JP6387561B2 - 有機電界発光装置および電子機器 - Google Patents

Description

本開示は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electro Luminescence）現象を利用して発光する有機電界発光装置およびそれを用いた電子機器に関する。

有機ＥＬ素子は、下部電極と上部電極との間に、有機ＥＬ層および正孔輸送層などの有機層を有しており、低電圧の直流駆動による高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。

この有機ＥＬ素子を用いたアクティブマトリクス型の発光装置（有機電界発光装置）では、基板上に、画素毎に薄膜トランジスタが設けられ、これらの薄膜トランジスタが層間絶縁膜で覆われている。有機ＥＬ素子は、その層間絶縁膜上に、薄膜トランジスタと電気的に接続されるように形成される。有機ＥＬ素子では、下部電極が画素毎にパターン形成されると共に薄膜トランジスタに接続され、上部電極は、例えば各画素に共通の層として形成される。また、画素毎の発光表示を行うために、有機層を画素毎に分離する絶縁性の隔壁が用いられる。この場合、有機ＥＬ素子の開口率を確保するために、いわゆる上面発光型の素子構造を採用することが望ましい。

上面発光型の素子構造では、下部電極が反射材料で形成され、上部電極が透明な材料で形成される。上部電極は、適度な仕事関数を持つ金属材料から構成されると共に、透明性を確保するために薄膜（例えば１０ｎｍ以下程度）とされることが望ましい。ところが、上部電極の薄膜化によって、いわゆる電圧降下が発生し、各画素の有機ＥＬ素子に印加される駆動電圧が表示画面内において不均一となる。これにより、表示画面の中央で発光輝度が低下するなど表示性能の低下を招く。

そこで、上部電極の電圧降下を抑制することを目的として、補助電極を形成する手法が提案されている（例えば、特許文献１，２）。

特開２００１−１９５００８号公報 特開２００３−９２１９２号公報

しかしながら、上記特許文献１，２の手法では、上部電極と補助電極との間で良好な電気的接続を確保しにくく、電圧降下抑制の効果が十分ではない。電圧降下を効果的に抑制し、発光面における輝度むらの少ない素子構造の実現が望まれている。

本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、表示画面内における電圧降下を効果的に抑制して輝度むらを低減することが可能な有機電界発光装置および電子機器を提供することにある。

本開示の有機電界発光装置は、２次元配置された複数の画素と、画素毎に設けられた第１電極と、第１電極上に形成され、有機電界発光層を含む有機層と、有機層上に、複数の画素の全面にわたって形成されると共に、画素間の領域に凸部を有する第２電極と、第２電極の凸部に部分的に接触する１または複数の第３電極とを備え、凸部は、画素の配列面内において、それぞれが第１の方向に沿って延在する１または複数の線状部分を含み、１または複数の第３電極はそれぞれ、画素の配列面内において、第１の方向と交差する第２の方向に沿って延在する線状部分を含み、第３電極の線状部分のうち、凸部の線状部分との交差部が、部分的に前記第２電極に接触するものである。

本開示の電子機器は、上記本開示の有機電界発光装置を備えたものである。

本開示の有機電界発光装置および電子機器では、複数の画素の全面にわたって形成された第２電極が、画素間の領域に凸部を有し、この凸部に部分的に接触する第３電極を有する。これにより、第２電極と第３電極との接触点に大きな圧力がかかり、物理的接触を確保し易くなる。この結果、いわゆる接触抵抗が抑制され、第２電極と第３電極との間で良好な電気的接続が確保される。

本開示の有機電界発光装置および電子機器によれば、複数の画素の全面にわたって形成された第２電極が画素間の領域に凸部を有し、この凸部に部分的に接触する第３電極を備える。これにより、第２電極と第３電極との良好な電気的接続を確保し、第２電極の電圧降下を効果的に抑制することができる。また、例えば製造プロセスにおいて、第２電極と第３電極との貼り合わせの際（基板貼り合わせの際）に、位置合わせの自由度が大きくなり、精密な位置合わせ工程を省略できる。よって、容易かつ確実に電気的接触を確保することができる。この結果、表示画面内における電圧降下を効果的に抑制して輝度むらを低減することが可能となる。

なお、上記内容は本開示の一例である。本開示の効果は上記内容に限定されず、他の異なる効果であってもよい。

本開示の第１の実施の形態に係る有機電界発光装置の全体構成を表す機能ブロック図である。 図１に示した画素回路の一例を表す回路図である。 図１に示した有機電界発光装置の構成を表す断面図である。 図３に示した画素定義膜および隔壁の構成例を表すＸＹ平面図である。 図３に示した第２電極の凸部と第３電極との構成例を表す斜視図である。 図３示した第２電極の凸部と第３電極とのＸＹ平面における構成例を表す図である。 本開示の第２の実施の形態に係る有機電界発光装置の画素定義膜および隔壁の構成例を表すＸＹ平面図である。 図７の隔壁によって形成される第２電極の凸部と第３電極との構成例を表す斜視図である。 図７の隔壁によって形成される第２電極の凸部と第３電極とのＸＹ平面における構成例を表す図である。 変形例１に係る有機電界発光装置の構成を表す断面図である。 変形例２に係る有機電界発光装置の構成を表す断面図である。 変形例３に係る有機電界発光装置の構成を表す断面図である。 上記実施の形態の有機電界発光装置の適用例の外観を表す斜視図である。

以下、本開示の実施の形態について図面を参照して以下の順に詳細に説明する。

１．第１の実施の形態（格子状の凸部を有する第２電極に、ストライプ状の第３電極を部分的に接触させてなる有機電界発光装置の例）
２．第２の実施の形態（ストライプ状の凸部を有する第２電極に、ストライプ状の第３電極を部分的に接触させてなる有機電界発光装置の例）
３．変形例１（隔壁の頂部が丸みを帯びている場合の例）
４．変形例２（隔壁の頂部が凹みを有する場合の例）
５．変形例３（隔壁上にも有機層が形成されている場合の例）
６．適用例（電子機器の例）

＜第１の実施の形態＞
［構成］
図１は、本開示の第１の実施の形態に係る有機電界発光装置（有機電界発光装置１）の全体構成を表すものである。この有機電界発光装置１は、有機ＥＬテレビジョン装置などとして用いられるものであり、例えば、基板１１の表示領域１１０Ａには、後述する複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に２次元配置されている。表示領域１１０Ａの周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。尚、以下では、基板１１上において、画素は、互いに直交するＸ方向（例えば表示画面の水平方向）およびＹ方向（例えば表示画面の垂直方向）の２方向に沿って配列されている。

表示領域１１０Ａには、上記有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂと共に、画素回路１４０が設けられている。図２は、画素回路１４０の一例を表したものである。画素回路１４０は、例えばアクティブ型の回路であり、例えば駆動トランジスタＴｒ１と、書き込みトランジスタＴｒ２と、キャパシタ（保持容量）Ｃｓと、有機ＥＬ素子１０Ｒ（または有機ＥＬ素子１０Ｇ，有機ＥＬ素子１０Ｂ）とを有する。有機ＥＬ素子１０Ｒ（１０Ｇ，１０Ｂ）は、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）と第２の電源ライン（ＧＮＤ）との間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続されている。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））であり、例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）またはスタガ構造（トップゲート型）を有している。

画素回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか１つの画素（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。

有機ＥＬ素子１０Ｒは、赤色の光を発生するものであり、有機ＥＬ素子１０Ｇは緑色の光を発生するものであり、有機ＥＬ素子１０Ｂは青色の光を発生するものである。隣り合う有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ（３つのサブピクセル）が１つのピクセルを構成している。尚、ここでは、Ｒ，Ｇ，Ｂの３つの画素の組を例示するが、これらの画素の他にも、例えば白（Ｗ）あるいは黄（Ｙ）の画素を更に含む４つの画素の組を１ピクセルとした構成であってもよい。

図３は有機電界発光装置１の断面構成を表したものである。尚、図３では、上記有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対応する３画素分の領域のみを図示している。この有機電界発光装置１では、例えばトップエミッション方式（上面発光方式）により光取り出しがなされ、例えば基板１１の上に、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂと、上記の画素回路１４０（図３には、駆動トランジスタＴｒ１に相当するＴＦＴ１２を示す）と、が形成されている。ＴＦＴ１２は、層間絶縁膜１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃによって覆われており、層間絶縁膜１３Ｃ上に、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂが形成されている。これらの有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂはそれぞれ、ＴＦＴ１２に電気的に接続された第１電極１４を有しており、第１電極１４上に、画素定義膜１５と有機層１６とが形成されている。画素定義膜１５上には、更に隔壁１７が形成されている。有機層１６と隔壁１７とを覆うように、第２電極１８が形成されている。これらの第１電極１４、画素定義膜１５、隔壁１７、有機膜１６および第２電極１８は、製造プロセスにおいて基板１１（詳細には層間絶縁膜１３Ｃ）の上に順に形成されるものである。

この有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第２電極１８上には、封止基板２０が貼り合わせられている。封止基板２０の一面（有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対向する面）には、補助電極としての第３電極１９が設けられている。尚、封止基板２０と第３電極との間には、図示しないカラーフィルタ、ブラックマトリクスおよび遮光板などが設けられていてもよい。製造プロセスでは、上記の基板１１と封止基板２０とが、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを間にして貼り合わせられる。その際、基板１１に設けられた第２電極１８と、封止基板２０に設けられた第３電極１９とが、向かい合うように、封止基板２０が基板１１に接着される。なお、密着封止構造は、図３の例では、いわゆる中空封止構造となっているが、特に制約はなく、樹脂などの充填剤を用いた、いわゆる固体封止構造であってもよい。

基板１１は、例えば、石英あるいはガラスから構成されている。あるいは、例えば金属箔、樹脂製のフィルムやシートなどが用いられてもよい。

ＴＦＴ１２は、例えば上述したような薄膜トランジスタであり、例えばドレインが第１電極１４に接続されている。ここでは、ボトムゲート型の素子構造を図示しているが、トップゲート型の素子構造を有していてもよい。

層間絶縁膜１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃは、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜およびポリイミドなどの絶縁膜より構成されている。ここでは、層間絶縁膜１３Ａは、ＴＦＴ１２のゲート絶縁膜として機能するものである。層間絶縁膜１３Ｃは、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの下地層として、基板１１の表面を平坦化する機能を有している。

第１電極１４は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの各々ごと（画素毎）に設けられている。この第１電極１４の構成材料としては、例えばクロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金が挙げられる。また、第１電極１４は、これらの金属元素の単体または合金よりなる金属膜と、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、ＩｎＺｎＯ（インジウ亜鉛オキシド）および酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との合金などの透明導電膜との積層構造を有していてもよい。なお、第１電極１４が陽極として使われる場合には、第１電極１４は正孔注入性の高い材料により構成されていることが望ましい。但し、アルミニウム（Ａｌ）合金のように、表面の酸化皮膜の存在や、仕事関数が大きくないことによる正孔注入障壁が問題となる材料であっても、適切な正孔注入層を別に設けるようにすれば、第１電極１４として使用することが可能である。

画素定義膜１５は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのそれぞれの画素開口（発光領域）を定義（区画）すると共に、第１電極１４同士を電気的に分離するためのものである。この画素定義膜１５は、例えば第１電極１４に対向して開口Ｈ１を有している。この画素定義膜１５の開口Ｈ１内に、有機層１６が形成されている。

有機層１６は、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、色光を発生する有機電界発光層を含むものである。具体的には、有機ＥＬ素子１０Ｒでは、有機層１６は赤色光を発する赤色発光層を含み、有機ＥＬ素子１０Ｇの有機層１６は、緑色光を発する緑色発光層を含み、有機ＥＬ素子１０Ｂの有機層１６は、青色光を発する青色発光層を含んでいる。あるいは、有機電界発光層は、例えば白色光を発生する白色発光層であり、全画素にわたって形成されていてもよい。この場合、封止基板２０にカラーフィルタが形成され、このカラーフィルタによりＲ，Ｇ，Ｂの色光に分離される。この有機層１６の形成方法は、特に限定されないが、例えば蒸着法や印刷法が挙げられる。このような有機層１６は、有機電界発光層の他にも、例えば正孔注入層、正孔輸送層および電子輸送層を含んでいてもよい。また、有機層１６と第２電極１８との間に、電子注入層および電子輸送層等が形成されていてもよい。また、例えば青色の発光層と黄色の発光層など、２つ以上の発光層を積層させた構造を有していてもよい。

隔壁１７は、画素間の領域において画素定義膜１５上に積層されており、画素定義膜１５と同一のまたは異なる絶縁材料により構成されている。ここでは、この隔壁１７（詳細には隔壁１７および画素定義膜１５）によって、有機層１６が画素毎に分離されている。隔壁１７の材料としては、例えばポリイミドやフォトレジストなどの有機絶縁材料、あるいは酸化シリコンなどの無機絶縁材料が挙げられる。隔壁１７の断面形状は、ここでは台形状となっている。

図４は、画素定義膜１５と隔壁１７とのＸＹ平面構成（画素の配列面内におけるレイアウト構成）の一例を表したものである。画素定義膜１５では、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのそれぞれに対応する領域に開口Ｈ１が形成され、開口Ｈ１のＸＹ平面形状が例えば矩形状となっている。隔壁１７は、画素定義膜１５上の開口Ｈ１の周辺領域に形成されている。隔壁１７のＸＹ平面形状は、本実施の形態では、格子形状である。換言すると、隔壁１７は、それぞれがＸ方向に延在する複数の線状部分と、それぞれがＹ方向に延在する複数の線状部分とが互いに交差してなる形状を有している。また、隔壁１７の幅（各線状部分の幅）ｄ２は、画素定義膜１５の幅（開口Ｈ１同士の間の距離）ｄ１よりも狭くなっている。本実施の形態では、上記のように、画素間の領域に隔壁１７と画素定義膜１５との積層膜を形成したが、これらの隔壁１７と画素間定義膜１５とは一体形成されていてもよい。例えばハーフ露光などの手法を用いることにより、画素定義膜１５に相当する部分（発光面積を規定する部分）と、隔壁１７に相当する部分（有機層の領域を規定する部分）とを一体形成することができる。あるいは、画素定義膜１５と隔壁１７とのどちらか一方のみが設けられてもよい。

第２電極１８は、この隔壁１７の上に、基板１１の全面にわたって（全画素にわたって）形成されている。第２電極１８は、製造プロセスにおいて、特に限定されないが、例えば真空蒸着法あるいはスパッタ法により成膜される。これにより、第２電極１８は、上記の隔壁１７の形状に倣った表面形状（凸部１８ａ）を有している。換言すると、第２電極１８の凸部１８ａの表面形状は、隔壁１７の形状によって決定される。

図５は、第２電極１８の凸部１８ａと、第３電極１９との構成例を表したものである。このように、第２電極１８の凸部１８ａは、ＸＹ平面（画素配列面）において、それぞれがＸ方向に延在する複数の線状部分１８ａ１と、それぞれがＹ方向に延在する複数の線状部分１８ａ２とを含む。これらの複数の線状部分１８ａ１と、複数の線状部分１８ａ２とは互いに交差して配置されている。換言すると、凸部１８ａは、Ｘ方向に延在する複数の線状部分１８ａ１と、Ｙ方向に延在する複数の線状部分１８ａ２とを含む格子形状を有している。尚、Ｘ方向とＹ方向とは、画素の配列面内において互いに直交している。

第２電極１８の凸部１８ａが上記のような格子形状であるのに対し、第３電極１９は、画素間の領域に形成されており、この画素間の領域において、例えばＸ方向に延在して複数設けられている。これらの複数の第３電極１９は、全体としてストライプ形状を成し、それぞれが線状部分を有している。

図６は、第２電極１８の凸部１８ａと、第３電極１９とのＸＹ平面構成例を模式的に表したものである。このように、第２電極１８の凸部１８ａと、第３電極１９とは、部分的に接触するように重畳して設けられている。具体的には、本実施の形態では、Ｙ方向において隣り合う開口Ｈ１同士の間の領域Ｓにおいて、各第３電極１９がＸ方向に沿って延在して形成されている。これにより、凸部１８ａのうちのＹ方向に延在する線状部分１８ａ２と、第３電極１９とが交差し、この交差部分（接続部分Ｃ１）において、第２電極１８と第３電極１９とが接触し、電気的に接続される。

第２電極１８は、適度な仕事関数をもつと共に、光透過性を有する導電性材料、例えばＩＴＯ（酸化インジウム錫）あるいはＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）などの透明導電膜から構成されている。また、第２電極１８の厚みは、特に限定されず、十分な導電性と十分な光透過性とを得ることが可能な厚みに設定されていればよい。第２電極１８の構成材料としては、この他にも、マグネシウムと銀との合金（ＭｇＡｇ合金）が挙げられる。また、第２電極１８は複数の材料が積層された構造であっても構わない。この第２電極１８の形成方法は特に限定されるものではないが、下地に対して影響を及ぼすことがない程度に、成膜粒子のエネルギーが小さい成膜方法であることが好ましい。また有機層１６の形成後に大気に暴露せず、連続して第２電極１８を形成することが好ましい。大気中の水分による劣化を抑制できるためである。

第３電極１９の構成材料は特に限定されないが、例えばニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），銀（Ａｇ），金（Ａｕ），鉄（Ｆｅ），アルミニウム（Ａｌ）あるいはクロム（Ｃｒ）等の金属材料が挙げられる。第３電極１９の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば５０ｎｍ〜１００μｍである。但し、第３電極１９は、ＩＴＯあるいはＩＺＯなどの透明導電膜から構成されていてもよい。第３電極１９の幅ｄ３は、特に限定されないが、例えば領域Ｓよりも狭い幅を有していることが望ましい。

封止基板２０は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止基板２０と第３電極との間に、図示しないカラーフィルタ、ブラックマトリクスおよび遮光板などが設けられていることにより、画素毎に色光を取り出すと共に、外光の反射光等を吸収して、コントラストを改善することができる。

［作用、効果］
本実施の形態の有機電界発光装置１では、第１電極１４と第２電極１８とを介して有機層１６に駆動電流が供給されると、有機電界発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにおいて発生した色光が、第２電極１８および封止基板２０を透過して取り出され、画像表示がなされる。

この有機電界発光装置１では、上記のように第２電極１８が透明導電膜から構成され、上面発光方式により画像表示がなされる。第２電極１８では、適度な仕事関数をもつ導電膜材料から構成されることが望ましいが、透明性を確保するために、薄膜化されることが多い。このため、第２電極１８では電圧降下が発生し、表示画面内において、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに印加される駆動電圧が不均一となる。この結果、表示画面の中央で発光輝度が低下するなど表示性能が低下してしまう。

これに対し、本実施の形態では、第２電極１８と電気的に接続される第３電極１９が設けられていることにより、上記のような電圧降下が抑制される。ここで、第２電極１８は、隔壁１７の形状に倣って形成され、これにより、平面形状が格子形状となる凸部１８ａを有している。この凸部１８ａに部分的に接触するように第３電極１９が設けられていることにより、第２電極１８と第３電極１９とが点接触する（接触面積が小さくなる）。即ち、第２電極１８と第３電極１９との接触点に大きな圧力がかかり、確実に物理的接触を確保し易くなる。この結果、いわゆる接触抵抗が抑制される。この結果、第２電極１８と第３電極１９との間で良好な電気的接続が確保され、第２電極１８の電圧降下を効果的に抑制することができる。

ここで、例えば製造プロセスにおいて、第２電極１８と第３電極１９との貼り合わせの際（基板貼り合わせの際）には、第２電極１８と第３電１９極を電気的に確実に接合させることが重要である。特に近年のガラス基板大型化に伴い、ガラスの厚みのばらつきは数十μｍになることがある。このため、電気的接続の信頼性を確保すると共に、良好な位置合わせ精度を得ることが難しい。本実施の形態のように、第２電極１８の凸部１８ａと第３電極１９とを交差部分で部分的に接触させることにより、位置合わせの自由度が高くなり、精密な位置合わせ工程を省略することができる。よって、容易かつ確実に、第２電極１８と第３電極１９との電気的接触を確保することができる。この結果、表示画面内における電圧降下を抑制して輝度むらを低減することが可能となる。

特に本実施の形態では、第２電極１８の凸部１８ａが、Ｘ方向およびＹ方向に延在する線状部分１８ａ１，１８ａ２を含む（格子形状を有する）一方、複数の第３電極１９が、それぞれＸ方向に延在して形成されている（ストライプ形状を成す）。これにより、貼り合わせの際に、凸部１８ａの線状部分１８ａ２と第３電極１９とが交差して重ね合わせられ、この交差部分（接続部分Ｃ１）において第２電極１８と第３電極１９とが接触する。互いに異なる方向に沿って延在する線状部分同士を重畳させることで、第２電極１８と第３電極１９とをその交差点に対応する点状の接続部分Ｃ１において接触させることができる。これにより、広い面積で接触させる場合に比べ、第２電極１８と第３電極１９との接触点に大きな圧力がかかり、確実な物理的接触を確保することが可能になる。接触抵抗を効果的に低減することが可能になると共に、第２電極１８と第３電極１９との位置合わせの自由度が高くなる。

以下、上記第１の実施の形態の他の実施の形態および変形例について説明する。なお、上記第１の実施の形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。

＜第２の実施の形態＞
図７は、第２の実施の形態に係る有機電界発光装置における画素定義膜１５と隔壁（隔壁１７Ａ）とのＸＹ平面構成を表したものである。図８は、第２電極１８の凸部（凸部１８ｂ）と、第３電極１９との構成例を表したものである。図９は、凸部１８ｂと、第３電極１９とのＸＹ平面構成例を模式的に表したものである。本実施の形態の有機電界発光装置は、図示しないが、第１の実施の形態と同様、例えば基板１１の表示領域１１０に複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されたものである。また、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、画素毎に設けられた第１電極１４と、この第１電極１４に対向して開口Ｈ１を有する画素定義膜１５と、隔壁１７Ａと、有機層１６とを有している。第２電極１８は、隔壁１７と有機層１６とを覆うように、全画素にわたって形成されている。基板１１には、これらの有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを間にして封止基板２０が貼り合わせられている。封止基板２０の一面側には、複数の第３電極１９が設けられ、これらの第３電極１９が第２電極１８に部分的に接触している。

但し、本実施の形態では、上記第１実施の形態と異なり、隔壁１７ＡのＸＹ平面形状がストライプ形状（図７）であり、この隔壁１７Ａの形状に倣って第２電極１８が形成されている。即ち、第２電極１８の凸部１８ｂが、ＸＹ平面において、例えばＹ方向に延在する複数の線状部分１８ｂ１を含むストライプ形状を有している。隔壁１７Ａの構成材料は、上記第１の実施の形態の隔壁１７と同様である。第３電極１９は、上記第１の実施の形態と同様、Ｘ方向に延在して複数形成されており、全体としてストライプ形状を成している。

図９に示したように、第２電極１８の凸部１８ｂの複数の線状部分１８ｂ１と、複数の第３電極１９とが、互いに交差して（直交して）重ね合わせられ、その交差部分が接続部分Ｃ２となっている。

本実施の形態においても、上記第１の実施の形態と同様、第２電極１８と電気的に接続される第３電極１９が設けられていることにより、第２電極１８の電圧降下が抑制される。ここで、第２電極１８は、隔壁１７Ａの形状に倣って形成され、これにより、平面形状がストライプ形状となる凸部１８ｂを有している。この凸部１８ｂに部分的に接触するように第３電極１９が設けられていることにより、第２電極１８と第３電極１９とが点接触する（接触面積が小さくなる）。第２電極１８と第３電極１９との接触点に大きな圧力がかかることで、確実に物理的接触を確保し易くなる。この結果、いわゆる接触抵抗が抑制される。これにより、第２電極１８と第３電極１９との間で良好な電気的接続が確保され、第２電極１８の電圧降下を効果的に抑制することができる。また、仮に、第２電極１８と第３電極１９とが交差しない場合（平行である場合）、基板貼り合わせの際に第２電極１８と第３電極１９との位置が重なるように精密な位置合わせをすることが望まれる。これに対し、本実施の形態のように、第２電極１８と第３電極１９とが交差する場合、位置合わせの自由度が高くなり、精密な位置合わせが不要となる。よって、上記第１の実施の形態と同等の効果を得ることができる。

特に本実施の形態では、第２電極１８の凸部１８ｂが、Ｙ方向に延在する線状部分１８ｂ１を含む（ストライプ形状を有する）一方、複数の第３電極１９が、それぞれＸ方向に延在して形成されている（ストライプ形状を成す）。これにより、貼り合わせの際に、凸部１８ｂの線状部分１８ｂ１と第３電極１９とが交差して重ね合わせられ、この交差部分（接続部分Ｃ２）において第２電極１８と第３電極１９とが接触する。したがって、上記第１の実施の形態と同様、第２電極１８と第３電極１９とを点状の接続部分Ｃ２において接触させることができ、接触抵抗を低減することが可能になると共に、第２電極１８と第３電極１９との精密な位置合わせも不要となる。加えて、本実施の形態では、凸部１８ｂがストライプ形状を有することから、上記第１の実施の形態（第２電極１８の凸部１８ａが格子形状を有する場合）に比べ、Ｙ方向における位置合わせの自由度が更に高まる。よって、貼り合わせ工程における位置合わせがより容易となり、生産性向上に有利となる。

＜変形例１＞
図１０は、上記第１および第２の実施の形態の変形例（変形例１）に係る有機電界発光装置の断面構成を表したものである。本変形例では、隔壁（隔壁１７Ｂ）の頂部（頭頂部）が、丸みを帯びた形状を有している。上記第１の実施の形態と同様、第２電極１８の表面形状は、隔壁１７Ｂの形状に倣って形成されている。即ち、第２電極１８の凸部（凸部１８ｃ）は丸みを帯びた形状を有している。本変形例においても、第２電極１８の凸部１８ｃに部分的に接触して第３電極１９が設けられている。

隔壁１７Ｂの頂部に丸みを形成する手法としては、特に限定されないが、上記第１の実施の形態の隔壁１７（断面形状が台形状）を形成した後、更に例えばＡｒプラズマ処理を施すことにより頂部に丸みを形成することができる。この上に、第２電極１８を成膜することで、第２電極１８には丸みを帯びた凸部１８ｃが形成される。

本変形例のように、第２電極１８の凸部１８ｃが丸みを帯びた形状であることにより、この凸部１８ｃと第３電極１９とを、その交差部分（接続部分Ｃ３）において、より点接触に近い状態で接触させることができる。したがって、より接触抵抗を低減し易くなり、良好な電気的接続を確保することができる。

＜変形例２＞
図１１は、上記第１および第２の実施の形態の変形例（変形例２）に係る有機電界発光装置の断面構成を表したものである。本変形例では、隔壁（隔壁１７Ｃ）の頂部（頭頂部）に凹み（窪み）を有している。上記第１の実施の形態と同様、第２電極１８の表面形状は、隔壁１７Ｂの形状に倣って形成されている。即ち、第２電極１８の凸部（凸部１８ｄ）は凹みを有している。本変形例においても、第２電極１８の凸部１８ｄに部分的に接触して第３電極１９が設けられている。

隔壁１７Ｃの凹みを形成する手法としては、特に限定されないが、上記第１の実施の形態の隔壁１７（断面形状が台形状）をパターン形成する際、例えば露光、現像プロセスが行われるが、その際の露光条件を調節することで、凹みを有する隔壁１７Ｃを形成することができる。この上に、第２電極１８を成膜することで、第２電極１８には、凹みを有する凸部１８ｄが形成される。

本変形例のように、第２電極１８の凸部１８ｄが凹みを有することにより、この凸部１８ｄと第３電極１９とを、その交差部分（接続部分Ｃ４）において、点接触に近い状態で接触させると共に、かつ点接触箇所を増やすことができる。したがって、より接触抵抗を低減し易くなり、良好な電気的接続を確保することができる。

＜変形例３＞
図１２は、上記第１および第２の実施の形態の変形例（変形例３）に係る有機電界発光装置の断面構成を表したものである。本変形例では、有機層（有機層１６Ａ）が、第１電極１４と隔壁１７Ａとを覆うように形成されている。第２電極１８は、この有機層１６Ａを覆うように形成されている。本変形例では、第２電極１８の表面形状は、有機層１６Ａの表面形状に倣っている。即ち、第２電極１８の凸部（凸部１８ｅ）は、有機層１６Ａのうちの隔壁１７Ａを覆う部分（テーパ部分）の形状に倣って形成されている。本変形例においても、第２電極１８の凸部１８ｅに部分的に接触して第３電極１９が設けられている。

有機層１６Ａを形成する手法としては、特に限定されないが、例えば印刷技術において、隔壁１７Ａとの接触角が例えば１０°以下となるようなインクを用いることで、有機層１６Ａを形成することができる。この上に、第２電極１８を成膜することで、有機層１６Ａの表面形状に倣った凸部１８ｅを有する第２電極１８が形成される。

本変形例のように、第２電極１８の下地層としては隔壁１７に限らず有機層１６Ａであってもよい。換言すると、第２電極１８の凸部１８ｅは、隔壁１７と有機層１６Ａとの積層膜の形状に倣って形成されていてもよい。この場合にも、凸部１８ｅと第３電極１９とを、その交差部分（接続部分Ｃ５）において、点接触させることができる。したがって、上記第１の実施の形態と同等の効果を得ることができる。

＜適用例＞
以下、上記実施の形態で説明した有機電界発光装置の適用例について説明する。上記実施の形態の有機電界発光装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。一例として、図１３に、テレビジョン装置の外観構成を示す。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル２１０およびフィルターガラス２２０を含む映像表示画面部２００を備えている。映像表示画面部２００が、上記実施の形態等で説明した有機電界発光装置に対応する。本開示の有機電界発光装置は、特に大型の表示装置に好適である。

以上、実施の形態および実施例を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態および実施例に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、第３電極１９が複数、全体としてストライプ状を成すように形成された構成を例示したが、これらの複数の第３電極１９は、画素間の領域を延在する線状部分を有していればよく、一部において繋がっていてもよい。例えば表示領域の端部において、上記ストライプ状の複数の第３電極１９が電気的に接続されていてもよい。

また、上記実施の形態等では、隣り合う画素行（または画素列）同士の間の全てに第３電極１９が配置されるようにしたが、第３電極１９は、すべての画素行間（または画素列間）に配置されていなくともよい。例えば、１行または複数行おきに第３電極１９が配置されるようにしてもよい（上述した例から選択的な行を間引いて配置されていてもよい）。

また、上記実施の形態および実施例において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。

更に、上記実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本開示はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。

上記実施の形態等において説明した効果は一例であり、他の効果であってもよいし、更に他の効果を含んでいてもよい。

尚、本開示は、以下のような構成であってもよい。
（１）
２次元配置された複数の画素と、
前記画素毎に設けられた第１電極と、
前記第１電極上に形成され、有機電界発光層を含む有機層と、
前記有機層上に、前記複数の画素の全面にわたって形成されると共に、前記画素間の領域に凸部を有する第２電極と、
前記第２電極の前記凸部に部分的に接触する１または複数の第３電極と
を備えた有機電界発光装置。
（２）
前記凸部は、前記画素の配列面内において、それぞれが第１の方向に沿って延在する１または複数の線状部分を含み、
前記１または複数の第３電極はそれぞれ、前記画素の配列面内において、前記第１の方向と交差する第２の方向に沿って延在する線状部分を含み、
前記凸部の線状部分と前記第３電極の線状部分との交差部において、前記第２電極と前記第３電極とが接触する
上記（１）に記載の有機電界発光装置。
（３）
前記凸部は、前記線状部分が前記第１の方向に沿って延在してなるストライプ形状を有し、
前記複数の第３電極は、前記線状部分が前記第２の方向に沿って延在するストライプ形状を成す
上記（２）に記載の有機電界発光装置。
（４）
前記凸部は、前記複数の線状部分を含む格子形状を有し、
前記複数の第３電極は、前記線状部分が前記第２の方向に沿って延在するストライプ形状を成す
上記（２）に記載の有機電界発光装置。
（５）
前記第１の方向と前記第２の方向とは直交する
上記（２）〜（４）のいずれかに記載の有機電界発光装置。
（６）
前記画素間の領域に形成され、絶縁性を有する隔壁を更に備え、
前記第２電極は、前記隔壁と前記有機層とを覆って形成されると共に、前記凸部が前記隔壁の形状に倣って形成されている
上記（１）〜（５）のいずれかに記載の有機電界発光装置。
（７）
前記隔壁の頂部は、丸みを帯びた形状を有する
上記（６）に記載の有機電界発光装置。
（８）
前記隔壁の頂部は、凹みを有する
上記（６）または（７）に記載の有機電界発光装置。
（９）
前記有機層は、前記第１電極上と前記隔壁とを覆うように形成され、
前記凸部は、前記隔壁と前記有機層との積層膜の形状に倣って形成されている
上記（６）〜（８）のいずれかに記載の有機電界発光装置。
（１０）
前記１または複数の第３電極は、前記画素間の領域に形成されている
上記（１）〜（９）のいずれかに記載の有機電界発光装置。
（１１）
２次元配置された複数の画素と、
前記画素毎に設けられた第１電極と、
前記第１電極上に形成され、有機電界発光層を含む有機層と、
前記有機層上に、前記複数の画素の全面にわたって形成されると共に、前記画素間の領域に凸部を有する第２電極と、
前記第２電極の前記凸部に部分的に接触する１または複数の第３電極と
を有する有機電界発光装置を備えた電子機器。

１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機ＥＬ素子、１１…基板、１２…ＴＦＴ、１３Ａ〜１３Ｃ…層間絶縁膜、１４…第１電極、１５…画素間絶縁膜、１６…有機層、１７，１７Ａ〜１７Ｃ…隔壁、１８…第２電極、１８ａ〜１８ｅ…凸部、１８ａ１，１８ａ２，１８ｂ１…線状部分、１９…第３電極、２０…封止基板、Ｃ１〜Ｃ５…接続部分、Ｈ１…開口。

Claims (11)

1. ２次元配置された複数の画素と、
   前記画素毎に設けられた第１電極と、
   前記第１電極上に形成され、有機電界発光層を含む有機層と、
   前記有機層上に、前記複数の画素の全面にわたって形成されると共に、前記画素間の領域に凸部を有する第２電極と、
   前記第２電極の前記凸部に部分的に接触する１または複数の第３電極とを備え、
   前記凸部は、前記画素の配列面内において、それぞれが第１の方向に沿って延在する１または複数の線状部分を含み、
   前記１または複数の第３電極はそれぞれ、前記画素の配列面内において、前記第１の方向と交差する第２の方向に沿って延在する線状部分を含み、
   前記第３電極の線状部分のうち、前記凸部の線状部分との交差部が、部分的に前記第２電極に接触する
   有機電界発光装置。
2. 前記第３電極は、前記第２電極に点接触している
   請求項１に記載の有機電界発光装置。
3. 前記凸部は、前記線状部分が前記第１の方向に沿って延在してなるストライプ形状を有し、
   前記複数の第３電極は、前記線状部分が前記第２の方向に沿って延在するストライプ形状を成す
   請求項１または請求項２に記載の有機電界発光装置。
4. 前記凸部は、前記複数の線状部分を含む格子形状を有し、
   前記複数の第３電極は、前記線状部分が前記第２の方向に沿って延在するストライプ形状を成す
   請求項１または請求項２に記載の有機電界発光装置。
5. 前記第１の方向と前記第２の方向とは直交する
   請求項１ないし請求項４のうちいずれか１項に記載の有機電界発光装置。
6. 前記画素間の領域に形成され、絶縁性を有する隔壁を更に備え、
   前記第２電極は、前記隔壁と前記有機層とを覆って形成されると共に、前記凸部が前記隔壁の形状に倣って形成されている
   請求項１ないし請求項５のうちいずれか１項に記載の有機電界発光装置。
7. 前記隔壁の頂部は、丸みを帯びた形状を有する
   請求項６に記載の有機電界発光装置。
8. 前記隔壁の頂部は、凹みを有する
   請求項６または請求項７に記載の有機電界発光装置。
9. 前記有機層は、前記第１電極上と前記隔壁とを覆うように形成され、
   前記凸部は、前記隔壁と前記有機層との積層膜の形状に倣って形成されている
   請求項６ないし請求項８のうちいずれか１項に記載の有機電界発光装置。
10. 前記１または複数の第３電極は、前記画素間の領域に形成されている
    請求項１ないし請求項９のうちいずれか１項に記載の有機電界発光装置。
11. ２次元配置された複数の画素と、
    前記画素毎に設けられた第１電極と、
    前記第１電極上に形成され、有機電界発光層を含む有機層と、
    前記有機層上に、前記複数の画素の全面にわたって形成されると共に、前記画素間の領域に凸部を有する第２電極と、
    前記第２電極の前記凸部に部分的に接触する１または複数の第３電極とを有し、
    前記凸部は、前記画素の配列面内において、それぞれが第１の方向に沿って延在する１または複数の線状部分を含み、
    前記１または複数の第３電極はそれぞれ、前記画素の配列面内において、前記第１の方向と交差する第２の方向に沿って延在する線状部分を含み、
    前記第３電極の線状部分のうち、前記凸部の線状部分との交差部が、部分的に前記第２電極に接触する
    有機電界発光装置を備えた電子機器。

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