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JP7778615B2 - イオン源、及び加速器 - Google Patents

イオン源、及び加速器

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JP7778615B2
JP7778615B2 JP2022043631A JP2022043631A JP7778615B2 JP 7778615 B2 JP7778615 B2 JP 7778615B2 JP 2022043631 A JP2022043631 A JP 2022043631A JP 2022043631 A JP2022043631 A JP 2022043631A JP 7778615 B2 JP7778615 B2 JP 7778615B2
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Description

本発明は、イオン源、及び加速器に関するものである。
従来、このような分野の技術として、下記特許文献1に記載のイオン源が知られている。このイオン源は、コールドカソードのペニングイオンゲージ(PIG)形状のイオン源であり、筒状の陽極と、陽極の両端に設けられる陰極と、を備える。
特表2011-505670号公報
上述のイオン源は、両方の陰極に対して電源からの配線部を接続する必要があった。そのため、配線部の取り回しが複雑になることにより、大型化してしまうという問題が生じる。
上記の問題に鑑み、本発明は、小型化を図ることができるイオン源、及び加速器を提供することを目的とする。
本発明の一形態に係るイオン源は、第1の極性を有する筒状の第1の電極と、第2の極性を有し、第1の電極の両端に設けられる第2の電極と、を備え、第1の電極の一端側の第2の電極には電源からの配線部が接続され、第1の電極の他端側の第2の電極には電源からの配線部が接続されない。
このイオン源は、第1の極性を有する筒状の第1の電極と、第2の極性を有し、第1の電極の両端に設けられる第2の電極と、を備える。第1の電極の軸方向に磁界を与えた状態で、第2の電極に電源から電流を流すことで、第1の電極の筒内空間では放電が行われ、イオンが生成される。ここで第1の電極の一端側の第2の電極には電源からの配線部が接続され、第1の電極の他端側の第2の電極には電源からの配線部が接続されない。そのため、電源からの配線部を一端側の第2の電極のみにまとめることで、配線部の取り回しの複雑化を抑制できる。以上より、イオン源の小型化を図ることができる。
イオン源は、一端側の第2の電極から、他端側の第2の電極へ向かって、第1の電極の筒内空間を延びる導電性部材を更に備えてよい。この場合、一端側の第2の電極と他端側の第2の電極とを導電性部材で結合することができる。また、第1の電極の筒内空間の内周面と近接する位置に、第2の電極に接続された導電性部材を配置することで、放電電圧を低くすることができる放電であるマグネトロン放電を筒内空間で引き起こしやすい構造とすることができる。
他端側の第2の電極は、弾性変形可能な支持部にて支持されてよい。この場合、一端側の第2の電極から延びる導電性部材を他端側の第2の電極に押し付けることで、支持部が弾性変形する。これにより、支持部は、各部材の寸法誤差などを吸収しながら、導電性部材と他端側の第2の電極の接触状態を維持することができる。
他端側の第2の電極は、導電性部材の他端側の端部を収容する収容部を有してよい。この場合、導電性部材の他端側の端部を収容部へ収容することで、他端側の第2の電極と導電性部材との接触状態を維持し易くなる。
導電性部材の他端側の端部は、他端側の第2の電極に対して非接触であってよい。この場合、導電性部材を非接触で他端側の第2の電極に近接させておくことで、両者を電気的に結合することができる。
本発明に係る加速器は、粒子加速に必要な磁場を形成するための一対の磁極と、磁極に設けられたイオン源と、を備える加速器であって、イオン源は、第1の極性を有する筒状の第1の電極と、第2の極性を有し、第1の電極の両端に設けられる第2の電極と、を備え、第1の電極の一端側の第2の電極には電源からの配線部が接続され、第1の電極の他端側の第2の電極には電源からの配線部が接続されない。
この加速器によれば、上述のイオン源と同様な作用・効果を得ることができる。また、イオン源の配線部の取り回しの複雑化を抑制することで、加速器に対して容易に組み込むことができ、加速器のメンテナンスも容易となる。
イオン源は、一方の磁極のみに対して配置されてよい。この場合、加速器に対して容易に組み込むことができ、加速器のメンテナンスも容易となる。
本発明によれば、小型化を図ることができるイオン源、及び加速器を提供することができる。
本発明に係る加速器の内部の平面図である。 図1の加速器が備える一対の磁極の模式図である。 本発明に係るイオン源の断面図である。 他端側の陰極に対する導電性部材の結合態様を示す断面図である。 他端側の陰極に対する導電性部材の結合態様を示す断面図である。 他端側の陰極に対する導電性部材の結合態様を示す断面図である。 比較例に係るイオン源の断面図である。
以下、図面を参照しつつ本発明に係るイオン源、及び加速器の実施形態について詳細に説明する。なお、本実施形態では、加速器としてサイクロトロンを例示する。図1に示される本実施形態のサイクロトロン1では、荷電粒子の螺旋状の周回軌道Bが水平面上にあるものとする。
図1に示されるように、サイクロトロン1は、真空容器3、ディ電極5A,5B、及びマグネティックチャンネル9を有する。真空容器3は、荷電粒子の加速空間を高真空状態に保持するための容器である。真空容器3内には、粒子加速に必要な磁場を形成するための一対の磁極21及び磁極23(図2参照)が設けられている。磁極21,23は、平面視で円形をなし、加速平面であるメディアンプレーンに対して上下面対称の形状を成している。また、磁極21,23は、荷電粒子の周回軌道Bを挟んで、上下方向(図1の紙面に直交する方向)に対面して配置されている。磁極21,23のそれぞれの周囲にコイルが配置され、磁極21と磁極23との間に磁場が発生される。
図2は、磁極21,23のみを模式的に示す斜視図である。図に示されるように、磁極21,23は円柱状をなしている。以下で用いる「径方向」及び「周方向」との文言は、図1の方向から見た磁極21,23の輪郭形状である円の径方向及び周方向を意味するものとする。磁極21の上面には、螺旋状に湾曲した4つの凸部21aと、4つの凹部21bとが、周方向に交互に配列され形成されている。そして、磁極23の下面にも、螺旋状に湾曲した4つの凸部23aと、4つの凹部23bとが、周方向に交互に配列され形成されている。凸部21aと凸部23a、凹部21bと凹部23bは、互いにメディアンプレーンに対して面対称をなすようにギャップをあけて配置されている。なお、ここで磁極21,23の凸部21a,23aとは、メディアンプレーンに向けて突出している部分であり、凹部21b,23bとは、メディアンプレーンから離れるように凹んでいる部分である。また、メディアンプレーンとは、荷電粒子ビームが加速して進行する周回軌道Bが位置する平面である。厳密には、荷電粒子ビームは、磁極21,23が対向する方向(図3における上下方向)に振動しながら進行するので、振動する荷電粒子ビームの、磁極21,23が対向する方向の位置のおよそ中央値を取った平面がメディアンプレーンとなる。なお、凸部21a,23a及び凹部21b,23bの形状は、上記のような螺旋状に湾曲した形状に限られず、扇形であってもよい。
磁極21と磁極23との間には、凸部21aと凸部23aとで挟まれた狭いギャップのヒル領域25hと、凹部21bと凹部23bとで挟まれた広いギャップのバレー領域25vとが形成されている。磁極21,23との対称面上に、荷電粒子の螺旋状の周回軌道Bが形成される。
ディ電極5A,5Bは、真空容器3の内部で荷電粒子を加速するための電場を発生させるキャビティー部の一部である。ディ電極5A,5Bは、両方ともバレー領域25vに配置され、互いに径方向に対向するように配置されている。ディ電極5A,5Bは、平面視でバレー領域25vの形状に沿った形状に形成されている。磁極21の中心部には、イオン源11が配置される。イオン源11は、メディアンプレーン上に荷電粒子を供給する。イオン源11は、下側の磁極21のみに対して配置されており、上側の磁極23には固定されていない。
図1に示す静電デフレクタ90は、磁場中で周回軌道Bを周回する荷電粒子を偏向させて、引出軌道に引き出す機能を有する。マグネティックチャンネル9は、静電デフレクタ90で引き出された荷電粒子を更に外に曲げる機能と、荷電粒子を水平方向に収束する機能を有している。マグネティックチャンネル9として、マグネティックチャンネル9A、及びマグネティックチャンネル9Bが設けられている。
マグネティックチャンネル9Aは、ディ電極5Aの内部に設けられる。マグネティックチャンネル9Aは、ディ電極5Aの外周側の端部に設けられており、周回軌道Bの最外周部に対応する位置に設けられている。マグネティックチャンネル9Aは、静電デフレクタ90で引き出された荷電粒子を更に外に曲げる機能と、荷電粒子を水平方向に収束する機能の両方を有している。マグネティックチャンネル9Bは、荷電粒子の周回軌道Bにおいて、マグネティックチャンネル9Aから下流側へ離間して設けられている。マグネティックチャンネル9Bは、平面視において磁極21,23の外側に設けられる。マグネティックチャンネル9Bは、真空容器3の壁部内に配置される。マグネティックチャンネル9Bは、荷電粒子を水平方向に収束する機能を有する。
サイクロトロン1では、磁極21と磁極23との間に磁場を発生させると共に、ディ電極5A,5Bとアース板13の間で高周波電場が付与されることで、荷電粒子が、加速されつつ、メディアンプレーン上の螺旋状の周回軌道Bを進行する。径方向の外周側に達した荷電粒子は、静電デフレクタ90で周回軌道から分けられ、マグネティックチャンネル9Aの導入ギャップを通過することで、偏向と収束を繰り返し、更にマグネティックチャンネル9Bの導入ギャップを通過することで収束されながら、ビーム引出ダクトを通じて外部に引き出される。
図3を参照して、イオン源11について詳細に説明する。図3はイオン源11の断面図である。図3に示すように、イオン源11は、陽極12(第1の電極)と、一対の陰極13A,13B(第2の電極)と、導電性部材14と、配線構造30と、を備える。
陽極12は、筒状の部材である。なお、陽極12の中心軸が延びる方向を軸方向D1と称する場合がある。本実施形態では、軸方向D1は上下方向と平行になる。陽極12は、下端12a(一端)と、上端12b(他端)と、内周面12cと、を有する。陽極12は、下端12aと上端12bとの間で軸方向D1に延びる筒内空間17を有する。なお、陽極12には、下端12a側に陰極13Aを支持するための絶縁部材18Aが設けられる。陽極12には、上端12b側に陰極13Bを支持するための絶縁部材18Bが設けられる。
一対の陰極13A,13Bは、陽極12の両端に設けられる。これにより、陰極13Aと陰極13Bは、軸方向D1に互いに離間した状態で対向するように配置される。陰極13Aは、陽極12の下端12a側に設けられる。陰極13Aは、絶縁部材18Aを介して陽極12の下端12a側に支持される。陰極13Aは、絶縁部材18Aを軸方向D1に貫通した状態で、絶縁部材18Aに支持される。陰極13Aの下端側の部分は、絶縁部材18Aの下端から露出している。陰極13Aの上端側の部分は、絶縁部材18Aの上端から筒内空間17へ露出している。陰極13Bは、陽極12の上端12b側に設けられる。陰極13Bは、絶縁部材18Bを介して陽極12の上端12b側に支持される。陰極13Bは、絶縁部材18Bの下端から筒内空間17へ露出している。
導電性部材14は、下端12a側の陰極13Aから、上端12b側の陰極13Bへ向かって、陽極12の筒内空間17を延びる。導電性部材14は、下端12a側の陰極13Aの上端に固定され、上方へ向かって延びる柱状の部材である。導電性部材14と陽極12の内周面との間には、放電のための隙間が形成される。導電性部材14の上端は、上端12b側の陰極13Bと電気的に結合される。結合態様については後述する。
配線構造30は、電源31と、配線部32と、配線部33と、接地部34と、を備える。電源31は、陽極12と陰極13A,13Bとの間に放電電圧を印加する。配線部32は、電源31と陽極12とを電気的に接続する。配線部32は、陽極12の何れかの位置に接続される。配線部32は、接地部34と接続される。これにより、陽極12は接地電位となる。
配線部33は、電源31と陰極13A,13Bとを電気的に接続する。ここで、下端12a側の陰極13Aには電源31からの配線部33が接続されている。一方、上端12b側の陰極13Bには電源31からの配線部33が接続されない。上端12b側の陰極13Bは、導電性部材14を介して下端12a側の陰極13Aと電気的に結合される。従って、上端12b側の陰極13Bは、配線部33、下端12a側の陰極13A、及び導電性部材14を介して電源31と電気的に接続される。
次に、図4~図6を参照して、導電性部材14と上端12b側の陰極13Bとの結合態様の一例について説明する。図4に示すように、上端12b側の陰極13Bは、弾性変形可能な支持部41にて支持されてよい。支持部41は、板バネ等によって構成される。陽極12の上端12b側には、陰極13Bを支持する絶縁部材18Bを収容する収容部42が形成される。収容部42は、絶縁部材18Bを軸方向D1へ移動可能に支持する。収容部42の上端にはフランジ部43が形成される。支持部41は、絶縁部材18Bとフランジ部43との間に配置される。これにより、組立時において、陰極13Aに固定された導電性部材14を下端12a側の18Aを介して筒内空間17へ下方から上方へ向けて挿入すると、導電性部材14の上端が上端12b側の陰極13Bに当接する。導電性部材14を更に上方へ押し込むと、陰極13B及び絶縁部材18Bが上方へ押し付けられ、支持部41が弾性変形する。これにより、支持部41は、導電性部材14と陰極13Bとが互いに接触して押し付けられた状態を維持することができる。
次に、本実施形態に係るイオン源11、及びサイクロトロン1の作用・効果について説明する。
本実施形態に係るイオン源11は、陽極性(第1の極性)を有する筒状の陽極12と、陰極性(第2の極性)を有し、陽極12の両端に設けられる陰極13A,13Bと、を備える。陽極12の軸方向D1に磁界を与えた状態で、陰極13A,13Bに電源31から電流を流すことで、陽極12の筒内空間17では放電が行われ、イオンが生成される。ここで、イオン源11は、軸方向D1に延びる導電性部材14を有する。そのため、筒内空間17内では、磁場と直交する方向に同心円状に電場が形成される。これにより、導電性部材14の周りを回るようにプラズマが発生し、イオンが生成される。このように、磁場と直交する方向に電場を形成して放電を行う方式は、マグネトロン放電という。マグネトロン放電は、放電効率が高い放電であるため、PIG放電などに比べて放電電圧を低くすることができる。
ここで、図7を参照して、比較例に係るイオン源100について説明する。図7に示すように、比較例に係るイオン源100は、コールドカソードのペニングイオンゲージ(PIG)形状のイオン源である。イオン源100は、上述の導電性部材14を有していない。従って、陰極13A,13B同士は導電性部材14を介して結合されていない。従って、陰極13A,13Bの両方に対して電源31からの配線部33A,33Bが接続される。そのため、イオン源100は、配線部33A,33Bの取り回しが複雑になることにより、大型化してしまうという問題が生じる。例えば、ラジアル型のサイクロトロンなどであれば、イオン源を半径方向から挿入することができるが、本実施形態のようなスパイラル型のサイクロトロン1では、イオン源11を半径方向から挿入することができないため、上下方向からイオン源11を挿入する必要がある。ここで、配線部33A,33Bはメディアンプレーンを横切ることができないため、各磁極21,23において適切にはい回す必要がある。従って、下端12a側の陰極13Aを下側の磁極21に固定して配線部33Aをはい回し、上端12b側の陰極13Bを上側の磁極23に固定して配線部33Bをはい回す構造となる。当該構造では、サイクロトロン1の真空を破らずにメンテナンスを行うことができないため、メンテナンス性が低下する。
これに対し、本実施形態に係るイオン源11において、下端12a側の陰極13Aには電源31からの配線部33が接続され、上端12b側の陰極13Bには電源31からの配線部が接続されない。そのため、電源31からの配線部33を下端12a側の陰極13Aのみにまとめることで、配線部33の取り回しの複雑化を抑制できる。以上より、イオン源の小型化を図ることができる。このようなイオン源11は、下側の磁極21にだけ固定して配線部33をはい回せばよく、上側の磁極23に上側の陰極13Bを固定する必要がない。そのため、サイクロトロン1の真空を破らずにメンテナンスを行うことができるため、メンテナンス性が低下する。
イオン源11は、下端12a側の陰極13Aから、上端12b側の陰極13Bへ向かって、陽極12の筒内空間17を延びる導電性部材14を更に備えてよい。この場合、下端12a側の陰極13Aと上端12b側の陰極13Bとを導電性部材14で結合することができる。また、陽極12の筒内空間17の内周面12cと近接する位置に、陰極13A,13Bに接続された導電性部材14を配置することで、放電電圧を低くすることができる放電であるマグネトロン放電を筒内空間17で引き起こしやすい構造とすることができる。
上端12b側の陰極13Bは、弾性変形可能な支持部41にて支持されてよい。この場合、下端12a側の陰極13Aから延びる導電性部材14を上端12b側の陰極13Bに押し付けることで、支持部41が弾性変形する。これにより、支持部41は、各部材の寸法誤差などを吸収しながら、導電性部材14と上端12b側の陰極13Bの接触状態を維持することができる。
本実施形態に係るサイクロトロン1は、粒子加速に必要な磁場を形成するための一対の磁極21,23と、磁極21に設けられたイオン源11を、を備えるサイクロトロン1である。イオン源11は、陽極性(第1の極性)を有する筒状の陽極12と、陰極性(第2の極性)を有し、陽極12の両端に設けられる陰極13A,13Bと、を備える。下端12a側の陰極13Aには電源31からの配線部33が接続され、上端12b側の陰極13Bには電源31からの配線部が接続されない。
このサイクロトロン1によれば、上述のイオン源11と同様な作用・効果を得ることができる。また、イオン源11の配線部33の取り回しの複雑化を抑制することで、サイクロトロン1に対して容易に組み込むことができ、サイクロトロン1のメンテナンスも容易となる。
イオン源11は、一方の磁極21のみに対して配置されてよい。この場合、サイクロトロン1に対して容易に組み込むことができ、サイクロトロン1のメンテナンスも容易となる。
本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。
導電性部材14を上端12b側の陰極13Bに対してどのように結合するかは特に限定されない。例えば、図5に示すように、上端12b側の陰極13Bは、導電性部材14の上端側の端部を収容する収容部44を有してよい。この場合、導電性部材14の上端側の端部を収容部44へ収容することで、部材間の誤差の偏心や倒れなどにより、導電性部材14の外周面と収容部44の内周面とを互いに接触させることができる。これにより、上端側の陰極13Bと導電性部材14との接触状態を維持し易くなる。
図6に示すように、導電性部材14の上端側の端部は、上端12b側の陰極13Bに対して非接触であってよい。この場合、導電性部材14を非接触で上端12b側の陰極13Bに近接させておき、陰極13Bを浮遊状態としておく。当該状態で両者に高圧の放電電圧を印加すると、両者を電気的に結合することができる。
上述の実施形態では、軸方向D1が上下方向であったが、使用状態におけるイオン源11の姿勢は特に限定されず加速器の向きなどに合わせて適宜変更されてよい。また、下端12a側の陰極13Aに配線部33を接続したが、上端12b側の陰極13Bに配線部33を接続してもよい。
スパイラル型に限定されず、ラジアル型でもよい。加速器の種類もサイクロトロンに限定されず、マイクロトロン、ベータトロン等であってもよい。
1…サイクロトロン(加速器)、11…イオン源、12…陽極(第1の電極)、13A,13B…陰極(第2の電極)、14…導電性部材、21,23…磁極、31…電源、33…配線部、41…支持部、44…収容部。

Claims (6)

  1. 第1の極性を有する筒状の第1の電極と、
    第2の極性を有し、前記第1の電極の両端に設けられる第2の電極と、を備え、
    前記第1の電極の一端側の前記第2の電極には電源からの配線部が接続され、
    前記第1の電極の他端側の前記第2の電極には前記電源からの前記配線部が接続されず、
    前記一端側の前記第2の電極から、前記他端側の前記第2の電極へ向かって、前記第1の電極の筒内空間を延び、前記他端側の端部が前記他端側の前記第2の電極と電気的に結合される導電性部材を更に備える、イオン源。
  2. 前記他端側の前記第2の電極は、弾性変形可能な支持部にて支持される、請求項に記載のイオン源。
  3. 前記他端側の前記第2の電極は、前記導電性部材の前記他端側の端部を収容する収容部を有する、請求項に記載のイオン源。
  4. 前記導電性部材の前記他端側の端部は、前記他端側の前記第2の電極に対して非接触である、請求項に記載のイオン源。
  5. 粒子加速に必要な磁場を形成するための一対の磁極と、
    前記磁極に設けられたイオン源と、を備える加速器であって、
    前記イオン源は、
    第1の極性を有する筒状の第1の電極と、
    第2の極性を有し、前記第1の電極の両端に設けられる第2の電極と、を備え、
    前記第1の電極の一端側の前記第2の電極には電源からの配線部が接続され、
    前記第1の電極の他端側の前記第2の電極には前記電源からの前記配線部が接続されず、
    前記一端側の前記第2の電極から、前記他端側の前記第2の電極へ向かって、前記第1の電極の筒内空間を延び、前記他端側の端部が前記他端側の前記第2の電極と電気的に結合される導電性部材を更に備える、加速器。
  6. 前記イオン源は、一方の前記磁極のみに対して配置される、請求項に記載の加速器。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006351374A (ja) 2005-06-16 2006-12-28 Jeol Ltd イオン源
JP2013524467A (ja) 2010-04-09 2013-06-17 イー エイ フィシオネ インストルメンツ インコーポレーテッド 改良型イオン源
JP2015532507A (ja) 2012-09-28 2015-11-09 メビオン・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド 粒子ビームの強度の制御

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57113547A (en) * 1980-12-16 1982-07-15 Efuimoobitsuchi Kureind Yuurii Electron ion source

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006351374A (ja) 2005-06-16 2006-12-28 Jeol Ltd イオン源
JP2013524467A (ja) 2010-04-09 2013-06-17 イー エイ フィシオネ インストルメンツ インコーポレーテッド 改良型イオン源
JP2015532507A (ja) 2012-09-28 2015-11-09 メビオン・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド 粒子ビームの強度の制御

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
N. Kamiguchi et al.,Development of a Center Region for New Sumitomo Cyclotron,Proceedings of 22nd International Conference on Cyclotrons and their Applications,2020年,p.240-241

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