JP6939573B2 - 透光性構造体 - Google Patents

Description

本発明は、低ヘイズ率で低ぎらつき性を有する防眩性の透光性構造体に関する。

各種機器（テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、携帯電話、車両等）に備え付けられた画像表示装置（液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ等）においては、室内照明（蛍光灯等）、太陽光等の外光が表示面に映り込むと、反射像によって視認性が低下する。
外光の映り込みを抑制するために、画像表示装置の表示面を構成する基材（ガラス板等）の表面に防眩処理を施すことが行われている。防眩処理は、表面に凹凸を設け、この凹凸によって入射光を散乱させる処理である。入射光が拡散反射することで、反射像が不鮮明になり、外光の映り込みが抑制される。防眩処理としては、基材の表面をエッチングする方法や、表面に凹凸のある防眩層を設ける方法が知られている。防眩層の形成方法としては、アルコキシシランの加水分解縮合物等のシリカ前駆体を含む塗布液をスプレー法にて基材上に塗布し、焼成する方法が知られている（例えば特許文献１）。

しかし、基材の表面に防眩処理を施すと、ヘイズ率が増大し、画像の視認性が低下する問題がある。この問題に対し、以下の（１）〜（３）のような反射防止性を有する防眩性物品が提案されている。かかる防眩性物品にあっては、反射防止性を有することで、入射光の反射が抑制され、画像の解像度やコントラスト、光の透過率が向上し、画像の視認性が向上するとされている。
（１）表層に凹凸構造を有する防眩層が設けられた基材と、前記防眩層の上に設けられた反射防止層と、を備える防眩・反射防止部材（特許文献２）。
（２）防眩層を備え、前記防眩層が、硬化した無機ポリマーマトリックス中に凝集体無機酸化物粒子を含み、該無機酸化物粒子が２μｍ超約１００μｍ以下のサイズの表面構造を形成しているタッチスクリーン（特許文献３）。
（３）透明基板と、透明基板上に形成された防眩コーティングとを備え、前記防眩コーティングが、複数の板状シリカ粒子を含み、該板状シリカ粒子の少なくとも一部が複数の花状構造（三次粒子）を形成している防眩パネル（特許文献４）。

一方、防眩処理を施した基材を画像表示装置の表示面に配置すると、凹凸が存在することによって表示面でぎらつきが発生し、画像の視認性が低下する問題がある。このぎらつきは、防眩性が高いほど強い傾向がある。
ぎらつきを抑制できる防眩コートとして、以下の（４）が提案されている。
（４）基材上に分離した複数の領域を有する防眩層を備えた防眩コートであって、前記領域と基材との間が凹凸状に形成され、凸部領域内の表面は平滑または少なくとも１つの凹凸部が形成されている防眩コート（特許文献５）。

日本特開２００９−０５８６４０号公報 国際公開第２０１４／０３４７２０号 米国特許出願公開第２０１０／０２７９０７０号明細書 米国特許第８，９７４，０６６号明細書 日本特開２０１３−２１４０５９号公報

特許文献２の防眩・反射防止部材や特許文献３のタッチスクリーンは、従来の一般的な防眩処理を施した場合と同様、ぎらつきの問題がある。特許文献４の防眩パネルは、ヘイズ率が高く、画像の視認性が充分ではない。
特許文献５の防眩コートは、ある程度ぎらつきを抑制できるものの、その効果は充分ではない。近年、液晶ディスプレイのピクセル密度が増大しており、ピクセル密度が高くなると、凹凸構造が同じでもぎらつきが強くなる。そのため、ぎらつきのさらなる低減が求められる。

本発明は、低ヘイズ率で低ぎらつき性を有する防眩性の透光性構造体、これを備える物品および画像表示装置を提供することを目的とする。

本発明は、下記の態様を有する。
凹凸構造を表面に有する透光性構造体であって、前記凹凸構造が、前記凹凸構造の（１０１μｍ×１３５μｍ）〜（１１１μｍ×１４８μｍ）の領域をレーザ顕微鏡で測定して得られる表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの直径（真円換算）が１μｍ以上の第一の凸部を含み、前記第一の凸部の直径（真円換算）の平均値が１．０００〜１６．０００μｍであり、
画像処理ソフトウェアＳＰＩＰ（イメージメトロロジー社製）により前記表面形状をフィルタリングすることによりスムージング像を得て、前記表面形状のＸＹＺデータから前記スムージング像のＸＹＺデータを差し引いて得られた像において、ベアリング高さを０としたとき、前記複数の凸部が、高さ０．０１μｍでの直径（真円換算）が０．４μｍ以上の第二の凸部を含み、前記第二の凸部の密度が０．０２３〜７．２１０個／μｍ^２、高さ０．０１μｍでの前記第二の凸部の断面の合計面積が、前記領域の総面積に対して０．９００〜９０．０００％である透光性構造体。

本発明によれば、低ヘイズ率で低ぎらつき性を有する防眩性の透光性構造体、これを備える物品および画像表示装置を提供できる。
本発明の透光性構造体は、防眩性を有するため、本発明の透光性構造体を画像表示装置の表示面に配置すると、透光性構造体表面の凹凸構造によって外光が拡散反射され、反射像が不鮮明になり、外光が表示面に映り込むことによる画像の視認性の低下を抑制できる。また、本発明の透光性構造体は、ヘイズ率が低く、凹凸構造の表面でぎらつきが発生しにくいため、透光性構造体を配置することによる画像の解像度やコントラスト、光の透過率の低下、表示面でのぎらつきによる画像の視認性の低下が生じにくい。

本発明の第一実施形態の透光性構造体を模式的に示す断面図である。 第一実施形態の透光性構造体の表面付近の構造を模式的に説明する図である。 第一実施形態の透光性構造体の表面形状、そのスムージング像、およびそれらのＸＹＺデータの差分として得られる像の関係を説明する図である。 本発明の第二実施形態の透光性構造体を示す模式断面図である。 第二実施形態の透光性構造体の表面形状、そのスムージング像、およびそれらのＸＹＺデータの差分として得られる像の関係を説明する図である。 本発明の第三実施形態の透光性構造体を模式的に示す断面図である。 第三実施形態の透光性構造体の表面付近の構造を模式的に説明する断面図である。 本発明の第四実施形態の透光性構造体を模式的に示す断面図である。 例１の透光性構造体における防眩層側の表面のレーザ顕微鏡像である。 例１の透光性構造体における防眩層側の表面を斜め上方６０度から観察した走査顕微鏡（ＳＥＭ）像である。 例１の透光性構造体の防眩層側の表面形状をＳＰＩＰにより解析した像（ベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの断面）である。 例１の透光性構造体の防眩層側の表面形状をＳＰＩＰにより解析した像（表面形状のＸＹＺデータとスムージング像のＸＹＺデータとの差分として得られる像の０．０１μｍの高さでの断面）である。 例２１の透光性構造体における防眩層側の表面のレーザ顕微鏡像である。 例２１の透光性構造体の防眩層側の表面形状をＳＰＩＰにより解析した像（ベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの断面）である。 例２１の透光性構造体の防眩層側の表面形状をＳＰＩＰにより解析した像（表面形状のＸＹＺデータとスムージング像のＸＹＺデータとの差分として得られる像の０．０１μｍの高さでの断面）である。 例３４の透光性構造体における防眩層側の表面のレーザ顕微鏡像である。 例３４の透光性構造体の防眩層側の表面形状をＳＰＩＰにより解析した像（ベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの断面）である。 例３４の透光性構造体の防眩層側の表面形状をＳＰＩＰにより解析した像（表面形状のＸＹＺデータとスムージング像のＸＹＺデータとの差分として得られる像の０．０１μｍの高さでの断面）である。 例１〜３９における第一の凸部の平均直径とぎらつき指標値との関係を示すグラフである。 例１〜３９における第二の凸部の密度とぎらつき指標値との関係を示すグラフである。 例１〜３９における第二の凸部の面積率とぎらつき指標値との関係を示すグラフである。

以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「透光性」とは、可視光を透過可能であることを意味する。
「ベアリング高さ」は、レーザ顕微鏡で（１０１μｍ×１３５μｍ）〜（１１１μｍ×１４８μｍ）の領域（以下、「観察領域」ともいう。）を測定して得られる、観察領域の表面形状のＸＹＺデータから求められる高さ分布ヒストグラムにて、最も優勢な高さＺの値である。ＸＹＺデータにおける高さＺは、特に基準を規定しない場合、観察領域の最低点（Ｚの値が最小値をとる位置）を基準とした高さ（高さＺを測定する位置から、観察領域における透光性構造体の主面に平行な平面であって最低点を含む平面に下した垂線の長さ）であり、以下において特に基準を規定しない場合の表面形状における高さの意味も同様である。高さ分布ヒストグラムにおける各区間の幅（ｂｉｎ）は１０００に設定した。
ＸＹＺデータにおいて、Ｚ方向は、凹凸構造の高さ方向（透光性構造体の厚さ方向）であり、ＸＹ平面は、Ｚ方向と直交する面である。
数値範囲を示す「〜」とは、その前後に記載された数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。

≪透光性構造体≫
｛第一実施形態｝
図１において、本実施形態の透光性構造体１は、透光性基材３と、その第一の表面３Ａ上に形成された防眩層５とを備える。防眩層５は、表面に凹凸構造を有する。防眩層５の表面は、透光性構造体１の表面を構成している。そのため、透光性構造体１は、表面に凹凸構造を有する。なお、図１中、透光性基材３の厚みに対する防眩層５の厚みの比率は、便宜上、実際の比率よりも大きくしている。

（透光性基材）
透光性基材３としては、可視光を透過可能なものであればよく、透明であるものが好ましい。透光性基材３における透明とは、４００〜１１００ｎｍの波長領域の光を平均して８０％以上透過する（平均透過率が８０％以上である）ことを意味する。４００〜１１００ｎｍの波長領域の光の平均透過率は、積分球を用いて測定される。

透光性基材３の材料は、たとえばガラス、樹脂等が挙げられる。ガラスとしては、たとえばソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。樹脂としては、たとえばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメタクリル酸メチル等が挙げられる。

透光性基材３の形態としては、たとえば板、フィルム等が挙げられる。
透光性基材３の第一の表面３Ａは、平滑であってもよく、凹凸を有してもよい。防眩層５を設けることの有用性の点では、平滑であることが好ましい。第一の表面３Ａの算術平均粗さＲａは、１０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、２ｎｍ以下がさらに好ましく、１ｎｍ以下が特に好ましい。ここで言うＲａは、エスアイアイナノテクノロジー社製走査型プローブ顕微鏡多機能ユニットＳＰＡ−４００の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）モードで測定した値である。

透光性基材３の形状は、図示するような平坦な形状のみでなく、曲面を有する形状であってもよい。最近では、画像表示装置を備える各種機器において、画像表示装置の表示面が曲面とされたものが登場している。透光性基材３が曲面を有する形状である透光性構造体１は、このような画像表示装置用として有用である。
透光性基材３が曲面を有する場合、透光性基材３の表面は、全体が曲面で構成されてもよく、曲面である部分と平坦である部分とから構成されてもよい。表面全体が曲面で構成される場合の例として、たとえば、透光性基材の断面が円弧状である場合が挙げられる。なお、ここでの曲面は、レーザ顕微鏡で観察される観察領域では無視できる程度のマクロ的な曲面である。
透光性基材３が曲面を有する場合、該曲面の曲率半径（以下、「Ｒ」ともいう。）は、透光性構造体１の用途、透光性基材３の種類等に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、２５０００ｍｍ以下が好ましく、１０〜５０００ｍｍがより好ましく、５０〜３０００ｍｍが特に好ましい。Ｒが前記の上限値以下であれば、平板に比較し、意匠性に優れる。Ｒが前記の下限値以上であれば、曲面表面へも均一に防眩層を形成できる。

透光性基材３としては、ガラス板が好ましい。ガラス板は、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法等により成形された平滑なガラス板であってもよく、ロールアウト法等で形成された表面に凹凸を有する型板ガラスであってもよい。また、平坦な形状のガラス板のみでなく、曲面を有する形状のガラス板でもよい。ガラス板が曲面を有する場合、該曲面の好ましい曲率半径は前記と同様である。
透光性基材３の厚みは特に限定されない。例えば厚み１０ｍｍ以下、好ましくは０．５〜３ｍｍのガラス板を使用することができる。厚みが薄いほど光の吸収を低く抑えられるため、透過率向上を目的とする用途にとって好ましい。また、厚みが薄いほど透光性構造体１の軽量化に寄与する。

ガラス板は、強化ガラス板であることが好ましい。強化ガラス板は、風冷強化又は化学強化処理が施されたガラス板である。強化処理により、ガラスの強度が向上し、たとえば強度を維持しながら板厚みを削減することが可能となる。

（防眩層）
防眩層５は、表面に凹凸構造を有する。
防眩層５の表面（つまり透光性構造体１の表面）の凹凸構造は、図２、図３（ａ）に示すように、防眩層５の表面形状（つまり透光性構造体１の表面形状）におけるベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの直径（真円換算）が１μｍ以上の第一の凸部５ａを含む。図２中の符号「ＢＨ」はベアリング高さを示す。第一の凸部５ａは複数存在し、複数の第一の凸部５ａによって防眩層５の表面にうねりが形成されている。
また、防眩層５の表面形状にあっては、画像処理ソフトウェアＳＰＩＰ（イメージメトロロジー社製）により前記表面形状をフィルタリングして図３（ｂ）に示すようなスムージング像を得て、前記表面形状のＸＹＺデータから前記スムージング像のＸＹＺデータを差し引いたときに、図３（ｃ）に示すような複数の凸部が散らばった像が得られる。この複数の凸部が散らばった像において前記複数の凸部は、高さ０．０１μｍでの直径（真円換算）が０．４μｍ以上の第二の凸部５ｂを含む。第二の凸部５ｂは複数存在する。本実施形態において第二の凸部５ｂは、典型的には、複数の第一の凸部５ａによって形成されたうねりの上に島状に分布している。
防眩層５には局所的に、透光性基材３が露出している部分があってもよい。

前記表面形状は、防眩層５の表面（透光性構造体１の表面）の観察領域をレーザ顕微鏡で測定して得られるものである。
観察領域は、短辺１０１〜１１１μｍ×長辺１３５〜１４８μｍの矩形の範囲内である。つまり観察領域は、最小で１０１μｍ×１３５μｍ、最大で１１１μｍ×１４８μｍの矩形の範囲内である。また、縦×横の比率（長辺の長さ／短辺の長さ）は通常、約１．２１〜１．４６の範囲内とされている。
ここで、観察領域を範囲で記載したのは、同じ倍率の対物レンズを用いても、レンズの個体差により観察領域が異なるためである。測定結果は観察領域内の最大、最小、および平均値で表されるため、わずかに観察領域が異なっても、同じ倍率の対物レンズを選定すれば、結果にはほとんど違いは無い。
レーザ顕微鏡で測定される観察領域は、防眩層５の表面（透光性構造体１の表面）から無作為に選択される１箇所である。レーザ顕微鏡での詳しい測定条件は後述する実施例に示すとおりである。

前記平面に複数の凸部が散らばった像を得るための解析は、具体的には、以下の（ｉ）〜（ｉｖ）の手順で行うことができる。
（ｉ）カスタムモードで、実際に測定された防眩層５の表面形状のＸＹＺデータの傾き補正を行い、ベアリング高さを０と補正した表面形状イメージを得る。
（ｉｉ）前記ベアリング高さを０と補正した表面形状イメージについて、「コンボリューション：スムージング：平均に設定」、「カーネルサイズ：Ｘ＝Ｙ＝３１、円形に設定」の条件で、ＸＹデータ３１個を円形単位でＺを平均化するフィルタリングを行い、図３（ｂ）に示すような、なだらかな凹凸表面形状イメージ（以下、「スムージング像（ｂ）」ともいう。）を得る。
（ｉｉｉ）前記ベアリング高さを０と補正した表面形状イメージから、閾値レベル：０．０１μｍにて「粒子」を検出する。その後、イメージウィンドウの測定にて「フィルタ差分」を選択し、「形状のホールを保存」し、フィルタサイズ５１ポイントで「形状輪郭をスムージング」する後処理を行い、図３（ａ）に示すような、後処理された表面形状イメージ（以下、「表面形状（ａ）」ともいう。）を得る。
（ｉｖ）前記スムージング像（ｂ）と前記表面形状（ａ）との差分として、図３（ｃ）に示すような、複数の凸部が散らばった形状イメージ（以下、「像（ｃ）」ともいう。）を得る。

上記（ｉ）の「カスタムモード」は、ＳＰＩＰで傾き補正（フラットニング）を行う際に表示されるモードで、具体的には以下の４つの操作が自動で行われる。
（ｉ−１）「全体面補正法」として「平均プロファイルフィット法」が選択され、次数は３とされる。
（ｉ−２）「ステップを処理」は選択しない。
（ｉ−３）「ラインごとの補正」について「なし」が選択される。
（ｉ−４）「Ｚオフセット法」として「ベアリング高さをゼロにする」が選択される。
上記傾き補正を行うと、レーザ顕微鏡で得られた表面形状のＸＹＺデータについてフィット面がＸおよびＹの平均プロファイルから計算され、イメージから差し引くことによって、イメージ全体の傾きや不要な湾曲が取り除かれる。

上記（ｉｉ）において、カーネルサイズをＸ＝Ｙ＝３１、円形に設定した場合、３１×３１の四角形に内接する八角形で、円形の代用の枠（カーネル）が設定される。フィルタリングでは、カーネル形状に関係なく、カーネル内の全ポイントの単純な平均値で元のデータが置き換えられる。
フィルタリングを行うと、図３（ｂ）に示すような、微細な凹凸が除去（平均化）されたスムージング像（ｂ）が得られる。

ＳＰＩＰの平均化フィルタは、３１×３１のフィルタを用いた。詳細は以下の行列演算で示される。
ある１点：ＸＹＺに対してこの点を中心に円形に（距離が近い順）で９６１点が抽出され、それぞれの点ＸＹに対するＺの値が合計され、その合計値を９６１で割った値が座標ＸＹの新たなＺ値とされる。この計算が面内すべての点について行われる。
Ｘ方向、Ｙ方向の測定点の間隔はそれぞれ７１ｎｍである。
このとき、１点ずつ隣に移動しながら全点に対して平均が求められるので、分解能が下がることは無い。

上記（ｉｉｉ）において、閾値レベルが０．０１μｍとは、粒子（凸部）として高さが０．０１μｍ以上のものを検出することを示す。高さは、ベアリング高さを基準としたものである。
後処理において、「形状のホールを保存」は、検出した粒子の領域内に高さ０．０１μｍ以下の凹部があった場合、この凹部部分の面積を粒子の面積としてカウントしない操作を示す。
「形状輪郭をスムージング」は、粒子の形状輪郭のノイズをとる操作を示す。
フィルタサイズは、粒子の形状輪郭のスムージングの程度を表すもので、値が大きい程、スムージング後の形状輪郭が円に近付く。
つまり（ｉｉｉ）の後処理により得られる表面形状（ａ）は、実際の測定データからノイズを除去し、凸部の形状輪郭を整えたものであり、実際の第一の凸部を含む凹凸表面形状とみなすことができる。

（ｉｖ）において、（ｉｉ）で得たスムージング像（ｂ）から、（ｉｉｉ）で得た表面形状（ａ）を差し引くと、像（ｃ）が得られる。
一般に、うねりのある表面上に凸部が分布している場合、該凸部の数や形状を正確に測定することは難しい。上記形状解析では、スムージング像（ｂ）と表面形状（ａ）とを重ねたときに、スムージング像（ｂ）の表面より上側にある凸部を、うねりのある表面のうねりをなくしたときの、該表面上に分布する凸部と定義している。

第一の凸部５ａは、「前記表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さ」において切断面が観察される凸部であって、該切断面の面積から算出される直径（真円換算）が１μｍ以上の凸部である。
第一の凸部５ａの前記直径（真円換算）の上限値は、後述の平均直径が特定の範囲内となる限り特に限定されないが、典型的には１６μｍ以下である。

第一の凸部５ａの前記直径（真円換算）の平均値（以下、「平均直径」ともいう。）は、１．０００〜１６．０００μｍであり、１．０００〜１２．０００μｍが好ましく、１．０００〜８．０００μｍが特に好ましい。上記平均直径が前記範囲の下限値以上であれば、防眩性が良好である。上記平均直径が前記範囲の上限値以下であれば、低ぎらつき性に優れる。

前記表面形状における第一の凸部５ａの密度は、０．００１〜１．１５個／μｍ^２が好ましく、０．００１〜０．１個／μｍ^２がより好ましく、０．００１〜０．０５０個／μｍ^２が特に好ましい。上記密度が上記範囲の下限値以上であれば、防眩性がより優れる。上記密度が上記範囲の上限値以下であれば、低ぎらつき性がより優れる。

前記表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの第一の凸部５ａの断面の合計面積の、観測領域の総面積に対する割合（以下、「面積率」ともいう。）は、２．００〜９０．７５％が好ましく、２．００〜７０．００％がより好ましく、２．００〜５０．００％が特に好ましい。上記面積率が上記範囲の下限値以上であれば、防眩性がより優れる。上記面積率が上記範囲の上限値以下であれば、低ぎらつき性がより優れる。
観測領域の総面積は、前記表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの、空間部分も含めた断面の総面積に等しい。

第二の凸部５ｂは、表面形状（ａ）およびスムージング像（ｂ）のＸＹＺデータの差分として得られる像（ｃ）の０．０１μｍの高さ（像（ｃ）の最低点、つまりベアリング高さ平面の位置を基準とした高さ）において切断面が観察される凸部であって、該切断面の面積から算出される直径（真円換算）が０．４μｍ以上の凸部である。前記直径が０．４μｍ以上であれば、第一の凸部５ａの表面で屈折した可視光同士が干渉することを阻害してぎらつきを抑制できる。前記直径が０．４μｍ未満の場合、可視光の波長よりも小さいため、上記のような効果が得られないおそれがある。
第二の凸部５ｂの前記直径（真円換算）の上限値は、後述する密度および面積率が特定の範囲内となる限り特に限定されないが、典型的には２．０００μｍ以下である。

第二の凸部５ｂの前記直径（真円換算）の平均値（以下、「平均直径」ともいう。）は、０．４００〜２．０００μｍが好ましく、０．５００〜１．８００μｍがより好ましく、０．６００〜１．５００μｍが特に好ましい。上記平均直径が前記範囲内であれば、低ぎらつき性に優れる。

像（ｃ）における第二の凸部５ｂの密度は、０．０２３〜７．２１０個／μｍ^２であり、０．０２３〜０．１８０個／μｍ^２が好ましく、０．０３３〜０．１８０個／μｍ^２が特に好ましい。上記密度が上記範囲内であれば、低ぎらつき性が優れる。

像（ｃ）で、ベアリング高さを０としたときの高さ０．０１μｍでの第二の凸部５ｂの断面の合計面積の、観測領域の総面積に対する割合（以下、「面積率」ともいう。）は、０．９００〜９０．０００％であり、１．０００〜２２．４００％が好ましく、１．２７０〜１６．０００％が特に好ましい。上記面積率が上記範囲内であれば、低ぎらつき性が優れる。観測領域の総面積は、像（ｃ）の高さ０．０１μｍでの、空間部分も含めた断面の総面積に等しい。

第一の凸部５ａ、第二の凸部５ｂのそれぞれの平均直径、密度、面積率等の特性は、レーザ顕微鏡で測定した表面形状のデータを画像処理ソフトウェアＳＰＩＰ（イメージメトロロジー社製）で解析することにより求められる。詳しい解析方法は後述の実施例に示すとおりである。

防眩層５の表面、つまり透光性構造体１の表面の凹凸構造において、突起分布の半値幅は１０〜３００ｎｍが好ましく、３０〜２５０ｎｍがより好ましい。突起分布の半値幅は、表面凹凸構造の凸部の平均的な高さの均一性、および、凸部形状の平均的な急峻性を表し、突起部分の半値幅の値が小さいほど、表面凹凸構造の凸部の平均的な高さの均一性が高く、凸部形状が急峻であることを示している。ここで言う凸部とは主に第一の凸部５ａに相当する。凸部の平均的な高さの均一性が高いほど膜強度に優れる。一方、形状が急峻であるほど、ぎらつき抑制効果に優れる。ヘイズ率が０．１〜１５％以下の領域においては、突起分布の半値幅が５００ｎｍ以上の凸部形状がなだらかである場合、ヘイズ率とぎらつき抑制効果の両立が難しく、特に、ヘイズ率が０．１〜５％の場合においては、充分なぎらつき抑制効果を得ることが難しい。

防眩層５の屈折率は、１．３６〜１．４６が好ましく、１．４０〜１．４６がより好ましく、１．４３〜１．４６が特に好ましい。上記屈折率が前記範囲の上限値以下であれば、防眩層５の表面での外光の反射率が低くなり、防眩効果がより優れる。上記屈折率が前記範囲の下限値以上であれば、防眩層５の緻密性が充分に高く、ガラス板等の透光性基材３との密着性に優れる。

防眩層５の屈折率は、防眩層５のマトリクスの材質や空隙率、マトリクス中への任意の屈折率を有する物質の添加等によって調整できる。たとえば、防眩層５の空隙率を高くすることにより屈折率を低くすることができる。また、マトリクス中に屈折率の低い物質（中実シリカ粒子、中空シリカ粒子等）を添加することで、防眩層５の屈折率を低くすることができる。

防眩層５の材質は屈折率等を考慮して適宜設定できる。防眩層５の屈折率が１．４０〜１．４６である場合の防眩層５の材質としては、シリカ、チタニア等が挙げられる。
防眩層５は、シリカを主成分とする膜であることが好ましい。「シリカを主成分とする」とは、ＳｉＯ_２を９０質量％以上含むことを意味する。シリカを主成分とすれば、防眩層５の屈折率（反射率）が低くなりやすい。また、防眩層５の化学的安定性等も良好である。また、透光性基材３の材質がガラスの場合、透光性基材３との密着性が良好である。また、所定の凹凸構造を、光硬化樹脂と微粒子を用いて形成した場合には、凹凸表面の鉛筆硬度は２Ｈ程度であるのに対して、シリカを主成分とする材質を用いて形成した場合には、凹凸表面の鉛筆硬度を５Ｈ以上とすることができる。該鉛筆硬度、つまり透光性構造体１の凹凸表面の鉛筆硬度が５Ｈ以上であれば、耐擦傷性に優れる。鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠して測定される。評価は、透光性構造体の凹凸構造を有する表面において実施した。
シリカを主成分とする場合、防眩層５は、シリカのみから構成されてもよく、シリカ以外の成分を少量含んでもよい。

（ヘイズ率）
透光性構造体１のヘイズ率は、０．１〜１５．０％が好ましく、０．２〜１０．０％がより好ましく、０．５〜５．０％が特に好ましい。ヘイズ率が前記範囲の下限値以上であれば、防眩性がより優れる。ヘイズ率が前記範囲の上限値以下であれば、画像表示装置の表示面に配置されたときに画像の視認性を損ないにくい。
ヘイズ率は、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００（ＩＳＯ１４７８２：１９９９）に記載された方法にしたがって、ヘイズメーター（村上色彩研究所社製ＨＲ−１００型）を用いて測定される。

（光沢度）
透光性構造体１の凹凸構造を有する表面（防眩層５の表面）における６０゜鏡面光沢度は、１４０％以下が好ましく、１３５％以下がより好ましく、１３０％以下がさらに好ましい。凹凸構造を有する表面における６０゜鏡面光沢度は、防眩効果の指標である。該鏡面光沢度が前記の上限値以下であれば、充分な防眩効果が発揮される。
６０゜鏡面光沢度（％）は、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７（ＩＳＯ２８１３：１９９４）に記載された方法によって、光沢度計（コニカミノルタ社製、MULTI GLOSS 268 Plus）を用い、透光性構造体の裏面反射（凹凸構造が形成された側とは反対側の面）は消さず、防眩層のほぼ中央部で測定される。

（ぎらつき指標値Ｓ）
透光性構造体１は、アイシステム社製アイスケールＩＳＣ−Ａを用いて、アップルインコーポレイテッド社製ｉＰｈｏｎｅ４（ピクセル密度３２６ｐｐｉ）の上に、凹凸構造を有する表面（防眩層５側の表面）が上になるように透光性構造体１を置いて測定されるぎらつき（Sparkle）指標値Ｓが、３６以下であることが好ましく、３０以下がより好ましく、２５以下が特に好ましい。ぎらつき指標値Ｓが小さいほど、ぎらつきが抑制されていることを示す。

以上説明した透光性構造体１にあっては、表面（防眩層５側の表面）に特定の凹凸構造を有するため、防眩性を有し、また、低ヘイズ率で低ぎらつき性である。
透光性構造体１において、第一の凸部５ａは主に、外光を拡散反射させることで防眩性に寄与し、第二の凸部５ｂは主に、ぎらつきの抑制に寄与すると考えられる。凹凸構造が第二の凸部５ｂを一定以上の密度および面積率で含まない場合、透光性基材３側から防眩層５に入射した光が第一の凸部５ａの表面で屈折し、屈折した光同士が第一の凸部５ａの表面近傍で干渉してぎらつきの原因になると推測される。第二の凸部５ｂは、屈折した光同士が干渉することを阻害してぎらつきを抑制すると推測される。

＜透光性構造体の製造方法＞
透光性構造体１は、たとえば、透光性基材３上に塗料組成物を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を焼成することにより防眩層５を形成して製造することができる。塗料組成物は、例えば、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含む。

（シリカ前駆体（Ａ））
「シリカ前駆体」とは、シリカを主成分とするマトリックスを形成し得る物質を意味する。シリカ前駆体（Ａ）としては、適宜公知のアルコキシシラン等のシラン化合物やその加水分解縮合物等を使用可能である。シリカ前駆体（Ａ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

シリカ前駆体（Ａ）は、防眩層５のクラックや膜剥がれを防止する観点から、ケイ素原子に直接結合している炭素原子を有するアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含むことが好ましい。シリカ前駆体（Ａ）は、防眩層５の耐摩耗強度の観点から、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含むことが好ましい。

（液状媒体（Ｂ））
液状媒体（Ｂ）は、シリカ前駆体（Ａ）を溶解または分散するものであり、粒子（Ｃ）を分散するものが好ましく用いられる。液状媒体（Ｂ）は、シリカ前駆体（Ａ）を溶解または分散する機能と、粒子（Ｃ）を分散する分散媒としての機能の両方を有するものであってもよい。

液状媒体（Ｂ）は、少なくとも、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を含む。上記沸点は、５０〜１４５℃が好ましく、５５〜１４０℃がより好ましい。液状媒体（Ｂ１）の沸点が１５０℃以下であれば、塗料組成物を、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて透光性基材３上に塗布し、焼成して得られる膜が防眩性能を有する。上記沸点が前記範囲の下限値以上であれば、塗料組成物の液滴が透光性基材３上に付着した後、液滴形状を十分に保ったまま凹凸構造を形成できる。
シリカ前駆体（Ａ）におけるアルコキシシラン等の加水分解に水が必要となるため、加水分解後に液状媒体の置換を行わない限り、液状媒体（Ｂ）は液状媒体（Ｂ１）として少なくとも水を含む。液状媒体（Ｂ）は、必要に応じて、液状媒体（Ｂ１）以外の他の液状媒体、すなわち沸点が１５０℃超の液状媒体をさらに含んでいてもよい。

（粒子（Ｃ））
粒子（Ｃ）の材質としては、金属酸化物、金属、顔料、樹脂等が挙げられる。金属酸化物としては、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、ＣｅＯ_２、Ｓｂ含有ＳｎＯ_Ｘ（ＡＴＯ）、Ｓｎ含有Ｉｎ_２Ｏ_３（ＩＴＯ）、ＲｕＯ_２等が挙げられる。防眩膜５のマトリクスがシリカを主成分とする場合、屈折率がマトリクスと同等であるため、ＳｉＯ_２が好ましい。金属としては、金属単体（Ａｇ、Ｒｕ等）、合金（ＡｇＰｄ、ＲｕＡｕ等）等が挙げられる。顔料としては、無機顔料（チタンブラック、カーボンブラック等）、有機顔料等が挙げられる。樹脂としては、アクリル樹脂、ポリスチレン、メラニン樹脂等が挙げられる。
粒子（Ｃ）は、中実粒子でもよく、中空粒子でもよく、多孔質粒子等の穴あき粒子でもよい。「中実」は、内部に空洞を有しないことを示す。「中空」は、内部に空洞を有することを示す。粒子（Ｃ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

粒子（Ｃ）としては、膜の屈折率上昇を抑え、反射率を下げることができる点から、球状、鱗片状、棒状、針状等のシリカ粒子が好ましい。より低いヘイズ率を得やすい点では、球状シリカ粒子が好ましい。少量で防眩効果が得られる点、防眩層のクラックや膜剥がれを抑制できる点では、鱗片状シリカ粒子が好ましい。「鱗片状」とは、扁平な形状を意味する。

球状シリカ粒子は、中実でもよく、中空でもよく、多孔質シリカ粒子でもよい。これらはいずれか１種を単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。中空シリカ粒子としては、シリカ（ＳｉＯ_２）の外殻を有し、外殻内が空洞とされたものが挙げられる。

球状シリカ粒子の平均粒子径は、１０〜３００ｎｍが好ましく、４０〜２００ｎｍがより好ましく、７０〜１１０ｎｍがさらに好ましい。該平均粒子径が上記範囲の下限値以上であれば、低ぎらつき性がより優れる。該平均粒子径が上記範囲の上限値以下であれば、ヘイズ率がより低くなる。また、塗料組成物中における分散安定性が良好である。
球状シリカ粒子の平均粒子径は、体積基準で求めた粒度分布の全体積を１００％とした累積体積分布曲線において５０％となる点の粒子径、すなわち体積基準累積５０％径（Ｄ５０）を意味する。粒度分布は、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置で測定した頻度分布および累積体積分布曲線で求められる。

鱗片状シリカ粒子は、薄片状または複数枚の薄片状のシリカ１次粒子が、互いに面間が平行的に配向し重なって形成されるシリカ２次粒子である。シリカ２次粒子は、通常、積層構造の粒子形態を有する。鱗片状シリカ粒子は、シリカ１次粒子およびシリカ２次粒子のいずれか一方のみであってもよく、両方であってもよい。

シリカ１次粒子の厚さは、０．００１〜０．１μｍが好ましい。該厚さが前記範囲内であれば、互いに面間が平行的に配向して１枚または複数枚重なった鱗片状のシリカ２次粒子を形成できる。シリカ１次粒子の厚さに対する最小長さの比は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。

シリカ２次粒子の厚さは、０．００１〜３μｍが好ましく、０．００５〜２μｍがより好ましい。シリカ２次粒子の厚さに対する最小長さの比は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。シリカ２次粒子は、融着することなく互いに独立に存在していることが好ましい。

鱗片状シリカ粒子の平均アスペクト比は、３０〜２００が好ましく、４０〜１６０がより好ましく、５０〜１２０がさらに好ましい。該平均アスペクト比が上記範囲の下限値以上であれば、膜厚が厚くても防眩層のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。該平均アスペクト比が上記範囲の上限値以下であれば、塗料組成物中における分散安定性が良好である。
「アスペクト比」は、粒子の厚さに対する最長長さの比（最長長さ／厚さ）を意味し、「平均アスペクト比」は、無作為に選択された５０個の粒子のアスペクト比の平均値である。粒子の厚さは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定され、最長長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定される。

鱗片状シリカ粒子の平均粒子径は、５０〜５００ｎｍが好ましく、１００〜３００ｎｍがより好ましい。該平均粒子径が上記範囲の下限値以上であれば、低ぎらつき性がより優れる。また、膜厚が厚くても防眩層のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。該平均粒子径が上記範囲の上限値以下であれば、ヘイズ率がより低くなる。また、塗料組成物中における分散安定性が良好である。
球状シリカ粒子の平均粒子径は、球状シリカ粒子の平均粒子径と同様に測定される。

粉体または分散体には、鱗片状シリカ粒子だけでなく、鱗片状シリカ粒子の製造時に発生する不定形シリカ粒子が含まれることがある。鱗片状シリカ粒子は、たとえば、鱗片状シリカ粒子が凝集して不規則に重なり合って形成される間隙を有する凝集体形状のシリカ３次粒子（以下、シリカ凝集体とも記す。）を解砕、分散化することによって得られる。不定形シリカ粒子は、シリカ凝集体がある程度微粒化された状態であるが、個々の鱗片状シリカ粒子まで微粒化されていない状態のものであり、複数の鱗片状シリカ粒子が塊を形成する形状である。不定形シリカ粒子を含むと、形成される防眩層の緻密性が低下してクラックや膜剥がれが発生しやすくなるおそれがある。そのため、粉体または分散体における不定形シリカ粒子の含有量は、少ないほど好ましい。
不定形シリカ粒子およびシリカ凝集体は、いずれも、ＴＥＭ観察において黒色状に観察される。一方、薄片状のシリカ１次粒子またはシリカ２次粒子は、ＴＥＭ観察においてうすい黒色または半透明状に観察される。

鱗片状シリカ粒子は、市販のものを用いてもよく、製造したものを用いてもよい。
鱗片状シリカ粒子の市販品としては、たとえばＡＧＣエスアイテック社製のサンラブリー（登録商標）シリーズが挙げられる。

（バインダ（Ｄ））
バインダ（Ｄ）（ただしシリカ前駆体（Ａ）を除く。）としては、液体媒体（Ｂ）に溶解または分散する無機物や樹脂等が挙げられる。無機物としては、たとえばシリカ以外の金属酸化物前駆体（金属：チタン、ジルコニウム、等）が挙げられる。樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等が挙げられる。

（添加剤（Ｅ））
添加剤（Ｅ）としては、たとえば、極性基を有する有機化合物（Ｅ１）、紫外線吸収剤、赤外線反射／赤外線吸収剤、反射防止剤、レベリング性向上のための界面活性剤、耐久性向上のための金属化合物等が挙げられる。

塗料組成物が粒子（Ｃ）を含有する場合、塗料組成物に極性基を有する有機化合物（Ｅ１）を含ませることによって、塗料組成物中における静電気力による粒子（Ｃ）の凝集を抑制できる。
極性基を有する有機化合物（Ｅ１）としては、不飽和カルボン酸重合体、セルロース誘導体、有機酸（ただし、不飽和カルボン酸重合体を除く。）、テルペン化合物等が挙げられる。有機化合物（Ｅ１）は、１種を単独でも、２種以上を併用してもよい。

レベリング性向上のための界面活性剤としては、シリコーンオイル系、アクリル系等が挙げられる。耐久性向上のための金属化合物としては、ジルコニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、アルミニウムキレート化合物等が好ましい。ジルコニウムキレート化合物としては、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシステアレート等が挙げられる。

（組成）
塗料組成物中のシリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計の含有量は、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３０〜１００質量％が好ましく、４０〜１００質量％がより好ましい。上記合計の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、透光性基材３との密着性に優れる。上記合計の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、防眩層５のクラックや膜はがれが抑えられる。
塗料組成物の固形分は、塗料組成物中の、液状媒体（Ｂ）以外の全成分の含有量の合計である。ただしシリカ前駆体（Ａ）の含有量はＳｉＯ_２換算である。

粒子（Ｃ）が球状シリカ粒子である場合、シリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計質量（１００質量％）に対する粒子（Ｃ）の比率は、３〜３０質量％が好ましく、５〜２０質量％がより好ましい。
粒子（Ｃ）が鱗片状シリカ粒子である場合、シリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計質量（１００質量％）に対する粒子（Ｃ）の比率は、０．５〜２０質量％が好ましく、１〜１５質量％がより好ましい。
粒子（Ｃ）の比率が上記範囲の下限値以上であれば、低ぎらつき性がより優れる。粒子（Ｃ）の比率が上記範囲の上限値以下であれば、より低いヘイズ率が得られやすい。また、シリカ前駆体（Ａ）を一定以上の比率で含むことで、防眩層５と透光性基材３との密着強度がより優れる。

塗料組成物中の液状媒体（Ｂ）の含有量は、塗料組成物の固形分濃度に応じた量とされる。塗料組成物の固形分濃度は、塗料組成物の全量（１００質量％）に対し、０．０５〜２質量％が好ましく、０．１〜１質量％がより好ましい。固形分濃度が前記範囲の下限値以上であれば、塗料組成物の液量を少なくできる。固形分濃度が前記範囲の上限値以下であれば、第二の凸部を有する凹凸構造を形成しやすい。また、防眩層の膜厚の均一性が向上する。

塗料組成物中の沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）の含有量は、通常、液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上である。液状媒体（Ｂ１）を８６質量％以上の割合で含むことにより、塗料組成物を、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて透光性基材上に塗布し、焼成したときに、防眩層が形成される。液状媒体（Ｂ１）の割合が８６質量％未満であると、溶媒揮発乾燥前に平滑化するため凹凸構造が形成できず、焼成後の膜が防眩層とはならないおそれがある。
液状媒体（Ｂ１）の含有量は、液状媒体（Ｂ）の全量に対して９０質量％以上が好ましい。液状媒体（Ｂ１）の含有量は、液状媒体（Ｂ）の全量に対して１００質量％であっても構わない。

（粘度）
塗料組成物の塗布温度における粘度（以下、「液粘度」ともいう。）は、０．００３Ｐａ・ｓ以下が好ましく、０．００１〜０．００３Ｐａ・ｓが特に好ましい。液粘度が前記の上限値以下であれば、塗料組成物を噴霧したときに形成される液滴がより微細になり、所望の表面形状の防眩層が形成されやすい。液粘度が前記の下限値以上であれば、防眩層の表面凹凸形状が均一となる。塗料組成物の粘度は、Ｂ型粘度計により測定される値である。

〔塗布工程〕
透光性基材上への前記塗料組成物の塗布は、例えば、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて、前記塗料組成物を帯電させ噴霧することにより行うことが出来る。この時、回転霧化頭から透光性基材までの間の雰囲気を２０℃以上かつ相対湿度４０％以下とすると防眩膜５の膜特性が向上するため好ましい。
静電塗装装置は、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備えるものであれば、公知の静電塗装装置を採用できる。静電塗装ガンは、回転霧化頭を備えるものであれば、公知の静電塗装ガンを採用できる。ただし、塗料組成物の塗布手段は上記の静電塗装装置に限らず、公知の塗布手段を使用することが出来る。

〔焼成工程〕
焼成工程では、塗布工程で透光性基材上に形成された、塗料組成物の塗膜を焼成して防眩層とする。焼成は、塗料組成物を透光性基材に塗布する際に透光性基材を加熱することによって塗布と同時に行ってもよく、塗料組成物を透光性基材に塗布した後、塗膜を加熱することによって行ってもよい。焼成温度は、３０℃以上が好ましく、たとえば透光性基材がガラスである場合は１００〜７５０℃がより好ましく、１５０〜５５０℃がさらに好ましい。

以上説明した製造方法にあっては、所定の塗料組成物を透光性基材に塗布した後、塗膜を加熱することによって、表面に所定の凹凸構造を有する防眩層５を形成できる。

｛第二実施形態｝
図４は、本発明の第二実施形態の透光性構造体２を示す模式断面図である。図５は、透光性構造体２の表面形状、そのスムージング像、およびそれらのＸＹＺデータの差分として得られる像の関係を説明する図である。
本実施形態の透光性構造体２は、透光性基材４を備える。透光性基材４は、第一の表面４Ａに凹凸構造を有する。透光性基材４の第一の表面４Ａは、透光性構造体２の表面を構成している。そのため、透光性構造体２は、表面に凹凸構造を有する。
透光性基材４は、第一の表面に凹凸構造を有すること以外は、第一実施形態の透光性基材３と同様であり、好ましい態様も同様である。

透光性基材４の表面（つまり透光性構造体２の表面）の凹凸構造は、図５（ａ）に示すように、透光性基材４の表面形状（つまり透光性構造体２の表面形状）におけるベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの直径（真円換算）が１μｍ以上の第一の凸部４ａを含む。第一の凸部４ａは複数存在し、複数の第一の凸部４ａによって透光性基材４の表面にうねりが形成されている。
また、透光性基材４の表面形状にあっては、画像処理ソフトウェアＳＰＩＰ（イメージメトロロジー社製）により前記表面形状をフィルタリングして図５（ｂ）に示すようなスムージング像を得て、前記表面形状のＸＹＺデータから前記スムージング像のＸＹＺデータを差し引いたときに、図５（ｃ）に示すような平面に複数の凸部が散らばった像が得られる。この平面に複数の凸部が散らばった像において前記複数の凸部は、高さ０．０１μｍでの直径（真円換算）が０．４μｍ以上の第二の凸部４ｂを含む。第二の凸部４ｂは複数存在する。
本実施形態においては、断面略三角形状の第一の凸部４ａの頂部が第二の凸部４ｂとして検出される。そのため、図５に一点鎖線で示すように、第一の凸部４ａの頂部の位置と第二の凸部４ｂの頂部の位置はほぼ一致している。表面形状の測定および解析は第一実施形態と同様にして行われる。

第一の凸部４ａ、第二の凸部４ｂそれぞれの特性（平均直径、密度、面積率等）は第一実施形態の第一の凸部５ａ、第二の凸部５ｂと同様であり、好ましい態様も同様である。透光性構造体２のヘイズ率、凹凸構造を有する表面における６０゜鏡面光沢度、ぎらつき指標値Ｓ、鉛筆硬度それぞれの好ましい範囲は第一実施形態と同様である。

透光性構造体２にあっては、表面に特定の凹凸構造を有するため、前述の透光性構造体１と同様に、防眩性を有し、また、低ヘイズ率で低ぎらつき性である。

＜透光性構造体の製造方法＞
透光性構造体２は、たとえば、前記凹凸構造を有さない透光性基材の表面をエッチング処理することにより凹凸構造を形成して製造することができる。

エッチング処理は、透光性基材の材質、求められるヘイズ率等に応じて、公知の各種のエッチング方法を使用して行うことができる。たとえば透光性基材がガラス基材である場合のエッチング方法としては、ガラス基材の表面にフッ素化剤を接触させる方法が挙げられる。フッ素化剤を接触させると、ガラス表面において、フッ素化剤がガラスの骨格構造であるＳｉＯ_２と反応してＳｉＦ_４（ガス）を生成し、骨格を失った残りの成分が珪フッ化物となってガラス表面が凹凸化される。フッ素化剤としては、たとえばフッ素単体（Ｆ_２）、フッ化水素（ＨＦ）等が挙げられる。この方法では、形成される凹凸の形状を、使用するフッ素化剤の種類、フッ素化剤をガラス表面に接触させる時間、エッチング温度等によって調整できる。たとえば、フッ素化剤と粒子（ガラスビーズ等）とを含む処理液でエッチング処理を行う場合、処理液の粒子の含有量を変えることで、凹凸の形状を変えることができる。たとえば処理液中の粒子の含有量を多くすると、フッ素化剤によるエッチングが阻害されてエッチング量が減り、その結果、エッチング処理で形成される凹凸が小さくなり、ヘイズ率が低くなる。
フッ素化剤を接触させる以外のガラス基材のエッチング方法や、ガラス以外の材質の透光性基材の場合にも適用できるエッチング方法として、たとえばブラスト処理、イオンエッチング処理等が挙げられる。

エッチング処理を２回以上、それぞれ異なる処理条件で行ってもよい。たとえば１回目のエッチング処理で第一の凸部４ａを形成し、２回目のエッチング処理で第二の凸部４ｂを形成するようにしてもよい。この場合、２回目のエッチング処理のエッチング速度は１回目のエッチング処理のエッチング速度よりも早いことが望ましい。
前記の処理液を用いてエッチング処理を行う場合、１回目と２回目とで処理液中の粒子の含有量を変えてもよい。たとえば２回目に使用する処理液中の粒子の含有量を１回目より少なくすると、２回目のエッチング処理の際、１回目のエッチング処理で形成された凹凸がなだらかになる。

｛第三実施形態｝
図６は、本発明の第三実施形態の透光性構造体６を模式的に示す断面図である。図７は、透光性構造体６の表面付近の構造を模式的に説明する断面図である。なお、以下に示す実施形態において、既出の実施形態に対応する構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
本実施形態の透光性構造体６は、透光性基材３と、透光性基材３の第一の表面３Ａ上に形成された防眩層５と、防眩層５上に形成された反射防止層７（機能層）と、反射防止層層７上に形成された撥水撥油層９（機能層）と、を備える。反射防止層層７、撥水撥油層９はそれぞれ、防眩層５と同様に、表面に凹凸構造を有する。
撥水撥油層層９の表面は、透光性構造体６の表面を構成している。そのため、透光性構造体６は、表面に前記凹凸構造を有する。なお、図６中、透光性基材３の厚みに対する防眩層５、反射防止層層７および撥水撥油層９それぞれの厚みの比率は、便宜上、実際の比率よりも大きくしている。

（反射防止層）
反射防止層７は、反射率を低減する機能を有する。反射防止層層７を有することで、反射防止層７を有さない場合に比べて、透光性構造体６の反射率が低くなる。
反射防止層７としては、たとえば以下の（１）、（２）が挙げられる。
（１）相対的に屈折率が低い低屈折率層と相対的に屈折率が高い高屈折率層とが交互に積層した多層構造の反射防止層。
（２）透光性基材３よりも屈折率が低い低屈折率層からなる反射防止層。

上記（１）の反射防止層の材料は特に限定されるものではなく、光の反射を抑制できる材料であれば各種材料を使用できる。
高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ１層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれ２層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ２層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態であることが好ましい。
特に反射防止性能を高めるためには、（１）の反射防止層は、複数の層が積層された積層体であることが好ましく、例えば該積層体は全体で２層以上６層以下の層が積層されていることが好ましい。
高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）から選択された１種以上を好ましく使用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）を好ましく使用できる。
高屈折率層としては、生産性や屈折率の程度から、前記高屈折率層が酸化ニオブ層、酸化タンタル層、酸化チタン層から選択されたいずれか一つからなり、前記低屈折率層が酸化ケイ素層であることがより好ましい。

上記（２）の反射防止層において、低屈折率層の屈折率は、透光性基材３の屈折率に応じて設定される。たとえば透光性基材３がガラスの場合、低屈折率層の屈折率は、１．１〜１．５が好ましく、１．１〜１．３がより好ましい。上記（２）の反射防止層としては、たとえばシリカを主成分とするマトリックス中に空孔を有するシリカ系多孔質膜等が挙げられる。
シリカ系多孔質膜としては、たとえば粒子内部に空孔を有する中空粒子とマトリックスとを含むもの等が挙げられる。上記（２）の反射防止層の厚さは、５０〜３００ｎｍが好ましく、８０〜１６０ｎｍがより好ましい。

層（低屈折率層、高屈折率層等）の屈折率は、エリプソメーターや分光光度計等により測定される。層（低屈折率層、高屈折率層、反射防止層等）の厚さは、分光光度計や触診式膜厚計等により測定される。

反射防止層７の表面の凹凸構造は、防眩層５の表面の凹凸構造と同様であり、好ましい態様も同様である。反射防止層７の表面の凹凸構造は、図７に示すように、防眩層５の表面の凹凸に追従していることが好ましい。この場合、反射防止層７の表面の凹凸構造は、防眩層５の表面の凹凸構造に比べて、角や高低差の少ないものとなっていてもよい。たとえば反射防止層７の第二の凸部の面積率が防眩層５の第二の凸部の面積率よりも高くなっていてよい。

（撥水撥油層）
撥水撥油層９は、撥水撥油性を有する層である。撥水撥油層９が透光性構造体の視認側の最表層に存在することで、指滑り性が良好となる。
「撥水撥油性を有する」とは、水の接触角が９０度以上、オレイン酸の接触角が７０°以上であることを意味する。接触角は、接触角計（たとえば協和界面科学社製のＤＭ−７０１）を用い、２０±１０℃の範囲内の条件下、１μＬの液滴で測定する。撥水撥油層表面における異なる５ヶ所で測定を行い、その平均値を算出し、その値を撥水撥油層の接触角とする。撥水撥油層９としては、ＡＦＰ（Anti Finger Print）層等が挙げられる。

撥水撥油層９を形成する材料としては、たとえばパーフルオロアルキル基含有化合物、パーフルオロポリエーテル基含有化合物等が挙げられ、パーフルオロポリエーテル基を有するシラン化合物が好ましい。

撥水撥油層９の材料として、例えば市販されている「Ａｆｌｕｉｄ Ｓ−５５０」（旭硝子社登録商標）、「ＫＰ−８０１」（信越化学工業社商品名）、「Ｘ−７１」（商品名、信越化学工業社製）、「ＫＹ−１３０」（信越化学工業社商品名）、「ＫＹ−１７８」（、信越化学工業社商品名）、「ＫＹ−１８５」（信越化学工業社商品名）、「オプツール ＤＳＸ（ダイキン工業社商品名）等を使用できる。

撥水撥油層９の厚さは、１〜５０ｎｍが好ましく、３〜２５ｎｍがより好ましく、４〜１５ｎｍが特に好ましい。該厚さが上記下限値以上であれば、充分な撥水撥油性が発揮され、撥水撥油層９の表面での指すべり性が良好である。該厚さが上記上限値以下であると、撥水撥油剤の利用効率が高く、また反射防止性に与える影響が小さく好ましいが、これより厚い場合でも使用できる。
撥水撥油層９の厚さは、例えば薄膜解析用Ｘ線回折計ＡＴＸ−Ｇ（ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法により反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出することができる。あるいは、予め反射分光スペクトルを測定した反射防止膜を用意し、その上に撥水撥油層９の厚さを測定するサンプルと同条件下で撥水撥油層９を形成した後の反射分光スペクトルと撥水撥油剤の屈折率から算出することにより求められる。

撥水撥油層９の表面の凹凸構造は、防眩層５の表面の凹凸構造と同様であり、好ましい態様も同様である。撥水撥油層９の表面の凹凸構造は、図７に示すように、防眩層５および反射防止層７の表面の凹凸に追従していることが好ましい。

透光性構造体６において、防眩層５上に機能層（反射防止層７、撥水撥油層９）をさらに備えている場合であっても、ぎらつき抑制効果は最表面の凹凸形状によって決まるため、最表面の層の凹凸形状が本実施形態におけるぎらつき抑制効果のある所定の凹凸形状となっていれば透光性構造体６がぎらつき抑制効果を発現する。

透光性構造体６のヘイズ率、凹凸構造を有する表面における６０゜鏡面光沢度、ぎらつき指標値Ｓ、突起分布の半値幅、鉛筆硬度それぞれの好ましい範囲は第一実施形態と同様である。

透光性構造体６にあっては、表面に特定の凹凸構造を有するため、前述の透光性構造体１と同様に、防眩性を有し、また、低ヘイズ率で低ぎらつき性である。
また、透光性基材３の視認側に反射防止層７を備えるため、優れた反射防止性を有する。また、最表層に撥水撥油層９を備えるため、指滑り性が良好である。指滑り性が良好であることは、たとえばタッチパネルの操作性の点で好ましい。

＜透光性構造体の製造方法＞
透光性構造体６は、たとえば、第一実施形態で挙げた製造方法により透光性基材３の第一の表面３Ａ上に防眩層５を形成した後、この防眩層５上に反射防止層７を形成する工程（反射防止層形成工程）と、この反射防止層７の表面を撥水撥油剤で処理して撥水撥油層９を形成する工程（撥水撥油層形成工程）とを行うことにより製造できる。

〔反射防止層形成工程〕
防眩層５の表面が前記凹凸構造を有することから、反射防止層形成工程で反射防止層７を防眩層５の表面形状に沿って形成することで、表面に前記凹凸構造を有する反射防止層７を形成できる。

反射防止層７の形成方法としては、特に限定されず、乾式法、湿式法等の公知の方法を利用できる。乾式法としては、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相成長法等が挙げられる。たとえば金属（Ｓｉ、Ｎｂ等）をターゲットとして、酸素雰囲気下でスパッタリングすると、金属酸化物の層が形成される。
反射防止層７の形成方法としては、反射防止性の点では、乾式法が好ましく、その中でも、生産性の観点からスパッタ法がより好ましい。

〔撥水撥油層形成工程〕
撥水撥油剤による処理方法（撥水撥油層９の形成方法）としては、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、スキージコーティング法、ワイプコーティング法、フローコーティング法等のウェットコーティング法；蒸着法等のドライコーティング法；等が挙げられる。撥水撥油層９の形成方法としては、ウェットコーティング法およびドライコーティング法のどちらを用いてもよい。

｛第四実施形態｝
図８は、本発明の第四実施形態の透光性構造体８を模式的に示す断面図である。
本実施形態の透光性構造体８は、透光性基材４と、透光性基材４の第一の表面４Ａ上に形成された反射防止層７と、反射防止層７上に形成された撥水撥油層９と、を備える。透光性基材４、反射防止層７および撥水撥油層９はそれぞれ、表面に凹凸構造を有する。撥水撥油層９の表面は、透光性構造体８の表面を構成している。そのため、透光性構造体８は、表面に前記凹凸構造を有する。
反射防止層７および撥水撥油層９それぞれの表面の凹凸は、透光性基材４の第一の表面４Ａの凹凸に追従していることが好ましい。なお、図８中、透光性基材４の厚みに対する反射防止層７および撥水撥油層９それぞれの厚みの比率は、便宜上、実際の比率よりも大きくしている。

透光性構造体８において、透光性基材４の表面の凹凸構造に反射防止層７や撥水撥油層９が設けられている場合であっても、ぎらつき抑制効果は最表面の凹凸形状によって決まるため最表面の層の凹凸形状が本実施形態におけるぎらつき抑制効果のある所定の凹凸形状となっていれば透光性構造体８がぎらつき抑制効果を発現する。

透光性構造体８のヘイズ率、凹凸構造を有する表面における６０゜鏡面光沢度、ぎらつき指標値Ｓ、突起分布の半値幅、鉛筆硬度それぞれの好ましい範囲は第一実施形態と同様である。

透光性構造体８にあっては、表面に特定の凹凸構造を有するため、前述の透光性構造体２と同様に、防眩性を有し、また、低ヘイズ率で低ぎらつき性である。
また、透光性基材４の視認側に反射防止層７を備えるため、優れた反射防止性を有する。また、最表層に撥水撥油層９を備えるため、指滑り性が良好である。

＜透光性構造体の製造方法＞
透光性構造体８は、たとえば、第二実施形態で挙げた製造方法により透光性基材４を製造した後、この透光性基材４の第一の表面４Ａ上に反射防止層７を形成する工程（反射防止層形成工程）と、この反射防止層７の表面を撥水撥油剤で処理して撥水撥油層９を形成する工程（撥水撥油層形成工程）とを行うことにより製造できる。
反射防止層形成工程、撥水撥油層形成工程はそれぞれ、第三実施形態と同様にして行うことができる。

以上、第一実施形態〜第四実施形態を示して本発明の透光性構造体を説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。上記実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。

たとえば第一、第三実施形態では、透光性基材３の片面（第一の表面３Ａ）のみに防眩層５が設けられた例を示したが、透光性基材３の両面に防眩層５が設けられてもよい。また、防眩層５は、透光性基材３の片面または両面の全面に設けられてもよく、部分的に設けられてもよい。
第二、第四実施形態では、透光性基材４の片面（第一の表面４Ａ）のみに凹凸構造が設けられた例を示したが、透光性基材４の両面に凹凸構造が設けられてもよい。また、凹凸構造は、透光性基材４の片面または両面の全面に設けられてもよく、部分的に設けられてもよい。

第一、第三実施形態の透光性構造体について、透光性基材３と防眩層５との間に他の機能層を有する構成としてもよい。他の機能層としては、たとえばアンダーコート層、密着改善層、保護層等が挙げられる。アンダーコート層は、アルカリバリア層やワイドバンドの低屈折率層としての機能を有する。アンダーコート層としては、アルコキシシランの加水分解物（ゾルゲルシリカ）を含むアンダーコート用塗料組成物を透光性基材本体に塗布することによって形成される層が好ましい。

第三、第四実施形態の透光性構造体について、反射防止層７または撥水撥油層９を有しない構成としてもよい。第三、第四実施形態の透光性構造体について、防眩層５と反射防止層７との間、反射防止層と撥水撥油層９との間に他の機能層を有する構成としてもよい。

本発明の透光性構造体の用途としては、低ヘイズ率、低ぎらつき性等の光学特性の点で、画像表示装置が好ましい。ただし本発明の透光性構造体の用途は画像表示装置に限定されず、各種の用途に用いることができる。
本発明の透光性構造体の用途の具体例としては、車両用透明部品（ヘッドライトカバー等）、車両用透明部品（インスツルメントパネル表面等）、メータ、建築窓、ショーウインドウ、ディスプレイ（ノート型パソコン、モニタ、ＬＣＤ、ＰＤＰ 、ＥＬＤ、ＣＲＴ、ＰＤＡ等）、ＬＣＤカラーフィルタ、タッチパネル用基板、カメラ部品、プロジェクタ部品、太陽電池用透明基板（カバーガラス等。）、携帯電話窓、バックライトユニット部品液晶輝度向上フィルム（プリズム、半透過フィルム等）、液晶輝度向上フィルム、有機ＥＬ発光素子部品、無機ＥＬ発光素子部品、蛍光体発光素子部品、光学フィルタ、光学部品の端面、照明ランプ、照明器具のカバー、偏光フィルム、農業用フィルム等が挙げられる。

以下、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明は以下の記載によっては限定されない。以下においては、「質量％」を「ｗｔ％」とも記す。なお、後述する例１〜３３は実施例であり、例３４〜３９は比較例である。各例で使用した評価方法および材料を以下に示す。

〔評価方法〕
（表面形状測定）
透光性構造体の凹凸構造を有する表面の表面形状は、キーエンス社製レーザ顕微鏡ＶＫ−Ｘ１００を用いて測定した。対物レンズは「×１００」を使用した（観察領域：１０９×１４５μｍ、倍率：１０００倍）。測定モードは「表面形状」、測定品質は「高精細」（Ｘドット間隔７１ｎｍ、Ｙドット間隔７１ｎｍ、Ｚドット間隔１０ｎｍ）とした。Ｘドット間隔、Ｙドット間隔、Ｚドット間隔はそれぞれ、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の測定刻み値を示す。

（表面形状解析）
表面形状測定で得られた表面形状のＸＹＺデータを、イメージメトロロジー社製画像処理ソフトウエアＳＰＩＰ（バージョン．６．４．３）を用いて解析し、第一の凸部、第二の凸部それぞれの特性（Ｚ範囲、観察領域における個数、密度、面積率、最大直径、最小直径、平均直径、最大高さ、最小高さおよび平均高さ）を求めた。解析に際しては、以下のようにパラメータを設定して平坦化処理、第一の凸部の測定および第二の凸部の測定を行った。

（１）平坦化処理
１．最頻値（モード）：カスタムモードを選択。
２．三次平均プロファイルフィット法を選択。
３．「ステップを処理」機能は使わない。
４．Ｚオフセット法：ベアリング高さをゼロにする。

（２）第一の凸部（うねり）測定
〈（２）−１：検出〉
１．「粒子検出」を選択。
２．閾値レベル：０．０５μｍ。
〈（２）−２：後処理〉
３．「検出イメージウインドウ」選択。
４．「形状のホールを保存」を選択。
５．形状輪郭をスムージング：フィルタサイズ：５１ポイント。
６．「イメージ端の形状を含む」を選択。
７．最小直径：１μｍ。

（３）第二の凸部（島）測定
〈（３）−１：フィルタリング〉
１．「コンボリューション」選択。
２．「スムージング」選択。
３．カーネルサイズ：Ｘ＝Ｙ＝３１、「円形」を選択。
〈（３）−２：検出〉
４．検出イメージ：「フィルタ差分」を選択。
５．「粒子検出」を選択。
６．閾値レベル：０．０１μｍ。
〈（３）−３：後処理〉
７．イメージウインドウの測定： 「フィルタ差分」を選択。
８．「形状のホールを保存」を選択。
９．形状輪郭をスムージング：フィルタサイズ：５１ポイント。
１０．「イメージ端の形状を含む」を使用。
１１．最小直径：０．４μｍ。

第一の凸部の測定においては、観察領域内の最も低い位置と最も高い位置との高さの差をＺ範囲とした。第一の凸部の密度は、観察領域における第一の凸部の個数を１μｍ^２当たりの値に換算することで算出した。第一の凸部の面積率は、ベアリング高さ＋０．０５μｍの高さに存在する直径（真円換算）１μｍ以上の凸部切断面の合計面積を算出し、この合計面積の観察領域に対する割合を算出することにより求めた。第一の凸部の最大直径、最小直径および平均直径はそれぞれ、「ベアリング高さ＋０．０５μｍの高さ」での値を測定した。第一の凸部の最大高さ、最小高さおよび平均高さは、それぞれの第一の凸部の最大高さ（ベアリング高さからの高さ）のうち、観察領域内での最大値、最小値および平均値を測定した。

第二の凸部の測定においては、表面形状のＸＹＺデータと、そのフィルタリングにより得たスムージング像のＸＹＺデータとの差分として得られる像（複数の凸部が散らばった像）において、最も高い高さと最も低い高さの差を第二の凸部のＺ範囲とした。第二の凸部の密度は、観察領域における第二の凸部の個数を１μｍ^２当たりの値に換算することで算出した。第二の凸部の面積率は、表面形状のＸＹＺデータと、そのフィルタリングにより得たスムージング像のＸＹＺデータとの差分として得られる像において、ベアリング高さを０としたとき、０．０１μｍの高さに存在する直径（真円換算）０．４μｍ以上の凸部切断面の合計面積を算出し、この合計面積の観察領域に対する割合を算出することにより求めた。第二の凸部の最大直径、最小直径および平均直径はそれぞれ、上記の像の０．０１μｍの高さでの値を測定した。第二の凸部の最大高さ、最小高さおよび平均高さはそれぞれ、上記の像のゼロ高さ（ベアリング高さ平面の位置）からの高さを測定した。

（Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ（防眩性指標値Ｄ））
Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎの測定は、日本電色工業社製変角光度計、ＧＣ５０００Ｌを用いて、以下の手順で行った。
透光性構造体の第１の表面側から、透光性構造体の厚さ方向と平行な方向を角度θ＝０゜としたときに、角度θ＝−４５゜±０．５゜の方向（以下、「角度−４５°の方向」ともいう）に、第１の光を照射する。第１の光は、透光性構造体に反射される。第１の表面から角度４５°の方向に反射された４５゜反射光を受光し、その輝度を測定して、「４５゜反射光の輝度」とする。
次に、第１の表面から出射された光を受光する角度θを、５゜〜８５゜の範囲で変化させ、同様の操作を実施する。これにより、透光性構造体を透過して、第２の表面から出射される光の輝度分布を測定して合計し、「全反射光の輝度」とする。
次に、以下の式（１）から、Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ（防眩性指標値Ｄ）を算定する：
Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ（防眩性指標値Ｄ）＝
｛（全反射光の輝度−４５゜反射光の輝度）／（全反射光の輝度）｝・・式（１）
このＤｉｆｆｕｓｉｏｎは、観察者の目視による防眩性の判断結果と相関し、人の視感に近い挙動を示すことが確認されている。例えば、防眩性指標値Ｄが小さな（０に近い）値を示す透光性構造体は防眩性が劣り、逆に防眩性指標値Ｄが大きな値を示す透光性構造体は、良好な防眩性を有する。従って、この防眩性指標値Ｄは、透光性構造体の防眩性を判断する際の定量的指標として、使用することができる。

（ぎらつき（Ｓｐａｒｋｌｅ）測定）
前記した測定法に従って得られたぎらつき指標値Ｓに基づき、以下の基準でぎらつきを評価した。
◎◎：ぎらつき指標Ｓが２５以下（ぎらつきが全く見えないレベル）。
◎：ぎらつき指標Ｓが２５超〜３０以下（ぎらつきがわずかに見えるレベル）。
○：ぎらつき指標Ｓが３０超〜３７以下（ぎらつきが見えるが実用上問題ないレベル）。
×：ぎらつき指標Ｓが３７超（顕著なぎらつきが見える）。

（突起分布の半値幅）
前述のレーザー顕微鏡を使用し、倍率１０００倍にて、透光性構造体の凹凸構造を有する表面の１０９μｍ×１４５μｍの領域についてスキャンを実施し、表面プロファイルを得た。得られた表面プロファイルから、Histogram Plotにより、横軸に突起高さ（単位：ｎｍ）、縦軸に頻度（単位：Counts）をプロットした突起分布を得た。
得られた突起分布の、ピーク高さの半分の高さの位置における突起分布の幅を半値幅（単位：ｎｍ）とした。

〔材料〕
（粒子分散液）
ＳＴ−ＯＺＬ：日産化学工業社製、スノーテックスＯＺＬ、球状の中実シリカ粒子の分散液、分散媒：水、粒子径：７０〜１００ｎｍ。
ＳＬＶ：サンラブリーＬＦＳ ＨＮ１５０（ＡＧＣエスアイテック社製）を解砕・分散させた鱗片状のシリカ粒子の分散液、分散媒：水、平均粒子径：１８５ｎｍ、平均アスペクト比（平均粒子径／平均厚み）：８０。
ＳＴ−ＯＬ：スノーテックスＯＬ（日産化学工業社製）、球状の中実シリカ粒子の分散液、分散媒：水、粒子径：４０〜５０ｎｍ。
ＳＴ−Ｏ：スノーテックスＯ（日産化学工業社製）、球状の中実シリカ粒子の分散液、分散媒：水、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ。

（粒子含有シリカ前駆体溶液）
以下の手順で粒子含有シリカ前駆体溶液を調製した。
Ａ液：主溶剤としてのソルミックスＡＰ−１１（日本アルコール販売社商品名）を用い、ＡＰ−１１をマグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、純水、テトラエトキシシラン、ＫＢＭ３０６６（信越シリコーン社製）を、それぞれＡ液の総質量に対して１１ｗｔ％、１０ｗｔ％、０．５９ｗｔ％となるように添加し、２５℃にて１０分間混合することでＡ液を得た（シラン化合物のＳｉＯ_２換算濃度３．１２ｗｔ％）。
Ｂ液：上記市販の粒子分散液を固形分濃度が３．１２ｗｔ％となるようにＡＰ−１１で希釈することでＢ液を得た（粒子固形分濃度３．１２ｗｔ％）。
粒子含有シリカ前駆体溶液：Ａ液とＢ液を所望の粒子濃度比率 となるように混合し、２５℃にて３０分間撹拌した後、１０ｗｔ％硝酸水溶液を粒子含有シリカ前駆体溶液の総質量に対して０．５４ｗｔ％となるように添加し、６０℃にて６０分間混合することで粒子含有シリカ前駆体溶液を得た（総固形分濃度（＝シラン化合物のＳｉＯ_２換算濃度＋粒子固形分濃度）３．１１ｗｔ％）。

〔例１〕
（透光性基材の洗浄）
透光性基材として、ソーダライムガラス（旭硝子社製。ＦＬ１．１。サイズ：縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、厚さ：１．１ｍｍのガラス基板。４００〜１１００ｎｍの波長領域の光の平均透過率：９０．６％、表面の算術平均粗さＲａ：０．５ｎｍ）を用意した。該ガラスの表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。

（塗布液の調製）
上記で得られた粒子含有シリカ前駆体溶液をＡＰ−１１で総固形分濃度０．２１５ｗｔ％に希釈することで塗布液を得た。

（静電塗装装置）
静電塗装ガンを備える静電塗装装置（液体静電コーター、旭サナック社製）を用意した。静電塗装ガンとしては、回転霧化式自動静電ガン（旭サナック社製、サンベル、ＥＳＡ１２０、カップ径７０ｍｍ）を使用した。透光性基材の接地をより取りやすくするために導電性基板として金属メッシュトレイを用意した。

（静電塗装）
静電塗装装置のコーティングブース内の温度を２５±１℃の範囲内、湿度を５０％±１０％の範囲内に調節した。
静電塗装装置のチェーンコンベア上に、予め３０℃±３℃に加熱しておいた洗浄済みの透光性基材を、導電性基板を介して置いた。チェーンコンベアで等速搬送しながら、透光性基材のＴ面（フロート法による製造時に溶融スズに接した面の反対側の面）に、静電塗装法によって、２５±１℃の範囲内の温度の塗布液を塗布した後、大気中、４５０℃で３０分間焼成して防眩層を形成し、透光性構造体を得た。塗布液の塗布条件は、コート液量１８ｍＬ／分、カップ回転数３５ｋｒｐｍ、ノズル高さ２４５ｍｍ、電圧６０ｋＶ、塗布回数１回とした。ここで、コート液量は静電塗装ガンへの塗料組成物の供給量を示す。カップ回転数は回転霧化頭の回転速度を示す。ノズル高さは静電塗装ガンのノズル先端（塗料組成物の噴霧方向における回転霧化頭の前端）から透光性基材までの距離を示す。電圧は静電塗装ガンに印加した電圧を示す。塗布回数は、透光性基材の搬送回数、すなわち透光性基材に静電塗装ガンの下を通過させて塗料組成物を塗布した回数を示す。

〔例２〜１１、１３〜３０、３４〜３９〕
塗布液の調製に用いる粒子分散液の種類、塗布液の固形分中の粒子濃度、塗布液の固形分濃度、塗布液の塗布回数を表１に示すようにした以外は例１と同様にして例２〜１１、１３〜３０、３４〜３９の透光性構造体を作製した。

〔例１２〕
（透光性基材の用意）
化学強化用特殊ガラスDragontrail（旭硝子社登録商標）（サイズ：１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ：１．１ｍｍ、波長５５０ｎｍでの透過率：９１．４％、表面の算術平均粗さＲａ：０．１３ｎｍ（エスアイアイナノテクノロジー社製ＳＰＡ４００−ＡＦＭで測定））に対して、ＫＮＯ_３溶融塩を用いて、４１０℃で２．５時間の化学強化処理を実施した。化学強化処理を実施した結果、ＤＯＬ（Depth Of Layer）が２５μｍ、ＣＳ（Compressive Stress）が７５０ＭＰａであった。この化学強化処理した基材を透光性基材とした。この透光性基材の表面を中性洗剤で洗浄し、純水で洗浄し乾燥させた。

（防眩層の形成）
透光性基材として上記の化学強化処理したものを用いた以外は例６と同様にして、透光性基材上に防眩層を形成した。

（蒸着法による反射防止層の形成）
上記のようにして防眩層を形成した透光性基材を薄膜形成装置の基板ホルダーにセットした。
真空引きを行い、設定温度２００℃程度で基板加熱した状態で保持した後、薄膜形成装置にアルゴンガスと酸素ガスを導入しながら、０．０３Ｐａ程度の圧力にて、電子ビーム蒸着により第１層目の高屈折率層のＴａ_２Ｏ_５をおよそ１４ｎｍの膜厚で形成した。この際、成膜装置に付帯しているイオン源にＡｒとＯ_２ガスを流し、電圧１０００Ｖ、電流１０００ｍＡを印加し、アルゴンイオンや酸素イオンを基板上にアシストしながら成膜を行った。以下、２〜４層目でも同様にして、アルゴンイオンや酸素イオンを基板上にアシストしながら成膜を行った。
次いで、０．０３Ｐａ程度の圧力にて、電子ビーム蒸着により第２層目の低屈折率層のＳｉＯ_２をおよそ３３ｎｍの膜厚で形成した。その後、第１層目と同様にして、第３層目の高屈折率層のＴａ_２Ｏ_５をおよそ１２１ｎｍの膜厚で形成した。次に、第２層目と同様にして、第４層目の低屈折率層のＳｉＯ_２をおよそ８１ｎｍの膜厚で形成し、蒸着の反射防止層を得た。これにより、透光性基材と防眩層と４層構造の反射防止層とが積層した積層体を得た。

（ＡＦＰ層の形成）
前記反射防止層の表面をプラズマ処理装置を用いてクリーニング処理した後、最表面の層の上に、フッ素系撥油剤（Ａｆｌｕｉｄ：旭硝子社登録商標） Ｓ−５５０」）を、蒸着法により、蒸着前真空度：１×１０^−３Ｐａ、蒸着源加熱温度：２９０℃、基材温度：無加熱条件で成膜し厚さ約１０ｎｍのＡＦＰ層を形成した。これにより、透光性基材と防眩層とＡＦＰ層、もしくは、透光性基材と防眩層と反射防止層とＡＦＰ層とが積層した透光性構造体を得た。なお、この例においてＡＦＰ層の膜厚は、薄膜解析用Ｘ線回折計ＡＴＸ−Ｇ（ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法により反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出した。

〔例３１〕
以下の手順により、透明基材であるガラス基板の表面に微細な凹凸形状を形成した。
（１）５０ｗｔ％のフッ化水素水溶液１０００ｍＬに、５００ｇのフッ化アンモニウムと、平均粒径が４μｍのガラスビーズ１７５ｇとを加えて攪拌し、フロスト処理液を調製した。（２）厚さ１．３ｍｍ、５ｃｍ角のアルミノシリケートガラス基板を前記フロスト溶液に８分間浸漬して、プリエッチング処理を行った。（３）前記アルミノシリケートガラス基板を前記フロスト溶液から取り出し、１０分間流水で洗浄した後、２０ｗｔ％のフッ化水素水溶液に１６分間浸漬することによりエッチング処理を行い、透明基材であるアルミノシリケートガラス基板表面に微細な凹凸を形成した。この透光性基材を例３１の透光性構造体とした。

〔例３２〕
フロスト処理液を５０ｗｔ％のフッ化水素水溶液１０００ｍＬに、５００ｇのフッ化アンモニウムと、平均粒径が４μｍのガラスビーズ３５５ｇとを加えたものに変更した以外は例３１と同様にして、表面に凹凸構造を有する透光性基材を得た。この透光性基材に対し、例１２と同様にして化学強化処理を実施した後、その表面を中性洗剤で洗浄し、純水で洗浄し、乾燥させた。
この透光性基材の凹凸構造を有する表面上に、例１２と同様にして反射防止層およびＡＦＰ層を形成した。ＡＦＰ層の成膜後に、大気中、１２０℃で２０分熱処理を行った。これにより、透光性基材と反射防止層とＡＦＰ層とが積層した透光性構造体を得た。

〔例３３〕
フロスト処理液を５０ｗｔ％のフッ化水素水溶液１０００ｍＬに、５００ｇのフッ化アンモニウムと、平均粒径が４μｍのガラスビーズ３５０ｇとを加えたものに変更した以外は例３１と同様にして、表面に凹凸構造を有する透光性基材を得た。この透光性基材に対し、例１２と同様にして化学強化処理を実施した後、その表面を中性洗剤で洗浄し、純水で洗浄し、乾燥させた。
この透光性基材の凹凸構造を有する表面上に、例１２と同様にして反射防止層およびＡＦＰ層を形成した。ＡＦＰ層の成膜後に、大気中、１２０℃で２０分熱処理を行った。これにより、透光性基材と反射防止層とＡＦＰ層とが積層した透光性構造体を得た。

例１〜３９で得られた透光性構造体について前記の評価を行った。結果を表２〜４に示す。
図９、１０に、例１の透光性構造体の防眩層側の表面のレーザ顕微鏡像、該表面を斜め上方６０度から観察した走査型顕微鏡（ＳＥＭ）像を示す。また、図１１、１２に、例１の透光性構造体の防眩層側の表面形状をＳＰＩＰにより解析した像を示す。
図１３に、例２１の透光性構造体の防眩層側の表面のレーザ顕微鏡像を示す。また、図１４、１５に、例２１の透光性構造体の防眩層側の表面形状をＳＰＩＰにより解析した像を示す。
図１６に、例３４の透光性構造体の防眩層側の表面のレーザ顕微鏡像を示す。また、図１７、１８に、例３４の透光性構造体の防眩層側の表面形状をＳＰＩＰにより解析した像を示す。
図１１、１４、１７はそれぞれ、表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの断面を示し、図１２、１５、１８はそれぞれ、表面形状のＸＹＺデータと、そのフィルタリングにより得たスムージング像のＸＹＺデータとの差分として得られる像（平面に複数の凸部が散らばった像）の０．０１μｍの高さでの断面を示す。各図中、色の明るい部分が凸部の断面を示す。
また、例１〜３９の評価結果から、第一の凸部の平均直径、第二の凸部の密度、第二の凸部の面積率それぞれとぎらつき指標値Ｓとの関係を示すグラフを作成した。これらのグラフを図１９〜２１に示す。

表１中、膜構成の「Ｇｌａｓｓ」、「Ｇｌａｓｓ（強化）」、「エッチングＡＧ−Ｇｌａｓｓ」、「エッチングＡＧ−Ｇｌａｓｓ（強化）」は、各例の透光性構造体における透光性基材を示す。「ＡＧ」、「ＡＲ」、「ＡＦＰ」はそれぞれ、防眩層、反射防止層、ＡＦＰ層を示す。「静電スプレー」は、回転霧化式自動静電ガンを用いた静電塗装法を示す。

例１〜３３の透光性構造体は、ヘイズ率が０．１％以上であり、Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎの値も低く、防眩性を有していた。また、ぎらつき指標Ｓが３６以下であり、実用上充分にぎらつきが抑制されていた。また、ヘイズ率が１５％以下であることから、これらの透光性構造体を画像表示装置の視認側に配置したときの画像視認性が良好であると判断できる。一方、例３４〜３９の透光性構造は、顕著なぎらつきが見られた。

図１９のグラフから、第一の凸部の平均直径が小さい程、ぎらつきが低下する傾向が確認できた。図２０、図２１のグラフから、第二の凸部の密度や第二の凸部の面積率が特定の範囲内であると、ぎらつきが低下する傾向が確認できた。

本発明の透光性構造体は、低ヘイズ率、低ぎらつき性等の光学特性の点で、画像表示装置を始め各種の用途に用いることができる。
なお、２０１６年２月１日に出願された日本特許出願２０１６−０１７０８３号の明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

１：透光性構造体 ２：透光性構造体 ３：透光性基材
４：透光性基材 ５：防眩層 ５ａ：第一の凸部
５ｂ：第二の凸部 ６：透光性構造体 ７：反射防止層（機能層）
８：透光性構造体 ９：撥水撥油層（機能層） ＢＨ：ベアリング高さ

Claims (16)

1. 凹凸構造を表面に有する透光性構造体であって、
   前記凹凸構造が、該凹凸構造の無作為に選択される（短辺１０１μｍ×長辺１３５μｍ）〜（短辺１１１μｍ×長辺１４８μｍ）の矩形領域をレーザ顕微鏡で測定して得られる「表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さ」での直径（真円換算）が１μｍ以上の第一の凸部を含み、該第一の凸部の直径（真円換算）の平均値が１．０００〜１６．０００μｍであり、
   画像処理ソフトウェアＳＰＩＰ（イメージメトロロジー社製）により前記表面形状をフィルタリングすることによりスムージング像を得て、前記表面形状のＸＹＺデータから前記スムージング像のＸＹＺデータを差し引いて得られた複数の凸部を持つ像において、ベアリング高さを０としたとき、前記複数の凸部が、高さ０．０１μｍでの直径（真円換算）が０．４μｍ以上の第二の凸部を含み、該第二の凸部の密度が０．０２３〜７．２１０個／μｍ^２であり、高さ０．０１μｍでの前記第二の凸部の断面の合計面積が、前記領域の総面積に対して０．９００〜９０．０００％であり、
   ヘイズ率が０．１〜１５％であり、
   表面が前記凹凸構造となっている透光性基材を備えることを特徴とする透光性構造体。
2. 前記第一の凸部の直径（真円換算）の平均値が１．０００〜１２．０００μｍであり、前記第二の凸部の密度が０．０２３〜０．１８０個／μｍ^２であり、前記第二の凸部の断面の合計面積が、前記領域の総面積に対して１．０００〜２２．４００％である請求項１に記載の透光性構造体。
3. 前記第一の凸部の直径（真円換算）の平均値が１．０００〜８．０００μｍであり、前記第二の凸部の密度が０．０３３〜０．１８０個／μｍ^２であり、前記第二の凸部の断面の合計面積が、前記領域の総面積に対して１．２７０〜１６．０００％である請求項２に記載の透光性構造体。
4. 前記透光性基材が、板状若しくはフィルム状の無機ガラスまたは樹脂材料である請求項１〜３のいずれか一項に記載の透光性構造体。
5. 前記凹凸構造上に、さらに、機能層を備える請求項１〜４のいずれか一項に記載の透光性構造体。
6. 前記機能層が、反射防止層または撥水撥油層である請求項５に記載の透光性構造体。
7. 全体が曲面で構成されているか、または少なくとも一部が曲面で構成されている請求項１〜６のいずれか一項に記載の透光性構造体。
8. 曲面である部分と平坦である部分とから構成されている、請求項７に記載の透光性構造体。
9. 前記曲面の有する曲率半径が２５０００ｍｍ以下である請求項７または８に記載の透光性構造体。
10. 前記曲面の有する曲率半径は３０〜３０００ｍｍである請求項７または８に記載の透光性構造体。
11. 凹凸構造を表面に有する透光性構造体であって、
    前記凹凸構造が、該凹凸構造の無作為に選択される（短辺１０１μｍ×長辺１３５μｍ）〜（短辺１１１μｍ×長辺１４８μｍ）の矩形領域をレーザ顕微鏡で測定して得られる「表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さ」での直径（真円換算）が１μｍ以上の第一の凸部を含み、該第一の凸部の直径（真円換算）の平均値が１．０００〜１６．０００μｍであり、
    画像処理ソフトウェアＳＰＩＰ（イメージメトロロジー社製）により前記表面形状をフィルタリングすることによりスムージング像を得て、前記表面形状のＸＹＺデータから前記スムージング像のＸＹＺデータを差し引いて得られた複数の凸部を持つ像において、ベアリング高さを０としたとき、前記複数の凸部が、高さ０．０１μｍでの直径（真円換算）が０．４μｍ以上の第二の凸部を含み、該第二の凸部の密度が０．０２３〜７．２１０個／μｍ^２であり、高さ０．０１μｍでの前記第二の凸部の断面の合計面積が、前記領域の総面積に対して０．９００〜９０．０００％であり、
    ヘイズ率が０．１〜１５％であり、
    透光性基材と、前記透光性基材上に形成された防眩層と、を備え、
    前記防眩層がシリカを主成分とする膜であり、該膜のＪＩＳＫ５６００−５−４に準拠した鉛筆硬度が５Ｈ以上であることを特徴とする透光性構造体。
12. 前記防眩層上に、さらに、機能層を備える請求項１１に記載の透光性構造体。
13. 前記機能層が、反射防止層または撥水撥油層である請求項１２に記載の透光性構造体。
14. 前記第一の凸部の密度は０．００１〜１．１５個／μｍ^２である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の透光性構造体。
15. 請求項１〜１４のいずれか一項に記載の透光性構造体が表示面に配置された画像表示装置。
16. 車両に備え付けられた請求項１５に記載の画像表示装置。

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