JP7483671B2 - 置換ヘテロ環縮合ガンマ-カルボリン類合成 - Google Patents
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Description
本出願は、2018年6月11日出願の米国仮出願62/683,411および2018年12月17日出願の米国仮出願62/780,742に基づく優先権および利益を主張する国際出願であり、これらの各々を引用により全体として本明細書に包含させる。
本発明は、置換ヘテロ環縮合ガンマ-カルボリン類を製造する方法、それらの製造に有用な中間体およびこのような中間体を製造する方法ならびにこれらの方法により製造したこのような化合物を含む組成物に関する。
置換ヘテロ環縮合ガンマ-カルボリン類は、肥満、不安、うつ病、精神疾患、統合失調症、睡眠障害、性障害、片頭痛、頭痛と関連する諸症状、社会恐怖症および消化管運動機能不全などの消化器障害を含む中枢神経系障害の処置において5-HT2受容体、特に5-HT2Aおよび5-HT2C受容体のアゴニストまたはアンタゴニストとして有用である。
本発明は、遊離形態または薬学的に許容される塩形態の置換ヘテロ環縮合ガンマ-カルボリン類を製造する方法、それらの製造に使用する中間体、例えばエナンチオマー的に純粋な2,3,4,4a,5,9b-ヘキサヒドロ-1H-ピリド[4,3-b]インドールタイプ中間体および該中間体を製造する方法および該置換ヘテロ環縮合ガンマ-カルボリン類が本発明において開示される。本発明により製造される置換ヘテロ環縮合ガンマ-カルボリン類およびそれらの薬学的に許容される塩は、式1Jおよび2J
に示すコア構造により表される。式1Jの化合物(および類似する本明細書における式1類)において、示される立体化学は、例えば、式1Iの化合物の4aS、9bR配置および式1Jの化合物の6bR、10aS配置に対応する、絶対立体化学であることが理解される。対照的に、式2Jの化合物(および類似する本明細書における式2類)において、立体化学は、二つの隣接する立体中心の相対立体化学であることが理解される。それゆえに、例えば、上記式2Jの化合物において、該式は、6bR、4aS配置を有する化合物および6bS、4aR配置を有する化合物両者またはこれらの組み合わせを表す。
遊離形態または塩形態、例えば、酸付加塩形態、所望により固体形態の、式1I
RはHまたはC1-4アルキル(例えば、メチル)である。〕
の化合物。
1.1 RがC1-C4アルキルである、式1I。
1.2 Rがメチルである、式1I。
1.3 化合物が遊離塩基形態である、式1I、1.1または1.2。
1.4 化合物が酸付加塩形態である、式1I、1.1または1.2。
1.5 酸付加塩形態がハロゲン化水素酸塩形態(塩基対酸モル比1:1~3:1の、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩またはフッ化水素酸塩)である、式1.4。
1.6 酸付加塩形態が塩酸塩である、式1.5。
1.7 該化合物が固体形態、例えば、固体非晶質形態または固体結晶形態である、先の式の何れか。
1.8 該化合物が、全ての他の立体異性体に対するcis立体異性体が少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%、より好ましくは少なくとも90%、最も好ましくは95%乃至100%であるおよび/または該化合物は少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%、より好ましくは少なくとも90%、最も好ましくは95%を超えまたは97%を超えまたは99%を超えまたは99.5%を超えまたは99.9%~100% (すなわち、上記4aS、9bRエナンチオマーについて)のエナンチオマー過剰率(e.e.)を有する、先の式の何れか。
遊離形態または塩形態、例えば、酸付加塩形態、所望により固体形態の式2I
RはHまたはC1-4アルキル(例えば、メチル)である。〕
の化合物。
2.1 RがC1-C4アルキルである、式2I。
2.2 Rがメチルである、式2I。
2.3 化合物が遊離塩基形態である、式2I、2.1または2.2。
2.4 化合物が酸付加塩形態である、式2I、2.1または2.2。
2.5 酸付加塩形態がハロゲン化水素酸塩形態(塩基対酸モル比1:1~3:1の、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩またはフッ化水素酸塩)である、式2.4。
2.6 酸付加塩形態が塩酸塩である、式2.5。
2.7 該化合物が固体形態、例えば、固体非晶質形態または固体結晶形態である、先の式の何れか。
2.8 該化合物が、全ての他の立体異性体に対するcis立体異性体が少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%、より好ましくは少なくとも90%、最も好ましくは95%~100%である、先の式の何れか。
ある実施態様において、本発明は、次のスキームに示す、式1Jの化合物の製造方法に関する
(i) AはBr、ClおよびIから選択され、
(ii) RはHおよびC1-4アルキル(例えばメチル)から選択され、
(iii) Bはここに定義する保護基であり、そして
(iv) Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルおよび3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルから選択され、
ここで、化合物1A、1B、1C、1D、1E、1F、1H、1Iおよび1Jの各々は、独立して、遊離塩基形態または塩形態(例えば、酸付加塩形態)である。化合物1Bは、実質的に、本質的なまたは完全なラセミcis異性体、すなわち、あらゆるtrans異性体が実質的または完全に排除された、2つのcisエナンチオマーをほぼ等量で含むことが理解される。化合物1Cは、逆のcisエナンチオマーまたはあらゆるtrans立体異性体が実質的または完全に排除された、実質的に、本質的にまたは完全に単一化合物1Cであることはさらが理解される。
(i) AはBr、ClおよびIから選択され、
(ii) RはHおよびC1-4アルキル(例えばメチル)から選択され、
(iii) Bはここに定義する保護基であり、そして
(iv) Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルおよび3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルから選択される、
ここで、化合物化合物1A、1B、2C、2D、2E、2F、2H、2Iおよび2JJの各々は、独立して、遊離塩基形態または塩形態(例えば、酸付加塩形態)である。化合物1Bは、実質的な、本質的なまたは完全なラセミcis異性体、すなわち、あらゆるtrans異性体が実質的または完全に排除された、2つのcisエナンチオマーをほぼ等量で含むことが理解される。化合物2Cは、逆のcisエナンチオマーまたはあらゆるtrans立体異性体が実質的または完全に排除された、実質的に、本質的にまたは完全に単一化合物2Cであることがさらに理解される。
3.1 RがHである、式1J。
3.2 RがC1-4アルキルである、式1J。
3.3 Rがメチルである、式1J。
3.4 Qが4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルである、式1Jまたは3.1~3.3の何れか。
3.5 Qが3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルである、式1Jまたは3.1~3.3の何れか。
3.6 RがメチルであるおよびQが4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルである、式1Jまたは3.1~3.4の何れか。
3.7 式1Jの化合物が遊離塩基形態である、式1Jまたは3.1~3.6の何れか。
3.8 式1Jの化合物が塩形態である、式1Jまたは3.1~3.6の何れか。
3.9 式1Jの化合物が酸付加塩形態である、式1Jまたは3.1~3.6の何れか。
3.10 式1Jの化合物が、例えば、遊離塩基対酸1:1~1:3比の、トシル酸塩または塩酸塩形態である、式1Jまたは3.1~3.6の何れか。
3.11 式1Jの化合物が固体形態(例えば、固体非晶質形態または固体結晶形態)である、式1Jまたは3.1~3.10の何れか。
3.12 式1Jの化合物が固体結晶形態、例えば、固体結晶遊離塩基形態または固体結晶塩形態である、式1Jまたは3.1~3.10の何れか。
3.13 式1Jの化合物が、例えば、米国8,648,077、米国9,199,995および米国9,586,960(またはその継続再公開出願、16/294,607)の何れかに記載(これら各々の内容を引用により全体として本明細書に包含させる)の、固体結晶トシル酸塩形態(一トシル酸塩、二トシル酸塩または三トシル酸塩またはこれらの何れかの組み合わせ)である、式3.12。
3.14 式1Jの化合物が、全ての他の立体異性体に対して少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%、より好ましくは少なくとも90%、最も好ましくは95%を超え、100%までのcis立体異性体である、式1Jまたは3.1~3.13の何れか。
3.15 式1Jの化合物が実質的にエナンチオマー的に純粋な形態、例えば、少なくとも90%e.e.、好ましくは少なくとも95%e.e.または少なくとも97%e.e.または少なくとも99%e.e.または少なくとも99.5%e.e.または少なくとも99.9%e.e.~100%e.e.である、式1Jまたは3.1~3.14の何れか。
4.1 RがHである、式2J。
4.2 RがC1-4アルキルである、式2J。
4.3 Rがメチルである、式2J。
4.4 Qが4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルである、式2Jまたは4.1~4.3の何れか。
4.5 Qが3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルである、式2Jまたは4.1~4.3の何れか。
4.6 RがメチルであるおよびQが4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルである、式2Jまたは4.1~4.4の何れか。
4.7 式2Jの化合物が遊離塩基形態である、式2Jまたは4.1~4.6の何れか。
4.8 式2Jの化合物が塩形態である、式2Jまたは4.1~4.6の何れか。
4.9 式2Jの化合物が酸付加塩形態である、式2Jまたは4.1~4.6の何れか。
4.10 式2Jの化合物が、例えば、遊離塩基対酸1:1~1:3比の、トシル酸塩または塩酸塩形態である、式2Jまたは4.1~4.6の何れか。
4.11 式2Jの化合物が固体形態(例えば、固体非晶質形態または固体結晶形態)である、式2Jまたは4.1~4.10の何れか。
4.12 式2Jの化合物が固体結晶形態、例えば、固体結晶遊離塩基形態または固体結晶塩形態である、式2Jまたは4.1~4.10の何れか。
4.13 式2Jの化合物が、例えば、米国8,648,077、米国9,199,995および米国9,586,960(またはその継続再公開出願、16/294,607)の何れかに記載(これら各々の内容を引用により全体として本明細書に包含させる)の、固体結晶トシル酸塩形態(一トシル酸塩、二トシル酸塩または三トシル酸塩またはこれらの組み合わせ)である、式4.12。
4.14 式2Jの化合物が、全ての他の立体異性体に対して少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%、より好ましくは少なくとも90%、最も好ましくは95%を超え、100%までのcis立体異性体である、式2Jまたは4.1~4.13の何れか。
4.15 式2Jの化合物が実質的にエナンチオマー的に純粋な形態、例えば、少なくとも90%e.e.、好ましくは少なくとも95%e.e.または少なくとも97%e.e.または少なくとも99%e.e.または少なくとも99.5%または少なくとも99.9%e.e.~100%e.e.である、式2Jまたは4.1~4.14の何れか。
第一の態様において、本発明は、(a)遊離形態または塩形態の式1Eの化合物と、(i)周期表の第8~11族からなる群から選択される遷移金属触媒、(ii)所望により塩基、(iii)所望によりアルカリ金属ヨウ化物(例えばヨウ化カリウム)および(iv)所望により単座配位子または二座配位子を反応させて、遊離形態または塩形態の式1Fの中間体を形成させ、(b)式1Fの化合物のアミドカルボニルを還元して、遊離形態または塩形態の式1Hの中間体を得て、そして(c)式1Hの化合物のピペリジン窒素を脱保護して、遊離形態または塩形態の式1Iの化合物(または1.1~1.8の何れか)を得る工程を含む、遊離形態または塩形態の式1Iの化合物または1.1~1.8の何れかを製造する方法を提供する。
5.1 式1Iまたは2Iの化合物が、それぞれ式1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物である、方法1Iまたは2I。
5.2 式1Eまたは2Eの化合物の置換基AがBr、ClおよびIから選択される、方法1Iまたは2I。
5.3 AがBrである、方法5.2。
5.4 式1E、1F、1Hおよび1Iまたは2E、2F、2Hおよび2Iの化合物の置換基RがC1-4アルキル(例えば、メチル)である、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.5 式1Eおよび1Fまたは2Eおよび2Fの化合物の置換基RがHである、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.6 式1E、1Fおよび1Hまたは2E、2Fおよび2Hの化合物の保護基Bが式P-Zであり、ここで、PがCH2、C(O)、C(O)OおよびS(O)2から選択され、Zが場合により置換されているアルキル、アリール、アルキルアリールまたは-OR’であり、R’がアルキル、アリール、アリールアルキルまたはヘテロアリールアルキルである、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.7 保護基Bがアシル基(例えば、アルカノイルまたはアルコキシカルボニル基)、例えば、t-ブトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、エトキシカルボニルまたはメトキシカルボニルまたは場合により置換されているベンジルオキシカルボニル(例えば、ベンジルオキシカルボニル)である、方法5.6。
5.8 保護基Bがエトキシカルボニルである、方法5.7。
5.9 保護基が場合により置換されているベンジル基、例えば、ベンジル、4-メトキシベンジルまたは2,4-ジメトキシベンジルである、方法5.6。
5.10 工程(a)の遷移金属触媒が銅触媒である、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.11 工程(a)の遷移金属触媒がCuI、CuBr、CuCl、Cu(OAc)2、Cu2Cl2、CuBr2、CuSO4、Cu2SO4およびCu2Oから選択される、方法5.10。
5.12 工程(a)の遷移金属触媒がCuI、CuBrおよびCuClから選択される、方法5.11。
5.13 遷移金属触媒がCuIである、方法5.12。
5.14 工程(a)の遷移金属触媒が0.01~0.50当量、例えば、0.05~0.40当量または0.10~0.30当量または0.15~0.25当量または約0.20当量の量で存在する、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.15 工程(a)の塩基が、例えば、アミン類、アルコキシド塩基、炭酸塩基およびリン酸塩基およびそれらの混合物から選択されるブレンステッド塩基である、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.16 工程(a)の塩基が炭酸塩塩基、例えば、アルカリまたはアルカリ土類金属炭酸塩または重炭酸塩またはそれらの混合物である、方法5.15。
5.17 工程(a)の塩基が炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウムまたは重炭酸カリウムまたはそれらの混合物から選択される、方法5.16。
5.18 工程(a)の塩基が、所望により1.5~3当量、例えば、2~2.5当量または約2.2当量の量で、炭酸カリウムを含む、方法5.17。
5.19 工程(a)が塩基(ii)を含まない、例えば、アルコキシド、炭酸基、リン酸塩または他の無機塩基を含まない、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.20 工程(a)が、例えば、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムおよびヨウ化リチウムから選択されるアルカリ金属ヨウ化物を含む、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.21 工程(a)がヨウ化カリウムを含む、方法5.20。
5.22 工程(a)が単座配位子または二座配位子、例えば、フェノール配位子またはアミン配位子またはホスフィン配位子から選択される配位子を含む、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.23 配位子が場合により置換されている1,2-ジアミン、場合により置換されている1,2-アミノアルコール、DBU、DBNまたはDABCOから選択される、方法5.22。
5.24 配位子がDBUである、方法5.23。
5.25 工程(a)の配位子が0.01~0.50当量、例えば、0.05~0.45当量または0.10~0.40当量または0.20~0.30当量または約0.25当量の量で存在する、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.26 工程(a)の溶媒がトルエンまたはジオキサンである、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.27 工程(b)の還元が金属水素化物、ボラン類および有機ボラン類から選択される還元剤を使用して達成される、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.28 還元剤がボラン類、例えば、ボラン(BH3)およびボラン錯体(例えば、BH3-THF、BH3-Me2SおよびBH3-NH3)から選択される、方法5.27。
5.29 還元剤がボラン-THF錯体である、方法5.28。
5.30 工程(b)の溶媒がトルエンとTHFの混合物である、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.31 工程(b)の還元剤が1.5~5当量、例えば、2~4当量または2.5~3.5当量または約3当量の量で存在する、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.32 脱保護工程(c)が酸または塩基介在開裂反応、加水分解反応(例えば、酸または塩基触媒)または水素化反応である、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.33 脱保護工程(c)が水性加水分解、例えば、酸性または塩基性加水分解である、方法5.32。
5.34 水性加水分解が、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸および硝酸から選択される酸性触媒を含む、方法5.33。
5.35 水性加水分解が塩酸水溶液を含む、方法5.33。
5.36 水性加水分解が、例えば、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物から選択される塩基性触媒を含む、方法5.33。
5.37 脱保護工程(c)が、例えば、所望により無溶媒でまたは有機溶媒と共に強酸(例えば、塩酸、トリフルオロ酢酸またはメタンスルホン酸)を含む、酸介在開裂である、方法5.32。
5.38 脱保護工程(c)が、例えば、有機溶媒中の有機塩基(例えばピペリジン)を含む塩基介在開裂である、方法5.32。
5.39 脱保護工程(c)が水素化反応、例えば、遷移金属触媒(例えば、白金またはパラジウム)および水素を含む接触水素化である、方法5.32。
5.40 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が固体、例えば、非晶質または結晶固体として得られる、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.41 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が実質的に純粋な形態、例えば、90wt%を超える純度、または、例えば、95wt%~100wt%の純度で得られる、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.42 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が、所望により、結晶固体として、遊離形態(すなわち、遊離塩基形態)で得られる、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.43 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が塩形態、例えば、酸付加塩形態で得られる、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.44 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が、例えば、塩基対酸モル比1:1~3:1の塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩またはメタンスルホン酸塩から選択される付加塩として得られる、方法5.43。
5.45 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が塩酸塩、例えば、固体塩酸塩または結晶固体塩酸塩(例えば、一塩酸塩、二塩酸塩および/または三塩酸塩)として得られる、方法5.44。
5.46 方法が式1Fおよび1Hまたは2Fおよび2Hの中間体の単離なしにまたは精製なしに行われる、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.47 工程(a)、(b)および(c)がひとつの反応容器または連結された一組の複数反応容器で連続的に実施される、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.48 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が約50ppm未満の銅または約10ppm未満の銅または約5ppm未満の銅を有する形態で得られる、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.49 方法が、ここに記載するとおり、適当なアルキル化剤で式1Iまたは2Iの化合物のピペリジン窒素をアルキル化して、遊離形態または塩形態の式1Jまたは2Jの化合物を得る工程(d)をさらに含む、方法1Iまたは2Iまたは5.1以降の何れか。
5.50 式1Jまたは2Jの化合物が工程(d)から遊離塩基形態で得られ、方法がさらに遊離塩基形態の該式1Jまたは2Jの化合物を、塩形態、例えば、酸付加塩形態(例えば、トシル酸塩形態)の式1Jまたは2Jの化合物に変換する工程(e)をさらに含む、方法5.49。
5.51 方法が、それぞれ式3.1~3.15または4.1~4.15により記載の式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法5.49または5.50。
5.52 以下の工程をとおして、ここでの実施態様の何れかに記載された次の工程の何れかまたは全てをさらに含む、方法1Iまたは2Iまたは5.1~5.51の何れか:
a. 所望により酢酸溶媒中で、遊離形態または塩形態の2-ブロモフェニルヒドラジンと、所望により水和物形態の、遊離形態または塩形態の4-ピペリジノンを反応させることによる、式1Aの化合物の製造、
b. (a)式1Aの化合物の式1Bの化合物への還元であって、所望により還元が式1Aの化合物とトリエチルシランおよびメタンスルホン酸の反応を含むものおよび(b)キラル塩分割またはキラルクロマトグラフィーにより式1Bの立体異性体を分離して、式1Cまたは2Cの化合物を得て、所望によりキラル塩分割がS-マンデル酸を使用する一分割工程で実施されるものによる、遊離形態または塩形態の式1Cまたは2Cの化合物の製造、
c. 塩基存在下保護剤での式1Cまたは2Cの化合物のピペリジンアミンの保護による、遊離形態または塩形態の式1Dまたは2Dの化合物の製造、
d. 式1Dまたは2Dの化合物を(a)求核性アルキルハライドおよび(b)塩基でN-アルキル化することによる、遊離形態または塩形態での式1Eまたは2Eの化合物の製造。
6.1 式1Iまたは2Iの化合物が、それぞれ式1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物である、方法1Jまたは2J。
6.2 式1Eまたは2Eの化合物の置換基AがBr、ClおよびIから選択される、方法1Jまたは2J。
6.3 AがBrである、方法6.2。
6.4 式1E、1F、1Hおよび1Iまたは2E、2F、2Hおよび2Iの化合物の置換基RがC1-4アルキル(例えば、メチル)である、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.5 式1Eおよび1Fまたは2Eおよび2Fの化合物の置換基RがHである、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.6 式1E、1Fおよび1Hまたは2E、2Fおよび2Hの化合物の保護基Bが式P-Zであり、ここで、PがCH2、C(O)、C(O)OおよびS(O)2から選択され、Zが場合により置換されているアルキル、アリール、アルキルアリールまたは-OR’であり、R’がアルキル、アリール、アリールアルキルまたはヘテロアリールアルキルである、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.7 保護基Bがアシル基(例えば、アルカノイルまたはアルコキシカルボニル基)、例えば、t-ブトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、エトキシカルボニルまたはメトキシカルボニルまたは場合により置換されているベンジルオキシカルボニルである、方法6.6。
6.8 保護基Bがエトキシカルボニルである、方法6.7。
6.9 保護基が場合により置換されているベンジル基、例えば、ベンジル、4-メトキシベンジルまたは2,4-ジメトキシベンジルである、方法6.6。
6.10 工程(a)の遷移金属触媒が銅触媒である、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.11 工程(a)の遷移金属触媒がCuI、CuBr、CuCl、Cu(OAc)2、Cu2Cl2、CuBr2、CuSO4、Cu2SO4およびCu2Oから選択される、方法6.10。
6.12 工程(a)の遷移金属触媒がCuI、CuBrおよびCuClから選択され、所望により、触媒がCuIである、方法6.11。
6.13 遷移金属触媒がCuIである、方法6.12。
6.14 工程(a)の遷移金属触媒が0.01~0.50当量、例えば、0.05~0.40当量または0.10~0.30当量または0.15~0.25当量または約0.20当量の量で存在する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.15 工程(a)の塩基が、例えば、アミン塩基、アルコキシド、炭酸塩およびリン酸塩およびそれらの混合物から選択されるブレンステッド塩基である、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.16 工程(a)の塩基が炭酸塩塩基、例えば、アルカリまたはアルカリ土類金属炭酸塩または重炭酸塩またはそれらの混合物である、方法6.15。
6.17 工程(a)の塩基が炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウムまたは重炭酸カリウムまたはそれらの混合物から選択される、方法6.16。
6.18 工程(a)の塩基が、所望により1.5~3当量、例えば、2~2.5当量または約2.2当量の量で、炭酸カリウムを含む、方法6.17。
6.19 工程(a)が塩基(ii)を含まない、例えば、アルコキシド、炭酸塩、リン酸塩または他の無機塩基を含まない、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.20 工程(a)が、例えば、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムおよびヨウ化リチウムから選択されるアルカリ金属ヨウ化物を含む、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.21 工程(a)がヨウ化カリウムを含む、方法6.20。
6.22 工程(a)が単座配位子または二座配位子、例えば、フェノール配位子またはアミン配位子から選択される配位子を含む、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.23 配位子が場合により置換されている1,2-ジアミン、場合により置換されている1,2-アミノアルコール、DBU、DBNまたはDABCOから選択される、方法6.22。
6.24 配位子がDBUである、方法6.23。
6.25 工程(a)の配位子が0.01~0.50当量、例えば、0.05~0.45当量または0.10~0.40当量または0.20~0.30当量または約0.25当量の量で存在する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.26 工程(a)の溶媒がトルエンまたはジオキサンである、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.27 工程(b)の還元が金属水素化物、ボラン類および有機ボラン類から選択される還元剤を使用して達成される、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.28 還元剤がボラン類、例えば、ボラン(BH3)およびボラン錯体(例えば、BH3-THF、BH3-Me2SおよびBH3-NH3)から選択される、方法6.27。
6.29 還元剤がボラン-THF錯体である、方法6.28。
6.30 工程(b)の溶媒がトルエンとTHFの混合物である、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.31 工程(b)の還元剤が1.5~5当量、例えば、2~4当量または2.5~3.5当量または約3当量の量で存在する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.32 脱保護工程(c)が酸または塩基介在開裂反応、加水分解反応(例えば、酸または塩基触媒)または水素化反応である、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.33 脱保護工程(c)が水性加水分解、例えば、酸性または塩基性加水分解である、方法6.32。
6.34 水性加水分解が、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸および硝酸から選択される酸性触媒を含む、方法6.33。
6.35 水性加水分解が塩酸水溶液を含む、方法6.33。
6.36 水性加水分解が、例えば、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物から選択される塩基性触媒を含む、方法6.33。
6.37 脱保護工程(c)が、例えば、所望により無溶媒でまたは有機溶媒と共に強酸(例えば、塩酸、トリフルオロ酢酸またはメタンスルホン酸)を含む酸介在開裂である、方法6.32。
6.38 脱保護工程(c)が、例えば、有機溶媒中の有機塩基(例えばピペリジン)を含む塩基介在開裂である、方法6.32。
6.39 脱保護工程(c)が水素化反応、例えば、遷移金属触媒(例えば、白金またはパラジウム)および水素を含む接触水素化である、方法6.32。
6.40 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が固体、例えば、非晶質または結晶固体として得られる、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.41 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が実質的に純粋な形態、例えば、90wt%を超える純度、または、例えば、95wt%を超える純度、98.5%~100wt%の純度で得られる、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.42 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が、所望により、結晶固体として、遊離形態(すなわち、遊離塩基形態)で得られる、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.43 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が塩形態、例えば、酸付加塩形態で得られる、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.44 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が、例えば、塩基対酸モル比1:1~3:1の塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩またはメタンスルホン酸塩から選択される付加塩として得られる、方法6.43。
6.45 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が塩酸塩、例えば、固体塩酸塩または結晶固体塩酸塩(例えば、一塩酸塩、二塩酸塩および/または三塩酸塩)として得られる、方法6.44。
6.46 方法が式1Fおよび1Hまたは2Fおよび2Hの中間体の単離なしにまたは精製なしに行われる、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.47 工程(a)、(b)および(c)がひとつの反応容器または連結された一組の複数反応容器で連続的に実施される、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.48 式1Iまたは2Iの化合物(例えば、1.1~1.8または2.1~2.8の何れかの化合物)が約50ppm未満の銅または約10ppm未満の銅または約5ppm未満の銅を有する形態で得られる、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.49 式1Jまたは2Jの化合物が、それぞれ、式3.1~3.15または4.1~4.15の化合物である、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.50 工程(d)の適当なアルキル化剤が一般式Q-Xの化合物(式中、Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルおよび3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルから選択され、Xは何らかの適当な脱離基(例えば、求核性置換反応を受けやすいことが当分野で知られる官能基)である)である、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.51 基Xがクロロ、ブロモ、ヨード、C1-4アルキルスルホニルオキシ(例えばメタンスルホニルオキシ)および場合により置換されているアリールスルホニルオキシ(例えば、ベンゼンスルホニルオキシ、4-ニトロベンゼンスルホニルオキシ、4-ハロスルホニルオキシなど)から選択される、方法6.50。
6.52 式1Jまたは2Jの化合物の基Qが4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルである、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.53 式1Jまたは2Jの化合物の基Qが3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルである、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.54 アルキル化剤が4-クロロ-4’-フルオロブチロフェノンまたは1-クロロ-3-(4-フルオロフェノキシ)プロパンである、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.55 工程(d)がアルキル化剤(例えば、4-クロロ-4’-フルオロブチロフェノン)を1~3当量、例えば、1~2当量または1.25~1.75当量または約1.5当量の量で含む、例えば、1.35~1.65当量、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.56 工程(d)が適当な塩基、例えば、有機塩基(例えばアミン塩基)または無機塩基(例えば、水素化物、アルコキシド、アリールオキシド、炭酸、重炭酸、リン酸または水酸化物塩基)をさらに含む、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.57 工程(d)の塩基がトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムから選択される、方法6.56。
6.58 工程(d)の塩基が炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムである、方法6.57。
6.59 炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムが1~5当量、例えば、2~4当量または2.5~3.5当量または約3当量、例えば、2.7~3.3当量の量で存在する、方法6.58。
6.60 工程(d)が、所望により、0.75~1.5当量または1~1.25当量または約1当量、例えば、0.9~1.1当量の量で無機ヨウ化物塩(例えば、ヨウ化カリウムまたはヨウ化ナトリウム)をさらに含む、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.61 工程(d)の溶媒が3-ペンタノンである、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.62 式1Jまたは2Jの化合物が工程(d)から遊離塩基形態で得られる、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.63 式1Jまたは2Jの化合物が工程(d)から塩形態、例えば、酸付加塩(例えば、塩酸塩)で得られる、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.64 式1Jまたは2Jの化合物が工程(d)から遊離塩基形態で得られ、方法がさらに遊離塩基形態の該式1Jまたは2Jの化合物を、塩形態、例えば、酸付加塩形態(例えば、トシル酸塩形態、例えば、一トシル酸塩および/または二トシル酸塩形態)の式1Jまたは2Jの化合物に変換する工程(e)をさらに含む、方法6.62。
6.65 工程(e)を、工程(d)からの遊離塩基形態の式1Jまたは2Jの化合物と適切な酸を、1以上の有機溶媒または水またはそれらの混合物で反応させることにより行う、方法6.64。
6.66 工程(e)の酸がトルエンスルホン酸である、方法6.64または6.65。
6.67 トルエンスルホン酸の量が0.9~3.2当量、0.9~2.2当量、0.9~1.2当量、例えば、0.95~1.10当量または0.95~1.05当量または約1.0当量、例えば、0.89~1.1当量である、方法6.66。
6.68 工程(e)の溶媒がエタノール、イソプロパノール、水、メチルtert-ブチルエーテルまたはそれらの混合物を含む、方法6.66または6.67。
6.69 工程(e)の溶媒が実質的にイソプロパノール、例えば、少なくとも70体積%イソプロパノールまたは少なくとも80体積%イソプロパノールまたは少なくとも90体積%イソプロパノールを含む、方法6.68。
6.70 工程(e)の溶媒が本質的にイソプロパノールおよびメチルtert-ブチルエーテル、例えば、少なくとも70体積%、80体積%または90体積%イソプロパノールと残りは本質的にメチルtert-ブチルエーテルからなる、方法6.69。
6.71 方法が遊離塩基形態の式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.72 方法が酸付加塩形態の式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.73 酸付加塩形態がトシル酸塩形態(例えば、一トシル酸塩、二トシル酸塩または三トシル酸塩形態またはそれらの混合物)である、方法6.72。
6.74 方法がさらに、工程(e)の後または工程(e)がなければ工程(d)の後、塩形態での最初に形成した式1Jまたは2Jの化合物の適当な溶媒からの結晶化および/または再結晶を含み、同じ塩形態の結晶化したまたは再結晶した式1Jまたは2Jの化合物を得る(例えば、1または2ラウンドまたはそれ以上の結晶化を使用して、高純度を達成し得る)、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.75 1以上の結晶化の何れかのための適当な結晶化溶媒がエタノール、イソプロパノール、水、メチルtert-ブチルエーテルまたはそれらの混合物を含む、例えば、最初にイソプロパノールから結晶化および2回目にイソプロパノール/水から再結晶を含む、方法6.74。
6.76 1以上の結晶化の何れかのための適当な結晶化溶媒が、所望により体積比で90:10~99:1、例えば、95:5~99:1または97:3~99:1または約98:2でイソプロパノールおよび水を含む、方法6.75。
6.77 再結晶が種晶(例えば、本方法の生成物の種晶)の添加を含む、6.74~6.76の何れかの方法。
6.78 方法が、工程(e)から得た式1Jまたは2Jの化合物の最初の塩形態を式1Jまたは2Jの化合物の異なる塩形態に変換する工程(f)をさらに含む、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.79 新規塩形態および最初の塩形態がいずれも酸付加塩である、方法6.78。
6.80 新規塩形態が二酸付加塩または三酸付加塩であり、最初の塩形態が同塩の一酸付加塩である、方法6.79。
6.81 新規塩形態が二トシル酸塩または三トシル酸塩形態であり、最初の塩形態が一トシル酸塩形態である、方法6.80。
6.82 工程(f)が適当な溶媒への最初の塩形態の溶解または懸濁、続く0.9~1.5当量、例えば、0.95~1.25当量または1.0~1.15当量の適切な酸(例えば、トルエンスルホン酸)の付加を含む、方法6.79~6.81の何れか。
6.83 適当な溶媒がエタノール、イソプロパノール、水、メチルtert-ブチルエーテルまたはそれらの混合物から選択される、方法6.82。
6.84 工程(e)で最初に形成された塩が工程(f)の前に単離および/または精製および/または特徴づけされる、6.78~6.83の何れかの方法。
6.85 方法が固体形態、例えば、固体非晶質形態または固体結晶形態の式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.86 方法が安定な、結晶塩形態、例えば、安定な結晶トシル酸塩形態(例えば、一トシル酸塩、二トシル酸塩または三トシル酸塩形態)で式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.87 方法が、全ての他の立体異性体に対して少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%、より好ましくは少なくとも90%、最も好ましくは95%~100%のcis立体異性体を提供する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.88 方法が実質的にエナンチオマー的に純粋な形態、例えば、少なくとも90%e.e.、好ましくは少なくとも95%e.e.または少なくとも97%e.e.または少なくとも99%e.e.または少なくとも99.5%e.e.または少なくとも99.9%e.e.~100%e.e.の式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.89 方法が実質的に純粋な形態、例えば、HPLCにより測定して、例えば95%を超える純粋な形態または97%を超える、98%を超える、98.5%を超える、99%を超える、99.5%を超えるまたは99.9%~100%の純粋な形態で式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.90 方法が約50ppm未満の銅または約10ppm未満の銅または約5ppm未満の銅を有する形態で式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Jまたは2Jまたは6.1以降の何れか。
6.91 方法が式1Jまたは2Jの化合物を少なくとも0.001重量%であって、1重量%未満の式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物から選択される少なくとも一つの化合物との混合物で提供する、方法1Jまたは2Jまたは6.1~6.90の何れか。
6.92 方法が式1Jまたは2Jの化合物を少なくとも0.01重量%であって、0.5重量%未満の式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物から選択される少なくとも一つの化合物との混合物で提供する、方法6.91。
6.93 方法が式1Jまたは2Jの化合物を式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物から選択される少なくとも0.01重量%であって、0.5重量%未満の少なくとも2つまたは少なくとも3つまたは少なくとも4つの化合物との混合物で提供する、方法6.91。
6.94 方法が式1Jの化合物を少なくとも0.001重量%であって、1重量%未満の式1K、1L、1M、1N、1O、1Pおよび2Qの化合物の各々、例えば、少なくとも0.01%であって、0.5重量%未満の該化合物の各々との混合物で提供する、方法6.91。
6.95 方法が式2Jの化合物を少なくとも0.001重量%であって、1重量%未満の式2K、2L、2M、2N、2O、2Pおよび2Qの化合物の各々、例えば、少なくとも0.0005%であって、0.5重量%未満の該化合物の各々との混合物で提供する、方法6.91。
6.96 方法が式1Jの化合物を約0.01~0.80重量%の式1Kの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式1Lの化合物および/または約0.005~0.30重量%の式1Mの化合物および/または約0.01~0.60重量%の式1Nの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式1Oの化合物および/または約0.005~0.45重量%の式1Pの化合物および/または約0.0005~0.30重量%の式1Qの化合物との混合物で提供する、方法6.91。
6.97 方法が式2Jの化合物を約0.01~0.80重量%の式2Kの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式2Lの化合物および/または約0.005~0.30重量%の式2Mの化合物および/または約0.01~0.60重量%の式2Nの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式2Oの化合物および/または約0.005~0.45重量%の式2Pの化合物および/または約0.005~0.30重量%の式2Qの化合物との混合物で提供する、方法6.91。
6.98 式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物において、基Rがメチルであり、基Qが-(C=O)-である、方法6.91~6.97の何れか。
6.99 方法が一トシル酸塩形態、例えば、固体結晶一トシル酸塩形態での式1Jまたは2Jの化合物の単離および/または精製を含み、方法がさらに式1Jまたは2Jの化合物と少なくとも1モル当量のトルエンスルホン酸を合わせることを含む、方法1Jまたは2Jまたは6.1~6.98の何れか。
6.100 溶媒が水および/またはアルコール性溶媒(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール)および/またはケトン溶媒(例えば、アセトン、2-ブタノン、2-ペンタノン、3-ペンタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン)および/またはエーテル溶媒(例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、メチルtert-ブチルエーテル)および/または炭化水素溶媒(例えば、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン)またはこれらの何れかの組み合わせである、方法6.99。
6.101 式1Jまたは2Jの化合物の一トシル酸塩が、全体としてまたは一部、二トシル酸塩式1Jまたは2Jの塩の化合物に変換される、方法6.99または6.100。
6.102 以下の工程をとおして、ここでの実施態様の何れかに記載された次の工程の何れかまたは全てをさらに含む、方法1Jまたは2Jまたは6.1~6.94の何れか:
a. 所望により酢酸溶媒中で、遊離形態または塩形態の2-ブロモフェニルヒドラジンと、所望により水和物形態の、遊離形態または塩形態の4-ピペリジノンを反応させることによる、式1Aの化合物の製造;
b. (a)式1Aの化合物の式1Bの化合物への還元であって、所望により還元が式1Aの化合物とトリエチルシランおよびメタンスルホン酸の反応を含むもの、および(b)キラル塩分割またはキラルクロマトグラフィーにより式1Bの立体異性体を分離して、式1Cまたは2Cの化合物を得て、所望によりキラル塩分割がS-マンデル酸を使用する一分割工程で実施されるものによる、遊離形態または塩形態の式1Cまたは2Cの化合物の製造;
c. 塩基存在下保護剤での式1Cまたは2Cの化合物のピペリジンアミンの保護による、遊離形態または塩形態の式1Dまたは2Dの化合物の製造;
d. 式1Dまたは2Dの化合物を(a)求核性アルキルハライドおよび(b)塩基でN-アルキル化することによる、遊離形態または塩形態での式1Eまたは2Eの化合物の製造。
a) 式1A
b) 式1Bの化合物の立体異性体(例えば、エナンチオマー)をキラル酸分割またはキラルクロマトグラフィーにより分離して式1Cまたは2Cの化合物を得て;所望により式1Cまたは2Cの化合物は全ての他の立体異性体に対して少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%、より好ましくは少なくとも90%、最も好ましくは95%を超え、100%までcis立体異性体であり;および/または式1Cまたは2Cの化合物は少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%、より好ましくは少なくとも90%、最も好ましくは95%を超えるまたは97%を超えるまたは99%を超えるまたは99.9%~100%のエナンチオマー過剰率(e.e.)(例えば、4aS、9bRエナンチオマーまたはaR、9bSエナンチオマー)を有する
サブステップを含む。
(i) AはBr、ClおよびIから選択され、そして
(ii) Bはここに定義する保護基である。〕
の化合物を製造する工程であって、式1Cまたは2Cの化合物のピペリジンアミンを、塩基存在下保護剤で保護する工程を含み、
ここで、該保護剤が一般式
(i) Yはハロゲン、イミダゾリル、ベンゾトリアゾール、N-(オキシ)スクシンイミド、アルコキシ、-O-アルキルアリールまたは-O-アリールであり、
(ii) Zは場合により置換されているアルキル、アリール、アルキルアリールまたは-ORであり、ここで、Rがアルキル、アリール、アリールアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、
(iii) Pは-CH2-、-C(O)-、-C(O)O-またはS(O)2である。〕
を有するものである、工程を含む工程をさらに含み得る。
(i) Zは場合により置換されているアルキル、アリール、アルキルアリールまたは-ORであり、ここで、Rがアルキル、アリール、アリールアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、
(ii) Pは-CH2-、-C(O)-、-C(O)O-またはS(O)2である。〕
を有する。
(i) AはBr、ClおよびIから選択され、
(ii) RはHおよびC1-4アルキル(例えばメチル)から選択され、そして
(iii) Bはここに定義する保護基である。〕
の化合物を製造する工程であって、上記式1Dまたは2Dの化合物を、(a)一般式
(i) A=Cl、F、BrまたはIであり、そして
(ii) RはHまたはC1-4アルキルである。〕
の求核性アルキルハライドおよび(b)塩基でN-アルキル化する工程を含む、工程を含み得る。
7.1 薬学的に許容される塩形態の式1Jまたは2Jの化合物を含む活性医薬組成物(活性医薬成分)であって、組成物が少なくとも97重量%の該化合物(塩形態として測定)を含む、組成物。
7.2 化合物が、Rがメチルであり、Qが3-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルである式1Jの化合物である、組成物7.1。
7.3 該化合物が実質的にエナンチオマー的に純粋な形態、例えば、少なくとも97%e.e.または少なくとも98%e.e.または少なくとも98.5%e.e.または少なくとも99%e.e.~100%e.e.である、組成物7.2。
7.4 組成物が化合物を少なくとも98%、少なくとも98.5%または少なくとも99.0重量%(塩形態として測定)含む、組成物7.2または7.3。
7.5 化合物がトシル酸塩または塩酸塩形態(例えば、一、二または三トシル酸塩形態または一、二または三塩酸塩形態)である、組成物7.2~7.4の何れか。
7.6 化合物が一トシル酸塩形態である(すなわち、組成物が少なくとも97重量%の一トシル酸塩形態の化合物を含む)、組成物7.5。
7.7 化合物が一トシル酸塩形であり、組成物が化合物を少なくとも98%、少なくとも98.5%または少なくとも99.0重量%(一トシル酸塩として測定)含む、組成物7.6。
7.8 化合物が結晶塩形態である、組成物7.1~7.7の何れか。
7.9 組成物が0.50重量%を超えない式1A、1B、1C、1D、2D、1E、2E、1F、2F、1H、2H、1Iまたは2Iの化合物の何れかの各々を含む、例えば、各0.40重量%を超えないまたは各0.30重量%を超えない、組成物7.1~7.7の何れか。
7.10 組成物が0.25重量%を超えない式1Iまたは2Iの化合物(例えば、式中Rがメチルである)を含む、組成物7.1~7.8の何れか。
7.11 組成物が50ppmを超えない銅、例えば、40ppmを超えないまたは25ppmを超えないまたは10ppmを超えない銅を含む、組成物7.1~7.10の何れか。
7.12 組成物が少なくとも0.001重量%であって、1重量%未満の式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物から選択される少なくとも一つの化合物を含む、組成物7.1~7.11の何れか。
7.13 組成物が、式1Jまたは2Jの化合物を少なくとも0.005重量%であって、0.5重量%未満の式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物から選択される少なくとも一つの化合物と混合して含む、組成物7.1~7.11の何れか。
7.14 組成物が、式1Jまたは2Jの化合物を少なくとも0.005重量%であって、0.5重量%未満の式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物から選択される少なくとも2つまたは少なくとも3つまたは少なくとも4つの化合物と混合して含む、組成物7.1~7.11の何れか。
7.15 組成物が、式1Jの化合物を少なくとも0.001重量%であって、1重量%未満の式1K、1L、1M、1N、1O、1Pおよび2Qの化合物の各々、例えば、少なくとも0.01%であって、0.5重量%未満の該化合物の各々と混合して含む、組成物7.1~7.11の何れか。
7.16 組成物が、式2Jの化合物を少なくとも0.001重量%であって、1重量%未満の式2K、2L、2M、2N、2O、2Pおよび2Qの化合物の各々、例えば、少なくとも0.01%であって、0.5重量%未満の該化合物の各々と混合して含む、組成物7.1~7.11の何れか。
7.17 組成物が、式1Jの化合物を約0.01~0.80重量%の式1Kの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式1Lの化合物および/または約0.005~0.30重量%の式1Mの化合物および/または約0.01~0.60重量%の式1Nの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式1Oの化合物および/または約0.005~0.45重量%の式1Pの化合物および/または約0.005~0.30重量%の式1Qの化合物と混合して含む、組成物7.1~7.11の何れか。
7.18 組成物が、式2Jの化合物を約0.01~0.80重量%の式2Kの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式2Lの化合物および/または約0.005~0.30重量%の式2Mの化合物および/または約0.01~0.60重量%の式2Nの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式2Oの化合物および/または約0.005~0.45重量%の式2Pの化合物および/または約0.005~0.30重量%の式2Qの化合物と混合して含む、組成物7.1~7.11の何れか。
7.19 式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物において、基Rがメチルであり、基Qが-(C=O)-である、組成物7.12~7.19の何れか。
7.20 式1Jまたは2Jの化合物が方法1J、2Jまたは6.1~6.102または方法1K、2Kまたは8.1~8.49の何れか、組成物7.1~7.19の何れかの何れかにより製造された化合物である。
8.1 方法が遊離塩基形態の式1Jまたは2Jの化合物で開始され、方法が該遊離塩基形態の式1Jまたは2Jの化合物の薬学的に許容される塩形態の式1Jまたは2Jの化合物、例えば、酸付加塩形態(例えば、トシル酸塩形態、例えば、一トシル酸塩および/または二トシル酸塩形態)への変換の工程(a)を含む、方法1Kまたは2K。
8.2 工程(a)が、式1Jまたは2Jの化合物の最初の遊離塩基形態と適切な酸の1以上の有機溶媒または水またはそれらの混合物中での反応により実施される、方法8.1。
8.3 方法が塩形態、例えば、酸付加塩形態の式1Jまたは2Jの化合物で開始され、方法が該塩形態の式1Jまたは2Jの化合物から異なる塩形態、例えば、異なる酸付加塩形態(例えば、トシル酸塩形態、例えば、一トシル酸塩および/または二トシル酸塩形態)である薬学的に許容される塩形態の式1Jまたは2Jの化合物への変換の工程(a)を含む、方法1Kまたは2K。
8.4 工程(a)が式1Jまたは2Jの化合物の最初の塩形態と適切な酸の1以上の有機溶媒または水またはそれらの混合物中での反応により実施される、方法8.3。
8.5 工程(a)の適切な酸がトルエンスルホン酸である、方法8.2または8.4。
8.6 トルエンスルホン酸の量が0.9~3.2当量、0.9~2.2当量、0.9~1.2当量、例えば、0.95~1.10当量または0.95~1.05当量または約1.0当量、例えば、0.89~1.1当量である、方法8.5。
8.7 工程(a)の溶媒がメタノール、エタノール、イソプロパノール、n-プロパノール、イソブタノール、n-ブタノール、t-ブタノール、水、メチルtert-ブチルエーテル、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルまたはそれらの混合物を含む、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.8 工程(a)の溶媒が実質的にイソプロパノール、例えば、少なくとも70体積%イソプロパノールまたは少なくとも80体積%イソプロパノールまたは少なくとも90体積%イソプロパノールを含む、方法8.7。
8.9 工程(a)の溶媒が本質的にイソプロパノールおよびメチルtert-ブチルエーテル、例えば、少なくとも70体積%、80体積%または90体積%イソプロパノールと残りは本質的にメチルtert-ブチルエーテルからなる、方法8.8。
8.10 方法が薬学的に許容される酸付加塩形態の式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.11 酸付加塩形態がトシル酸塩形態(例えば、一トシル酸塩、二トシル酸塩または三トシル酸塩形態またはそれらの混合物)である、方法8.10。
8.12 式1Jまたは2Jの化合物の最初の塩形態がトルエンスルホン酸付加塩形態(例えば、一トシル酸塩)であり、工程(a)後の式1Jまたは2Jの化合物の塩形態が異なるトルエンスルホン酸付加塩形態(例えば、二トシル酸塩)である、8.3~8.12の何れかの方法。
8.13 式1Jまたは2Jの化合物の最初の塩形態が塩酸付加塩形態(例えば、モノ-HClまたはジ-HCl)であり、工程(a)後の式1Jまたは2Jの化合物の塩形態がトルエンスルホン酸付加塩形態(例えば、一トシル酸塩または二トシル酸塩)である、8.3~8.12の何れかの方法。
8.14 方法が、さらに、同じ塩形態の結晶化したまたは再結晶した式1Jまたは2Jの化合物(例えば、1または2ラウンドまたはそれ以上の結晶化を使用して、高純度を達成し得る)を得るために、工程(a)後、塩形態での最初に形成した式1Jまたは2Jの化合物の適当な溶媒からの結晶化および/または再結晶(工程(a)から)の工程(b)を含む、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.15 1以上の結晶化の何れかのための適当な結晶化溶媒がエタノール、イソプロパノール、水、メチルtert-ブチルエーテルまたはそれらの混合物を含む、例えば、最初にイソプロパノールから結晶化および2回目にイソプロパノール/水から再結晶、方法8.14。
8.16 1以上の結晶化の何れかのための適当な結晶化溶媒が、所望により体積比で90:10~99:1、例えば、95:5~99:1または97:3~99:1または約98:2でイソプロパノールおよび水を含む、方法8.15。
8.17 再結晶が種晶(例えば、本方法の生成物の種晶)の添加を含む、8.14~8.16の何れかの方法。
8.18 方法が塩形態の式1Jまたは2Jの化合物で開始され、方法がさらに上記のとおりの工程(a)の前に式1Jまたは2Jの化合物の最初の塩形態を遊離塩基形態に変換し、その後、上記のとおり工程(a)により該遊離塩基形態を塩形態に変換する工程を含む、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.19 先の工程が式1Jまたは2Jの化合物の最初の塩形態を適当な塩基で適当な溶媒中処理することを含む、方法8.18。
8.20 適当な塩基がアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩または重炭酸塩などの無機塩基である、方法8.19。
8.21 塩基がNaOH、KOH、LiOH、Ca(OH)2、Mg(OH)2、CaO、MgO、Na2CO3、K2CO3、Li2CO3、NaHCO3、KHCO3、LiHCO3、CaCO3およびMgCO3から選択される、方法8.20。
8.22 適当な溶媒が水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-プロパノール、イソブタノール、n-ブタノール、t-ブタノール、THF、ジオキサン、メチルt-ブチルエーテルまたはこれらの何れかの組み合わせから選択される、方法8.19、8.20または8.21。
8.23 最初の塩形態が酸付加塩形態、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩、メタンスルホン酸塩またはトルエンスルホン酸塩(例えば、一トシル酸塩または二トシル酸塩)である、8.18~8.22の何れかの方法。
8.24 工程(a)後の式1Jまたは2Jの化合物の塩形態がトルエンスルホン酸付加塩形態(例えば、一トシル酸塩または二トシル酸塩)である、8.18~8.22の何れかの方法。
8.25 方法が遊離塩基形態の式1Jまたは2Jの化合物で開始され、方法がさらに上記のとおりの工程(a)の前に遊離塩基形態の式1Jまたは2Jの化合物を中間塩形態に変換し、その後、上記のとおり工程(a)により該中間塩形態を最終塩形態に変換する工程を含む、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.26 最初の塩形態が酸付加塩形態、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩、メタンスルホン酸塩またはトルエンスルホン酸塩(例えば、一トシル酸塩)である)、方法8.25。
8.27 先の工程を、中間塩形態を得るために式1Jまたは2Jの化合物の最初の遊離塩基形態と適切な酸を1以上の有機溶媒または水またはそれらの混合物中で反応させることにより実施する、方法8.25または8.26。
8.28 先の工程の溶媒が水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-プロパノール、イソブタノール、n-ブタノール、t-ブタノール、THF、ジオキサン、メチルt-ブチルエーテルまたはこれらの何れかの組み合わせを含む、方法8.22、8.23または8.24。
8.29 適切な酸がトルエンスルホン酸である、方法8.27または8.28。
8.30 工程(a)後の式1Jまたは2Jの化合物の塩形態がトルエンスルホン酸付加塩形態(例えば、一トシル酸塩または二トシル酸塩)である、8.25~8.29の何れかの方法。
8.31 方法が固体形態、例えば、固体非晶質形態または固体結晶形態の式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.32 方法が安定な、結晶塩形態、例えば、安定な結晶トシル酸塩形態(例えば、一トシル酸塩、二トシル酸塩または三トシル酸塩形態)で式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.33 方法が安定な、結晶塩形態の式1Jまたは2Jの化合物で開始される、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.34方法が安定な、結晶トルエンスルホン酸付加塩形態(例えば、一トシル酸塩、二トシル酸塩または三トシル酸塩形態)の式1Jまたは2Jの化合物で開始される、方法8.33。
8.35 方法が、全ての他の立体異性体に対して少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%、より好ましくは少なくとも90%、最も好ましくは95%を超えて100%までのcis立体異性体を提供する、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.36 方法が実質的にエナンチオマー的に純粋な形態、例えば、少なくとも90%e.e.、好ましくは少なくとも95%e.e.または少なくとも97%e.e.または少なくとも99%e.e.または少なくとも99.5%e.e.または少なくとも99.9%e.e.から100%e.e.までの式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.37 方法が実質的に純粋な形態、例えば、HPLCにより測定して、例えば95%を超える純粋な形態または97%を超える、98%を超える、98.5%を超える、99%を超える、99.5%を超えるまたは99.9%を超える純粋な形態、100%までの純粋な形態で式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.38 方法が約50ppm未満の銅または約10ppm未満の銅または約5ppm未満の銅を有する形態で式1Jまたは2Jの化合物を提供する、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.39 方法が式1Jまたは2Jの化合物を少なくとも0.001重量%であって、1重量%未満の式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物から選択される少なくとも一つの化合物との混合物で提供する、方法1Kまたは2Kまたは8.1~8.38の何れか。
8.40 方法が式1Jまたは2Jの化合物を少なくとも0.01重量%であって、0.5重量%未満の式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物から選択される少なくとも一つの化合物との混合物で提供する、方法8.39。
8.41 方法が式1Jまたは2Jの化合物を式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物から選択される少なくとも0.01重量%であって、0.5重量%未満の少なくとも2つまたは少なくとも3つまたは少なくとも4つの化合物との混合物で提供する、方法8.39。
8.42 方法が式1Jの化合物を少なくとも0.001重量%であって、1重量%未満の式1K、1L、1M、1N、1O、1Pおよび2Qの化合物の各々、例えば、少なくとも0.01%であって、0.5重量%未満の該化合物の各々との混合物で提供する、方法8.39。
8.43 方法が式2Jの化合物を少なくとも0.001重量%であって、1重量%未満の式2K、2L、2M、2N、2O、2Pおよび2Qの化合物の各々、例えば、少なくとも0.0005%であって、0.5重量%未満の該化合物の各々との混合物で提供する、方法8.39。
8.44 方法が式1Jの化合物を約0.01~0.80重量%の式1Kの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式1Lの化合物および/または約0.005~0.30重量%の式1Mの化合物および/または約0.01~0.60重量%の式1Nの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式1Oの化合物および/または約0.005~0.45重量%の式1Pの化合物および/または約0.0005~0.30重量%の式1Qの化合物との混合物で提供する、方法8.39。
8.45 方法が式2Jの化合物を約0.01~0.80重量%の式2Kの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式2Lの化合物および/または約0.005~0.30重量%の式2Mの化合物および/または約0.01~0.60重量%の式2Nの化合物および/または約0.005~0.40重量%の式2Oの化合物および/または約0.005~0.45重量%の式2Pの化合物および/または約0.005~0.30重量%の式2Qの化合物との混合物で提供する、方法8.39。
8.46 式1Kまたは2K、1Lまたは2L、1Mまたは2M、1Nまたは2N、1Oまたは2O、1Pまたは2Pおよび1Qまたは2Qの化合物において、基Rがメチルであり、基Qが-(C=O)-である、方法8.39~8.45の何れか。
8.47 方法が一トシル酸塩形態、例えば、固体結晶一トシル酸塩形態での式1Jまたは2Jの化合物の単離および/または精製を含み、方法がさらに式1Jまたは2Jの化合物と少なくとも1モル当量のトルエンスルホン酸を合わせることを含む、方法1Kまたは2Kまたは8.1以降の何れか。
8.48 溶媒が水および/またはアルコール性溶媒(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール)および/またはケトン溶媒(例えば、アセトン、2-ブタノン、2-ペンタノン、3-ペンタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン)および/またはエーテル溶媒(例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、メチルtert-ブチルエーテル)および/または炭化水素溶媒(例えば、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン)またはこれらの何れかの組み合わせである、方法8.47。
8.49 式1Jまたは2Jの化合物の一トシル酸塩が、全体としてまたは一部、二トシル酸塩式1Jまたは2Jの塩の化合物に変換される、方法8.47または8.48。
メカニカルスターラー、窒素注入口および熱電対を備えた250mL 3首丸底フラスコに、4-((6bR,10aS)-3-メチル-2,3,6b,9,10,10a-ヘキサヒドロ-1H-ピリド-[3’,4’:4,5]-ピロロ[1,2,3-de]キノキサリン-8-(7H)-イル)-1-(4-フルオロフェニル)-1-ブタノン(10g)の酢酸イソプロピル(100mL)溶液を加える。18wt%HCl/酢酸イソプロピル溶液(1.8mL)を加えて、pHを約pH1に調節する。反応物を、1.5時間、窒素下で0~5℃で撹拌する。懸濁液を濾過し、固体を酢酸イソプロピル(25mL)で洗浄して、固体の4-((6bR,10aS)-3-メチル-2,3,6b,9,10,10a-ヘキサヒドロ-1H-ピリド-[3’,4’:4,5]-ピロロ[1,2,3-de]キノキサリン-8-(7H)-イル)-1-(4-フルオロフェニル)-1-ブタノン塩酸塩および透明濾液を得る。固体を、真空オーブンで45℃で乾燥させて、10.77g(HPLCで95%純度)を得る。
メカニカルスターラー、熱電対、窒素注入口を備えた2L 3首丸底フラスコに、(6bR,10aS)-3-メチル-2,3,6b,7,8,9,10,10a-オクタヒドロ-1H-ピリド[3’,4’:4,5]ピロロ[1,2,3-de]キノキサリン(80g)(遊離塩基)および2-プロパノール(360mL、4.5体積)を仕込む。混合物を10~30分間撹拌して、暗琥珀色溶液を得る。水(80mL、0.3488mol)を加える。混合物を室温で5~15分間撹拌する。混合物を、濃HClを滴下ロートから滴下することにより、pH6~8(pH試験紙を使用)に調節する。濃い懸濁液が添加中形成される。所望のpHに達したら、混合物を室温でさらに30~60分間撹拌し、次いで0~5℃に冷却する。懸濁液を撹拌ができるように2-プロパノール(40mL、0.5体積)で希釈する。濾過後、フィルターケーキを水(4mL、0.05体積)および2-プロパノール(76mL、0.95体積)の冷混合物(0~5℃)で2回、冷2-プロパノール(0~5℃)(80mL、1体積)、冷(0~5℃)MTBE(80mL、1体積)およびMTBE(80mL、1体積)で連続的に洗浄する。固体を減圧下40~45℃で乾燥させて、68.9g生成物を結晶一塩酸塩として得る(HPLC純度:99.18%)。
水、(6bR,10aS)-3-メチル-2,3,6b,7,8,9,10,10a-オクタヒドロ-1H-ピリド[3’,4’:4,5]ピロロ[1,2,3-de]キノキサリン塩酸塩(1.0当量)および酢酸イソプロピルを混合し、0℃~30℃に冷却する。希NaOH溶液を温度を0℃~30℃未満に維持しながら加え、混合物をpHを12以上に維持しながら少なくとも30分間撹拌する。次いで、相を分離し、下部水相を酢酸イソプロピルで1回逆抽出する。層を再び分離し、有機抽出物を合わせ、10%塩化ナトリウム溶液で洗浄する。有機層を減圧下蒸留して、酢酸イソプロピルを除去する。
さらに、本発明は次の態様を包含する。
1. 遊離形態または塩形態の式1I
RはHまたはC 1-4 アルキル(例えば、メチル)である。〕
の化合物を製造する方法であり、
(a)遊離形態または塩形態の式1E
の化合物と、(i)周期表の第8~11族からなる群から選択される遷移金属触媒、(ii)所望により塩基、(iii)所望によりアルカリ金属ヨウ化物(例えばヨウ化カリウム)および(iv)所望により単座配位子または二座配位子を反応させて、遊離形態または塩形態の式1F
の中間体を得て、
(b)式1Fの化合物のアミドカルボニルを還元して、遊離形態または塩形態の式1H
の中間体を得て、そして
(c)式1Hの化合物のピペリジン窒素を脱保護して、遊離形態または塩形態の式1I
の化合物を得る
工程を含む、方法。
2. 遊離形態または塩形態の式1J
RはHまたはC 1-4 アルキル(例えば、メチル)であり、そして
Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルおよび3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルから選択される。〕
の化合物を製造する方法であって、
(a)遊離形態または塩形態の式1E
の化合物と、(i)周期表の第8~11族からなる群から選択される遷移金属触媒、(ii)所望により塩基、(iii)所望によりアルカリ金属ヨウ化物(例えばヨウ化カリウム)および(iv)所望により単座配位子または二座配位子を反応させて、遊離形態または塩形態の式1F
の中間体を得て、
(b)式1Fの化合物のアミドカルボニルを還元して、遊離形態または塩形態の式1H
の中間体を得て、そして
(c)式1Hの化合物のピペリジン窒素を脱保護して、遊離形態または塩形態の式1I
の化合物を得て、
(d)式1Iの化合物のピペリジン窒素を適当なアルキル化剤でアルキル化して、遊離形態または塩形態の式1Jの化合物を得て、そして所望により
(e)遊離形態の式1Jの化合物を塩形態、例えば、酸付加塩形態(例えば、トシル酸塩形態)などの薬学的に許容される塩形態の式1Jの化合物に変換する
工程を含む、方法。
3. AがBrである、項1または2に記載の方法。
4. 式1E、1F、1Hおよび1Iの化合物の置換基RがC 1-4 アルキル(例えば、メチル)である、項1~3の何れかに記載の方法。
5. 式1E、1Fおよび1Hの化合物の保護基Bが式P-Zの基であり、ここで、PがCH 2 、C(O)、C(O)OおよびS(O) 2 から選択され、Zが場合により置換されているアルキル、アリール、アルキルアリールまたは-OR’であり、R’がアルキル、アリール、アリールアルキルまたはヘテロアリールアルキルである、項1~4の何れかに記載の方法。
6. 保護基Bがアシル基(例えば、アルカノイルまたはアルコキシカルボニル基)、例えば、t-ブトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、エトキシカルボニルまたはメトキシカルボニルまたは場合により置換されているベンジルオキシカルボニルである、項5に記載の方法。
7. 保護基Bがエトキシカルボニルである、項6に記載の方法。
8. 工程(a)の遷移金属触媒が銅触媒である、項1~7の何れかに記載の方法。
9. 工程(a)の遷移金属触媒がCuI、CuBr、CuCl、Cu(OAc) 2 、Cu 2 Cl 2 、CuBr 2 、CuSO 4 、Cu 2 SO 4 およびCu 2 Oから選択される、項8に記載の方法。
10. 遷移金属触媒はCuIである、項9に記載の方法。
11. 工程(a)の塩基が、例えば、アミン塩基、アルコキシド、炭酸塩およびリン酸塩およびそれらの混合物から選択されるブレンステッド塩基である、項1~10の何れかに記載の方法。
12. 工程(a)が、例えば、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムおよびヨウ化リチウムから選択されるアルカリ金属ヨウ化物を含む、項1~11の何れかに記載の方法。
13. 工程(a)が単座配位子または二座配位子、例えば、フェノール配位子またはアミン配位子から選択される配位子を含む、項1~12の何れかに記載の方法。
14. 配位子が場合により置換されている1,2-ジアミン、場合により置換されている1,2-アミノアルコール、DBU、DBNまたはDABCOから選択される、項13に記載の方法。
15. 配位子がDBUである、項14に記載の方法。
16. 工程(b)の還元が金属水素化物、ボラン類および有機ボラン類から選択される還元剤を使用して達成される、項1~15の何れかに記載の方法。
17. 還元剤がボラン-THF錯体である、項16に記載の方法。
18. 脱保護工程(c)が水性加水分解、例えば、酸性または塩基性加水分解である、項1~17の何れかに記載の方法。
19. 水性加水分解が塩酸水溶液を含む、項18に記載の方法。
20. 式1Iの化合物が固体、例えば、非晶質または結晶固体として得られる、項1~19の何れかに記載の方法。
21. 式1Iの化合物が塩酸塩、例えば、固体塩酸塩または結晶固体塩酸塩として得られる、項20に記載の方法。
22. 方法が式1Fおよび1Hの中間体の単離をせずにまたは精製をせずに実施される、項1~21の何れかに記載の方法。
23. 工程(a)、(b)および(c)がひとつの反応槽でまたは連結された一組の複数反応槽で連続的に実施される、項1~22の何れかに記載の方法。
24. 式1Iの化合物が約50ppm未満の銅または約10ppm未満の銅または約5ppm未満の銅を有する形態で得られる、項1~23の何れかに記載の方法。
25. 工程(d)の適当なアルキル化剤が一般式Q-Xの化合物(式中、Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルおよび3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルから選択され、Xは何らかの適当な脱離基(例えば、求核性置換反応を受けやすいことが当分野で知られる官能基)である)である、項2~24の何れかに記載の方法。
26. 式1Jの化合物の基Qが4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルであり、式1Jの化合物の基Rがメチルである、項2~24の何れかに記載の方法。
27. 式1Jの化合物が工程(d)から遊離塩基形態で得られる、項2~26の何れかに記載の方法。
28. 式1Jの化合物が工程(d)から遊離塩基形態で得られ、方法が遊離塩基形態の該式1Jの化合物を塩形態、例えば、酸付加塩形態(例えば、トシル酸塩形態、例えば、一トシル酸塩および/または二トシル酸塩形態))の式1Jの化合物に変換する工程(e)をさらに含む、項2~27の何れかに記載の方法。
29. 酸付加塩形態がトシル酸塩形態(例えば、一トシル酸塩、二トシル酸塩または三トシル酸塩形態またはそれらの混合物)である、項28に記載の方法。
30. 方法が式1Jの化合物を実質的にエナンチオマー的に純粋な形態、例えば、少なくとも90%e.e.、好ましくは少なくとも95%e.e.または少なくとも98%e.e.または少なくとも99%e.e.で提供する、項2~29の何れかに記載の方法。
31. 方法が式1Jの化合物を実質的に純粋な形態、例えば、HPLCにより測定して、例えば95%を超える純粋な形態または97%を超える、98%を超える、98.5%を超える、99%を超える、99.5%を超えるまたは99.9%を超える純粋な形態で提供する、項2~30の何れかに記載の方法。
32. 方法が約50ppm未満の銅または約10ppm未満の銅または約5ppm未満の銅を有する形態で式1Jまたは2Jの化合物を提供する、項2~31の何れかに記載の方法。
33. 薬学的に許容される塩形態の式1J
RはHまたはC 1-4 アルキル(例えば、メチル)であり、そして
Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルおよび3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルから選択される。〕
の化合物を製造する方法であって、
(a)遊離形態または塩形態の式1Jの化合物(式中、RおよびQは上に定義したとおりである)を、酸付加塩形態(例えば、トシル酸塩形態)などの薬学的に許容される塩形態の式1Jの化合物に変換することを含む、方法。
34. 方法が遊離塩基形態の式1Jまたは2Jの化合物で開始され、方法が該遊離塩基形態の式1Jまたは2Jの化合物の薬学的に許容される塩形態の式1Jまたは2Jの化合物、例えば、酸付加塩形態(例えば、トシル酸塩形態、例えば、一トシル酸塩および/または二トシル酸塩形態)への変換の工程(a)を含む、項33に記載の方法。
35. 方法が塩形態、例えば、酸付加塩形態の式1Jまたは2Jの化合物で開始され、方法が該塩形態の式1Jまたは2Jの化合物から異なる塩形態、例えば、異なる酸付加塩形態(例えば、トシル酸塩形態、例えば、一トシル酸塩および/または二トシル酸塩形態)である薬学的に許容される塩形態の式1Jまたは2Jの化合物への変換の工程(a)を含む、項33に記載の方法。
36. 遊離形態または塩形態、例えば、酸付加塩形態の式1I
RはHまたはC 1-4 アルキル(例えば、メチル)である。〕
の化合物であって、固体形態である化合物。
37. 化合物が酸付加塩形態である、項36に記載の化合物。
38. 酸付加塩形態がハロゲン化水素酸塩形態(塩基対酸モル比1:1~3:1の、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩またはフッ化水素酸塩)である、項37に記載の化合物。
39. 薬学的に許容される塩形態の式1J
RはHまたはC 1-4 アルキル(例えば、メチル)であり、そして
Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルおよび3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルから選択される。〕
の化合物を含む活性医薬組成物(活性医薬成分)であって、少なくとも97重量%の該化合物(塩形態として測定)を含む、組成物。
40. 遊離形態または塩形態の式1J
RはHまたはC 1-4 アルキル(例えば、メチル)であり、そして
Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルおよび3-(4-フルオロフェノキシ)プロピルから選択される。〕
の化合物を、トルエンスルホン酸および少なくとも1種の添加物、希釈剤または溶媒と混合して含む、医薬組成物。
41. Rがメチルであり、Qが4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルであり、式1Jの化合物がトシル酸塩形態である、項40に記載の組成物。
42. 次のものからなる群から選択される、化合物。
Claims (35)
- 式1I
〔式中、
RはHまたはメチルである。〕
の化合物であって、遊離塩基または酸付加塩である化合物を製造する方法であり、
(a)式1E
〔式中、(i)AはBr、ClおよびIから選択され、(ii)RはHおよびメチルから選択され、そして(iii)Bはアシル基である保護基である。〕
の化合物であって、遊離塩基または酸付加塩である化合物と、(i)CuI、CuBr、CuCl、Cu(OAc)2、Cu2Cl2、CuBr2、CuSO4、Cu2SO4およびCu2Oからなる群から選択される遷移金属触媒、(ii)所望により塩基、(iii)所望によりアルカリ金属ヨウ化物および(iv)DBUである配位子をトルエン、キシレンおよびクロロベンゼンから選択される溶媒中で反応させて、式1F
〔式中、(i)RはHおよびメチルから選択され、そして(ii)Bはアシル基である保護基である。〕
の中間体であって、遊離塩基または酸付加塩である中間体を得て、
(b)式1Fの化合物のアミドカルボニルを還元して、式1H
〔式中、(i)RはHおよびメチルから選択され、そして(ii)Bはアシル基である保護基である。〕
の中間体であって、遊離塩基または酸付加塩である中間体を得て、そして
(c)式1Hの化合物のピペリジン窒素を脱保護して、式1I
〔式中、(i)RはHおよびメチルから選択される。〕
の化合物であって、遊離塩基または酸付加塩である化合物を得る
工程を含む、方法。 - AがBrである、請求項1に記載の方法。
- 式1E、1F、1Hおよび1Iの化合物の置換基Rがメチルである、請求項1または2に記載の方法。
- 式1E、1Fおよび1Hの化合物の保護基Bが式P-Zの基であり、ここで、PがCH2、C(O)、C(O)OおよびS(O)2から選択され、Zが場合により置換されているアルキル、アリール、アルキルアリールまたは-OR’であり、R’がアルキル、アリール、アリールアルキルまたはヘテロアリールアルキルである、請求項1~3の何れかに記載の方法。
- 保護基Bがアルカノイルまたはアルコキシカルボニル基である、請求項4に記載の方法。
- 保護基Bがt-ブトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、エトキシカルボニルまたはメトキシカルボニルおよび場合により置換されているベンジルオキシカルボニルから選択される、請求項5に記載の方法。
- 保護基Bがエトキシカルボニルである、請求項6に記載の方法。
- 工程(a)の遷移金属触媒がCuI、CuBrおよびCuClから選択される、請求項1~7の何れかに記載の方法。
- 遷移金属触媒はCuIである、請求項8に記載の方法。
- 工程(a)の塩基がアミン塩基、アルコキシド、炭酸塩およびリン酸塩およびそれらの混合物から選択されるブレンステッド塩基である、請求項1~9の何れかに記載の方法。
- 工程(a)の溶媒がトルエンである、請求項1~10の何れかに記載の方法。
- 工程(a)の塩基が炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムおよび重炭酸ナトリウムから選択されるブレンステッド塩基である、請求項11に記載の方法。
- 工程(a)がヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムおよびヨウ化リチウムから選択されるアルカリ金属ヨウ化物を含む、請求項1~12の何れかに記載の方法。
- 工程(a)の遷移金属触媒が0.10~0.30当量の量で存在するCuIであり、工程(a)の塩基が2~2.5当量で存在する炭酸カリウムであり、工程(a)の配位子が0.01~0.50当量の量で存在するDBUであり、工程(a)の溶媒がトルエンである、請求項1~13の何れかに記載の方法。
- 工程(b)の還元が金属水素化物、ボラン類および有機ボラン類から選択される還元剤を使用して達成される、請求項1~14の何れかに記載の方法。
- 還元剤がボラン-THF錯体である、請求項15に記載の方法。
- 脱保護工程(c)が酸性または塩基性水性加水分解である、請求項1~16の何れかに記載の方法。
- 水性加水分解が塩酸水溶液を含む、請求項17に記載の方法。
- 式1Iの化合物が固体として得られる、請求項1~18の何れかに記載の方法。
- 式1Iの化合物が結晶固体塩酸塩として得られる、請求項19に記載の方法。
- 方法が式1Fおよび1Hの中間体の単離をせずにまたは精製をせずに実施される、請求項1~20の何れかに記載の方法。
- 工程(a)、(b)および(c)がひとつの反応槽でまたは連結された一組の複数反応槽で連続的に実施される、請求項1~21の何れかに記載の方法。
- 式1Iの化合物が10ppm未満の銅または5ppm未満の銅を有するものとして得られる、請求項1~22の何れかに記載の方法。
- 式1J
〔式中、
RはHまたはメチルであり、そして
Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルである。〕
の化合物であって、遊離塩基または酸付加塩である化合物を製造する方法であって、
請求項1~23の何れかに記載の工程(a)~(c)を含み、さらに
(d)式1Iの化合物のピペリジン窒素を適当なアルキル化剤でアルキル化して、式1Jの化合物であって、遊離塩基または酸付加塩である化合物を得て、ここで、適当なアルキル化剤は一般式Q-Xの化合物(式中、Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルであり、Xはクロロ、ブロモ、ヨード、C1-4アルキルスルホニルオキシおよび場合により置換されているアリールスルホニルオキシから選択される)であり、そして所望により
(e)遊離塩基としての式1Jの化合物を酸付加塩としての式1Jの化合物に変換する
工程を含み、
50ppm未満の銅を有するものとして式1Jの化合物を提供するものである、方法。 - 工程(d)の適当なアルキル化剤が一般式Q-Xの化合物(式中、Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルであり、Xはクロロ、ブロモ、ヨード、メタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、4-ニトロベンゼンスルホニルオキシおよび4-ハロベンゼンスルホニルオキシから選択される)である、請求項24に記載の方法。
- 式1Jの化合物の基Qが4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルであり、式1Jの化合物の基Rがメチルである、請求項24または25に記載の方法。
- 式1Jの化合物が工程(d)から遊離塩基として得られる、請求項24~26の何れかに記載の方法。
- 式1Jの化合物が工程(d)から遊離塩基として得られ、方法が遊離塩基としての該式1Jの化合物を式1Jの化合物酸付加塩に変換する工程(e)をさらに含む、請求項24~27の何れかに記載の方法。
- 酸付加塩がトシル酸塩である、請求項28に記載の方法。
- 方法が式1Jの化合物を少なくとも90%e.e.または少なくとも95%e.e.または少なくとも98%e.e.または少なくとも99%e.e.で提供する、請求項24~29の何れかに記載の方法。
- 方法が式1Jの化合物を95%純度を超えるものとして提供する、請求項24~30の何れかに記載の方法。
- 方法が10ppm未満の銅または5ppm未満の銅を有するものとして式1J
の化合物を提供する、請求項24~31の何れかに記載の方法。 - 薬学的に許容される酸付加塩としての式1J
〔式中、
Rはメチルであり、そして
Qは4-(4-フルオロフェニル)-4-オキソブチルである。〕
の化合物を製造するための請求項24~32の何れかの方法であって、さらに
(f)式1Jの化合物(式中、RおよびQは上に定義したとおりである)であって、遊離塩基または酸付加塩である化合物を、薬学的に許容される酸付加塩としての式1Jの化合物に変換することを含むが、ただし、式1Jの化合物の最初の塩が式1Jの化合物の薬学的に許容される最終の塩と同一ではないものである、方法。 - 工程(f)が遊離塩基としての式1J
の化合物で開始され、方法が式1Jの化合物遊離塩基の薬学的に許容される酸付加塩としての式1Jの化合物への変換の工程を含む、請求項33に記載の方法。 - 工程(f)が酸付加塩としての式1J
の化合物で開始され、方法が式1Jの化合物酸付加塩から異なる塩である薬学的に許容される酸付加塩としての式1Jの化合物への変換の工程を含む、請求項33に記載の方法。
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