JPH06162817A - 導電性微粒子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 （ａ）粒径精度に優れている、（ｂ）電気欠
損がない、（ｃ）高強度、高硬度である、（ｄ）凝集が
ないなどの利点を有する新規な導電性微粒子を提供す
る。 【構成】 金属酸化物からなる球形粒子と、この球形粒
子表面に形成された、部分還元酸化チタン及び／又は窒
化チタンを含む被覆層とを有することを特徴とする導電
性微粒子。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、異方導電膜等に利用可
能な導電性微粒子及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来導電
性微粒子としては樹脂ビーズの表面にニッケルや金など
の金属をメッキ処理したものがあったが、これらは次の
ような問題点を抱えていた。すなわち、 導電性微粒子の粒径精度はその母粒子である樹脂ビー
ズの粒径精度に大きく影響されるが、一般に樹脂ビーズ
の粒径精度は悪く、結果的に得られた導電性微粒子の粒
径精度も悪い。 メッキ工程中に母粒子である樹脂ビーズの凝集が多く
発生し、そのためメッキ後に得られた導電性微粒子を使
用する際に、その凝集部分が解砕されると、凝集部分が
メッキ不完全であるため導通不良を生じることがある。 樹脂ビーズの硬度及び強度が不足しているため、より
高強度・高硬度を求められる用途には樹脂ビーズを母粒
子とする導電性微粒子は使用できない。

【０００３】また、導電性微粒子としてニッケル等の金
属微粒子それ自体が用いられることもあるが、これらは
凝集しやすく、端子間の絶縁性を維持できないことが多
い。さらに、金属酸化物の微粒子にニッケル及び／又は
金等をメッキ処理した導電性微粒子も提案されている
が、これらも凝集しやすく、また母粒子と被覆金属との
接着性が悪いため、解砕や混練工程中に被覆金属部分が
脱落し、導電性が著しく低下することがある。

【０００４】従って本発明の目的は、上記従来の導電性
微粒子及びその製造方法の欠点を解消し、（ａ）粒径精
度に優れている、（ｂ）電気欠損がない、（ｃ）高強
度、高硬度である、（ｄ）凝集がないなどの利点を有す
る新規な導電性微粒子及びその製造方法を提供すること
にある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の導電性微粒子は、金属酸化物からなる球形
粒子と、この球形粒子表面に形成された、部分還元酸化
チタン及び／又は窒化チタンを含む被覆層とを有するこ
とを特徴とする。

【０００６】また上記目的を達成するために、本発明の
導電性微粒子の製造方法は、 （１）金属酸化物からなる球形粒子を中級アルコールを
主体とするアルコール系溶媒に分散して球形粒子の分散
液を得る工程； （２）前記分散液にアルカリ水溶液を添加して金属酸化
物球形粒子の表面を活性化処理する工程； （３）前記活性化処理後の分散液に、酸化チタンを形成
し得るチタン化合物を添加し、加水分解して、前記球形
粒子の表面に酸化チタン被覆層を形成する工程；および （４）前記酸化チタン被覆層を還元性及び／又は窒化雰
囲気下で焼成して、還元及び／又は窒化し、導電性を有
する部分還元酸化チタン及び／又は窒化チタンを含む被
覆層を形成する工程を含むことを特徴とする。

【０００７】先ず本発明の導電性微粒子について説明す
る。本発明の導電性微粒子は、金属酸化物からなる球形
粒子と、この球形粒子表面に形成された、部分還元酸化
チタン及び／又は窒化チタンを含む被覆層とを有するも
のである。本発明の導電性微粒子において、母粒子であ
る球形粒子を構成する材料は金属酸化物である。金属酸
化物としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニ
ア、酸化バリウム、酸化鉄、酸化コバルト、酸化クロ
ム、酸化バナジウム、酸化ハフニウム、酸化マグネシウ
ム、酸化ストロンチウムなど種々のものが挙げられる
が、特にシリカが好ましい。その理由は、シリカ微粒子
はシリコンアルコキシドをアンモニア水溶液中で加水分
解することにより得られ、粒径分布がシャープであり、
かつ強度、硬度が高いなどの特長を有しているからであ
る。金属酸化物からなる球形粒子の粒径は、導電性微粒
子の用途によって異なるが、一般に０．５〜３０μｍの
範囲である。

【０００８】本発明の導電性粒子においては、上記の金
属酸化物からなる球形粒子の表面に部分還元酸化チタン
及び／又は窒化チタンを含む被覆層が形成されている。
被覆層を構成する酸化チタンは、二酸化チタン（ＴｉＯ
₂ ）が部分的に還元された酸化チタンであり、ＴｉＯ_n
（１．５＜ｎ＜２）によって示される。ＴｉＯ_n におけ
るｎの値は、被覆層を導電性にする上からは小さい方が
良いが、後述するように、予め形成されたＴｉＯ₂ 層を
還元して化学量論的に酸素が不足しているＴｉＯ_n 層を
形成する場合には、還元時間などの還元条件の関係でｎ
の値は、通常１．６〜１．９程度である。本発明者は、
ｎの数が１．６〜１．９でもＴｉＯ_n 層は十分な導電性
を有することを確認している。

【０００９】本発明の導電性微粒子において、被覆層を
部分還元酸化チタンの代りに窒化チタンによって構成し
ても良く、また前記部分還元酸化チタンと窒化チタンと
によって構成しても良い。被覆層の膜厚は、導電性微粒
子に求められる導電性の程度、母粒子の金属酸化物球形
粒子との密着性、強度などを考慮して適宜決定される
が、通常は０．０１〜１μｍである。

【００１０】本発明の導電性微粒子は、上記のように金
属酸化物からなる球形粒子と、部分還元酸化チタン及び
／又は窒化チタンを含む被覆層とによって構成されてい
るため、後述の実施例によっても実証されるように、
（ａ）粒径精度に優れている、（ｂ）電気欠損がない、
（ｃ）高強度、高硬度である、（ｄ）凝集がないなどの
利点を有する。

【００１１】上記の本発明の導電性微粒子は、種々の方
法で製造することが可能であるが、特に下記の工程を含
む本発明の導電性微粒子の製造方法によって製造するの
が好ましい。 （１）金属酸化物からなる球形粒子を中級アルコールを
主体とするアルコール系溶媒に分散して球形粒子の分散
液を得る工程； （２）前記分散液にアルカリ水溶液を添加して金属酸化
物球形粒子の表面を活性化処理する工程； （３）前記活性化処理後の分散液に、酸化チタンを形成
し得るチタン化合物を添加し、加水分解して、前記球形
粒子の表面に酸化チタン被覆層を形成する工程；および （４）前記酸化チタン被覆層を還元性及び／又は窒化雰
囲気下で焼成して、還元及び／又は窒化し、導電性を有
する部分還元酸化チタン及び／又は窒化チタンを含む被
覆層を形成する工程。

【００１２】工程（１）は金属酸化物からなる球形粒子
を中級アルコールを主体とするアルコール系溶媒に分散
して球形粒子の分散液を得る工程である。この工程
（１）において用いられる球形粒子は、一般に０．５〜
３０μｍの範囲の粒径を有するものが好ましい。また球
形粒子を構成する金属酸化物微粒子としては、シリカ、
チタニア、ジルコニア、酸化バリウム、酸化鉄、酸化コ
バルト、酸化クロム、酸化バナジウム、酸化ハフニウ
ム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウムなどの微粒
子が挙げられるが、粒径精度、強度、硬度の点でシリカ
微粒子を用いるのが特に好ましい。シリカ微粒子は、シ
リコンアルコキシドを水、アンモニアおよびアルコール
からなる反応液中において加水分解および重縮合させる
ことにより製造される。この段階の未焼成シリカ粒子
は、シラノール基が多く、かつ有機物、水、アンモニア
もかなり残存しており、強度、硬度も低い。この未焼成
シリカ粒子を５００〜１２００℃で焼成するとシラノー
ル基、有機物、水、アンモニアが殆んど残存しない焼成
シリカ粒子となり、強度、硬度が増加する。本発明の方
法においては、これら２種のシリカ微粒子のいずれも使
用できるが、異方導電膜の用途等に用いる場合には、強
度、硬度が未焼成シリカ粒子よりも高いなどの点から焼
成シリカ粒子を用いるのが特に好ましい。

【００１３】工程（１）においては、上記球形粒子をア
ルコール系溶媒に分散させて球形粒子の分散液を得る
が、用いられるアルコール系溶媒は、ブタノール、ペン
タノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノー
ル、ノナノール、デカノールなどの炭素数４〜１０の中
級アルコールに限定される。その理由は、これらの中級
アルコールを用いると、後記工程（３）において形成さ
れる酸化チタン被覆層の膜厚が厚くなることが明らかと
なっているからである。これらの中級アルコールは直鎖
のもの及び分岐のもののいずれでもよい。しかし、上記
の中級アルコールとともに、メタノール、エタノール、
プロパノールなどの低級アルコールもしくは親水性の有
機溶媒、例えばアセトニトリル、ＴＨＦ、ＤＭＦ、ＤＭ
ＳＯ等を全アルコールに対して少量（例えば２０ｖｏｌ
％未満）添加することもできる。

【００１４】次に、工程（２）は、前記工程（１）で得
られた球形粒子の分散液にアルカリ水溶液を添加して金
属酸化物球形粒子の表面を活性化処理する工程である。
この活性化処理は、アルカリが金属酸化物球状粒子の表
面に作用することにより、同表面のシラノール基からの
プロトン脱離を促進するための処理であり、この活性化
処理を行なうことにより、後記の工程（３）において形
成される酸化チタン被覆層と金属酸化物球状粒子との密
着性、ひいては後記の工程（４）において形成される部
分還元酸化チタン及び／又は窒化チタンを含む被覆層と
金属酸化物球状粒子との密着性が向上し、被覆層の剥離
や割れが防止される。特に球状粒子としてシリカを用い
た場合、シリカ球状粒子と、その表面に形成される酸化
チタン層とは、シリカと酸化チタンとの収縮率の差が大
きいため、焼成処理により、被覆層の剥離や割れの問題
が懸念されたが、本発明の方法において活性化処理によ
り、これらの問題を解決したことは特筆すべきことであ
る。

【００１５】この活性化処理に用いられるアルカリ水溶
液としては、アンモニア、アルカリ金属水酸化物、アル
カリ土類金属水酸化物、アルカリ金属塩、アルカリ土類
金属塩などのアルカリの水溶液が用いられるが、特にア
ンモニア水溶液を用いるのが好ましい。

【００１６】次に、工程（３）は、前記工程（２）を経
た分散液に酸化チタンを形成し得るチタン化合物を添加
し、加水分解して、前記球形粒子の表面に式ＴｉＯ₂ で
示される酸化チタン（化学量論量のチタンと酸素からな
る酸化チタン）の被覆層を形成する工程である。この工
程（３）で用いられる、酸化チタンを形成し得るチタン
化合物としては、一般式 Ｔｉ（ＯＲ）₄ 又はＴｉ（Ｒ′）_n （ＯＲ）_4-n （式中、ＲおよびＲ′はアルキル基、特に炭素数１〜５
のアルキル基であり、ｎは１〜３の整数である）で示さ
れるチタンアルコキシド、又はこれらの部分加水分解物
が挙げられる。ＲおよびＲ′の具体例は、メチル基、エ
チル基、直鎖又は分岐プロピル基、直鎖又は分岐ブチル
基、直鎖又は分岐ペンチル基である。分散液中に添加さ
れたこれらのチタン化合物は、いわゆるゾルゲル法によ
り加水分解され、球形粒子の表面に酸化チタン層が形成
される。形成される酸化チタン層の膜厚は、目的物の導
電性粒子において要求される導電性被覆層の膜厚に応じ
て適宜決定されるが、通常は０．０１〜１μｍである。
本発明の方法によれば、前述したように工程（１）にお
いてアルコール溶媒として、炭素数４〜１０の中級アル
コールを用いることにより、酸化チタン層の膜厚を厚く
することができるという利点がある。

【００１７】次に、工程（４）は前記工程（３）で形成
された酸化チタン被覆層を還元性及び／又は窒化雰囲気
で焼成して、還元及び／又は窒化し、部分還元酸化チタ
ン及び／又は窒化チタンを含む被覆層を形成する工程で
ある。この工程（４）において、還元性雰囲気は水素ガ
スなどの還元性ガスを用いることにより、また窒化雰囲
気は窒素ガスなどの窒化ガスを用いることにより達成さ
れる。また還元性及び窒化雰囲気は還元性ガスでもあ
り、窒化ガスでもあるアンモニアガスを用いることによ
り、又は水素ガスと窒素ガスとを併用することにより達
成される。焼成は、通常高温炉中で行なわれ、その温度
は通常８００〜１，０００℃の範囲である。この還元性
及び／又は窒化雰囲気での焼成処理により、酸化チタン
被覆層は、式ＴｉＯ_n （１．５＜ｎ＜２）で示される部
分還元酸化チタン及び／又は窒化チタンとに転化され、
金属酸化物球状粒子の表面に導電性被覆層を有する導電
性微粒子が得られる。好ましいｎの値は前述のように
１．６〜１．９である。

【００１８】本発明の方法により得られた導電性微粒子
は、（ｉ）粒径分布のシャープな金属酸化物微粒子を母
粒子として用い、その上に均一な導電性被覆層が設けら
れているので粒径精度に優れている、（ii）被覆層が導
電性に優れた部分還元酸化チタンと窒化チタンを含むの
で、導電性微粒子も導電性に優れ、電気欠損がない、(i
ii）金属酸化物球状粒子及び部分還元酸化チタン及び／
又は窒化チタンとを含む被覆層はいずれも高強度、高硬
度であるので、導電性微粒子も高強度、高硬度である、
（iv）単分散性に優れた金属酸化物球形粒子の表面に、
凝集を起すことなく導電性被覆層を形成することができ
るので、得られた導電性微粒子も凝集していない、
（ｖ）金属酸化物球状粒子と被覆層との密着性に優れ、
被覆層の剥離や割れなどの問題がない等の顕著な利点を
有する。

【００１９】

【実施例】以下実施例により本発明を更に説明する。

【００２０】実施例１工程（１） 金属酸化物からなる球状粒子として、平均粒子径が６．
０７μｍの単分散シリカ微粒子を用い、アルコール系溶
媒としてｎ−ブタノールを用いて、シリカ微粒子１１．
４６ｇをｎ−ブタノール１４０ｍｌに添加し、３０分間
超音波照射を行なってシリカ微粒子の分散液を得た。

【００２１】工程（２） 得られたシリカ微粒子の分散液に２５％アンモニア水
０．５ｇを滴下混合し３０℃で３０分間撹拌することに
よりシリカ微粒子の表面を活性化処理した。

【００２２】工程（３） 酸化チタンを形成し得るチタン化合物として、チタンテ
トラブトキシドを用い、このチタンテトラブトキシド
５．４５ｇをｎ−ブタノール２０ｍｌに溶解した溶液を
前記工程（２）を経た分散液に１０分かけて滴下混合
し、３０℃で１時間撹拌した。その後、０．５％アンモ
ニア水８．１４ｇを２−プロパノール２０ｍｌに溶解し
た溶液を３０分かけて加えた後、反応系を６０℃に昇温
して１２時間撹拌して、チタンテトラブトキシドの加水
分解反応を終了させた。反応終了後、反応液を静置して
粒子を沈降させた後、デカンテーションにより上澄み液
を取り除いた。さらにメタノール、水の順でデカンテー
ションを繰り返した後、凍結乾燥を行なって、酸化チタ
ン（ＴｉＯ₂ ）の被覆層を有するシリカ微粒子を得た。

【００２３】工程（４） 凍結乾燥された酸化チタン被覆層付きシリカ微粒子を石
英ガラス製のボートに入れ、これを石英チューブからな
る炉芯管内に設置し、窒素ガスによって炉芯管内の酸素
をパージした。次いで２００℃／ｈｒの昇温速度で昇温
し、５００℃に達した時点で液化アンモニアボンベから
アンモニアガスを２５０ｍｌ／ｍｉｎの流速で導入しな
がら８５０℃まで昇温し、この温度で６時間保持し、還
元及び窒化処理を終了させ、部分還元酸化チタンと窒化
チタンからなる被覆層を形成し、かくして目的とする導
電性微粒子を得た。

【００２４】得られた導電性微粒子は母粒子であるシリ
カ微粒子の単分散性を維持していた。得られた導電性微
粒子について電導度を測定したところ、５０．０Ｓ／ｃ
ｍと殆んど金属と同様の導電性を示し、この導電性微粒
子を用いて異方導電膜を作製したところ、優れた異方導
電性を示した。

【００２５】またＸ線光電分光法（ＸＰＳ又はＥＳＣ
Ａ）により、被覆層の組成を求めた。Ｘ線光電分光分析
の条件は以下のとおりである。 機種名 ：アルバック・ファイ（株）製 ＥＳＣＡ−
５４００ 真空度 ：３〜５×１０^-9Ｐａ Ｘ線源 ：ＭｇＫα（１２５３．６ｅＶ） 分析面積 ：１．１mmφ 光電子取込み時間 ：１．０〜１０．０min/element スパッタリング処理 ：なし パスエネルギー ：１７８．９５ｅＶ その結果、部分還元酸化チタンＴｉＯ_n におけるｎの平
均値は１．７５であり、ＴｉＯ_1.75とＴｉＮとが約７０
％と約３０％の割合で存在することが明らかとなった。
また被覆層の膜厚は、電子顕微鏡により被覆前後の粒径
を測定した結果０．０５μｍであることが明らかとなっ
た。

【００２６】さらに、本実施例で得られた導電性微粒子
を顕微鏡（２５００倍）観察した結果、被覆層の剥離や
割れは認められなかった。

【００２７】実施例２ 本実施例は、中級アルコール系溶媒として、実施例１で
用いたｎ−ブタノールの代りにｔ−アミルアルコール
（２−メチル−２−ブタノール）を用いた実施例であ
り、以下にその詳細を示す。

【００２８】工程（１） 金属酸化物からなる球状粒子として、平均粒子径が６．
７７μｍの単分散シリカ微粒子を用い、中級アルコール
系溶媒としてｔ−アミルアルコールを用いて、シリカ微
粒子６．３１ｇをｔ−アミルアルコール１４０ｍｌに添
加し、３０分間超音波照射を行なってシリカ微粒子の分
散液を得た。

【００２９】工程（２） 得られたシリカ微粒子の分散液に２５％アンモニア水
０．３０ｇを滴下混合し３０℃で３０分間撹拌すること
によりシリカ微粒子の表面を活性化処理した。

【００３０】工程（３） 酸化チタンを形成し得るチタン化合物として、チタンテ
トラブトキシドを用い、このチタンテトラブトキシド
５．４５ｇをｔ−アミルアルコール２０ｍｌに溶解した
溶液を前記工程（２）を経た分散液に１０分かけて滴下
混合し、３０℃で１時間撹拌した。その後、０．５％ア
ンモニア水８．３４ｇを２−プロピルアルコール２０ｍ
ｌに溶解した溶液を３０分かけて加えた後、反応系を６
０℃に昇温して１２時間撹拌して、チタンテトラブトキ
シドの加水分解反応を終了させた。反応終了後、反応液
を静置して粒子を沈降させた後、デカンテーションによ
り上澄み液を取り除いた。さらにメタノール、水の順で
デカンテーションを繰り返した後、凍結乾燥を行なっ
て、酸化チタン（ＴｉＯ₂ ）の被覆層を有するシリカ微
粒子を得た。

【００３１】工程（４） 凍結乾燥された酸化チタン被覆層付きシリカ微粒子を石
英ガラス製のボートに入れ、これを石英チューブからな
る炉芯管内に設置し、窒素ガスによって炉芯管内の酸素
をパージした。次いで２００℃／ｈｒの昇温速度で昇温
し、５００℃に達した時点で液化アンモニアボンベから
アンモニアガスを２５０ｍｌ／ｍｉｎの流速で導入しな
がら８５０℃まで昇温し、この温度で４時間保持し、還
元及び窒化処理を終了させ、部分還元酸化チタンと窒化
チタンからなる被覆層を形成し、かくして目的とする導
電性微粒子を得た。

【００３２】得られた導電性微粒子は母粒子であるシリ
カ微粒子の単分散性を維持していた。得られた導電性微
粒子について電導度を測定したところ、５０．０Ｓ／ｃ
ｍと殆んど金属と同様の導電性を示し、この導電性微粒
子を用いて異方導電膜を作製したところ、優れた異方導
電性を示した。

【００３３】またＸ線光電分光法（ＸＰＳ又はＥＳＣ
Ａ）により、被覆層の組成を求めたところ、実施例１と
ほぼ同様の結果が得られた。また被覆層の膜厚は、０．
０５μｍであった。さらに、本実施例で得られた導電性
微粒子を顕微鏡（２５００倍）観察した結果、被覆層の
剥離や割れは認められなかった。

【００３４】比較例１ 本比較例はアルコール系溶媒として、本発明に規定され
た中級アルコールに含まれないメタノールを用いた比較
例であり、以下にその詳細を示す。金属酸化物からなる
球状粒子として、平均粒子径が３．０４μｍの単分散シ
リカ微粒子を用い、アルコール系溶媒としてメタノール
を用いて、シリカ微粒子１０．０ｇをメタノール１００
ｇに添加し、１０分間超音波照射を行なってシリカ微粒
子の分散液を得た。得られたシリカ微粒子の分散液に２
８％アンモニア水２０ｇを添加混合した。

【００３５】酸化チタンを形成し得るチタン化合物とし
て、チタンテトライソプロポキシドを用い、このチタン
テトライソプロポキシド２．４ｇをメタノール７０ｇに
溶解した溶液を、３０℃に保った前記の分散液に添加混
合し、撹拌した。数時間撹拌後、反応液を静置して粒子
を沈降させた後、デカンテーションにより上澄み液を取
り除いた。さらにメタノール、水の順でデカンテーショ
ンを繰り返した後、凍結乾燥を行なって、酸化チタン
（ＴｉＯ₂ ）の被覆層を有するシリカ微粒子を得た。

【００３６】凍結乾燥された酸化チタン被覆層付きシリ
カ微粒子を石英ガラス製のボートに入れ、これを石英チ
ューブからなる炉芯管内に設置し、窒素ガスによって炉
芯管内の酸素をパージした。次いで２００℃／ｈｒの昇
温速度で昇温し、５００℃に達した時点で液化アンモニ
アボンベからアンモニアガスを２５０ｍｌ／ｍｉｎの流
速で導入しながら８５０℃まで昇温し、この温度で６時
間保持し、還元及び窒化処理を終了させ、部分還元酸化
チタンと窒化チタンからなる被覆層を形成し、導電性微
粒子を得た。

【００３７】得られた導電性微粒子は母粒子であるシリ
カ微粒子の単分散性を維持していた。得られた導電性微
粒子について電導度を測定したところ、０．１２Ｓ／ｃ
ｍと低い値を示し、この導電性微粒子を用いて異方導電
膜を作製したところ、異方導電性を示したが不十分な性
能であった。また被覆層の膜厚は、０．００１８μｍと
極めて薄かった。

【００３８】比較例２ 実施例１の工程（１），（２）および（３）を経て得ら
れた、酸化チタン（ＴｉＯ₂ ）被覆層付き乾燥シリカ微
粒子を酸素雰囲気で焼成した。すなわち、酸化チタン被
覆層付きシリカ微粒子を石英ガラス製のボートに入れ、
これを石英チューブからなる炉芯管内に設置し、酸素雰
囲気で毎時２００℃の昇温速度で８００℃まで昇温して
この温度で４時間保持し、焼成を行った。得られた被覆
層付きシリカ微粒子の電導度を測定したところ、５．６
９×１０^-12 Ｓ／ｃｍと絶縁性を示し異方導電膜を作製
することは不可能であった。

【００３９】

【発明の効果】本発明によれば、（ａ）粒径精度に優れ
ている、（ｂ）電気欠損がない、（ｃ）高強度、高硬度
である、（ｄ）凝集がないなどの利点を有する新規な導
電性微粒子及びその製造方法が提供された。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阪井 和彦 岐阜県岐阜市薮田西２丁目１番１号 宇部 日東化成株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 金属酸化物からなる球形粒子と、この球
   形粒子表面に形成された、部分還元酸化チタン及び／又
   は窒化チタンを含む被覆層とを有することを特徴とする
   導電性微粒子。
2. 【請求項２】 （１）金属酸化物からなる球形粒子を中
   級アルコールを主体とするアルコール系溶媒に分散して
   球形粒子の分散液を得る工程； （２）前記分散液にアルカリ水溶液を添加して金属酸化
   物球形粒子の表面を活性化処理する工程； （３）前記活性化処理後の分散液に、酸化チタンを形成
   し得るチタン化合物を添加し、加水分解して、前記球形
   粒子の表面に酸化チタン被覆層を形成する工程；および （４）前記酸化チタン被覆層を還元性及び／又は窒化雰
   囲気下で焼成して、還元及び／又は窒化し、導電性を有
   する部分還元酸化チタン及び／又は窒化チタンを含む被
   覆層を形成する工程を含むことを特徴とする導電性微粒
   子の製造方法。