JPH0616754A - 樹脂組成物、透過型スクリーン用樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents
樹脂組成物、透過型スクリーン用樹脂組成物及びその硬化物Info
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Landscapes
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】高屈折率で、離型性、型再現性、復元性に優れ
た硬化物を与える透過型スクリーン用紫外線硬化型樹脂
組成物を提供する。 【構成】ウレタン(メタ)アクリレート及び/又はエポ
キシ(メタ)アクリレート(A)、特定の構造で表され
る化合物(B)、(A)及び(B)成分以外のエチン性
不飽和基含有化合物(C)並びに光重合開始剤(D)を
含むことを特徴とする樹脂組成物及びその硬化物。
た硬化物を与える透過型スクリーン用紫外線硬化型樹脂
組成物を提供する。 【構成】ウレタン(メタ)アクリレート及び/又はエポ
キシ(メタ)アクリレート(A)、特定の構造で表され
る化合物(B)、(A)及び(B)成分以外のエチン性
不飽和基含有化合物(C)並びに光重合開始剤(D)を
含むことを特徴とする樹脂組成物及びその硬化物。
Description
【0001】本発明はビデオプロジェクター、プロジェ
クションテレビなどに使用するフレネルレンズ、レンチ
キュラーレンズなどの透過型スクリーンに適している紫
外線硬化型樹脂組成物及びその硬化物に関するものであ
る。
クションテレビなどに使用するフレネルレンズ、レンチ
キュラーレンズなどの透過型スクリーンに適している紫
外線硬化型樹脂組成物及びその硬化物に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のレンズはプレス法、キャ
スト法等の方法により成形されていた。前者のプレス法
は加熱、加圧、冷却のサイクルで製造するため生産性が
悪かった。又、後者のキャスト法は金型にモノマーを流
し込んで重合するため製作時間が長くかかるとともに金
型が多数個必要なため、製造コストが上がるという問題
があった。このような問題を解決するために、紫外線硬
化型樹脂組成物を使用することについて種々提案がなさ
れている。(例えば、特開昭61−177215、特開
昭61−248707、特開昭61−248708、特
開昭63−163330、特開昭63−167301、
特開昭63−199302、特開昭64−6935等参
照)
スト法等の方法により成形されていた。前者のプレス法
は加熱、加圧、冷却のサイクルで製造するため生産性が
悪かった。又、後者のキャスト法は金型にモノマーを流
し込んで重合するため製作時間が長くかかるとともに金
型が多数個必要なため、製造コストが上がるという問題
があった。このような問題を解決するために、紫外線硬
化型樹脂組成物を使用することについて種々提案がなさ
れている。(例えば、特開昭61−177215、特開
昭61−248707、特開昭61−248708、特
開昭63−163330、特開昭63−167301、
特開昭63−199302、特開昭64−6935等参
照)
【0003】
【発明が解決しようとする課題】これら紫外線硬化型樹
脂組成物を使用することによって透過型スクリーンを製
造する方法はある程度成功している。しかしながら、プ
ロジェクションテレビなどの薄型化の要求に対応した提
案はなされていない。
脂組成物を使用することによって透過型スクリーンを製
造する方法はある程度成功している。しかしながら、プ
ロジェクションテレビなどの薄型化の要求に対応した提
案はなされていない。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明者らが鋭意研究の結果、紫外線による硬化が
速く、又その硬化物が高屈折率で、軟質な樹脂組成物を
見出し本発明を完成するに至った。即ち、本発明はウレ
タン(メタ)アクリレート及び/又はエポキシ(メタ)
アクリレート(A)、式(1)で表される化合物
(B)、
め、本発明者らが鋭意研究の結果、紫外線による硬化が
速く、又その硬化物が高屈折率で、軟質な樹脂組成物を
見出し本発明を完成するに至った。即ち、本発明はウレ
タン(メタ)アクリレート及び/又はエポキシ(メタ)
アクリレート(A)、式(1)で表される化合物
(B)、
【0005】
【化2】
【0006】(式中、R1 及びR2 それぞれ独立してH
又はCH3 、Xは−O−又は−S−、Y1 〜Y4 はそれ
ぞれ独立してH又はCH3 、a、bの数はそれぞれ0〜
5の数、a+bの平均値は0〜10の数である。)
(A)及び(B)成分以外のエチレン性不飽和基含有化
合物(C)並びに光重合開始剤(D)を含むことを特徴
とする樹脂組成物、透過型スクリーン用紫外線硬化型樹
脂組成物及びこれらの硬化物に関する。
又はCH3 、Xは−O−又は−S−、Y1 〜Y4 はそれ
ぞれ独立してH又はCH3 、a、bの数はそれぞれ0〜
5の数、a+bの平均値は0〜10の数である。)
(A)及び(B)成分以外のエチレン性不飽和基含有化
合物(C)並びに光重合開始剤(D)を含むことを特徴
とする樹脂組成物、透過型スクリーン用紫外線硬化型樹
脂組成物及びこれらの硬化物に関する。
【0007】本発明では、ウレタン(メタ)アクリレー
ト及び/又はエポキシ(メタ)アクリレート(A)を使
用する。ウレタン(メタ)アクリレートの具体例として
は、例えばエチレングリコール、1,4−ブタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、ポリカプロラクトンポリ
オール、ポリエステルポリオール,ポリカーボネートジ
オール,ポリテトラメチレングリコール等のポリオール
類と、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジ
イソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレ
ンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート等の有機ポリイソシアネート類と2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオール
モノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレートのε−カプロラクトン付加物、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の水酸基含
有エチレン性不飽和化合物類の反応物を挙げることがで
きる。前記ウレタン(メタ)アクリレートの製造は、ポ
リオール類の水酸基1当量あたり有機ポリイソシアネー
ト類のイソシアネート基好ましくは1.1〜2.0当量
を反応温度好ましくは70〜90℃で反応させ、ウレタ
ンオリゴマーを合成し、次いでウレタンオリゴマーのイ
ソシアネート基1当量あたり、水酸基含有エチレン性不
飽和化合物類の水酸基好ましくは1〜1.5当量を反応
温度好ましくは70〜90℃で反応させて得ることがで
きる。好ましいウレタン(メタ)アクリレートとして
は、ポリエステルウレタンアクリレート、ポリカプロラ
クトンウレタンアクリレート,ポリテトラメチレンウレ
タンアクリレートを挙げることができる。
ト及び/又はエポキシ(メタ)アクリレート(A)を使
用する。ウレタン(メタ)アクリレートの具体例として
は、例えばエチレングリコール、1,4−ブタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、ポリカプロラクトンポリ
オール、ポリエステルポリオール,ポリカーボネートジ
オール,ポリテトラメチレングリコール等のポリオール
類と、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジ
イソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレ
ンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート等の有機ポリイソシアネート類と2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオール
モノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレートのε−カプロラクトン付加物、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の水酸基含
有エチレン性不飽和化合物類の反応物を挙げることがで
きる。前記ウレタン(メタ)アクリレートの製造は、ポ
リオール類の水酸基1当量あたり有機ポリイソシアネー
ト類のイソシアネート基好ましくは1.1〜2.0当量
を反応温度好ましくは70〜90℃で反応させ、ウレタ
ンオリゴマーを合成し、次いでウレタンオリゴマーのイ
ソシアネート基1当量あたり、水酸基含有エチレン性不
飽和化合物類の水酸基好ましくは1〜1.5当量を反応
温度好ましくは70〜90℃で反応させて得ることがで
きる。好ましいウレタン(メタ)アクリレートとして
は、ポリエステルウレタンアクリレート、ポリカプロラ
クトンウレタンアクリレート,ポリテトラメチレンウレ
タンアクリレートを挙げることができる。
【0008】次にエポキシ(メタ)アクリレートの具体
例としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型プロピレン
オキサイド付加物の末端グリシジルエーテル、フルオレ
ンエポキシ樹脂等のエポキシ樹脂類と(メタ)アクリル
酸との反応物を挙げることができる。エポキシ樹脂類と
(メタ)アクリル酸との反応は、エポキシ樹脂類のエポ
キシ基の1当量に対して(メタ)アクリル酸好ましくは
約0.8〜1.5当量、特に好ましくは約0.9〜1.
1当量となる比で反応させ、反応時に希釈剤として、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシブチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリ
ン、N−ビニルピロリドン、フェニルグリシジルエーテ
ルの(メタ)アクリル酸エステル、フェノキシエチル
(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレ
ート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等の光
重合性ビニル系モノマーを使用し、更に反応を促進させ
るために触媒(例えば、ベンジルジメチルアミン、トリ
エチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロラ
イド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロマイド、ト
リフェニルスチビン等)を使用することが好ましく、該
触媒の使用量は反応混合物に対して好ましくは0.1〜
10重量%、特に好ましくは0.3〜5重量%である。
反応中の重合を防止するために重合防止剤(例えばメト
キノン、ハイドロキノン、フェノチアジン等)を使用す
るのが好ましい。その使用量は反応混合物に対して好ま
しくは0.01〜1重量%、特に好ましくは0.05〜
0.5重量%である。反応温度は好ましくは60〜15
0℃,特に好ましくは80〜120℃である。好ましく
はエポキシ(メタ)アクリレートとしては、ビスフェノ
ールA型エポキシアクリレート、ビスフェノールF型エ
ポキシアクリレート等を挙げることができる。
例としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型プロピレン
オキサイド付加物の末端グリシジルエーテル、フルオレ
ンエポキシ樹脂等のエポキシ樹脂類と(メタ)アクリル
酸との反応物を挙げることができる。エポキシ樹脂類と
(メタ)アクリル酸との反応は、エポキシ樹脂類のエポ
キシ基の1当量に対して(メタ)アクリル酸好ましくは
約0.8〜1.5当量、特に好ましくは約0.9〜1.
1当量となる比で反応させ、反応時に希釈剤として、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシブチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリ
ン、N−ビニルピロリドン、フェニルグリシジルエーテ
ルの(メタ)アクリル酸エステル、フェノキシエチル
(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレ
ート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等の光
重合性ビニル系モノマーを使用し、更に反応を促進させ
るために触媒(例えば、ベンジルジメチルアミン、トリ
エチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロラ
イド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロマイド、ト
リフェニルスチビン等)を使用することが好ましく、該
触媒の使用量は反応混合物に対して好ましくは0.1〜
10重量%、特に好ましくは0.3〜5重量%である。
反応中の重合を防止するために重合防止剤(例えばメト
キノン、ハイドロキノン、フェノチアジン等)を使用す
るのが好ましい。その使用量は反応混合物に対して好ま
しくは0.01〜1重量%、特に好ましくは0.05〜
0.5重量%である。反応温度は好ましくは60〜15
0℃,特に好ましくは80〜120℃である。好ましく
はエポキシ(メタ)アクリレートとしては、ビスフェノ
ールA型エポキシアクリレート、ビスフェノールF型エ
ポキシアクリレート等を挙げることができる。
【0009】本発明に使用する式(1)で示される化合
物(B)の具体例としては、例えば
物(B)の具体例としては、例えば
【0010】
【化3】
【0011】
【化4】
【0012】
【化5】
【0013】
【化6】
【0014】
【化7】
【0015】
【化8】
【0016】等を挙げることができる。
【0017】本発明で使用する(A)及び(B)成分以
外のエチレン性不飽和基含有化合物(C)の具体例とし
ては、例えば、N−ビニルカプロラクタム、アクリロイ
ルモルホリン、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリ
レート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレー
ト、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェニル
グリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸エステル、イ
ソボルニル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル
(メタ)アクリレート、トリブロモベンジル(メタ)ア
クリレート、トリブロモフェニルオキシエチル(メタ)
アクリレート、ジプロモフェニルグリシジルエーテルの
(メタ)アクリル酸エステル、ジシクロペンタニル(メ
タ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールAのポ
リエトキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA
のポリエトキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノー
ルFのテトラエトキシジ(メタ)アクリレート、トリシ
クロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、ヒド
ロキシピパリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロ
ラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート等を挙げるこ
とができる。好ましいエチレン性不飽和基含有化合物
(C)としては、フェノキシエチルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、イソボルニルアクリレー
ト、フェニルグリシジルエーテルのアクリル酸エステ
ル、トリブロモフェニルメタクリレート、トリブロモフ
ェニルオキシエチルアクリレート、ビスフェノールAの
ポリエトキシジアクリレート等を挙げることができる。
外のエチレン性不飽和基含有化合物(C)の具体例とし
ては、例えば、N−ビニルカプロラクタム、アクリロイ
ルモルホリン、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリ
レート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレー
ト、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェニル
グリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸エステル、イ
ソボルニル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル
(メタ)アクリレート、トリブロモベンジル(メタ)ア
クリレート、トリブロモフェニルオキシエチル(メタ)
アクリレート、ジプロモフェニルグリシジルエーテルの
(メタ)アクリル酸エステル、ジシクロペンタニル(メ
タ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールAのポ
リエトキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA
のポリエトキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノー
ルFのテトラエトキシジ(メタ)アクリレート、トリシ
クロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、ヒド
ロキシピパリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロ
ラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート等を挙げるこ
とができる。好ましいエチレン性不飽和基含有化合物
(C)としては、フェノキシエチルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、イソボルニルアクリレー
ト、フェニルグリシジルエーテルのアクリル酸エステ
ル、トリブロモフェニルメタクリレート、トリブロモフ
ェニルオキシエチルアクリレート、ビスフェノールAの
ポリエトキシジアクリレート等を挙げることができる。
【0018】光重合開始剤(D)としては、例えば、
【0019】
【化9】
【0020】
【化10】
【0021】
【化11】
【0022】
【化12】
【0023】等の共重合性光重合開始剤やベンゾイン、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フ
ェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノ
ン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1
−オン、2−メチル−1−〔4−メチルチオ)フェニ
ル)−2−モルフォリノープロパン−1−オン、N,N
−ジメチルアミノアセトフェノン、2−メチルアントラ
キノン、2−エチルアントラキノン、2−tert−ブチル
アントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−アミ
ルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2,4
−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサ
ントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、アセ
トフェノンジメチルケタール、ベンゾフェノン、メチル
ベンゾフェノン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、
4,4′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラ
−ズケトン等を挙げることができる。これらは、単独或
は2種以上を組合せて用いることができる。更に、この
ような光重合開始剤と共にN,N−ジメチルアミノ安息
香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸
イソアミルエステル、トリエタノールアミン、トリエチ
ルアミンの様な公知慣用の光増感剤を単独或は2種以上
を組合せて用いることができる。
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フ
ェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノ
ン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1
−オン、2−メチル−1−〔4−メチルチオ)フェニ
ル)−2−モルフォリノープロパン−1−オン、N,N
−ジメチルアミノアセトフェノン、2−メチルアントラ
キノン、2−エチルアントラキノン、2−tert−ブチル
アントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−アミ
ルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2,4
−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサ
ントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、アセ
トフェノンジメチルケタール、ベンゾフェノン、メチル
ベンゾフェノン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、
4,4′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラ
−ズケトン等を挙げることができる。これらは、単独或
は2種以上を組合せて用いることができる。更に、この
ような光重合開始剤と共にN,N−ジメチルアミノ安息
香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸
イソアミルエステル、トリエタノールアミン、トリエチ
ルアミンの様な公知慣用の光増感剤を単独或は2種以上
を組合せて用いることができる。
【0024】本発明の樹脂組成物で使用される各成分の
使用割合は(A)成分は10〜50重量%が好ましく、
特に好ましくは20〜45重量%である。(B)成分は
5〜50重量%が好ましく、特に好ましくは10〜45
重量%である。(C)成分は10〜60重量%が好まし
く、特に好ましくは20〜50重量%である。(D)成
分は0.1〜10重量%が好ましく、特に好ましくは
0.5〜5重量%である。
使用割合は(A)成分は10〜50重量%が好ましく、
特に好ましくは20〜45重量%である。(B)成分は
5〜50重量%が好ましく、特に好ましくは10〜45
重量%である。(C)成分は10〜60重量%が好まし
く、特に好ましくは20〜50重量%である。(D)成
分は0.1〜10重量%が好ましく、特に好ましくは
0.5〜5重量%である。
【0025】本発明の樹脂組成物は前記成分以外に離型
剤、消泡剤、レベリング剤、光安定剤(例えば、ヒンダ
ードアミン等)、酸化防止剤、重合禁止剤、帯電防止剤
等を併用することができる。本発明の樹脂組成物は各成
分を混合、溶解することにより得ることができる。本発
明の樹脂組成物はフレネルレンズ、レンチキュラーレン
ズ等の透過スクリーン用として特に有用であるが、その
他に各種コーティング剤、ポッテイング剤、接着剤等に
有用である。本発明の樹脂組成物の硬化物は常法に従い
本発明の樹脂組成物に紫外線を照射することにより得る
ことができる。具体的には本発明の樹脂組成物を、例え
ば、フレネルレンズ又はレンチキュラーレンズの形状を
有するスタンパー上に塗布し、該樹脂組成物の層を設
け、その層の上に硬質透明基板を接着させ、次いでその
状態で該硬質透明基板側から高圧水銀灯などにより、紫
外線を照射して該樹脂組成物を硬化させた後、該スタン
パーから剥離する。この様にして通常屈折率(23℃)
が1.55以上、好ましい条件下では1.56以上を有
した軟質なフレネルレンズ或はレンチキュラーレンズ等
の透過スクリーンが得られる。
剤、消泡剤、レベリング剤、光安定剤(例えば、ヒンダ
ードアミン等)、酸化防止剤、重合禁止剤、帯電防止剤
等を併用することができる。本発明の樹脂組成物は各成
分を混合、溶解することにより得ることができる。本発
明の樹脂組成物はフレネルレンズ、レンチキュラーレン
ズ等の透過スクリーン用として特に有用であるが、その
他に各種コーティング剤、ポッテイング剤、接着剤等に
有用である。本発明の樹脂組成物の硬化物は常法に従い
本発明の樹脂組成物に紫外線を照射することにより得る
ことができる。具体的には本発明の樹脂組成物を、例え
ば、フレネルレンズ又はレンチキュラーレンズの形状を
有するスタンパー上に塗布し、該樹脂組成物の層を設
け、その層の上に硬質透明基板を接着させ、次いでその
状態で該硬質透明基板側から高圧水銀灯などにより、紫
外線を照射して該樹脂組成物を硬化させた後、該スタン
パーから剥離する。この様にして通常屈折率(23℃)
が1.55以上、好ましい条件下では1.56以上を有
した軟質なフレネルレンズ或はレンチキュラーレンズ等
の透過スクリーンが得られる。
【0026】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。実施例中の評価は次の方法で行った。なお、
合成例中の部は重量部を示す。 (1)離型性:硬化した樹脂を金型より離型させる時の
難易 ○───金型からの離型性が良好 △───離型がやや困難 ×───離型が困難或は型のこりがある (2)型再現性:硬化した紫外線硬化性樹脂層の表面形
状と金型の表面形状を観察した。 ○───再現性良好 ×───再現性が不良 (3)復元性:硬化した紫外線硬化性樹脂層の金型より
離型した面に爪を押しつけ跡をつけ30分放置後観察し
た。 ○───爪を押しつけた跡が全くない △───爪を押しつけた跡がかすかに残っている ×───爪を押しつけた跡が残っている (4)屈折率(23℃):硬化した紫外線硬化型樹脂層
の屈折層(23℃)を測定 ウレタン(メタ)アクリレート(A)の合成例
説明する。実施例中の評価は次の方法で行った。なお、
合成例中の部は重量部を示す。 (1)離型性:硬化した樹脂を金型より離型させる時の
難易 ○───金型からの離型性が良好 △───離型がやや困難 ×───離型が困難或は型のこりがある (2)型再現性:硬化した紫外線硬化性樹脂層の表面形
状と金型の表面形状を観察した。 ○───再現性良好 ×───再現性が不良 (3)復元性:硬化した紫外線硬化性樹脂層の金型より
離型した面に爪を押しつけ跡をつけ30分放置後観察し
た。 ○───爪を押しつけた跡が全くない △───爪を押しつけた跡がかすかに残っている ×───爪を押しつけた跡が残っている (4)屈折率(23℃):硬化した紫外線硬化型樹脂層
の屈折層(23℃)を測定 ウレタン(メタ)アクリレート(A)の合成例
【0027】合成例1 ポリエステルジオール(ネオペンチルグリコールとアジ
ピン酸のポリエステルジオール、分子量2000、OH
価56.1)120部、エチレングリコール2.48
部、トリレンジイソシアネート34.8部を仕込み、昇
温後80℃で10時間反応し、次いで2−ヒドロキシエ
チルアクリレート24.4部、メトキノン0.1部を仕
込み、80℃で10時間反応を行いウレタンアクリレー
トを得た。
ピン酸のポリエステルジオール、分子量2000、OH
価56.1)120部、エチレングリコール2.48
部、トリレンジイソシアネート34.8部を仕込み、昇
温後80℃で10時間反応し、次いで2−ヒドロキシエ
チルアクリレート24.4部、メトキノン0.1部を仕
込み、80℃で10時間反応を行いウレタンアクリレー
トを得た。
【0028】合成例2 ポリテトラメチレングリコール(分子量650、OH
価、172.6)130部、エチレングリコール49.
6部、トリレンジイソシアネート348部を仕込み、昇
温後80℃で10時間反応し、次いで2−ヒドロキシエ
チルアクリレート243.6部、メトキノン0.4部を
仕込み80℃で10時間反応を行いウレタンアクリレー
トを得た。
価、172.6)130部、エチレングリコール49.
6部、トリレンジイソシアネート348部を仕込み、昇
温後80℃で10時間反応し、次いで2−ヒドロキシエ
チルアクリレート243.6部、メトキノン0.4部を
仕込み80℃で10時間反応を行いウレタンアクリレー
トを得た。
【0029】実施例1〜5 表1に示すような組成(数値は重量部を示す。)の紫外
線硬化型樹脂組成物をフレネルレンズ金型と厚さ2.5
mmのアクリル樹脂板(プライマー層が設けられてい
る)との間に注入し、常法により紫外線を照射して硬化
させフレネルレンズを得た。
線硬化型樹脂組成物をフレネルレンズ金型と厚さ2.5
mmのアクリル樹脂板(プライマー層が設けられてい
る)との間に注入し、常法により紫外線を照射して硬化
させフレネルレンズを得た。
【0030】 表1 実 施 例 1 2 3 4 5 (A)成分 合成例1で得たウレタンアクリレート 30 25 20 合成例2で得たウレタンアクリレート 30 20 KAYARAD R−310 *1 20 KAYARAD R−114 *2 10 10 (B)成分 B−1 *3 45 20 20 B−2 *4 45 10 35 B−3 *5 10 (C)成分 トリブロモフェニルオキシ エチルアクリレート 10 15 フェニルオキシエチルアクリレート 10 10 10 10 10 ビスフェノールAポリ(n=10) エトキシジアクリレート 5 15 10 10 KAYARAD R−551 *6 10 KAYARAD HX-220 *7 10 10 5 (D)成分 イルガキュアー184 *8 3 3 3 3 3 その他 LA−82 *9 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 硬化物の物性 屈折率(25℃) 1.5850 1.5735 1.5780 1.5725 1.5710 離型性 ○ ○ △ ○ ○ 型再現性 ○ ○ ○ ○ ○ 復元性 ○ ○ ○ ○ ○
【0031】注 *1 KAYARAD R−31
0:日本化薬(株)製、ビスフェノールA型ポエキシ樹
脂(油化シェル(株)製、エピコート1004)のエポキシ
アクリレートのフェニルグリシジルエーテルアクリレー
ト50%希釈品 *2 KAYARAD R−114:日本化薬
(株)製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェ
ル(株)製、エピコート828)のエポキシアクリレー
ト *3 B−1:前記式(6)の化合物 *4 B−2:前記式(4)の化合物 *5 B−3:前記式(3)の化合物
0:日本化薬(株)製、ビスフェノールA型ポエキシ樹
脂(油化シェル(株)製、エピコート1004)のエポキシ
アクリレートのフェニルグリシジルエーテルアクリレー
ト50%希釈品 *2 KAYARAD R−114:日本化薬
(株)製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェ
ル(株)製、エピコート828)のエポキシアクリレー
ト *3 B−1:前記式(6)の化合物 *4 B−2:前記式(4)の化合物 *5 B−3:前記式(3)の化合物
【0032】*6 KAYARAD R−551:
日本化薬(株)製、ビスフェノールAのテトラエトキシ
ジアクリレート *7 KAYARAD HX−220:日本化薬
(株)製、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコー
ルのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート *8 イルガキュアー184:チバ・ガイギー社
製、光重合開始剤、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン *9 LA−82:旭電化工業(株)製、光安定剤
日本化薬(株)製、ビスフェノールAのテトラエトキシ
ジアクリレート *7 KAYARAD HX−220:日本化薬
(株)製、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコー
ルのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート *8 イルガキュアー184:チバ・ガイギー社
製、光重合開始剤、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン *9 LA−82:旭電化工業(株)製、光安定剤
【0033】表1から明らかなように、本発明の樹脂組
成物の硬化物は離型性、型再現性、復元性に優れ屈折率
(25℃)は1.57以上の高屈折率であった。
成物の硬化物は離型性、型再現性、復元性に優れ屈折率
(25℃)は1.57以上の高屈折率であった。
【0034】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物の硬化物は高屈折率
で離型性、型再現性、復元性に優れ、特に透過型スクリ
ーンに適している。
で離型性、型再現性、復元性に優れ、特に透過型スクリ
ーンに適している。
Claims (3)
- 【請求項1】ウレタン(メタ)アクリレート及び/又は
エポキシ(メタ)アクリレート(A)、式(1)で表さ
れる化合物(B)、 【化1】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立してH又はCH3
又はXは−O−又は−S−、Y1 〜Y4 はそれぞれ独立
してHまたはCH3 、a、bの数はそれぞれ0〜5の
数、a+bの平均値は0〜10の数である。(A)及び
(B)成分以外のエチレン性不飽和基含有化合物(C)
並びに光重合開始剤(D)を含むことを特徴とする樹脂
組成物。 - 【請求項2】ウレタン(メタ)アクリレート及び/又は
エポキシ(メタ)アクリレート(A)、請求項2記載の
式(1)で表される化合物(B)、(A)及び(B)成
分以外のエチレン性不飽和基含有化合物(C)並びに光
重合開始剤(D)を含むことを特徴とする透過型スクリ
ーン用樹脂組成物。 - 【請求項3】請求項1又は請求項2記載の樹脂組成物の
硬化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19742992A JPH0616754A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 樹脂組成物、透過型スクリーン用樹脂組成物及びその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19742992A JPH0616754A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 樹脂組成物、透過型スクリーン用樹脂組成物及びその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0616754A true JPH0616754A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=16374374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19742992A Pending JPH0616754A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 樹脂組成物、透過型スクリーン用樹脂組成物及びその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0616754A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5969867A (en) * | 1994-10-18 | 1999-10-19 | Mitsubishi Rayon Company Ltd. | Active energy ray-curable composition and lens sheet |
| JP2002037770A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ビス(4−メルカプトフェニル)スルフィド誘導体およびその製造方法 |
| US6541591B2 (en) | 2000-12-21 | 2003-04-01 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index microreplication resin from naphthyloxyalkylmethacrylates or naphthyloxyacrylates polymers |
| WO2015022973A1 (ja) * | 2013-08-13 | 2015-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、光学部品、レンズおよび光学部品の製造方法 |
| JP2023046246A (ja) * | 2021-09-22 | 2023-04-03 | 東京応化工業株式会社 | 組成物、及び感光性組成物 |
-
1992
- 1992-07-02 JP JP19742992A patent/JPH0616754A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5969867A (en) * | 1994-10-18 | 1999-10-19 | Mitsubishi Rayon Company Ltd. | Active energy ray-curable composition and lens sheet |
| EP0952466A3 (en) * | 1994-10-18 | 2000-05-03 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Lens sheet |
| US6206550B1 (en) | 1994-10-18 | 2001-03-27 | Mitsubishi Rayon Company Ltd. | Active energy ray-curable composition and lens sheet |
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| JP2015057462A (ja) * | 2013-08-13 | 2015-03-26 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、光学部品およびレンズ |
| US9714335B2 (en) | 2013-08-13 | 2017-07-25 | Fujifilm Corporation | Curable resin composition, optical component, lens, and method for manufacturing optical component |
| JP2023046246A (ja) * | 2021-09-22 | 2023-04-03 | 東京応化工業株式会社 | 組成物、及び感光性組成物 |
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