JPH0454674B2 - - Google Patents
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- JPH0454674B2 JPH0454674B2 JP3715283A JP3715283A JPH0454674B2 JP H0454674 B2 JPH0454674 B2 JP H0454674B2 JP 3715283 A JP3715283 A JP 3715283A JP 3715283 A JP3715283 A JP 3715283A JP H0454674 B2 JPH0454674 B2 JP H0454674B2
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- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 27
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 21
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- IKWLIQXIPRUIDU-ZCFIWIBFSA-N (6r)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CCS[C@@H]2CC(=O)N12 IKWLIQXIPRUIDU-ZCFIWIBFSA-N 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 32
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 16
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- -1 alkyl sulfonic acid Chemical compound 0.000 description 12
- BDSDFCVDQUGOFB-XNCJUZBTSA-N (6s,7s)-7-amino-3-(methoxymethyl)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound S1CC(COC)=C(C(O)=O)N2C(=O)[C@H](N)[C@H]12 BDSDFCVDQUGOFB-XNCJUZBTSA-N 0.000 description 11
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 11
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HSHGZXNAXBPPDL-IOJJLOCKSA-N (6r)-3-(acetyloxymethyl)-7-amino-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound S1CC(COC(=O)C)=C(C(O)=O)N2C(=O)C(N)[C@@H]12 HSHGZXNAXBPPDL-IOJJLOCKSA-N 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- HSHGZXNAXBPPDL-HZGVNTEJSA-N 7beta-aminocephalosporanic acid Chemical compound S1CC(COC(=O)C)=C(C([O-])=O)N2C(=O)[C@@H]([NH3+])[C@@H]12 HSHGZXNAXBPPDL-HZGVNTEJSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 5
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 5
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 4
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical group ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical compound C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001780 cephalosporins Chemical class 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 150000003952 β-lactams Chemical class 0.000 description 2
- FZEVMBJWXHDLDB-ZCFIWIBFSA-N (6r)-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-en-8-one Chemical group S1CC=CN2C(=O)C[C@H]21 FZEVMBJWXHDLDB-ZCFIWIBFSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical group ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSZOAYXJRCEYSX-UHFFFAOYSA-N 1-nitropropane Chemical compound CCC[N+]([O-])=O JSZOAYXJRCEYSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 1
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-N methyl sulfate Chemical compound COS(O)(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000004971 nitroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- MCSAJNNLRCFZED-UHFFFAOYSA-N nitroethane Chemical compound CC[N+]([O-])=O MCSAJNNLRCFZED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid;sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O.OS(O)(=O)=O HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- 229940035339 tri-chlor Drugs 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は3−アルコキシメチルセフアロスポリ
ンの製造方法に関するものである。更に詳しく
は、本発明は式() で示される7−アミノ−3−アセトキシメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(以下、7−
ACAという)またはその塩にアルキルスルフオ
ン酸、アルキル硫酸、ハロゲン置換アルキルスル
フオン酸及び硫酸の存在下、低級アルコールを反
応させることを特徴とする一般式() 〔式中、Rは低級アルキル基を示す。〕 で示される3−アルコキシメチルセフアロスポリ
ンまたはその塩の製造方法に関するものである。
ンの製造方法に関するものである。更に詳しく
は、本発明は式() で示される7−アミノ−3−アセトキシメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(以下、7−
ACAという)またはその塩にアルキルスルフオ
ン酸、アルキル硫酸、ハロゲン置換アルキルスル
フオン酸及び硫酸の存在下、低級アルコールを反
応させることを特徴とする一般式() 〔式中、Rは低級アルキル基を示す。〕 で示される3−アルコキシメチルセフアロスポリ
ンまたはその塩の製造方法に関するものである。
一般式()で示される3−アルコキシメチル
セフアロスポリン誘導体およびその塩は、種々の
抗菌作用を有するセフアロスポリン系抗生物質の
原料物質として重要なものである。
セフアロスポリン誘導体およびその塩は、種々の
抗菌作用を有するセフアロスポリン系抗生物質の
原料物質として重要なものである。
一般式()で示される3−アルコキシメチル
セフアロスポリン誘導体の製造法としては (a) 3−アセトキシメチル体を低級アルコールと
反応させる方法(特公昭50−10873号) (b) 3−ヒドロキシメチル体をアルキル化する方
法(特公昭50−10873号) (c) 3−ハロメチル体を低級アルコールと反応さ
せる方法(特公昭50−10872号) (d) 3−ハロアセトキシメチル体を低級アルコー
ルと反応させる方法(特公昭50−10872号) (e) Δ2−3−ハロメチル体を低級アルコールと
反応させた後Δ3体に異性化する方法(J.Med.
Chem.14、113(1971)) などが知られているが、いずれも工業的規模での
製造方法として満足しうるものではない。すなわ
ち(a)法は例えば特公昭50−10873号の例1に記述
されている如く収率が極めて低い上分離散精が困
難である。
セフアロスポリン誘導体の製造法としては (a) 3−アセトキシメチル体を低級アルコールと
反応させる方法(特公昭50−10873号) (b) 3−ヒドロキシメチル体をアルキル化する方
法(特公昭50−10873号) (c) 3−ハロメチル体を低級アルコールと反応さ
せる方法(特公昭50−10872号) (d) 3−ハロアセトキシメチル体を低級アルコー
ルと反応させる方法(特公昭50−10872号) (e) Δ2−3−ハロメチル体を低級アルコールと
反応させた後Δ3体に異性化する方法(J.Med.
Chem.14、113(1971)) などが知られているが、いずれも工業的規模での
製造方法として満足しうるものではない。すなわ
ち(a)法は例えば特公昭50−10873号の例1に記述
されている如く収率が極めて低い上分離散精が困
難である。
(b)法はアルキル化剤としてジアゾメタンを三弗
化ホウ素の存在下反応させる時に好収率で得られ
るが、この方法では3−アセトキシメチル基を一
旦3−ヒドロキシメチル基に変えねばならないこ
と、4位のカルボキシル基を保護する必要がある
こと、ジアゾメタンを大量に使用することは毒
性、危険性の面から問題があることなどが問題で
ある。
化ホウ素の存在下反応させる時に好収率で得られ
るが、この方法では3−アセトキシメチル基を一
旦3−ヒドロキシメチル基に変えねばならないこ
と、4位のカルボキシル基を保護する必要がある
こと、ジアゾメタンを大量に使用することは毒
性、危険性の面から問題があることなどが問題で
ある。
(c)法は原料化合物となる3−ハロメチル体の製
造が特公昭50−10872号、218頁にも記述されてい
る如く工業的に入手し得る3−アセトキシメチル
体から2工程を要すること(実質的にはカルボキ
シル基を保護するために3工程(前記特許実施例
8参照))であり且つ3−ハロメチル体とアルコ
ールとの反応収率が必ずしもよくない。
造が特公昭50−10872号、218頁にも記述されてい
る如く工業的に入手し得る3−アセトキシメチル
体から2工程を要すること(実質的にはカルボキ
シル基を保護するために3工程(前記特許実施例
8参照))であり且つ3−ハロメチル体とアルコ
ールとの反応収率が必ずしもよくない。
(d)法も(c)法と同様に原料となる3−ハロアセト
キシメチル体の製造に3−アセトキシメチル体か
ら3〜4工程要することとアルコールとの反応収
率が悪い。
キシメチル体の製造に3−アセトキシメチル体か
ら3〜4工程要することとアルコールとの反応収
率が悪い。
(e)法はΔ3−3−メチル体をΔ2−3−メチル体
に異性化した後、ハロゲン化してΔ2−3−ハロ
メチル体となし、これを原料として低級アルコー
ルとの反応を行ない、再び3−セフエム体に戻す
ため工程が長い。
に異性化した後、ハロゲン化してΔ2−3−ハロ
メチル体となし、これを原料として低級アルコー
ルとの反応を行ない、再び3−セフエム体に戻す
ため工程が長い。
このような状況のため、3位にアルコキシメチ
ル基を有するセフアロスポリンの中に有用な化合
物が見出されても実用化することは困難である。
ル基を有するセフアロスポリンの中に有用な化合
物が見出されても実用化することは困難である。
この問題点について、本発明者らは鋭意研究を
重ねた結果、原料化合物()またはその塩に酸
類の存在下低級アルコールを反応させることによ
り、目的化合物()が一工程で比較的収率よく
製造されることを見出し、更に本反応について検
討を重ねて本発明を完成するに至つた。
重ねた結果、原料化合物()またはその塩に酸
類の存在下低級アルコールを反応させることによ
り、目的化合物()が一工程で比較的収率よく
製造されることを見出し、更に本反応について検
討を重ねて本発明を完成するに至つた。
即ち、本発明の目的とするところは、優れた抗
菌作用を有するセフアロスポリン系化合物の重要
な中間体である前記式()を有する化合物また
はその塩を前記式()を有する7−ACAまた
はその塩から工業的に容易な操作で且つ高純度で
得る方法を提供することにある。
菌作用を有するセフアロスポリン系化合物の重要
な中間体である前記式()を有する化合物また
はその塩を前記式()を有する7−ACAまた
はその塩から工業的に容易な操作で且つ高純度で
得る方法を提供することにある。
本発明の方法に用いられる酸類は工業的にも入
手性が優れ、且つこれを使用する方法は反応溶媒
および反応装置に対する制限が緩和であり、反応
過程および後処理工程での取扱いが容易であると
いう利点も有する。
手性が優れ、且つこれを使用する方法は反応溶媒
および反応装置に対する制限が緩和であり、反応
過程および後処理工程での取扱いが容易であると
いう利点も有する。
前記式()および()で示される化合物の
塩とはそれらにおいて遊離に存在するカルボキシ
ル基における塩またはアミノ基における酸付加塩
を意味し、カルボキシル基における塩としては例
えばナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属と
の塩;カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ
土類金属との塩;アンモニウム塩;トリエチルア
ミン、ターシヤリーオクチルアミン、ジエチルア
ミン、ピリジン、N−メチルピペリジン、N−メ
チルモルホリン、N,N−ジメチルアニリンなど
の含窒素有機塩基との塩があげられ、またアミノ
基における塩としては、塩酸、硫酸などの鉱酸と
の酸付加塩;シユウ酸、ギ酸、トリクロル酢酸、
トリフルオル酢酸などのカルボン酸との酸付加
塩;メタンスルフオン酸、トルエンスルフオン
酸、ナフタレンスルフオン酸などのスルフオン酸
との酸付加塩があげられる。要するに反応し際し
溶媒に溶解する塩または反応後目的物を採取する
のに適した塩であればどのような塩でもよい。
塩とはそれらにおいて遊離に存在するカルボキシ
ル基における塩またはアミノ基における酸付加塩
を意味し、カルボキシル基における塩としては例
えばナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属と
の塩;カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ
土類金属との塩;アンモニウム塩;トリエチルア
ミン、ターシヤリーオクチルアミン、ジエチルア
ミン、ピリジン、N−メチルピペリジン、N−メ
チルモルホリン、N,N−ジメチルアニリンなど
の含窒素有機塩基との塩があげられ、またアミノ
基における塩としては、塩酸、硫酸などの鉱酸と
の酸付加塩;シユウ酸、ギ酸、トリクロル酢酸、
トリフルオル酢酸などのカルボン酸との酸付加
塩;メタンスルフオン酸、トルエンスルフオン
酸、ナフタレンスルフオン酸などのスルフオン酸
との酸付加塩があげられる。要するに反応し際し
溶媒に溶解する塩または反応後目的物を採取する
のに適した塩であればどのような塩でもよい。
本発明の方法において最も重要な点は、酸類の
存在下反応させることである。酸類が存在しない
場合には前述の特公昭50−10873号から明らかな
如く極めて反応収率が悪い。一方酸類の存在下反
応を行なうと、反応は円滑に進行し反応収率が上
昇することを見出した。
存在下反応させることである。酸類が存在しない
場合には前述の特公昭50−10873号から明らかな
如く極めて反応収率が悪い。一方酸類の存在下反
応を行なうと、反応は円滑に進行し反応収率が上
昇することを見出した。
本発明の方法において縮合試薬として使用され
る酸類とは、反応に悪影響を及ぼさない全ての酸
が含まれるが、反応を速かに進行させるためには
強い酸性を有する酸の使用が好ましく、そのよう
な酸としては一般式 R1−SO3H () (式中、R1は有機基、ハロゲン原子またはヒド
ロキシル基を示す。)で示される酸である。R1が
有機基である化合物としては例えばメタンスルフ
オン酸、エタンスルフオン酸のようなアルキルス
ルフオン酸;メチル硫酸(R1:OCH3)、エチル
硫酸(R1:C2H5O)のようなアルキル硫酸;ト
リフルオルメタンスルフオン酸のようなハロゲン
置換アルキルスルフオン酸;そしてR1がヒドロ
キシル基である化合物としては硫酸及び発煙硫酸
があげられる。更に、以上の化合物を各種担体に
保持したものも含まれる。
る酸類とは、反応に悪影響を及ぼさない全ての酸
が含まれるが、反応を速かに進行させるためには
強い酸性を有する酸の使用が好ましく、そのよう
な酸としては一般式 R1−SO3H () (式中、R1は有機基、ハロゲン原子またはヒド
ロキシル基を示す。)で示される酸である。R1が
有機基である化合物としては例えばメタンスルフ
オン酸、エタンスルフオン酸のようなアルキルス
ルフオン酸;メチル硫酸(R1:OCH3)、エチル
硫酸(R1:C2H5O)のようなアルキル硫酸;ト
リフルオルメタンスルフオン酸のようなハロゲン
置換アルキルスルフオン酸;そしてR1がヒドロ
キシル基である化合物としては硫酸及び発煙硫酸
があげられる。更に、以上の化合物を各種担体に
保持したものも含まれる。
反応に使用される酸類の使用量は用いられる酸
の種類、反応条件などによつて異なるが、一般に
は出発物質に対して当モル乃至20倍モル、通常は
過剰量が使用される。また縮合試薬としては二種
以上の酸を混合して使用してもよい。
の種類、反応条件などによつて異なるが、一般に
は出発物質に対して当モル乃至20倍モル、通常は
過剰量が使用される。また縮合試薬としては二種
以上の酸を混合して使用してもよい。
本発明の方法で使用される低級アルコールとし
てはメチルアルコール、エチルアルコール、プロ
ピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチ
ルアルコールなどのような炭素数1〜5の1〜3
級アルコールがあげられる。
てはメチルアルコール、エチルアルコール、プロ
ピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチ
ルアルコールなどのような炭素数1〜5の1〜3
級アルコールがあげられる。
反応は通常適当な溶媒中で行われる。このよう
な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないもの
であれば特に限定はなく、例えば反応に使用する
低級アルコールをそのまま使用できる他、アセト
ニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類;
ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオル酢酸な
どの有機カルボン酸およびそのエステル類;ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテルなどのエーテル類;ニトロメ
タン、ニトロエタン、ニトロプロパンなどのニト
ロアルカン類;アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのアルキルケトン
類;ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエ
タン、四塩化炭素などのハロゲン化アルカン類;
ジクロルエチレン、トリクロルエチレンなどのハ
ロゲン化アルケン類;ホルムアミド、ジメチルホ
ルムアミド、アセトアミドなどの酸アミド類;ベ
ンゼン、トルエン、クロルベンゼン、ニトロベン
ゼンなどの芳香族アルカン類;n−ヘキサン、ヘ
プタンなどのアルカン類;シクロヘキサンなどの
脂環式アルカン類;スルホラン;またはジメチル
スルホキシド等があげられる。これらの溶媒は2
種以上混合して用いることもできる。また試薬と
して使用されるスルフオン酸類が反応温度で液体
である場合には、それ自体を溶媒として使用する
こともできる。そして、これらの溶媒は実質的に
無水の状態で使用するのが好ましい。
な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないもの
であれば特に限定はなく、例えば反応に使用する
低級アルコールをそのまま使用できる他、アセト
ニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類;
ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオル酢酸な
どの有機カルボン酸およびそのエステル類;ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテルなどのエーテル類;ニトロメ
タン、ニトロエタン、ニトロプロパンなどのニト
ロアルカン類;アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのアルキルケトン
類;ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエ
タン、四塩化炭素などのハロゲン化アルカン類;
ジクロルエチレン、トリクロルエチレンなどのハ
ロゲン化アルケン類;ホルムアミド、ジメチルホ
ルムアミド、アセトアミドなどの酸アミド類;ベ
ンゼン、トルエン、クロルベンゼン、ニトロベン
ゼンなどの芳香族アルカン類;n−ヘキサン、ヘ
プタンなどのアルカン類;シクロヘキサンなどの
脂環式アルカン類;スルホラン;またはジメチル
スルホキシド等があげられる。これらの溶媒は2
種以上混合して用いることもできる。また試薬と
して使用されるスルフオン酸類が反応温度で液体
である場合には、それ自体を溶媒として使用する
こともできる。そして、これらの溶媒は実質的に
無水の状態で使用するのが好ましい。
反応温度に特に限定はなく通常反応は−30℃乃
至80℃、特に低温で行うのが好ましいがそれ以上
またはそれ以下でも反応は進行する。
至80℃、特に低温で行うのが好ましいがそれ以上
またはそれ以下でも反応は進行する。
反応に要する時間は主として出発物質、試薬、
溶媒等の種類、試薬の量、反応温度等によつても
異なり数分乃至数十時間である。
溶媒等の種類、試薬の量、反応温度等によつても
異なり数分乃至数十時間である。
反応終了後、目的化合物は常法によつて反応混
合物から採取される。例えば反応混合物に氷水を
加えた後、反応混合物の液性をPH3〜4または6
〜7に調整する。析出する結晶を取するか、ま
たは析出前に所望の造塩基質を加えて中和し所望
の塩として採取することができる。この結晶を水
で洗つた後減圧で乾燥することによつて目的化合
物が得られる。このものは必要ならば常法例えば
再沈澱法等によつて更に精製することができる。
合物から採取される。例えば反応混合物に氷水を
加えた後、反応混合物の液性をPH3〜4または6
〜7に調整する。析出する結晶を取するか、ま
たは析出前に所望の造塩基質を加えて中和し所望
の塩として採取することができる。この結晶を水
で洗つた後減圧で乾燥することによつて目的化合
物が得られる。このものは必要ならば常法例えば
再沈澱法等によつて更に精製することができる。
なお、原料化合物の前記式()を有する7−
ACAが塩である場合に、目的化合物の前記一般
式()を有する化合物の塩は、反応条件等の影
響により原料化合物の塩とは異なる塩の形で採取
されることがある。
ACAが塩である場合に、目的化合物の前記一般
式()を有する化合物の塩は、反応条件等の影
響により原料化合物の塩とは異なる塩の形で採取
されることがある。
更に、前記一般式()を有する化合物が遊離
の形で採取された場合は、必要に応じて常法によ
り塩の形に変換することができる。また、前記一
般式()を有する化合物が塩の形で採取された
場合は、必要に応じて常法により遊離の形に変換
することもでき、更に得られた遊離の形を別の所
望の塩に変換することもできる。これらの変換は
それぞれの生成物を単離することなく、続けて行
なうこともできる。
の形で採取された場合は、必要に応じて常法によ
り塩の形に変換することができる。また、前記一
般式()を有する化合物が塩の形で採取された
場合は、必要に応じて常法により遊離の形に変換
することもでき、更に得られた遊離の形を別の所
望の塩に変換することもできる。これらの変換は
それぞれの生成物を単離することなく、続けて行
なうこともできる。
次に本発明の方法を実施例をあげて具体的に説
明するが、本発明の方法はこれによつて限定され
るものではない。
明するが、本発明の方法はこれによつて限定され
るものではない。
実施例 1
7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸 (1) 7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸(7−ACA)5.4gに
メタノール0.85mlおよびジクロルメタン30mlを
加えて冷却した後、メタンスルフオン酸7.8ml
を加えた。反応混合物を14〜17℃で2時間撹拌
した。反応終了後、反応混合物を氷水中に注入
し、次いで10%水酸化ナトリウム水溶液を加え
てPH3.5に調整した。生成した結晶を取し、
冷水で洗浄後、乾燥すると粗7−アミノ−3−
メトキシメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸・メタンスルフオン酸塩2.6gが得られた。
ム−4−カルボン酸 (1) 7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸(7−ACA)5.4gに
メタノール0.85mlおよびジクロルメタン30mlを
加えて冷却した後、メタンスルフオン酸7.8ml
を加えた。反応混合物を14〜17℃で2時間撹拌
した。反応終了後、反応混合物を氷水中に注入
し、次いで10%水酸化ナトリウム水溶液を加え
てPH3.5に調整した。生成した結晶を取し、
冷水で洗浄後、乾燥すると粗7−アミノ−3−
メトキシメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸・メタンスルフオン酸塩2.6gが得られた。
NMRスペクトル(CF3COOH、δ:ppn)
3.12(3H、S、CH3 SO3H)
3.63(3H、S、−CH2OCH3 )
3.77(2H、S、2位の−CH2 −)
4.86(2H、S、−CH2 OCH3)
5.43(2H、S、6位および7位のH)
IRスペクトル(νNujol
maxcm-1)
3160(−NH2)
1800(c=0、β−ラクタム)
1620(−COOH)
1540〜1520(−NH2)
1190(CH2SO3H)
1100(−CH2OCH3)
(2) (1)で得られた粗7−アミノ−3−メトキシメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸・メタン
スルフオン酸塩を水15mlに懸濁し、次いで塩酸
を加えて溶解した後、10%水酸化ナトリウム水
溶液を加えてPH3.5に調整した。析出する結晶
を取し、水洗後乾燥すると表記化合物1.48g
が得られた。
チル−3−セフエム−4−カルボン酸・メタン
スルフオン酸塩を水15mlに懸濁し、次いで塩酸
を加えて溶解した後、10%水酸化ナトリウム水
溶液を加えてPH3.5に調整した。析出する結晶
を取し、水洗後乾燥すると表記化合物1.48g
が得られた。
NMRスペクトルCF3COH、δ:ppn)
3.63(3H、S、−CH2OCH3 )
3.77(2H、S、2位の−CH2 −)
4.86(2H、S、−CH2 OCH3)
5.43(2H、S、6位および7位のH)
IRスペクトル(νNujol
maxcm-1)
3160(−NH2)
1800(c=0、β−ラクタム)
1620(−COOH)
1540〜1520(−NH2)
1100(−CH2OCH3)
元素分析値 C9H12O4N2Sとして
計算値C、44.26;H、4.95;N、11.47;
S、13.12 実測値C、43.93;H、4.82;N、11.23;
S、13.13 実施例 2 7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸 7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(7−ACA)0.27gにメ
タノール0.4mlおよびジクロルメタン22mlを加え
冷却した後、硫酸0.49gを加えた。反応混合物を
10℃で撹拌した。反応経過をHPLCでチエツクし
た。反応終了後、反応混合物を以下、実施例1の
(1)および(2)の方法に準じて処理すると表記化合物
0.05gが得られた。
S、13.12 実測値C、43.93;H、4.82;N、11.23;
S、13.13 実施例 2 7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸 7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(7−ACA)0.27gにメ
タノール0.4mlおよびジクロルメタン22mlを加え
冷却した後、硫酸0.49gを加えた。反応混合物を
10℃で撹拌した。反応経過をHPLCでチエツクし
た。反応終了後、反応混合物を以下、実施例1の
(1)および(2)の方法に準じて処理すると表記化合物
0.05gが得られた。
NMRスペクトルおよびIRスペクトルは、実施
例1で得られたものと同じであつた。
例1で得られたものと同じであつた。
実施例 3
7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸 7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(7−ACA)0.54gにメ
タノール0.49mlおよびトリクロルエチレン5mlを
加えて冷却した後、メタンスルフオン酸1mlを加
えた。反応混合物を冷蔵庫(−8℃)中に24時間
放置した。反応終了後、反応混合物を以下、実施
例1の(1)および(2)の方法に準じて処理すると表記
化合物0.2gが得られた。
ム−4−カルボン酸 7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(7−ACA)0.54gにメ
タノール0.49mlおよびトリクロルエチレン5mlを
加えて冷却した後、メタンスルフオン酸1mlを加
えた。反応混合物を冷蔵庫(−8℃)中に24時間
放置した。反応終了後、反応混合物を以下、実施
例1の(1)および(2)の方法に準じて処理すると表記
化合物0.2gが得られた。
NMRスペクトルおよびIRスペクトルは、実施
例1で得られたものと同じであつた。
例1で得られたものと同じであつた。
実施例 4
7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸 7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(7−ACA)2.72gを四
塩化炭素13.6mlおよびメタノール2.05mlに加えて
−20℃に冷却した後、エタンスルフオン酸9.8ml
を加えた。反応混合物を冷蔵庫中(−8℃)に
41.5時間放置した。反応終了後、反応混合物を砕
氷中に投入し、次いで10%水酸化ナトリウム水溶
液を加えてPH3.5に調整した。生成した結晶を
取し、冷水で洗浄後、乾燥すると粗7−アミノ−
3−メトキシメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸・エタンスルフオン酸塩1.17gが得られた。
ム−4−カルボン酸 7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(7−ACA)2.72gを四
塩化炭素13.6mlおよびメタノール2.05mlに加えて
−20℃に冷却した後、エタンスルフオン酸9.8ml
を加えた。反応混合物を冷蔵庫中(−8℃)に
41.5時間放置した。反応終了後、反応混合物を砕
氷中に投入し、次いで10%水酸化ナトリウム水溶
液を加えてPH3.5に調整した。生成した結晶を
取し、冷水で洗浄後、乾燥すると粗7−アミノ−
3−メトキシメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸・エタンスルフオン酸塩1.17gが得られた。
上記で得られた粗7−アミノ−3−メトキシメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸・エタンス
ルフオン酸塩1.0gに氷水5mlを加え、次いで撹
拌下で塩酸1mlを加えて溶解した。反応混合物に
活性炭0.2gを加えて脱色過し、得られた液
に20%水酸化ナトリウム水溶液を加えてPH3.5に
調整した。析出する結晶を取し、水洗後乾燥す
ると表記化合物0.57gが得られた。
チル−3−セフエム−4−カルボン酸・エタンス
ルフオン酸塩1.0gに氷水5mlを加え、次いで撹
拌下で塩酸1mlを加えて溶解した。反応混合物に
活性炭0.2gを加えて脱色過し、得られた液
に20%水酸化ナトリウム水溶液を加えてPH3.5に
調整した。析出する結晶を取し、水洗後乾燥す
ると表記化合物0.57gが得られた。
NMRスペクトルおよびIRスペクトルは、実施
例1で得られたものと同じであつた。
例1で得られたものと同じであつた。
実施例 5
7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸 トリフルオルメタンスルフオン酸21.6gにメタ
ノール2.05mlを氷水冷却下で加えて混合した。上
記の溶液を、7−アミノ−3−アセトキシメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸(7−ACA)
2.72gを四塩化炭素18mlに懸濁し、−15℃に冷却
した溶液に加えた。反応混合物を冷蔵庫(−8
℃)中に放置した。反応混合物を24時間後に、
HPLCを用いて分析した結果、表記化合物が25%
の収率で生成されていることを確認した。
ム−4−カルボン酸 トリフルオルメタンスルフオン酸21.6gにメタ
ノール2.05mlを氷水冷却下で加えて混合した。上
記の溶液を、7−アミノ−3−アセトキシメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸(7−ACA)
2.72gを四塩化炭素18mlに懸濁し、−15℃に冷却
した溶液に加えた。反応混合物を冷蔵庫(−8
℃)中に放置した。反応混合物を24時間後に、
HPLCを用いて分析した結果、表記化合物が25%
の収率で生成されていることを確認した。
実施例 6
7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸 7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸0.27gにジクロルメタン
2.2mlおよびメタノール0.2mlを加え、次いで10〜
12℃でエチル硫酸0.63gを加えた。反応混合物を
250分後にHPLCを用いて分析した結果、表記化
合物が13.6%の収率で生成されていることを確認
した。
ム−4−カルボン酸 7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸0.27gにジクロルメタン
2.2mlおよびメタノール0.2mlを加え、次いで10〜
12℃でエチル硫酸0.63gを加えた。反応混合物を
250分後にHPLCを用いて分析した結果、表記化
合物が13.6%の収率で生成されていることを確認
した。
実施例 7
7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸 25%発煙硫酸10gをジクロルエチレン13.6mlに
混合し、次いで冷却下でメタノール2mlを適加し
た。上記の溶液を、7−アミノ−3−アセトキシ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(7−
ACA)2.72gをジクロルエチレン13.6mlおよびメ
タノール2.05mlに溶解した溶液に−30℃で加え、
次いで冷蔵庫(−8℃)中に放置した。反応混合
物を16時間後に、HPLCを用いて分析した結果、
表記化合物が25.1%の収率で生成されていること
を確認した。
ム−4−カルボン酸 25%発煙硫酸10gをジクロルエチレン13.6mlに
混合し、次いで冷却下でメタノール2mlを適加し
た。上記の溶液を、7−アミノ−3−アセトキシ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(7−
ACA)2.72gをジクロルエチレン13.6mlおよびメ
タノール2.05mlに溶解した溶液に−30℃で加え、
次いで冷蔵庫(−8℃)中に放置した。反応混合
物を16時間後に、HPLCを用いて分析した結果、
表記化合物が25.1%の収率で生成されていること
を確認した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 で示される7−アミノ−3−アセトキシメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸またはその塩にア
ルキルスルフオン酸、アルキル硫酸、ハロゲン置
換アルキルスルフオン酸または硫酸の存在下、低
級アルコールを反応させることを特徴とする一般
式 〔式中、Rは低級アルキル基を示す。〕で示され
る3−アルコキシメチルセフアロスポリンまたは
その塩の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3715283A JPS59163387A (ja) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | 3−アルコキシメチルセフアロスポリンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3715283A JPS59163387A (ja) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | 3−アルコキシメチルセフアロスポリンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59163387A JPS59163387A (ja) | 1984-09-14 |
| JPH0454674B2 true JPH0454674B2 (ja) | 1992-08-31 |
Family
ID=12489631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3715283A Granted JPS59163387A (ja) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | 3−アルコキシメチルセフアロスポリンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59163387A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2061485T3 (es) * | 1986-10-02 | 1994-12-16 | Asahi Chemical Ind | Procedimiento para la fabricacion de 3-alcoximetilcefalosporinas. |
| JP2612493B2 (ja) * | 1988-05-24 | 1997-05-21 | 旭化成工業株式会社 | 3―置換メチル―3―セフェム―4―カルボン酸類の製造方法 |
| ATE123286T1 (de) | 1990-11-07 | 1995-06-15 | Sankyo Co | Verfahren zur herstellung von 3-alkoxymethyl cephalosporinderivate. |
| AT401177B (de) * | 1993-10-22 | 1996-07-25 | Biochemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von 7-amino-3-cephem-4-carbonsäure-derivaten |
| JPH09249983A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-22 | Otsuka Chem Co Ltd | 3−アルコキシメチルセフェム化合物の製造法 |
| AT406773B (de) * | 1998-04-02 | 2000-08-25 | Biochemie Gmbh | Neues salz von 7-(2-(aminothiazol-4yl)-2- |
| EP2758407A1 (en) | 2011-09-20 | 2014-07-30 | Dhanuka Laboratories Ltd. | An improved process for cefpodoxime acid |
| WO2017153824A1 (en) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | Dhanuka Laboratories Ltd. | A process for alkylating the hydroxymethyl group at position -3 of cephalosporins |
-
1983
- 1983-03-07 JP JP3715283A patent/JPS59163387A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59163387A (ja) | 1984-09-14 |
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