JP7268017B2 - エチレンアミンの製造方法 - Google Patents
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Description
- MEG反応からの排出物を第一の蒸留ユニットK-Iに導入し、導入された排出物を、成分エチレンジアミンおよびピペラジンを含有する頂部流と、ピペラジンの沸点よりも高い沸点を有する成分を含有する底部流とに分離する工程、
- 底部流を塔K-Iから第二の蒸留塔K-IIに導入し、供給された底部流を、モノエチレングリコール、ジエチレントリアミンおよびモノエタノールアミンを含有する頂部流と、モノエチレングリコールおよびジエチレントリアミンよりも高沸点の成分を含有する底部流とに分離する工程、
- 頂部流を、塔K-IIから、同じ分離段または高さでトリエチレングリコールがジエチレントリアミンのための選択性溶媒として供給される抽出蒸留塔K-IIIに供給する工程、ここで、抽出蒸留塔K-IIIでは、底部を介して、ジエチレントリアミンが負荷された選択性溶媒トリエチレングリコール含有流が抜き取られ、頂部を介して、モノエチレングリコールを含有するほぼジエチレントリアミン不含の流が抜き取られる、
- DETAが負荷された選択性溶媒を含有する抽出蒸留塔K-IIIからの底部流は、好ましくは脱着塔K-IVに供給されて、そこで、DETAを含有する頂部流と、TEGを含有する底部流とに分離される。塔K-IVからのTEGを含有する底部流は、抽出蒸留塔K-IIIに再循環させられることが好ましい。
MEG、MEA、EDAおよびDETAと、PIP以下の沸点を有する低沸点物質と、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物を精製する方法であって、以下の工程:
a) MEG、MEA、EDAおよびDETAと、PIP以下の沸点を有する低沸点物質と、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物を、
(i) EDAと、PIP以下の沸点を有する低沸点物質とを含有する混合物A、および
(ii) MEAを含有する混合物B、および
(iii) MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物C
に分離する工程、
b) 段階a)からの混合物Cを、
(i) MEGを含有する混合物D、および
(ii) MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物E
に分離する工程、
c) 段階b)からの混合物Eを、
(i) MEGおよびDETAを含有する混合物F、および
(ii) AEEA以上の沸点を有する高沸点物質を含有する混合物G
に分離するか、
または
(i) MEGおよびDETAを含有する混合物F、および
(ii) AEEAを含有する混合物G1、および
(iii) AEEA以上の沸点を有する高沸点物質を含有する混合物G2
に分離する工程、
d) 段階c)からの混合物Fを、トリエチレングリコールを用いた抽出蒸留により、
(i) MEGを含有する混合物H、および
(ii) DETAおよびTEGを含有する混合物I
に分離する工程
を含む方法により解決された。
AEEA:アミノエチルエタノールアミン
AEP:アミノエチルピペラジン
DETA:ジエチレントリアミン
EDA:エチレンジアミン
EDC:エチレンジクロリド
HEP:ヒドロキシエチルピペラジン
HPA:重質ポリアミン(Heavy Polyamine)
MEA:モノエタノールアミン
MEG:モノエチレングリコール
NMEDA:N-メチルエチレンジアミン
PEHA:ペンタエチレンヘキサミン
PIP:ピペラジン
TEPA:テトラエチレンペンタミン
TETA:トリエチレンテトラミン。
好ましい実施形態では、段階1で、MEGを、アンモニア、水素および不均一触媒の存在下で反応させる。
エチレングリコールとしては、少なくとも98%の純度を有する工業用エチレングリコール、極めて特に好ましくは少なくとも99%、極めて特に好ましくは少なくとも99.5%の純度を有するエチレングリコールが使用されることが好ましい。
使用されるMEGは、100ppm未満の硫黄を含有することが好ましい。使用されるMEGは、20ppm未満の硫黄、極めて特に好ましくは2ppm未満の硫黄を含有することが特に好ましい。理想的には、使用されるMEGは、硫黄を含有しない。よって、新しく使用されるMEGを反応部への導入前に後処理して、存在し得る硫黄を分離することが有利である。そのために、新しいMEGをMEG反応(段階1)に直接導入するのではなく、まず段階b)または段階2または段階a)、好ましくは段階b)に導入し、段階b)での分離後にMEG反応(段階1)に返送してもよい。アミンの存在下での精留により、新しいMEG中に場合によって存在する高沸点物質が分離されるのみならず、塩基性アミンとの反応または同伴作用(Schleppwirkung)により付加物(高沸点物質)を形成する、場合によって含有される硫黄化合物、例えば、硫化物、亜硫酸塩、メルカプタンまたはチオールが分離されることが分かった。よって、先に挙げた好ましい実施形態により、いわゆる繊維品質を有しないMEGの使用も可能になる。
エチレングリコールの反応は、一般的にアンモニアの存在下で行われる。
本発明による方法は、水素の存在下で行われることが好ましい。
MEGとアンモニアとの反応は、一般的にアミノ化触媒の存在下で行われる。
米国特許第4,111,840号明細書に開示されているNi/Re触媒
米国特許第3,137,730号明細書に開示されているCu/Ni触媒
西独国特許出願公告第1172268号明細書に開示されている、活性金属Cu、Fe、NiおよびCoのうちの少なくとも1種を含有する触媒
国際公開第2007/093514号に開示されている担持Ru/Co触媒
国際公開第2013072289号に開示されている、Al、Cu、NiおよびCoのみならず元素Snを含む触媒
国際公開第200908051号、国際公開第2009080508号、国際公開第200006749号および国際公開第20008006750号に開示されている、ZrおよびNiのみならず、Cu、Sn、Coおよび/またはFeも含み、かつさらなる構成要素として、V、Nb、S、O、La、B、W、Pb、Sb、BiおよびInなどの元素を含有する触媒
これらの出願において出願番号EP1、EP2およびEP3で開示されている触媒。
使用される出発物質混合物は、使用されるMEG量を基準としてモル過剰のアンモニアを含有することが好ましい。ここで、モル比NH3/MEGは、1~100、好ましくは2~50、特に好ましくは7~18であってもよい。
MEGとアンモニアとの反応のための好ましい反応器は、一般的に管型反応器である。管型反応器内には、アミノ化触媒が、好ましくは流動床または固定床として配置されている。
MEGの反応は、一般的に5~50MPa(50~500bar)、好ましくは5~40MPa、特に好ましくは20~35MPaの圧力、および一般的に50~350℃、特に100~300℃、好ましくは120~270℃、特に好ましくは150~220℃、殊に170~200℃の温度で行われることが好ましい。
時間単位あたりに使用されるMEG重量を使用される触媒重量で割ったものとして表される触媒空間速度は、0.05~10kg/kg・h、好ましくは0.1~5kg/kg・h、特に好ましくは0.2~1.5kg/kg・hである。
アミノ化反応器からの排出物は、一般的に、アミノ化反応の生成物、未反応の出発物質、例えばMEGおよびアンモニア、ならびに水素および水を含有する。
MEG反応からの混合物は、一般的にアンモニアを含有する。
2-1) 段階1からの反応排出物を、アンモニアおよび/または水素を含有する気相と、エチレンアミンおよび/またはアルカノールアミンを含有する液相とに分離する工程、
2-2) 段階2-1)からの気相を1個以上の凝縮器に通し、アンモニアが濃縮された1種以上の液相を得て、かつ水素が濃縮された気相を得る工程、
2-3) 段階2-2)からの気相とMEGとを接触させ、それにより、MEGおよびアンモニアを含有する液相を得て、かつ水素および任意でアンモニアを含有する気相を得る工程
を含むことにより行われる。
アンモニア、および場合によって水素の分離の後に、好ましくは、未反応のMEG、反応生成物MEA、EDA、PIP、AEEA、AEP、DETAおよび高級エチレンアミン(高級エチレンアミンとは、TETA以上の沸点を有するエチレンアミンを表す)、例えばTETAおよびTEPAを含有する混合物が得られる。
本発明によると、MEG、MEA、EDAおよびDETAと、PIP以下の沸点を有する低沸点物質と、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物を分離段階に送り、ここで、導入された混合物を以下の混合物に分離する:
(i) EDAと、PIP以下の沸点を有する低沸点物質とを含有する混合物A、および
(ii) MEAを含有する混合物B、および
(iii) MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物C。
段階a)における分離が、2個の直列接続された精留塔a-1およびa-2内で実施される場合、第一の精留塔a-1内では、
(i) 頂部、または導入箇所と頂部との間の側部抜取口を介して、EDAと、PIP以下の沸点を有する低沸点物質とを含有する混合物Aが分離され、かつ
(ii) 底部、または導入箇所と底部との間の側部抜取口で、MEAと、MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物BCが抜き取られる。
(i) 頂部、または導入箇所と頂部との間の側部抜取口を介して、MEAを含有する混合物Bが分離され、かつ
(ii) 底部、または導入箇所と底部との間の側部抜取口で、MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物Cが抜き取られる。
精留塔a-1における圧力は、適切な底部および頂部温度が生じるように選択される。圧力が低いと、当業者に公知のように、相対的な揮発性が向上することにより分離が容易になる。さらに、圧力が低いことにより、蒸発器において低温の熱を伝達することが可能になり、それにより廃熱を使用することが可能になる。
精留塔a-2における圧力は、適切な底部および頂部温度が生じるように選択される。圧力が低いと、当業者に公知のように、相対的な揮発性が向上することにより分離が容易になる。さらに、圧力が低いことにより、蒸発器において低温の熱を伝達することが可能になり、それにより廃熱を使用することが可能になる。
しかしながら、段階a)における分離は、1個の精留塔内だけで実施されることが好ましく、ここで
(i) 頂部または上側側部抜取口を介して、EDAと、PIP以下の沸点を有する低沸点物質とを含有する混合物Aが分離され、かつ
(ii) 頂部と底部との間の側部抜取口で、MEAを含有する混合物Bが分離され、かつ
(iii) 底部または下側側部抜取口で、MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物Cが抜き取られる。
特に好ましい実施形態において、隔壁を有する精留塔a-Tが使用される。
EDAと、PIP以下の沸点を有する低沸点物質とを含有する混合物Aは、一般的に2つのさらなる処理段階で後処理される。いわゆるNMEDA分離(段階5)において、まず不所望な副生成物NMEDAおよび水が分離される。また、段階5は、2回の工程で実施されてもよく、ここで、第一の工程では、EDAおよび水が高沸点共沸混合物を形成する条件で分離が実施され、そのため、NMEDAを頂部を介して分離することが可能である。第二の工程は、好ましくは水およびEDAが共沸混合物を形成しない条件で実施され、そのため、水をEDAから分離することが可能である。
本発明によると、MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物Cは、さらなる分離段階b)に供給される。
(i) MEGを含有する混合物D、および
(ii) MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物E。
段階b)からの混合物Dは、主にMEGを含有する。そのようにして得られるMEGは、低い硫黄含量を有することが好ましい。主にMEGを含有する混合物Dは、100ppm未満の硫黄を、硫化物、亜硫酸塩または有機硫黄化合物、例えばメルカプタンもしくはチオールの形態で含有することが好ましい。混合物Dは、20ppm未満の硫黄、極めて特に好ましくは2ppm未満の硫黄を含有することが特に好ましい。そのような硫黄の少ないMEGをMEG反応(段階1)に導入することには、先に述べた利点がある。
本発明によると、MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する段階b)からの混合物Eは、段階c)で以下のものに分離される:
(i) MEGとDETAとを含有する混合物F、および
(ii) AEEA以上の沸点を有する高沸点物質を含有する混合物G。
(i) MEGとDETAとを含有する混合物F、および
(ii) AEEAを含有する混合物G1、および
(iii) AEEA以上の沸点を有する高沸点物質を含有する混合物G2。
AEEA以上の沸点を有する高沸点物質を含有する混合物Gは、一般的に、さらなる分離段階、例えば、精留、蒸留または単純な蒸発において、循環蒸発器、流下膜蒸発器または薄膜蒸発器により後処理され、AEEAが、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質から分離される。
本発明によると、段階c)からの混合物Fは、トリエチレングリコール(TEG)を用いた抽出蒸留により以下のものに分離される:
(i) MEGを含有する混合物H、および
(ii) DETAおよびTEGを含有する混合物I。
主にMEGを含有する混合物Hは、MEG反応に返送されることが好ましい。
(i) DETAを含有する混合物J、および
(ii) TEGを含有する混合物K。
(i) NMEDAおよび水を含有する混合物L、および
(ii) 水を含有する混合物M、および
(iii) EDAおよびPIPを含有する混合物N。
(i) EDAを含有する混合物O、および
(ii) PIPを含有する混合物P、および
(iii) 残分を含有する混合物Q。
TEG分離-段階4
DETAおよびTEGを含有する段階d)で得られる混合物Iは、さらなる段階4に導入され、そこで以下のものに分離されることが好ましい:
(i) DETAを含有する混合物J、および
(ii) TEGを含有する混合物K。
主にDETAを含有する混合物Jは、例えば、キレート配位子として、エポキシド系用硬化剤として、植物保護剤および医薬品を製造するための中間生成物として、さらなる使用に供給されてもよい。
段階a)からの混合物Aは、段階5(EDA脱水)に導入され、そこで以下のものに分離されることが好ましい:
(iv) NMEDAおよび水を含有する混合物L、および
(v) 水を含有する混合物M、および
(vi) EDAおよびPIPを含有する混合物N。
精留塔5-1内では、混合物Lが、頂部を介して分離され、また、主な割合のEDAを水およびピペラジンとの高沸点共沸混合物として含有する混合物MNが、底部を介して分離されることが好ましい。
混合物MNは、さらなる精留塔5-2に送られることが好ましく、そこで、好ましくは頂部または上側側部抜取口を介して混合物Mが抜き取られ、底部または下側側部抜取口で混合物Nが抜き取られる。
EDAおよびPIPを含有する段階5からの混合物Nは、さらなる段階5で以下のように分離されることが好ましい:
(iii) EDAを含有する混合物O、および
(iv) PIPを含有する混合物P、および
(v) 残分を含有する混合物Q。
好ましくはMEGの反応から得られる混合物を分離するための本発明による方法により、所望の方法生成物を高い純度および収率で得ることを可能にする方法を提供することができた。
例1を、図1および図2に示される構成にしたがって実施した。
図2に示されるように、段階2からの排出物(流(7))を段階a)に送った。段階a)は、150mbarの頂部圧力で操作された隔壁塔として構成されている。塔K31は、仕切板金の下方の回収部としての16個の理論分離段、供給箇所の下方の仕切板金の供給側の5個の理論分離段、供給箇所の上方の仕切板金の供給側の10個の理論分離段、側部抜取口箇所の下方の仕切板金の抜取口側の12個の理論分離段、側部抜取口箇所の上方の仕切板金の抜取口側の8個の理論分離段、および仕切板金の上方の濃縮部としての3個の理論分離段に相応する規則的に並べられた規則充填物を含んでいた。K31の頂部温度は73℃であり、底部温度は146℃であり、還流量は10.6kg/hであった。K31の側部抜取口で、1.88kg/hのMEAを含有する流を抜き取り(混合物B)、これを流(4)として段階3に送った。
図2に示されるように、塔K31の頂部で、EDAと、PIP以下の沸点を有する低沸点物質とを含有する流(8)(混合物A)を抜き取り、これをNMEDA分離(段階5)に送った。
図2に示されるように、段階6を精留塔内で1回の工程において実施した。
塔K31の底部で、流(16)として、MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する8.7kg/hを抜き取った(混合物C)。図2に示されるように、この流を、段階b)で精留塔K51に通した。塔K51を、300mbarの頂部圧力で操作した。塔K51は、6個の理論分離段に相応する規則的に並べられた規則充填物を有する回収部を1個のみ含んでいた。頂部温度は161℃であり、底部温度は179℃であった。頂部を介して、流(17)として、0.4%のDETAと、0.5%のAEEAと、0.6%の別の高沸点物質とを含有する7.8kg/hのMEGを抜き取った(混合物D)。K51の底部を介して、流(18)として、34%のMEGと、34%のDETAと、16%のAEEAと、別の高沸点物質の残分(16%)とを含有する0.91kg/hを取り出した(混合物E)。
図2に示されるように、段階b)からの底部生成物を、段階c)で精留塔K61に通した。塔K61を、125mbarの頂部圧力で操作した。塔K61は、濃縮部における15個の理論分離段および回収部における12個の理論分離段に相応する規則的に並べられた規則充填物を含んでいた。頂部温度は150℃であり、底部温度は180℃であり、還流量は0.8kg/hであった。底部を介して、流(19)として、AEEAを有する0.29kg/hの残分を抜き取った(混合物G)。頂部を介して、流(20)として、110ppmの別の高沸点物質と一緒に約50%のMEGおよび50%のDETAを含有する0.62kg/hを抜き取った(混合物F)。
図2に示されるように、流(20)を、段階d)で精留塔K71に通した。塔K71を、30mbarの頂部圧力で操作した。さらに、流(21)として、主にTEGを含有する4kg/hをK71に通した。K71は、流(21)の供給部の上方の濃縮部としての6個の理論分離段、流(21)(上側)および流(20)(下側)の供給部の間の14個の理論分離段、ならびに流(20)の供給箇所の下方の回収部としての23個の理論分離段に相応する規則的に並べられた規則充填物を含んでいた。頂部温度は109℃であり、底部温度は188℃であり、還流量は0.93kg/hであった。K71の頂部を介して、流(22)として、950ppmのDETAを含有する0.31kg/hのMEGを抜き取った(混合物H)。K71の頂部からの流(22)、K51の頂部からの流(17)、および新しいMEGを、消費された量の補足分として合し、流(2)として段階1に返送した。
図2に示されるように、K71の底部を、段階4で精留塔K72に導入した。塔K72を、25mbarの頂部圧力で操作した。塔K72は、濃縮部における6個の理論分離段および回収部における24個の理論分離段に相応する規則的に並べられた規則充填物を含んでいた。頂部温度は105℃であり、底部温度は190℃であり、還流量は1.4kg/hであった。K72で、流(23)として、101ppmのMEGおよび2500ppmの別の高沸点物質を含有する0.31kg/hのDETAを生成物として抜き取った(混合物J)。K72の底部で、TEGを含有する4kg/hを抜き取り(混合物K)、これを、流(21)として段階d)で塔K71に返送した。さらに、K72の底部から10g/hを排出して、TEG循環における不活性高沸点物質の蓄積を回避した。
図3に示されるように、例2では、アンモニア分離(段階2)を複数個の塔内で実施する。
図4に示されるように、例3では、アンモニア分離を複数個の塔内で実施する。
Claims (17)
- モノエチレングリコール(MEG)、モノエタノールアミン(MEA)、エチレンジアミン(EDA)およびジエチレントリアミン(DETA)と、ピペラジン(PIP)以下の沸点を有する低沸点物質と、アミノエチルエタノールアミン(AEEA)以上の沸点を有する高沸点物質とを含有する混合物を精製する方法であって、以下の工程:
a) MEG、MEA、EDAおよびDETAと、PIP以下の沸点を有する前記低沸点物質と、AEEA以上の沸点を有する前記高沸点物質とを含有する混合物を、
(i) EDAと、PIP以下の沸点を有する前記低沸点物質とを含有する混合物A、および
(ii) MEAを含有する混合物B、および
(iii) MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する前記高沸点物質とを含有する混合物C
に分離する工程、
b) 前記段階a)からの前記混合物Cを、
(i) MEGを含有する混合物D、および
(ii) MEGと、DETAと、AEEA以上の沸点を有する前記高沸点物質とを含有する混合物E
に分離する工程、
c) 前記段階b)からの前記混合物Eを、
(i) MEGおよびDETAを含有する混合物F、および
(ii) AEEA以上の沸点を有する前記高沸点物質を含有する混合物G
に分離するか、
または
(i) MEGおよびDETAを含有する混合物F、および
(ii) AEEAを含有する混合物G1、および
(iii) AEEA以上の沸点を有する前記高沸点物質を含有する混合物G2
に分離する工程、
d) 前記段階c)からの前記混合物Fを、トリエチレングリコール(TEG)を用いた抽出蒸留により、
(i) MEGを含有する混合物H、および
(ii) DETAおよびTEGを含有する混合物I
に分離する工程
を含む、方法。 - 前記方法に使用される混合物を、水素およびアミノ化触媒の存在下でMEGとアンモニアとを反応させる段階1で製造し、前記段階1からの反応生成物を、アンモニアおよび水素を分離する段階2に送ることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 前記段階a)からの前記混合物Bを前記段階1に返送するか、またはさらなる段階3(MEA反応)にて、水素およびアミノ化触媒の存在下でアンモニアと反応させ、前記段階3からのそのようにして得られた反応生成物を、前記段階1からの前記反応生成物と合し、それから、合した流を前記段階2に導入することを特徴とする、請求項2記載の方法。
- 前記段階a)からの前記混合物Aを、段階5(N-メチルエチレンジアミン(NMEDA)分離)で以下のもの:
(vii) NMEDAおよび水を含有する混合物L、および
(viii) 水を含有する混合物M、および
(ix) EDAおよびPIPを含有する混合物N
に分離することを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。 - 前記段階5における前記分離を2個の精留塔5-1および5-2内で行い、ここで、塔5-1内で、前記混合物Lを頂部を介して分離し、主な割合のEDAを水およびピペラジンとの高沸点共沸混合物として含有する混合物MNを底部を介して抜き取り、前記混合物MNを塔5-2に導入し、そこで、頂部または上側側部抜取口を介して前記混合物Mを抜き取り、底部または下側側部抜取口で前記混合物Nを抜き取ることを特徴とする、請求項4記載の方法。
- 前記塔5-1における底部温度が170℃以下であり、前記塔5-2における底部温度が180℃以上であることを特徴とする、請求項5記載の方法。
- 前記混合物Mを凝縮せず、蒸気の形態で前記塔5-1の底部または回収部に導入すること、および/または加熱蒸気として前記塔5-1の蒸発器に導入することを特徴とする、請求項5または6記載の方法。
- 前記段階1に導入されるMEGが、100ppm未満の硫黄含量を含むことを特徴とする、請求項2から7までのいずれか1項記載の方法。
- 前記段階1に導入されるべきMEGを、まず前記段階2または前記段階b)に導入し、前記段階b)で分離された前記混合物Dを前記段階1に導入することを特徴とする、請求項8記載の方法。
- 前記段階d)からの流Iを、さらなる段階4で以下の混合物:
(vi) DETAを含有する混合物J、および
(vii) TEGを含有する混合物K
に分離することを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。 - 前記段階4を精留塔内で実施し、そこで、頂部または上側側部抜取口から前記混合物Jを抜き取り、前記混合物Kを、底部生成物として、または下側側部抜取口から抜き取ることを特徴とする、請求項10記載の方法。
- 前記段階a)を隔壁塔a-T内で実施し、そこで、前記隔壁塔の頂部にて、前記混合物Aを分離し、頂部と底部との間の前記隔壁塔の側部抜取口にて、前記混合物Bを分離し、前記隔壁塔の底部にて、前記混合物Cを抜き取ることを特徴とする、請求項1から11までのいずれか1項記載の方法。
- 精留を前記隔壁塔a-T内にて1bar以下の圧力で実施することを特徴とする、請求項12記載の方法。
- 前記段階b)を精留塔内で実施し、ここで、前記混合物Dを、頂部生成物として、または上側側部抜取口から抜き取り、前記混合物Eを、底部生成物として、または下側側部抜取口から抜き取ることを特徴とする、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
- 前記段階c)を精留塔内で実施し、ここで、前記混合物Fを、頂部または上側側部抜取口を介して抜き取り、前記混合物Gを、底部または下側側部抜取口を介して抜き取ることを特徴とする、請求項1から14までのいずれか1項記載の方法。
- 前記段階d)を精留塔内で実施し、ここで、頂部または上側側部抜取口にて、前記混合物Hを抜き取り、前記混合物Iを、底部生成物として、または下側側部抜取口から抜き取ることを特徴とする、請求項1から15までのいずれか1項記載の方法。
- 前記段階d)に使用されるトリエチレングリコールを、TEGの供給後の前記混合物FにおけるTEG対DETAのモル比が、1:1~10:1の範囲にある量で使用することを特徴とする、請求項1から16までのいずれか1項記載の方法。
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