末をN2 ガス中、14
50℃以上の高温で加熱してSiとNとを反応させてβ
−Si3 N4 を生成する方法、あるいは(B)SiO2
粉末をCとともにN2 ガス中で高温で反応させる方法が
ある。
造する方法として、(A)Si粉末をN2 ガス中、14
50℃以上の高温で加熱してSiとNとを反応させてβ
−Si3 N4 を生成する方法、あるいは(B)SiO2
粉末をCとともにN2 ガス中で高温で反応させる方法が
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記(A)の
方法では、合成反応が発熱反応であるため、反応の制御
が難しい。また、Si粉末は凝集しやすく、凝集すると
その表面は反応しやすく、内部は反応しにくくなる。そ
のため、一度反応させたものを粉砕し、再度反応を繰り
返す必要がある。従って、生成した窒化珪素粉末中には
α−窒化珪素が残りやすく、しかも粉砕時に不純物が混
入しやすくなり、高純度なβ−窒化珪素粉末は得られな
い。
方法では、合成反応が発熱反応であるため、反応の制御
が難しい。また、Si粉末は凝集しやすく、凝集すると
その表面は反応しやすく、内部は反応しにくくなる。そ
のため、一度反応させたものを粉砕し、再度反応を繰り
返す必要がある。従って、生成した窒化珪素粉末中には
α−窒化珪素が残りやすく、しかも粉砕時に不純物が混
入しやすくなり、高純度なβ−窒化珪素粉末は得られな
い。
【0006】また、(B)の方法では、SiO2 を高温
のN2 中においてC等により還元、窒化する方法である
が、Cが残留しやすく、また、SiCが一部生成するな
どして高純度なβ−窒化珪素粉末を得にくいという欠点
がある。
のN2 中においてC等により還元、窒化する方法である
が、Cが残留しやすく、また、SiCが一部生成するな
どして高純度なβ−窒化珪素粉末を得にくいという欠点
がある。
【0007】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みな
されたものであり、不純物の混入の少ない高純度なβ−
窒化珪素粉末を製造する方法を提供することを目的とす
る。
されたものであり、不純物の混入の少ない高純度なβ−
窒化珪素粉末を製造する方法を提供することを目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の窒化珪素粉末の
製造方法は、α−窒化珪素粉末をガス圧100atm以
上の不活性ガス中、1800℃以上の温度で加熱するこ
とによりβ−窒化珪素粉末を生成することを特徴とする
ものである。
製造方法は、α−窒化珪素粉末をガス圧100atm以
上の不活性ガス中、1800℃以上の温度で加熱するこ
とによりβ−窒化珪素粉末を生成することを特徴とする
ものである。
【0009】
【作用】本発明では、α−窒化珪素粉末から不純物の少
ない高純度なβ−窒化珪素粉末が得られる。このα−窒
化珪素の原料より高純度なβ−窒化珪素が得られる理由
は明確ではないが、以下のように考えられる。
ない高純度なβ−窒化珪素粉末が得られる。このα−窒
化珪素の原料より高純度なβ−窒化珪素が得られる理由
は明確ではないが、以下のように考えられる。
【0010】β−窒化珪素の比体積がα−窒化珪素の比
体積よりも小さいため、高圧の条件ではα−窒化珪素か
らβ−窒化珪素への変態が促進されるものと考えられ
る。
体積よりも小さいため、高圧の条件ではα−窒化珪素か
らβ−窒化珪素への変態が促進されるものと考えられ
る。
【0011】また、本発明では、従来技術のように反応
のための加熱を繰り返さないため、外部からの不純物が
混入することがない。
のための加熱を繰り返さないため、外部からの不純物が
混入することがない。
【0012】
【発明の効果】本発明は、不純物の混入の少ない高純度
なβ−窒化珪素粉末を製造することができる。
なβ−窒化珪素粉末を製造することができる。
【0013】
【実施例】以下、本発明をより具体的にした具体例を説
明する。
明する。
【0014】(具体例)本発明の窒化珪素(Si
3 N4 )粉末の製造方法は、原料であるα−Si3 N4
粉末をガス圧100atm以上の不活性ガス中、180
0℃以上の温度で加熱することによりβ−Si3 N4 粉
末を生成する。
3 N4 )粉末の製造方法は、原料であるα−Si3 N4
粉末をガス圧100atm以上の不活性ガス中、180
0℃以上の温度で加熱することによりβ−Si3 N4 粉
末を生成する。
【0015】α−Si3 N4 粉末は原料となるものであ
り、高純度なものがよい。また、その粒径は小さい方が
α−Si3 N4 からβ−Si3 N4 への変態が起こりや
すい。そのため、望ましくは平均粒径が0.5μm以下
のものがよい。
り、高純度なものがよい。また、その粒径は小さい方が
α−Si3 N4 からβ−Si3 N4 への変態が起こりや
すい。そのため、望ましくは平均粒径が0.5μm以下
のものがよい。
【0016】また、原料であるα−Si3 N4 粉末を加
熱する条件としては、ガス圧100atm以上の不活性
ガス中、1800℃以上の温度で加熱する。温度が18
00℃以上、ガス圧が100atm以上でないと、α−
Si3 N4 がβ−Si3 N4へ変態する速度が著しく低
下し、α−Si3 N4 が残存して高純度なβ−Si3N
4 粉末が得られない。また、加熱温度の上限としては2
300℃が望ましい。2300℃を越えると粒子が凝集
したり、粒子が分解することがある。また、不活性ガス
としては、N2 、Ar等のガスを使用できるが、Si3
N4 の熱分解を抑制するためにN2 ガスを用いるのがよ
い。加熱時間としては、原料のα−Si3 N4 粉末の量
にもよるが、1〜10時間の範囲が望ましい。加熱時間
が短いとα−Si3 N4 が残存しやすく、また10時間
を越えると生成したβ−Si3 N4 粉末の凝集が生じ
る。そのため粉砕する必要が生じるため、好ましくな
い。
熱する条件としては、ガス圧100atm以上の不活性
ガス中、1800℃以上の温度で加熱する。温度が18
00℃以上、ガス圧が100atm以上でないと、α−
Si3 N4 がβ−Si3 N4へ変態する速度が著しく低
下し、α−Si3 N4 が残存して高純度なβ−Si3N
4 粉末が得られない。また、加熱温度の上限としては2
300℃が望ましい。2300℃を越えると粒子が凝集
したり、粒子が分解することがある。また、不活性ガス
としては、N2 、Ar等のガスを使用できるが、Si3
N4 の熱分解を抑制するためにN2 ガスを用いるのがよ
い。加熱時間としては、原料のα−Si3 N4 粉末の量
にもよるが、1〜10時間の範囲が望ましい。加熱時間
が短いとα−Si3 N4 が残存しやすく、また10時間
を越えると生成したβ−Si3 N4 粉末の凝集が生じ
る。そのため粉砕する必要が生じるため、好ましくな
い。
【0017】上記の加熱後、粉末を冷却する。この時、
冷却における条件は特に限定しなくてもよく、通常の炉
冷で十分である。
冷却における条件は特に限定しなくてもよく、通常の炉
冷で十分である。
【0018】以下、本発明の実施例を説明する。
【0019】(実施例)イミド熱分解法により調製した
高純度α−Si3 N4 粉末(平均粒径0.2μm、純度
99.5%以上)を1800〜2000℃の温度、ガス
圧300〜2000atmのN2 ガス中で2〜8時間加
熱した(表1の試料No.1〜10)。また、比較のた
め、加熱温度を1800℃未満、あるいはガス圧を10
0atm未満にして上記α−Si3 N4 粉末を加熱した
(表1の試料No.C1〜C5)。
高純度α−Si3 N4 粉末(平均粒径0.2μm、純度
99.5%以上)を1800〜2000℃の温度、ガス
圧300〜2000atmのN2 ガス中で2〜8時間加
熱した(表1の試料No.1〜10)。また、比較のた
め、加熱温度を1800℃未満、あるいはガス圧を10
0atm未満にして上記α−Si3 N4 粉末を加熱した
(表1の試料No.C1〜C5)。
【0020】冷却後、得られた粉末についてX線回折法
によりβ−Si3 N4 の存在割合を求めた。その結果を
表1に示す。また、表1に示されているガス圧を200
0atm一定にした試料No.1、3、7、C4、C5
についてβ−Si3 N4 の存在割合の変化を図1に示す
(なお、加熱時間は異なる)。また、表1に示されてい
る加熱温度を2000℃一定にした試料No.7〜1
0、C3についてβ−Si3 N4 の存在割合の変化を図
2に示す(なお、加熱時間は異なる)。
によりβ−Si3 N4 の存在割合を求めた。その結果を
表1に示す。また、表1に示されているガス圧を200
0atm一定にした試料No.1、3、7、C4、C5
についてβ−Si3 N4 の存在割合の変化を図1に示す
(なお、加熱時間は異なる)。また、表1に示されてい
る加熱温度を2000℃一定にした試料No.7〜1
0、C3についてβ−Si3 N4 の存在割合の変化を図
2に示す(なお、加熱時間は異なる)。
【0021】
【表1】
【0022】表1、図1、図2より明らかなように、本
実施例の方が比較例よりも高純度なβ−Si3 N4 粉末
を製造できることが分かる。
実施例の方が比較例よりも高純度なβ−Si3 N4 粉末
を製造できることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例および比較例における加熱温度とβ−S
i3 N4 の存在割合との関係を示す線図
i3 N4 の存在割合との関係を示す線図
【図2】実施例および比較例におけるガス圧とβ−Si
3 N4 の存在割合との関係を示す線図
3 N4 の存在割合との関係を示す線図
Claims (1)
- 【請求項1】 α−窒化珪素粉末をガス圧100atm
以上の不活性ガス中、1800℃以上の温度で加熱する
ことによりβ−窒化珪素粉末を生成することを特徴とす
る窒化珪素粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4350958A JPH06172036A (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 窒化珪素粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4350958A JPH06172036A (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 窒化珪素粉末の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06172036A true JPH06172036A (ja) | 1994-06-21 |
Family
ID=18414072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4350958A Pending JPH06172036A (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 窒化珪素粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06172036A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009017206A1 (ja) * | 2007-08-01 | 2009-02-05 | Mitsubishi Chemical Corporation | 蛍光体及びその製造方法、結晶性窒化珪素及びその製造方法、蛍光体含有組成物、並びに、該蛍光体を用いた発光装置、画像表示装置及び照明装置 |
| JP2009263201A (ja) * | 2007-08-01 | 2009-11-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 結晶性窒化珪素及びその製造方法、並びに、それを用いた蛍光体、該蛍光体含有組成物、発光装置、照明装置、画像表示装置、焼結体及び顔料 |
-
1992
- 1992-12-04 JP JP4350958A patent/JPH06172036A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009017206A1 (ja) * | 2007-08-01 | 2009-02-05 | Mitsubishi Chemical Corporation | 蛍光体及びその製造方法、結晶性窒化珪素及びその製造方法、蛍光体含有組成物、並びに、該蛍光体を用いた発光装置、画像表示装置及び照明装置 |
| JP2009263201A (ja) * | 2007-08-01 | 2009-11-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 結晶性窒化珪素及びその製造方法、並びに、それを用いた蛍光体、該蛍光体含有組成物、発光装置、照明装置、画像表示装置、焼結体及び顔料 |
| JP2009263610A (ja) * | 2007-08-01 | 2009-11-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 蛍光体及びその製造方法、結晶性窒化珪素及びその製造方法、蛍光体含有組成物、並びに、該蛍光体を用いた発光装置、画像表示装置及び照明装置 |
| EP2180031A4 (en) * | 2007-08-01 | 2011-05-25 | Mitsubishi Chem Corp | PHOSPHORUS AND METHOD OF PREPARATION THEREOF, CRYSTALLINE SILICONIUM NITRIDE AND METHOD OF PRODUCTION THEREOF, PHOSPHORUS COMPOSITION, LIGHT-EMITTING COMPONENT WITH THE PHOSPHORIC, IMAGE DISPLAY DEVICE AND LIGHTING APPARATUS |
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