[go: up one dir, main page]

JPH06105355B2 - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

Info

Publication number
JPH06105355B2
JPH06105355B2 JP61298535A JP29853586A JPH06105355B2 JP H06105355 B2 JPH06105355 B2 JP H06105355B2 JP 61298535 A JP61298535 A JP 61298535A JP 29853586 A JP29853586 A JP 29853586A JP H06105355 B2 JPH06105355 B2 JP H06105355B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
polymer
photosensitive composition
compound
substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61298535A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63226641A (ja
Inventor
安男 岡本
彰 永島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP61298535A priority Critical patent/JPH06105355B2/ja
Priority to DE19873742387 priority patent/DE3742387C3/de
Publication of JPS63226641A publication Critical patent/JPS63226641A/ja
Publication of JPH06105355B2 publication Critical patent/JPH06105355B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は平版印刷版、IC回路やフォトマスクの製造に適
する感光性組成物に関するものである。更に詳しくは、
o−ナフトキノンジアジド化合物等の感光性化合物とア
ルカリ性水溶液又は水を主体とするアルカリ性溶媒に可
溶性(以下アルカリ水可溶性という)のポリマーからな
る感光性組成物に関するものである。
〔従来の技術〕
o−ナフトキノンジアジド化合物とノボラック型フェノ
ール樹脂からなる感光性組成物は、非常に優れた感光性
組成物として平版印刷版の製造やフォトレジストとして
工業的に用いられてきた。
しかし主体として用いられるノボラック型フェノール樹
脂の性質上基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がもろ
いこと、耐摩耗性が劣り、平版印刷版に用いたときの耐
刷力が十分でないこと等の改良すべき点があり応用面で
の限界があった。
かかる問題を解決するため種々のポリマーが、バインダ
ーとして検討されてきた。たとえば特公昭52-41050号公
報に記載されているポリヒドロキシスチレンまたはヒド
ロキシスチレン共重合体は確かに皮膜性が改良された
が、耐摩耗性が劣るという欠点を有していた。また、特
開昭51-34711号公報中にはアクリル酸誘導体の構造単位
を分子構造中に有するポリマーをバインダーとして用い
ることが提案されているが、かかるポリマーは適正な現
像条件の範囲が狭いという問題があった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従って本発明の目的は適正な現像条件の範囲が広く、耐
刷力の大きい平版印刷版を与える感光性組成物を提供す
ることである。本発明の他の目的は基板に対する密着性
が良く、柔軟な皮膜を与える感光性組成物を提供するこ
とである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは種々研究を重ねた結果、上記目的を達成す
るために有用な以下に示す感光性組成物を発明するに到
った。
すなわち本発明は、活性イミノ基を有し、水不溶性かつ
アルカリ水可溶性のポリマーを含むことを特徴とするポ
ジ型感光性組成物を提供するものである。
また本発明の好ましい実施態様において、該ポリマーは
下記一般式〔I〕又は〔II〕で示される構造単位を有す
る。
〔但し、式中Aは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1
〜4のアルキル基を表す。Bはアルキレン基、フェニレ
ン基、置換アルキレン基又は置換フェニレン基を表す。
Xは を表す。Yは −C≡N、又は−NO2を表す(但し、R1はアルキル基、
フェニル基、置換アルキル基又は置換フェニル基を表
す。)。mは0又は1を表し、nは1を表す。〕 (但し、式中Eは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜
4のアルキル基又はフェニル基を表す。F及びGはそれ
ぞれ独立にアルキレン基又は置換アルキレン基を表す。
Xは を表す。p、p′は0又は1を表し、q、q′は1を表
す) 本発明におけるポリマーは、その分子構造中に、活性イ
ミノ基を有することが特徴であり、その解離により、ア
ルカリ水である現像液に溶解する。本発明における活性
イミノ基は、解離度(pKa)が4〜11、より好ましく
は、5〜9の範囲にあるものである。pKaがこの範囲よ
り大きすぎても小さすぎても適正な現像条件の範囲が狭
くなる。
かかる本発明におけるポリマーが基板に対する密着性が
良く、耐摩耗性が優れる上、適正な現像条件の範囲が広
い(現像許容性が広い)感光性組成物を与えることはま
さに驚くべきことであった。
本発明におけるポリマーの好ましい構造は前記一般式
〔I〕又は〔II〕で表わされる。
一般式〔I〕におけるAは、水素原子、ハロゲン原子又
はアルキル基であるが、より好ましくは水素原子又はメ
チル基である。
Bは、アルキレン基、フェニレン基、置換アルキレン基
又は置換フェニレン基であるが、より好ましくは、フェ
ニレン基又はm=0の場合である。
Xは、 を表わすが、より好ましくは、 である。
Yは、 −C≡N、又は−NO2を表わすがより好ましくは であり、R1としては、フェニル基、ナフチル基、シクロ
ヘキシル基又は炭素数1から4のアルキル基が好まし
い。
一般式〔II〕におけるEは、水素原子、ハロゲン原子、
炭素数1から4のアルキル基又はフェニル基を表わす
が、より好ましくは、水素原子である。
F及びGはそれぞれ独立にはアルキレン基又は置換アル
キレン基を示すが、より好ましくは、メチレン基又はp
=p′=0の場合である。
Xは、 を表わすが、より好ましくは、 である。
本発明におけるポリマーの分子量は、広範囲のものを使
用することができるが、ポリスチレンを標準としてゲル
パーミエーションクロマトグラフィーで測定した時、重
量平均分子量(w)で500〜1,000,000であることが好
ましく、さらに好ましくは、4,000〜300,000である。本
発明における感光性組成物中に占める活性イミノ基を有
するポリマーの量は、3〜90重量%、より好ましくは、
15〜50重量%である。本発明における活性イミノ基を有
するポリマーは一般式〔I〕または〔II〕の構造単位だ
けの繰り返し構造を有する重合体または、一般式〔I〕
と〔II〕の共重合体でも良いが、通常使用されているビ
ニル系単量体の一種以上を組み合わせた繰り返し構造を
有する多元系共重合体であっても良い。かかる多元系共
重合体の場合、一般式〔I〕または〔II〕で示される構
造単位を単独もしくは合わせて、10モル%以上含むこと
が好ましく、20モル%以上含むことがさらに好ましい。
一般式〔I〕または〔II〕で示される構造単位と組み合
わせて用いられる構造単位としては、例えば、エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソブチ
レンなどのエチレン不飽和オレフィン類、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、o−クロロスチレ
ン、p−クロロスチレンなどのスチレン類、例えば、ア
クリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸iso−ブチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル
酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸2−ヒド
ロキシエチル、アクリル酸2−シアノエチル、アクリル
酸グリシジル、アクリル酸ジメチルアミノエチルなどの
アクリル酸およびそのエステル類、例えばメタクリル
酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸n−ブチル、メタクリル酸iso−ブチル、メタク
リル酸tert−ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、メタ
クリル酸トリデシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メ
タクリル酸ベンジル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチ
ル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル
酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノ
エチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸テトラ
ヒドロフルフリル、メタクリル酸アリルなどのメタクリ
ル酸およびそのエステル類、例えば酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、安息香
酸ビニルなどのビニルエステル類、例えば、アクリロニ
トリル、メタクリロニトリルなどのニトリル類、例えば
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブ
チルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエーテ
ル、シクロヘキシルビニルエーテルなどのビニルエーテ
ル類、例えばアクリルアミド、N−メチルアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−tert−ブチル
アクリルアミノド、N−オクチルアクリルアミド、ジア
セトンアクリルアミドなどのアクリルアミド類、例えば
N−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、N−ビ
ニルインドール、N−ビニルピロリドンなどのN−ビニ
ル化合物などのビニル系単量体の不飽和二重結合を開裂
せしめた構造で示されるもの、その他特開昭58-203433
号公報に開示されているフェノール性水酸基を有する置
換スチレン類をあげることができる。
次に本発明における活性イミノ基を有するポリマーの代
表的な具体例を示す。
〔例示化合物〕 次に、本発明における活性イミノ基を有するポリマーの
代表的な合成例を示すが、本発明はこれらの例によって
なんら限定されるものではない。
合成例1 N−メタクリリルスルホンアミド 10.0g(0.044モル)、メタクリル酸メチル4.46g(0.044
モル)を、2−メトキシエタノール22ml中で、V-65〔2,
2′−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル〕0.02
13gを開始剤として、共重合を行なった。60℃で7時間
攪拌したのち、2−メトキシエタノール60mlを加えて、
水2l中に再沈した。得られたポリマーをテトラヒドロフ
ラン100mlに溶解したのち、メタノール1.5l中に再沈す
ることにより例示化合物No.1のポリマー10.2gを得た。
(w=200000、収率70%)ポリマーの組成比は1H-NMR
より決定した。
(以下同様) 合成例2 N−メタクリリルスルホンアミド15.78g(0.070モ
ル)、メタクリル酸ベンジル12.35g(0.070モル)を、
酢酸エチル47ml中V-65 0.173gを開始剤として、共重合
を行なった。60℃で6時間攪拌したのち、ヘキサン1.5l
中に再沈し、得られたポリマーをテトラヒドロフラン15
0mlに溶解し、メタノール2l中に再沈することにより、
例示化合物No.2のポリマー23.4gを得た。(w=6500
0、収率83%) 合成例3 N−メタクリリルスルホンアミド11.28g(0.055モ
ル)、アクリル酸エチル13.74g(0.15モル)を、酢酸エ
チル65ml中で、V-65 0.235gを開始剤として共重合を行
なった。60℃で6時間攪拌したのち、酢酸エチル50mlを
加え、ヘキサン2l中に再沈した。得られたポリマーを酢
酸エチル150mlに溶解し、ヘキサン1.5l中に再沈するこ
とにより、例示化合物3のポリマー23.9gを得た。(
w=60000、収率96%) 合成例4 N−メタクリリルスルホンアミド11.27g(0.050モ
ル)、アクリル酸−n−ブチル13.74g(0.107モル)を
酢酸エチル65ml中でV-65 0.195gを開始剤として共重合
を行なった。60℃で6時間攪拌したのち、ヘキサン1.5l
中に再沈し、例示化合物4のポリマー20.6gを得た。
(w=83000、収率82%) 合成例5 マレイミド14.58g(0.15モル)、メタクリル酸メチル1
5.04g(0.15モル)を1−アセトキシ−2−メトキシエ
タン69ml中V-65 0.371gを開始剤として共重合を行なっ
た。60℃で2時間攪拌したのち、1−アセトキシ−2−
メトキシエタン50mlを加え、水2l中に再沈することによ
り、例示化合物5のポリマー23.7gを得た。(w=590
00、収率80%) 合成例6 マレイミド9.75g(0.10モル)、メタクリル酸ベンジル1
7.62g(0.10モル)を、1−アセトキシ−2−メトキシ
エタン64ml中でV-65 0.125gを開始剤として共重合を行
なった。60℃で4時間攪拌したのち、1−アセトキシ−
2−メトキシエタン30mlを加え、水2l中に再沈した。得
られたポリマーを1−アセトキシ−2−メトキシエタン
150mlに溶解し、水2l中に再沈することにより例示化合
物6のポリマー22.5gを得た。(w=84000、収率82
%) 合成例7 N−メタクリリルスルホンアミド11.28g(0.055モ
ル)、アクリル酸エチル3.30g(0.033モル)、アクリル
酸−n−ブチル5.77g(0.050モル)を酢酸エチル75ml中
でV-65 0.171gを開始剤として共重合を行なった。60℃
で6時間攪拌したのち、ヘキサン1.5l中に再沈し、例示
化合物7のポリマー18.7gを得た。(w=76000、収率
92%) 本発明に使用されるポジ型に作用する感光性化合物とし
ては、o−ナフトキノンジアジド化合物が好ましく、特
公昭43-28403号公報に記載されている1,2−ジアゾナフ
トキノンスルホン酸クロライドとピロガロール−アセト
ン樹脂とのエステルであるものが最も好ましい。その他
の好適なオルトキノンジアジド化合物としては、米国特
許第3,046,120号および同第3,188,210号明細書中に記載
されている1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロラ
イドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル
がある。その他の有用なo−ナフトキノンジアジド化合
物としては、数多くの特許に報告され、知られている。
たとえば、特開昭47-5303号、同昭48-63802号、同昭48-
63803号、同昭48-96575号、同昭49-38701号、同昭48-13
354号、特公昭41-11222号、同昭45-9610号、同昭49-174
81号公報、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、
同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495
号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,
251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第
1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中
に記載されているものをあげることができる。
またo−ナフトキノンジアジド化合物を用いずにポジ型
に作用する感光性化合物又は感光性混合物として、例え
ば特公昭56-2696号の明細書に記載されているオルトニ
トロカルビノールエステル基を有するポリマー化合物も
本発明に使用することができる。
更に光分解により酸を発生する化合物と、酸により解離
するC−O−C基又はC−O−Si基を有する化合物との
感光性混合物も本発明に使用することができる。
例えば光分解により酸を発生する化合物と、アセタール
又はO、N−アセタール化合物との組合せ(特開昭48-8
9003号)、オルトエステル又はアミドアセタール化合物
との組合せ(特開昭51-120714号)、主鎖にアセタール
又はケタール基を有するポリマーとの組合せ(特開昭53
-133429号)、エノールエーテル化合物との組合せ(特
開昭55-12995号)、N−アシルイミノ炭酸化合物との組
合せ(特開昭55-126236号)、主鎖にオルトエステル基
を有するポリマーとの組合せ(特開昭56-17345号)、シ
リルエステル化合物との組合せ(特開昭60-10247号)及
びシリルエーテル化合物との組合せ(特開昭60-37549
号、特開昭60-121446号)などが挙げられる。
本発明の感光性組成物中に占めるこれらのポジ型に作用
する感光性化合物又は感光性混合物の量は10〜50重量%
で、より好ましくは20〜40重量%である。
本発明の組成物中には、本発明におけるポリマーの他に
フェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒド
ロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン
等、公知のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有させる
ことができる。かかるアルカリ可溶性の高分子化合物は
全組成物の70重量%以下の添加量で用いられる。
本発明の組成物中には、感度を高めるために環状酸無水
物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着
色剤として染料やその他のフィラーなどを加えることが
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号
明細書に記載されているように無水フタル酸、テトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−
エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マ
レイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク
酸、ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物を
全組成物中の1から15重量%含有させることによって感
度を最大3倍程度に高めることができる。露光後直ちに
可視像を得るための焼出し剤としては露光によって酸を
放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機染料の組合
せを代表としてあげることができる。具体的には特開昭
50-36209号公報、特開昭53-8128号公報に記載されてい
るo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニ
ドと塩形成性有機染料の組合せや特開昭53-36223号公
報、特開昭54-74728号公報に記載されているトリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料の組合せをあげることが
できる。画像の着色剤として前記の塩形成性有機染料以
外に他の染料も用いることができる。塩形成性有機染料
を含めて好適な染料として油溶性染料および塩基染料を
あげることができる。具体的には、オイルイエロー#10
1、オイルイエロー#130、オイルピンク#312、オイル
グリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オ
イルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT-
505(以上、オリエント化学工業株式会社製)、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(C
I42535)、ローダミンB(CI45170B)、マラカイトグリ
ーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などをあ
げることができる。
本発明の組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、
エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、トルエン、酢酸エチルなどがあり、これらの溶媒
を単独あるいは混合して使用する。そして、上記成分中
の濃度(固形分)は、2〜50重量%である。また、塗布
量は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版につ
いていえば一般的に固形分として0.5〜3.0g/m2が好まし
い。塗布量が少くなるにつれ感光性は大になるが、感光
膜の物性は低下する。
本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウム
板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸化
アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリケ
ート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板、ス
テンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプラス
チックフィルムや紙を挙げることができる。
本発明の感光性組成物にたいする現像液としては、珪酸
ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第
二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リ
ン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水溶
液が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好ま
しくは0.5〜5重量%になるように添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
〔実施例〕
つぎに、実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明す
る。なお、下記実施例におけるパーセントは、他に指定
のない限り、すべて重量%である。
実施例1〜7 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400メ
ッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂目立
てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウムに
70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後
20%HNO3で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条
件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中
で160クローン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を
行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra表
示)であった、ひきつづいて30%のH2SO4水溶液中に浸
漬し55℃で2分間デスマットした後、20%H2SO4水溶液
中、電流密度2A/dm2において厚さが2.7g/m2になるよう
に陽極酸化した。
このようにして得られたアルミニウム支持体上に次の感
光液をホワイラーを用いて塗布し、100℃で2分間乾燥
させた。
ナフトキノン−(1,2)− ジアジド−(2)−5−スルホニル クロリドとクレゾールノボラック 樹脂のエステル化反応生成物 0.75g m−クレゾールノボラック樹脂 1.40g テトラヒドロ無水フタル酸 0.15g 第1表に記載のポリマー 0.70g 2−(p−ブトキシフェニル)− 4,6−ビス(トリクロル メチル)−S−トリアジン 0.02g ナフトキノン−1,2−ジアジド− 4−スルホニルクロリド 0.03g クリスタルバイオレット 0.01g オイルブルー#603 0.015g (オリエント化学工業株式会社製) エチレンジクロリド 18g 2−メトキシエチルアセテート 12g 乾燥後の塗布量は2.1g/m2であった。これらの感光性平
版印刷版をそれぞれ2KWのメタルハライドランプで1mの
距離よりポジ透明原画を通して40秒間露光した。露光し
た感光性平版印刷版を4%メタケイ酸ナトリウム水溶液
に1分間浸漬して現像しその後は常法に従って処理し
て、平版印刷版を得た。こうして得られた平版印刷版を
オフセット印刷機にかけて印刷し耐刷性のテストを行な
った。耐刷性の劣るものは少ない枚数で画像部が摩耗し
てインキが付着しなくなり、正常な印刷物が得られなく
なる。
また適性現像条件の範囲の広さ(現像許容性)を調べる
ため、前記の現像液に5分間浸漬して現像して1分間浸
漬して現像した場合との調子再現性の変化を調べた。ほ
とんど変化がなかったものを○、大きく変化したものを
×、その中間を△で表示した。また感光性組成物の基板
に対する密着性や、柔軟性を調べるために、露光後画像
部にダイヤモンド針で一定荷重をかけてキズをつけ、現
像後印刷してキズのつき易さを調べた。キズがつきにく
いものを○、きわめてつき易いものを×、その中間を△
で表示した。これらの結果を第1表に示す。
第1表からあきらかなように本発明の感光性組成物は、
きわめてすぐれた性能を有することがわかる。
実施例8〜11 実施例1〜7と同様にして作製した支持体上に次の感光
液をホワイラーを用いて塗布し、100℃で2分間乾燥さ
せた。
ナフトキノン−(1,2)− ジアジド−(2)−5−スルホニル クロリドとピロガロール− アセトン樹脂とのエステル化物 0.90g (米国特許第3,635,709号明細書 実施例1に記載されているもの) 乾燥後の塗布量は2.5g/m2であった。これらの感光性平
版印刷版を実施例1〜7と同様な方法で評価した結果を
第2表に示す。第2表から、本発明の感光性組成物が優
れた性能を有することがわかる。
〔発明の効果〕 本発明の活性イミノ基を有するポリマーを加えた感光性
組成物は、良好な現像性、耐刷性を有し、基板に対する
密着性も優れている。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式〔I〕又は〔II〕で示される、活性
    イミノ基を持つ構造単位を有する、水不溶性かつアルカ
    リ水可溶性のポリマーを含むことを特徴とするポジ型感
    光性組成物。 〔但し、式中Aは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1
    〜4のアルキル基を表す。Bはアルキレン基、フェニレ
    ン基、置換アルキレン基又は置換フェニレン基を表す。
    Xは Yは −C≡N 又は−NO2 を表す(但し、R1はアルキル基、フェニル基、置換アル
    キル基又は置換フェニル基を表す。)。mは0又は1を
    表し、nは1を表す。〕 (但し、式中Eは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜
    4のアルキル基又はフェニル基を表す。F及びGはそれ
    ぞれ独立にアルキレン基又は置換アルキレン基を表す。
    Xは p、p′は0又は1を表し、q、q′は1を表す。)
  2. 【請求項2】活性イミノ基の解離度(pKa)が4〜11で
    ある特許請求の範囲第(1)項記載の感光性組成物。
JP61298535A 1986-12-15 1986-12-15 感光性組成物 Expired - Lifetime JPH06105355B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61298535A JPH06105355B2 (ja) 1986-12-15 1986-12-15 感光性組成物
DE19873742387 DE3742387C3 (de) 1986-12-15 1987-12-14 Positiv wirkendes lichtempfindliches Gemisch

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61298535A JPH06105355B2 (ja) 1986-12-15 1986-12-15 感光性組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63226641A JPS63226641A (ja) 1988-09-21
JPH06105355B2 true JPH06105355B2 (ja) 1994-12-21

Family

ID=17860984

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61298535A Expired - Lifetime JPH06105355B2 (ja) 1986-12-15 1986-12-15 感光性組成物

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPH06105355B2 (ja)
DE (1) DE3742387C3 (ja)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63311247A (ja) * 1987-06-12 1988-12-20 Konica Corp 感光性組成物
JPH0769605B2 (ja) * 1988-02-25 1995-07-31 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH01250945A (ja) * 1988-03-30 1989-10-05 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型レジスト組成物
JP2888839B2 (ja) * 1988-07-29 1999-05-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2930310B2 (ja) * 1988-12-21 1999-08-03 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2577629B2 (ja) * 1989-02-15 1997-02-05 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP2911486B2 (ja) * 1989-07-27 1999-06-23 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP3159569B2 (ja) * 1993-07-09 2001-04-23 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及び画像形成方法
JP3278282B2 (ja) * 1994-03-23 2002-04-30 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及び画像形成方法
DE19507618A1 (de) * 1995-03-04 1996-09-05 Hoechst Ag Polymere und diese enthaltendes lichtempfindliches Gemisch
US5656412A (en) * 1995-03-07 1997-08-12 Lucent Technologies Inc. Energy-sensitive resist material and a process for device fabrication using an energy-sensitive resist material
JP3471990B2 (ja) * 1995-09-27 2003-12-02 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版およびその製造方法
DE19803564A1 (de) 1998-01-30 1999-08-05 Agfa Gevaert Ag Polymere mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
DE60014536T2 (de) * 1999-08-02 2005-03-24 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen für Druckplatten mit verbesserter chemischer Beständigkeit und Entwickler-Beständigkeit und mit diesen Zusammensetzungen hergestellte Druckplatten
DE19936332A1 (de) * 1999-08-02 2001-03-15 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Druckplatten mit hoher Chemikalien-Entwicklerresistenz
DE19936333A1 (de) * 1999-08-02 2001-03-15 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen für Druckplatten zur Steigerung der Chemikalien- und Entwicklerresistenz
ATE307025T1 (de) 2000-03-01 2005-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd Bildaufzeichnungsmaterial
US6660445B2 (en) * 2000-10-13 2003-12-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition comprising a vinyl copolymer and an o-naphthoquinone diazide compound

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3442756A1 (de) * 1984-11-23 1986-05-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von waermebestaendigen reliefaufzeichnungen
DE3701638A1 (de) * 1986-01-21 1987-07-23 Ube Industries Masse fuer ein photoabdeckmittel, die ein n-(hydroxyphenyl)maleinsaeureimid-copolymeres enthaelt
JPH0658531B2 (ja) * 1986-05-28 1994-08-03 三菱化成株式会社 感光性平版印刷版
JP2549366B2 (ja) * 1986-10-03 1996-10-30 三菱化学株式会社 感光性平版印刷版
JPS6397944A (ja) * 1986-10-14 1988-04-28 Konica Corp 感光性組成物および感光性平版印刷版
JPS6397946A (ja) * 1986-10-14 1988-04-28 Konica Corp 感光性組成物および感光性平版印刷版

Also Published As

Publication number Publication date
DE3742387C3 (de) 2003-07-24
DE3742387C2 (de) 1995-05-24
DE3742387A1 (de) 1988-06-23
JPS63226641A (ja) 1988-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06105355B2 (ja) 感光性組成物
JPH049296B2 (ja)
JPH0769605B2 (ja) 感光性組成物
JPH0340378B2 (ja)
JPS6191654A (ja) 感光性組成物
JPH0654382B2 (ja) 感光性組成物
US6645689B2 (en) Solvent resistant polymers with improved bakeability features
JPH0728244A (ja) 感光性組成物及び画像形成方法
JPH05150453A (ja) 感光性組成物
JPH0527424A (ja) 感光性組成物
US5182183A (en) Positive photosensitive planographic printing plates containing specific high-molecular weight compound and photosensitive ester of O-napthoquinonediazidosulfonic acid with polyhydroxybenzophenone
JP2681418B2 (ja) 平版印刷版の製造方法
JP2577629B2 (ja) 感光性組成物
JP2719912B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP2551947B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP2888839B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP2911486B2 (ja) 感光性組成物
JP2930310B2 (ja) 感光性平版印刷版
JPS63235936A (ja) 感光性平版印刷版
JPS63259657A (ja) 感光性組成物
JPH05181266A (ja) 感光性組成物
JP2000250216A (ja) 感光性組成物
JP3378317B2 (ja) 感光性組成物
JP2516012B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP2001109138A (ja) 感光性平版印刷版

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term