JP5939041B2 - 半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法に関する。

半導体モジュールは、一般的に、半導体チップ、配線基板、バスバー、及び、ケースを備えている。半導体チップは、配線基板上に搭載される。配線基板には、配線パターンが形成されている。半導体チップを搭載した配線基板はケース内に収容されている。バスバーは、ケース内部の配線基板又は半導体チップからの引き出し電極として機能する。このような、半導体モジュールとしては、例えば、特許文献１，２に記載されたものが知られている。特許文献１，２記載の半導体モジュールでは、バスバーは、ケースとは別体として設けられており、バスバーの一端部を配線パターンにハンダを用いて接合されている。

特開平１１−２５１５１４号公報 特開２００６−３４４８４１号公報

上述した従来のようにハンダを利用してバスバーを配線基板に固定する場合、リフロー方式が採用される。リフロー方式ではバスバーを配線基板に垂直に固定するために固定治具などが必要であったり、ハンダ溶融時にバスバーの傾き防止をするための治具などが更に必要な場合がある。そのため、バスバーの接続工程が複雑になる場合があり得る。

したがって、本技術分野においては、容易に製造し得る半導体モジュール、及び、その製造方法が要請されている。

本発明の一側面に係る半導体モジュールは、半導体チップと、半導体チップが搭載される配線基板であって、半導体チップと電気的に接続される配線パターンが主面に形成された配線基板と、配線基板が搭載される搭載板と、搭載板と共に、配線基板を収容するケースを構成する枠体と、配線パターンに電気的に接続されケースから引き出されるバスバーであって、枠体の一側壁にインサートされているバスバーと、を備える。上記一側壁は、枠体内に突出した凸部を有する。バスバーは、上記一側壁に埋設されており、その一側壁のうち搭載板と反対側に位置する第１の端部と、凸部の先端に位置する第２の端部とを有する第１の領域と、第１の領域の第１の端部から枠体の外側に延びている第２の領域と、第１の領域の第２の端部から枠体の内側に延びている第３の領域と、を有する。第３の領域は、第２の端部の位置からみて配線基板側の凸部の形状に基づいて屈曲されており、配線基板が搭載された搭載板が枠体に取り付けられることによって、第３の領域と配線パターンとが圧接されている。

この構成では、バスバーと配線パターンとを圧接によって接続している。また、バスバーが枠体にインサートされているので、バスバーが傾いたり倒れたりすることがない。よって、半導体モジュールを容易に製造し得る。

一実施形態において、搭載板は、樹脂製の接着剤によって枠体に取り付けられていてもよい。樹脂製接着剤が硬化する際に樹脂収縮力によって、第３の領域と配線パターンとがより強く圧接され得る。

一実施形態において、搭載板は、枠体にネジ止めされていてもよい。この場合、第３の領域と配線パターンとがネジの締結力によって更に圧接され得る。

一実施形態において、第３の領域のうちの配線パターンと対向する面が粗化されていてもよい。この場合、第３の領域と、配線パターンとがより確実に接合され得る。

一実施形態において、第３の領域と対向する配線パターン上に、金属層が形成されていてよい。金属層の材料は、金、銀又は錫でありえる。この金属層に、第３の領域が食い込み易い。その結果、第３の領域と配線パターンとがより強固に接合され得る。

本発明の他の側面に係る半導体モジュールの製造方法は、（Ａ）一側壁にバスバーがインサートされた枠体を準備する工程であって、枠体の一側壁は、前記枠体の内側に突出した凸部を有しており、バスバーは、（ａ）一側壁に埋設されており、一側壁のうち枠体の第１の開口側に位置する第１の端部と、凸部の先端に位置する第２の端部とを有する第１の領域と、（ｂ）第１の領域の第１の端部から枠体の外側に延びている第２の領域と、（ｃ）第１の領域の第２の端部から枠体の内側に延びている第３の領域と、を有し、第３の領域は、第２の端部の位置からみて第１の開口と反対側に位置する第２の開口側の凸部の形状に基づいて屈曲されている、上記準備する工程と、（Ｂ）半導体チップが搭載された配線基板が主面に搭載された搭載板を、準備された枠体の第２の開口に取り付けることによって、第３の領域と配線基板上の配線パターンとを圧接する工程と、を備える。

この製造方法では、バスバーと配線パターンとを圧接によって接続していることから、バスバーの配線パターンへの接続工程が容易である。バスバーが枠体にインサートされているので、バスバーが傾いたり倒れたりすることがない。この点においても、バスバーと配線パターンとの接続工程が容易である。よって、半導体モジュールをより容易に製造できる。

一実施形態において、準備された枠体において、凸部の第２の開口側の面と第３の領域との間に隙間を有するように、第３の領域は屈曲されていてもよい。この形態では、枠体と搭載板とが接合された場合、第３の領域が配線パターンを押圧する。そのため、第３の領域と配線パターンとがより強固に接合され得る。

一実施形態において搭載板は、枠体に樹脂製の接着剤によって取り付けられてもよい。この場合、樹脂製接着剤が硬化する際に樹脂収縮力によって、第３の領域と配線パターンとがより強く圧接され得る。

上記接着剤は、熱硬化性樹脂であり得る。熱硬化性樹脂を熱硬化させることで、上記趣旨収縮力がより大きくなる。その結果、第３の領域と配線パターンとがより強く圧接され得る。

本発明によれば、半導体モジュールをより容易に製造し得る。

一実施形態に係る半導体モジュールの斜視図である。 図１に示す半導体モジュールの分解斜視図であり、半導体モジュールから蓋体を取り外した状態を示している。 図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った端面図である。 一実施形態に係る半導体チップ及び配線基板の平面図である。 バスバーがインサートされた枠体の斜視図の一例である。 半導体モジュールの他の実施形態を示す端面図である。 図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った端面図である。 半導体モジュールの製造方法を説明するための図面である。 半導体モジュールの更に他の実施形態を示す端面図である。

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。図面の説明において、同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。

まず、図１〜図５を参照して、一実施形態に係る半導体モジュールについて説明する。図１は、一実施形態に係る半導体モジュールの斜視図である。図２は、図１に示す半導体モジュールの分解斜視図であり、半導体モジュールから蓋体を取り外した状態を示している。図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った端面図である。図４は、一実施形態に係る半導体チップ及び配線基板の平面図である。図５は、バスバーがインサートされた枠体の斜視図の一例である。

図１〜図３に示すように、半導体モジュール１０は、一以上の半導体チップ１２、配線基板１４、枠体１６、バスバー１８、蓋体２０及び放熱板（搭載板）２２を備えている。枠体１６、蓋体２０及び放熱板２２は、配線基板１４を収容するケース２４を構成する。半導体モジュール１０では、半導体チップ１２がケース２４内部に収容されており、当該半導体チップ１２と電気的に接続するバスバー１８がケース２４の外部に引き出されている。

図２及び図３に示すように、一以上の半導体チップ１２は、配線基板１４上に搭載されている。半導体チップ１２としては、例えば、ＭＯＳ−ＦＥＴ、又は、ダイオードが例示される。配線基板１４は絶縁基板２６を有する。絶縁基板２６は、例えば、ＡｌＮ、ＳｉＮ、又はＡｌ_２Ｏ_３といった材料から構成され得る。ＡｌＮ及びＳｉＮは、熱伝導率に優れる。Ａｌ_２Ｏ_３によれば、低コストの絶縁基板２６を製造し得る。ＳｉＮは、Ｃｕとの熱伝導率に近い熱伝導率を有するので、後述する放熱板２２がＣｕから構成されている場合に、半導体モジュール１０の信頼性を向上し得る。

絶縁基板２６の上面（主面）には、配線パターン２８が形成されている。配線パターン２８の材料の例は、銅であり得る。半導体チップ１２は、これら配線パターン２８にワイヤ等を介して電気的に接続されている。図４は、半導体チップ１２及び配線基板１４のより詳細な一例を示している。図４には、半導体チップ１２の例として、複数のＭＯＳ−ＦＥＴ １２ａ及び複数のダイオード１２ｂが示されている。

一実施形態において、絶縁基板２６の上面は、第１の基板領域２６ａ及び第２の基板領域２６ｂを含み得る。第１の基板領域２６ａには、配線パターン２８として、ゲートパターンＧＰ１、ソースパターンＳＰ１、ドレインパターンＤＰ１が設けられている。ドレインパターンＤＰ１上には、裏面ドレイン電極が電気的に接続するように、ＭＯＳ−ＦＥＴ １２ａが搭載されている。ＭＯＳ−ＦＥＴ １２ａのゲート電極は、ワイヤを介して、ゲートパターンＧＰ１に接続されており、ソース電極は、別のワイヤを介して、ソースパターンＳＰ１に接続されている。ドレインパターンＤＰ１上にはダイオード１２ｂが搭載されている。ゲートパターンＧＰ１は、別のゲートパターンＧ１に電気的に接続されており、ソースパターンＳＰ１は、ワイヤを介して、補助エミッタパターンＥ１に接続されている。ドレインパターンＤＰ１は、配線基板１４の一縁部に設けられたドレインパターンＤ１に、ワイヤを介して接続されている。

第２の基板領域２６ｂにも、配線パターン２８として、ゲートパターンＧＰ２、ソースパターンＳＰ２、ドレインパターンＤＰ２が設けられている。ドレインパターンＤＰ２上には、裏面ドレイン電極が電気的に接続するように、ＭＯＳ−ＦＥＴ １２ａが搭載されている。ＭＯＳ−ＦＥＴ １２ａのゲート電極は、ワイヤを介して、ゲートパターンＧＰ２に接続されており、ソース電極は、別のワイヤを介して、ソースパターンＳＰ２に接続されている。ドレインパターンＤＰ１上にはダイオード１２ｂが搭載されている。ゲートパターンＧＰ２は、別のゲートパターンＧ２に電気的に接続されており、ソースパターンＳＰ２は、ワイヤを介して、補助エミッタパターンＥ２及び配線基板１４の一縁部に設けられたソースパターンＳ２に接続されている。ドレインパターンＤＰ２は、配線基板１４の一縁部に設けられたドレインパターンＤ２に、ワイヤを介して接続されている。

絶縁基板２６の下面には、放熱層３０が設けられてもよい（図３参照）。放熱層３０の材料の例は、銅を含む。放熱層３０は、ニッケル等によってメッキされていてもよい。放熱層３０の材料が、配線パターン２８の材料と同じである形態では、配線基板１４の反りが低減され得る。以下では、特に断らない限り、配線基板１４が放熱層３０を有する半導体モジュール１０の実施形態について説明する。

ケース２４は、図４に例示したように、半導体チップ１２を搭載した配線基板１４を、その内部に収容する。一実施形態においては、前述したように、ケース２４は、枠体１６、蓋体２０、及び、放熱板２２を含み得る。

放熱板２２は、半導体チップ１２を搭載した配線基板１４をその上面（主面）上に搭載する。配線基板１４が有する放熱層３０が放熱板２２上にハンダを利用して接合されることによって、配線基板１４は放熱板２２に固定される。この場合、放熱層３０と放熱板２２との間にハンダ層３２が形成される。放熱層３０と放熱板２２とが接合されれば、それらを接合するための接合部材はハンダに限定されない。放熱板２２は、金属板であり、放熱板２２の材料の例は、Ｃｕであり得る。

配線基板１４が搭載された放熱板２２は、枠体１６の下部開口（第２の開口）１６ｂを閉じるように枠体１６に取り付けられる。放熱板２２は、ケース２４の底壁としても機能する。放熱板２２は、樹脂製接着剤を利用して枠体１６に接合される。従って、放熱板２２と枠体１６との間には、接着剤層３４が形成されている。接着剤層３４の材料の例は、熱硬化性樹脂であり、具体的には、エポキシ及びシリコーン系の樹脂が例示される。

枠体１６は、ケース２４の外周壁を構成している。枠体１６は、配線基板１４の周囲を囲む。枠体１６は、図５に示すように、対向する側壁３６，３８と、側壁３６，３８と側壁とを連結する連結部４０，４２とを有する。

連結部４０，４２の内側には段部が形成されている。連結部４０からは、外部接続用の４本の端子４４，４４，４４，４４が引き出されている。端子４４〜４４は、それぞれゲートパターンＧ１、補助エミッタパターンＥ１、補助エミッタパターンＥ２及びゲートパターンＧ２に電気的に接続され得る。これらの電気的接続は、例えば、連結部４０の段部に、各端子４４に電気的にそれぞれ接続された電極４６と、ゲートパターンＧ１、補助エミッタパターンＥ１、補助エミッタパターンＥ２及びゲートパターンＧ２とをワイヤによって接続すればよい。図２では、ゲートパターンＧ１，Ｇ２と端子４４，４４とが電気的に接続され得る電極４６を例示している。

側壁（一側壁）３６は、その内側に、枠体１６内に突出したリブ（凸部）４８を有する。従って、側壁３６は、枠体１６の下部開口１６ａ側（放熱板２２の取付け側）から見た場合、オーバーハング部を有する。リブ４８は、ケース２４の深さ方向（絶縁基板２６の法線方向）に直交する方向（図２，５において、枠体１６の長手方向）に延在している。リブ４８の延在方向に直交する断面の外形形状は、図３に例示するように、Ｕ字状であり得る。

リブ４８が形成された側壁３６に３本のバスバー１８が一体的にインサートされている。

バスバー１８は、ケース２４からの引き出し電極として機能する。バスバー１８は、一枚の導電性を有する金属板であり得る。３本のバスバー１８は、枠体１６に放熱板２２が取り付けられた状態において、ドレインパターンＤ１，ソースパターンＳ２及びドレインパターンＤ２（図４参照）の位置に対応して側壁３６にそれぞれ設けられている。

バスバー１８は、図３に示すように、一部が側壁３６に埋設され、その両側が側壁３６から露出するように側壁３６にインサートされている。以下の説明では、バスバー１８のうち側壁３６内に埋設されている領域を第１の領域３６ａと称し、枠体１６の上部開口（第１の開口）１６ｂ側において側壁３６から引き出された領域を第２の領域３６ｂと称し、側壁３６から枠体１６の内側に引き出された領域を第３の領域３６ｃと称す。

第１の領域３６ａは、側壁３６の上端部とリブ４８の先端部４８ａとを繋ぐように屈曲している。具体的には、第１の領域３６ａは、側壁３６の上端部側から枠体１６の深さ方向に平行に延びた後、リブ４８の位置で絶縁基板２６の上面と平行に折り曲げられ、リブ４８の先端４８ａまで延びている。第１の第１の領域３６ａは、第１の領域３６ａを側方からみた場合（３本のバスバー１８の配列方向から見た場合）、図３に示すように、Ｌ字状であり得る。第１の領域３６ａにおいて、上部開口１６ｂ側を第１の端部３６ａ１と称し、リブ４８の先端４８ａ側の部分を第２の端部３６ａ２と称す。第１の領域３６ａは、第２の領域３６ｂと第３の領域３６ｃとを繋いでいる。

第２の領域３６ｂは、第１の領域３６ａの第１の端部３６ａ１から枠体１６の外側に延びている。従って、第２の領域３６ｂにおいて、第１の端部３６ａ１と反対側の端部は、枠体１６の外側に位置する。

第３の領域３６ｃは、第１の領域３６ａの第２の端部３６ａ２から枠体１６の内側に延びている。第３の領域３６ｃは、リブ４８において下部開口１６ａ側の形状に沿って曲げられている。すなわち、第３の領域３６ｃは、第２の端部３６ａ２から下側に向けて枠体１６の深さ方向に平行に延びた後、リブ４８の下側角部で屈曲してリブ４８の下面４８ｂ側に向けて折り曲げられている。

半導体モジュール１０では、第３の領域３６ａのうちリブ４８の下面４８ｂに被さっている部分と配線パターン２８とが圧接されている。具体的には、３本のバスバー１８，１８，１８それぞれの第３の領域３６ａと、各バスバー１８，１８，１８に対応するドレインパターンＧ１，ソースパターンＳ２及びドレインパターンＧ２とが圧接されている。リブ４８の位置は、放熱板２２を枠体１６に取り付けた際に、第３の領域３６ａと配線パターン２８とが接触するように、調節されている。

一実施形態において、図６に示すように、第３の領域３６ｃにおいて、配線パターン２８と対向する面（以下、対向面と称す）３６ｃ１は、粗化された面（以下、粗面と称す）でもよい。粗面の例は、梨地面である。粗面は、例えば、ブラスト処理又はレーザ加工といった物理的処理や、エッチングといった化学的によって形成され得る。

一実施形態において、図６に示すように、配線パターン２８のうち第３の領域３６ｃと対向する部分（図６では、ソースパターンＳ２）には、配線パターン２８より柔らかい金属から構成される金属層５０が形成されていてもよい。金属層５０の材料の例は、金、銀及び錫を含む。このような金属層５０は、配線パターン２８のうち第３の領域３６ｃと対向する部分、金、銀又は錫によってメッキすることによって形成され得る。

バスバー１８が一体成形された枠体１６は、例えば、熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂を用いた成形によって製造され得る。バスバー１８が一体的にインサートされた枠体１６の成形技術の例は、射出成形である。

蓋体２０は、枠体１６の上部開口を閉じるように枠体１６に取り付けられ得る。この蓋体２０には、孔２０ａ、及びネジ孔２０ｂが形成されている。孔２０ａは、バスバー１８の第２の領域３６ｂを引き出すために蓋体２０に形成されている。ネジ孔２０ｂは、孔２０ａから引き出され蓋体２０の上面に沿うように折り曲げられたバスバー１８を、ネジによって固定するために、当該蓋体２０に形成されている。蓋体２０は、例えば、熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂を用いた成形により製造され得る。蓋体２０の材料は、通常、枠体１６の材料と同じである。

次に、半導体モジュール１０の製造方法の一例について説明する。まず、図５に示したように、３本のバスバー１８及び４本の端子４４が一体的にインサートされた枠体１６を準備する。３本のバスバー１８の側壁３６における位置及びバスバー付の枠体１６の製造方法の例などは、図５を利用して説明した通りである。

一実施形態において、バスバー付きの枠体１６を準備する場合には、図７に示したように、バスバー１８の第３の領域３６ｃとリブ４８の下面４８ｂとの間に隙間が生じていてもよい。換言すれば、リブ４８の下側角部（下部開口１６ａ側の角部）において、第３の領域３６ｃは、下面４８ｂに全面が接触するよりも浅い角度で折り曲げられていてもよい。

続く工程において、図８に示すように、半導体チップ１２を搭載した配線基板１４を放熱板２２上に搭載する。その後、配線基板１４が搭載された放熱板２２を枠体１６に樹脂製接着剤を介して接合すると共に、放熱板２２を枠体１６に圧接する。これにより、３本のバスバー１８と、配線パターン２８（具体的に、ドレインパターンＧ１、ソースパターンＳ２及びドレインパターンＧ２）とが圧接される。その結果、それらが電気的に接続される。樹脂製接着剤が熱硬化樹脂である場合には、樹脂性接着剤を更に熱硬化させる。

その後の工程において、端子４４，４４と、ゲートパターンＧ１及びゲートパターンＧ２とをワイヤによって接続する等の所定の配線を行った後、蓋体２０を取り付けることによって、半導体モジュール１０が完成する。

以上説明した種々の実施形態の半導体モジュール１０及びその製造方法によれば、バスバー１８が枠体１６にインサート成形されているので、枠体１６とバスバー１８とが一体化している。そのため、バスバー１８が傾いたり倒れたりすることがないので、バスバー１８と配線パターン２８との電気的接触を形成する場合に、バスバー１８を固定する等の治具が不要である。従って、治具などを準備する手間が省けると共に、製造コストの低減を図り得る。

バスバー１８と配線パターン２８とをハンダといった接続部材を利用せずに、圧接によって接続していることから、バスバー１８の配線パターン２８への接続工程が容易である。更に、上記半導体モジュール１０及びその製造方法では、ハンダを利用する場合に必要なハンダペースト塗布やリフロー工程が不要である。従って、半導体モジュール１０の製造が容易である。

更に、電力用に使用される半導体モジュールでは、仮に、バスバーと配線パターンとをハンダを利用して接続していると、半導体モジュールを使用した時のヒートサイクルに起因してバスバーと配線パターンとの間のハンダ層に亀裂が入る場合がある。その結果、半導体モジュールの信頼性が低下する傾向にある。しかしながら、半導体モジュール１０では、バスバー１８と配線パターン２８とを圧接により接合しているので、ハンダを利用している場合に比べて信頼性が向上し得る。

樹脂製接着剤を利用して放熱板２２を枠体１６に接合する場合、樹脂製接着剤が硬化する際の樹脂収縮力によって、第３の領域３６ｃと配線パターン２８とがより強く圧接される。これにより、第３の領域３６ｃと配線パターン２８とが強固に接合され得る。樹脂製接着剤が熱硬化性樹脂である場合、熱硬化によって更に樹脂収縮力が高まるので、第３の領域３６ｃと配線パターン２８との接合力が高まる。

更に、図６を利用して説明した形態のように、第３の領域３６ｃにおける、配線パターン２８との対向面３６ｃ１が粗面である形態では、第３の領域３６ｃと、配線パターン２８とがずれにくいと共に、それらの接触面積が実質的に向上する。そのため、第３の領域３６ｃと配線パターン２８とがより確実に接合され得る。

図６を利用して説明した形態のように、配線パターン２８上に金属層５０が形成されている場合、金属層５０は配線パターン２８より柔らかいので、第３の領域３６ｃが金属層５０に食い込み易い。その結果、第３の領域３６ｃと配線パターン２８とがより強固に接合され得る。

図７に示したように、枠体１６にインサートされたバスバー１８の第３の領域３６ｃと下面４８ｂとの間に隙間がある形態では、枠体１６と放熱板２２とが接合された場合、第３の領域３６ｃは配線パターン２８によって、リブ４８と第３の領域３６ｃとの隙間をうめるように更に曲げられる。その反作用によって、第３の領域３６ｃが配線パターン２８を押圧する。そのため、第３の領域３６ｃと配線パターン２８とがより強固に接合され得る。

以上、本発明の種々の実施形態について説明したが、本発明は、これまで説明した実施形態に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。例えば、図９に示すように、放熱板２２と枠体１６との接合部において、ネジ孔５２を形成して、放熱板２２を枠体１６にネジ止めしてもよい。この形態では、第３の領域３６ｃと配線パターン２８とがネジ５４の締結力によっても圧接される。そのため、第３の領域３６ｃと配線パターン２８とがより強固に接合され得る。ネジ５４は、例えば、放熱板２２の表面から０．５ｍｍ程度入っていればよい。

図６では、対向面３６ｃ１が粗面である形態と、金属層５０を備える形態とを合わせて図示しているが、対向面３６ｃ１が粗面であっても金属層５０を備え無くてもよい。逆に、金属層５０が、第３の領域３６ｃと対向する配線パターン２８上に設けられていても、対向面３６ｃ１は平坦な面でもよい。

種々の実施形態では、バスバー１８の本数などを例示して説明したが、バスバー１８の数などは、例示した種々の実施形態の数に限定されない。搭載板として放熱板を例示したが、配線基板が搭載される板であればよい。

これまで例示した種々の実施形態が互いに組み合わされてもよい。

１０…半導体モジュール、１２…半導体チップ、１４…配線基板、１６…枠体、１６ａ…下部開口（第２の開口）、１６ｂ…上部開口（第１の開口）、１８…バスバー、２２…放熱板（搭載板）、２４…ケース、２６…絶縁基板、２８…配線パターン、３６…一側壁、３６ａ…第１の領域、３６ａ１…第１の端部、３６ａ２…第２の端部、３６ｂ…第２の領域、３６ｃ…第３の領域、３６ｃ１…対向面（配線パターンと対向する面）、４８…リブ（凸部）、４８ａ…先端、４８ｂ…下面（凸部の第２の開口側又は搭載板側の面）、５０…金属層、５２…ネジ。

Claims (9)

1. 半導体チップと、
   前記半導体チップが搭載される配線基板であって、前記半導体チップと電気的に接続される配線パターンが主面に形成された前記配線基板と、
   前記配線基板が搭載される搭載板と、
   前記搭載板と共に、前記配線基板を収容するケースを構成する枠体と、
   前記配線パターンに電気的に接続され前記ケースから引き出されるバスバーであって、前記枠体の一側壁にインサートされている前記バスバーと、
   を備え、
   前記一側壁は、前記枠体内に突出した凸部を有し、
   前記バスバーは、
   前記一側壁に埋設されており、前記一側壁のうち前記搭載板と反対側に位置する第１の端部と、前記凸部の先端に位置する第２の端部とを有する第１の領域と、
   前記第１の領域の前記第１の端部から前記枠体の外側に延びている第２の領域と、
   前記第１の領域の前記第２の端部から前記枠体の内側に延びている第３の領域と、
   を有し、
   前記第３の領域は、前記第２の端部の位置からみて前記配線基板側の前記凸部の形状に基づいて屈曲されており、
   前記配線基板が搭載された前記搭載板が前記枠体に取り付けられることによって、前記第３の領域と前記配線パターンとが圧接されている、
   半導体モジュール。
2. 前記搭載板は、樹脂製の接着剤によって前記枠体に取り付けられている、
   請求項１記載の半導体モジュール。
3. 前記搭載板は、前記枠体にネジ止めされている、
   請求項２記載の半導体モジュール。
4. 前記第３の領域のうちの前記配線パターンと対向する面が粗化されている、
   請求項１〜３の何れか一項記載の半導体モジュール。
5. 前記第３の領域と対向する前記配線パターン上に、金属層が形成されており、
   前記金属層の材料は、金、銀又は錫である、
   請求項１〜４の何れか一項記載の半導体モジュール。
6. 一側壁にバスバーがインサートされた枠体を準備する工程であって、
   前記枠体の一側壁は、前記枠体の内側に突出した凸部を有しており、
   前記バスバーは、
   前記一側壁に埋設されており、前記一側壁のうち前記枠体の第１の開口側に位置する第１の端部と、前記凸部の先端に位置する第２の端部とを有する第１の領域と、
   前記第１の領域の前記第１の端部から前記枠体の外側に延びている第２の領域と、
   前記第１の領域の前記第２の端部から前記枠体の内側に延びている第３の領域と、
   を有し、
   前記第３の領域は、前記第２の端部の位置からみて前記第１の開口と反対側に位置する第２の開口側の前記凸部の形状に基づいて屈曲されている、
   前記準備する工程と、
   半導体チップが搭載された配線基板が主面に搭載された搭載板を、準備された前記枠体の前記第２の開口に取り付けることによって、前記第３の領域と前記配線基板上の配線パターンとを圧接する工程と、
   を備える、半導体モジュールの製造方法。
7. 準備された前記枠体において、前記凸部の前記第２の開口側の面と前記第３の領域との間に隙間を有するように、前記第３の領域は屈曲されている、
   請求項６記載の半導体モジュールの製造方法。
8. 前記搭載板は、前記枠体に樹脂製の接着剤によって取り付けられている、
   請求項６又は７記載の半導体モジュールの製造方法。
9. 前記接着剤が熱硬化性樹脂である、請求項８記載の半導体モジュールの製造方法。

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