JP5970731B2 - 周期的なマイクロパターンを有する光学フィルタおよびこれを含む表示装置 - Google Patents

Description

本出願は、液晶配向膜、液晶配向膜の製造方法、光学フィルタおよび表示装置に関する。

立体映像表示装置（ｓｔｅｒｅｏｓｃｏｐｉｃ ｉｍａｇｅ ｄｉｓｐｌａｙ ｄｅｖｉｃｅ）は、３次元情報を観察者に伝達することができる表示装置である。

立体映像を表示する方式としては、例えば、眼鏡方式と無眼鏡方式とがある。前記眼鏡方式は、再び偏光眼鏡方式とＬＣシャッター眼鏡（ＬＣ ｓｈｕｔｔｅｒ ｇｌａｓｓ）方式とで分類され、無眼鏡方式は、両眼式／多視点両眼視差方式、体積型方式またはホログラフィック方式などで分類される。特許文献１（特開２００５−０４９８６５号公報）、特許文献２（韓国登録特許第０９６７８９９号公報）または特許文献３（韓国公開特許第２０１０−００８９７８２号公報）には、立体映像の表示過程において効率的に用いられる光学素子に関する内容が記述されている。
特開２００５−０４９８６５号公報 韓国登録特許第０９６７８９９号公報 韓国公開特許第２０１０−００８９７８２号公報

本出願は、液晶配向膜、液晶配向膜の製造方法、光学フィルタおよび表示装置を提供する。

本出願は、液晶配向膜に関する。例示的な液晶配向膜は、液晶配向能を有する表面と溝を含むことができる。本明細書において用語の液晶配向能を有する表面は、その表面に隣接する液晶層の配向を誘導することができる能力を有した表面を意味し、溝は、前記液晶配向能を有する表面に直接存在するか、または前記表面の上部または下部の所定領域に存在するものとする。一つの実施形態において、前記溝は、例えば、５〜３００μｍの範囲内の幅と０．５〜５μｍの範囲内の深さを有することができる。

例示的な液晶配向膜により、例えば、立体映像を輝度の損失なしに広い視野角に表示することができる。

例示的な液晶配向膜を示す図である。 例示的な液晶配向膜を示す図である。 例示的な液晶配向膜を示す図である。 例示的な液晶配向膜を示す図である。 例示的な液晶配向膜を示す図である。 例示的な液晶配向膜を示す図である。 例示的な液晶配向膜の製造方法を示す図である。 例示的な光学フィルタを示す図である。 例示的な表示装置を示す図である。 ＬＳ領域、ＲＳ領域およびＴＣ１領域の例示的な配置を示す図である。 ＬＳ領域、ＲＳ領域およびＴＣ１領域の例示的な配置を示す図である。 ＬＳ領域、ＲＳ領域およびＴＣ１領域の例示的な配置を示す図である。 ＬＳ領域、ＲＳ領域およびＴＣ１領域の例示的な配置を示す図である。 ＬＧ領域、ＲＧ領域およびＴＣ２領域の例示的な配置を示す図である。 ＬＧ領域、ＲＧ領域およびＴＣ２領域の例示的な配置を示す図である。 ＬＧ領域、ＲＧ領域およびＴＣ２領域の例示的な配置を示す図である。 ＬＧ領域、ＲＧ領域およびＴＣ２領域の例示的な配置を示す図である。 例示的な表示装置を示す図である。 表示装置において視野角形成を示す模式図である。 実施例１〜２のＦＰＲの相対輝度結果グラフである。 比較例１（ａ）および実施例１（ｂ）のＦＰＲを示す図である。

図１から図３は、例示的な液晶配向膜１を示す図である。一つの実施形態において、液晶配向膜は、図１に示すように、液晶配向能を有する表面１０１に溝１０２が直接的に形成される構造とすることができる。他の一つの実施形態において、液晶配向膜は、図２に示すように、溝１０２が形成されている下部層１０３の表面に液晶配向層１０４が形成されている構造とすることができ、この場合に、前記下部層１０３は液晶配向層１０４が形成されない他の一面に基材層１０５をさらに含むことができる。他の一つの実施形態において、液晶配向膜は、さらに図３に示すように、基材層をさらに含むことができ、この場合に溝１０２が形成されている基材層１０５の表面に液晶配向層１０４が直接的に形成されている構造とすることができる。

液晶配向能を有する表面は、この分野で公知されている通常の配向層を介して形成することができる。配向層としては、例えば、直線偏光された光の照射により誘導されるシス−トランス異性化（ｃｉｓ−ｔｒａｎｓ ｉｓｏｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）、フリース転位（ｆｒｉｅｓ ｒｅａｒｒａｎｇｅｍｅｎｔ）、または二量化（ｄｉｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）反応によって配向が決定され、決定された配向により隣接する液晶層に配向を誘導することができる光配向層、ラビング処理されたポリイミド層のような高分子層、ナノインプリンティング方式などのインプリンティング方式に形成された配向層のように、複数の溝領域がパターニングされている配向層などが例示される。

一つの実施形態において、前記配向層は光配向層とすることができる。光配向層は、例えば、光配向性化合物を用いて形成することができる。光配向性化合物は、光の照射、例えば、直線偏光された光の照射により所定方向に整列し、隣接する液晶化合物の配向を誘導する化合物を意味する。

光配向性化合物は、例えば、光感応性残基（ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ ｍｏｉｅｔｙ）を含む化合物とすることができる。液晶化合物の配向に用いられる光配向性化合物は多様に公知されている。光配向性化合物としては、例えば、トランス−シス光異性化（ｔｒａｎｓ−ｃｉｓ ｐｈｏｔｏｉｓｏｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）により整列される化合物；鎖切断（ｃｈａｉｎ ｓｃｉｓｓｉｏｎ）または光酸化（ｐｈｏｔｏ−ｏｘｉｄａｔｉｏｎ）などのような光分解（ｐｈｏｔｏ−ｄｅｓｔｒｕｃｔｉｏｎ）により整列される化合物；［２＋２］付加環化（［２＋２］ｃｙｃｌｏａｄｄｉｔｉｏｎ）、［４＋４］付加環化または光二量化（ｐｈｏｔｏｄｉｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）などのような光架橋または光重合によって整列される化合物；光フリース転位（ｐｈｏｔｏ−Ｆｒｉｅｓ ｒｅａｒｒａｎｇｅｍｅｎｔ）によって整列される化合物または開環／閉環（ｒｉｎｇ ｏｐｅｎｉｎｇ／ｃｌｏｓｕｒｅ）反応によって整列される化合物などが用いられる。トランス−シス光異性化によって整列される化合物としては、例えば、スルホン化ジアゾ染料（ｓｕｌｆｏｎａｔｅｄ ｄｉａｚｏ ｄｙｅ）またはアゾ高分子（ａｚｏ ｐｏｌｙｍｅｒ）などのアゾ化合物やスチルベン化合物（ｓｔｉｌｂｅｎｅｓ）などが例示され、光分解によって整列される化合物としては、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物（ｃｙｃｌｏｂｕｔａｎｅ−１、２、３、４−ｔｅｔｒａｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ）、芳香族ポリシランまたはポリエステル、ポリスチレンまたはポリイミドなどが例示される。また、光架橋または光重合によって整列される化合物としては、シンナマート（ｃｉｎｎａｍａｔｅ）化合物、クマリン（ｃｏｕｍａｒｉｎ）化合物、シンナムアミド （ｃｉｎｎａｍａｍｉｄｅ）化合物、テトラヒドロフタルイミド（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｐｈｔｈａｌｉｍｉｄｅ）化合物、マレイミド（ｍａｌｅｉｍｉｄｅ）化合物、ベンゾフェノン化合物またはジフェニルアセチレン（ｄｉｐｈｅｎｙｌａｃｅｔｙｌｅｎｅ）化合物や光感応性残基としてカルコニル（ｃｈａｌｃｏｎｙｌ）残基を有する化合物（以下、カルコン化合物）またはアントラセニル（ａｎｔｈｒａｃｅｎｙｌ）残基を有する化合物（以下、アントラセニル化合物）などが例示され、光フリース転位によって整列される化合物としては、ベンゾエート（ｂｅｎｚｏａｔｅ）化合物、ベンゾアミド（ｂｅｎｚｏａｍｉｄｅ）化合物、メタクリルアミドアリール（メタ）クリレート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｍｉｄｏａｒｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）化合物などの芳香族化合物が例示され、開環／閉環反応によって整列される化合物としては、スピロピラン化合物などのように［４＋２］π−電子システム（［４＋２］π−ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）の開環／閉環反応によって整列される化合物などが例示されるが、これに制限されない。

光配向性化合物は、例えば、単分子化合物、単量体性化合物、オリゴマー性化合物または高分子性化合物であるか、または前記光配向性化合物と高分子のブランド（ｂｌｅｎｄ）形態とすることができる。前記においてオリゴマー性または高分子性化合物は、前述の光配向性化合物から誘導された残基または前述の光感応性残基を主鎖内または測鎖に有することができる。

光配向性化合物から誘導された残基または光感応性残基を有するか、または前記光配向性化合物と混合することができる高分子としては、例えば、ポリノルボルネン、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアクリレート、ポリ（メタ）アクリレート、ポリイミド、ポリアミド酸（ｐｏｌｙ（ａｍｉｃ ａｃｉｄ））、ポリマレイミド、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリビニルエーテル、ポリビニルエステル、ポリスチレン、ポリシロキサン、ポリアクリロニトリルまたはポリメタアクリロニトリルなどが例示されるが、これに制限されない。

光配向性化合物に含まれる高分子としては、代表的に、ポリノルボルネンシンナマート、ポリノルボルネンアルコキシシンナマート、ポリノルボルネンアリロイルオキシシンナマート、ポリノルボルネンフッ素化シンナマート、ポリノルボルネン塩素化シンナマートまたはポリノルボルネンジシンナマートなどが例示されるが、これに制限されない。

光配向性化合物が高分子性化合物の場合に前記化合物は、例えば、約１００００〜５０００００ｇ／ｍｏｌ程度の数平均分子量を有することができるが、これに制限されない。

前記のような光配向性化合物を用いて光配向層を形成する方法には特に制限がなく、この分野において公知された方式が用いられる。

一つの実施形態において、液晶配向膜は基材層をさらに含むことができ、液晶配向能を有する表面が前記基材層形状に形成されてもよい。図２および図３は、基材層を含む液晶配向膜を例示的に示す図である。前述のように、基材層は、図２に示すように、基材層１０５上に溝１０２が形成された下部層１０３および液晶配向層１０４が順に形成されている構造であるか、または図３に示すように、基材層１０５に直接溝１０２が形成され、その上部に液晶配向層１０４が存在する構造とすることができる。

前記基材層としては、例えば、光学素子の製造に通常的に用いられるガラス基材またはプラスチック基材が用いられる。プラスチック基材としては、ＴＡＣ（ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）またはＤＡＣ（ｄｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）のようなセルロース基材；ノルボルネン誘導体などのような環状オレフィン樹脂（ＣＯＰ；ｃｙｃｌｏ ｏｌｅｆｉｎ ｐｏｌｙｍｅｒ）基材；ＰＭＭＡ（ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ））などのようなアクリル基材；ポリカーボネート（ＰＣ、ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）基材；ＰＥ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）またはＰＰ（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）などのようなポリオレフィン基材；ポリビニルアルコール（ＰＶＡ、ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）基材；ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ、ｐｏｌｙ ｅｔｈｅｒ ｓｕｌｆｏｎｅ）基材；ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ、ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎ）基材；ポリエーテルイミド（ＰＥＩ、ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）基材；ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｎａｐｈｔｈａｔｌａｔｅ）基材；ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ）などのようなポリエステル基材；ポリイミド（ＰＩ、ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）基材；ポリスルホン（ＰＳＦ、ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ）基材；または非晶質フッ素樹脂などのようなフッ素樹脂基材などが例示される。一つの実施形態においては、ＴＡＣ基材などのようなセルロース基材が用いられる。

プラスチック基材層は、例えば、後述する液晶層に比べて低い屈折率を有することができる。例示的な基材層の屈折率は、約１．３３〜約１．５３の範囲である。基材層が液晶層に比べて低い屈折率を有すると、例えば、輝度向上、反射防止およびコントラスト特性向上などに有利である。また、プラスチック基材層は、例えば、光学的に等方性であるか、あるいは異方性とすることができる。

一つの実施形態において、基材層は、紫外線遮断剤または紫外線吸収剤をさらに含むことができる。紫外線遮断剤または吸収剤を基材層に含ませると、紫外線による液晶層の劣化などを防止することができる。紫外線遮断剤または吸収剤としては、サリチル酸エステル（ｓａｌｉｃｙｌｉｃ ａｃｉｄ ｅｓｔｅｒ）化合物、ベンゾフェノン（ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）化合物、オキシベンゾフェノン（ｏｘｙｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）化合物、ベンゾトリアゾル（ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌ）化合物、シアノアクリレート（ｃｙａｎｏａｃｒｙｌａｔｅ）化合物またはベンゾエート（ｂｅｎｚｏａｔｅ）化合物などのような有機物または酸化亜鉛（ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）またはニッケル錯塩（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｍｐｌｅｘ ｓａｌｔ）などのような無機物が例示される。基材層内の紫外線遮断剤または吸収剤の含量は特に制限せず、目的効果を考慮して適切に選択すればよい。例えば、プラスチック基材層の製造過程において前記紫外線遮断剤または吸収剤を、基材層の主材料に対する重量の割合で約０．１〜２５重量％程度に含ませることができる。

基材層は、例えば、単層構造または多層構造とすることができるが、より薄い厚さの素子を提供する側面から単層構造を選択することができる。基材層の厚さは特に制限することなく、目的とする用途に応じて適切に調節することができる。

一つの実施形態において、液晶配向膜に含まれる溝は、例えば、図２に示すように、幅（Ｗ）および深さ（Ｄ）を有することができる。液晶配向膜に含まれる溝は、例えば、５〜３００μｍ、５０〜２５０μｍまたは１００〜２００μｍの範囲内の幅と０．５〜５μｍ、１〜４．５μｍ、１．５〜４．０μｍ、２．０〜３．５μｍまたは２．５〜３．０μｍの範囲内の深さを有する溝を含むことができる。液晶配向膜において溝幅および深さが前記範囲を満たす場合、液晶配向膜が後述する光学フィルタに含まれて表示装置に使用されて、表示装置の輝度を向上することができる。

一つの実施形態において、液晶配向膜は２つ以上の溝を含み、前記溝は同一方向に延びるストライプ形状を有しながら離隔されて配置されてもよい。他の一つの実施形態において、前記溝は格子パターンに互いに隣接して相互に配置されてもよい。しかしながら、溝の配置はこれに制限せず、他の多様なデザインが適用されてもよい。

一つの実施形態において、液晶配向膜に含まれる溝は、例えば、図２に示すように、離隔されて配置されている溝との間のピッチＰ値を有することができる。液晶配向膜に含まれる溝は、例えば、離隔されて配置されている溝との間のピッチが３次元ディスプレイ画素の上下高さである５０〜１０００μｍ範囲内にあってもよい。液晶配向膜において溝のピッチが前記範囲を満たし、液晶配向膜が後述する光学フィルタに含まれて表示装置に使用された場合、表示装置の輝度を向上することができる。

一つの実施形態において、液晶配向膜の溝には、光遮断物質、光反射物質または光散乱物質が充填されてもよい。例えば、液晶配向膜の溝には、前記言及した物質の一種または二種以上が混合した状態または相互間に区別されて層をなした状態で含まれてもよい。

図４〜６は、溝が形成された下部層１０３の表面に液晶配向層１０４が存在する液晶配向膜において、溝に前記物質が充填された場合を例示的に示す図である。図４は、液晶配向膜の溝に光遮断物質１０６が充填された場合を例示的に示しており、図５は、液晶配向膜の溝に光遮断物質１０６と異なる機能性物質、例えば、光反射物質１０７が充填された場合を例示的に示しており、図６は、液晶配向膜の溝に光反射物質１０７が充填された場合を例示的に示した図である。

光遮断物質、光反射物質または光散乱物質としては、その種類に特に制限がなく、公知の素材が用いられる。光遮断物質としては、例えば、特別な制限がなく、公知の光遮断性または光吸収性インクが用いられる。このようなインクの例としては、カーボンブラック（ｃａｒｂｏｎ ｂｌａｃｋ）インク、黒煙または酸化鉄などのような無機顔料や、アゾ系顔料またはフタロシアニン系顔料などのブラック有機顔料インク（Ｂｌａｃｋ ｐｉｇｍｅｎｔ ｉｎｋ）を含むインクを有することができ、光反射物質としては、例えば、金属性インクや、コレステリック液晶物質、複屈折性物質などが用いられ、光散乱物質としては、例えば、シリカ粒子またはナノ粒子が用いられる。前記光遮断、光反射または光散乱物質は、単独に溝に充填されるか、または適切なバインダー（ｂｉｎｄｅｒ）、および／または溶剤（ｓｏｌｖｅｎｔ）と配合されて溝に充填される。例えば、液晶配向膜が後述する光学フィルタに適用される場合、前記顔料の配合量や種類を調節し、溝領域の光透過率を調節することができる。

一つの実施形態において、液晶配向膜は、表面に５〜３００μｍ範囲内の幅と０．５〜５μｍ範囲内の深さを有する溝が形成されている第１層と、該第１層の表面上に形成されている液晶配向層とを含むことができる。第１層は、例えば、図２に示すように、下部層１０３および基材層１０５を含むものとし、または図３に示すように、基材層１０５のみを含むものとする。

第１層の基材層としては、例えば、前記基材層の項目において記述したガラスまたはプラスチック基材層を同じく適用して用いることができ、第１層の下部層としては、特に制限はないが、例えば、公知の樹脂層を選択して用いられる。前記樹脂層は、例えば、常温硬化型、湿気硬化型、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化された状態で含むことができる。一つの実施形態においては、前記樹脂層は、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化された状態で含むことができる。高硬度層の説明において「硬化された状態」とは、前記各樹脂組成物に含まれた成分が架橋反応または重合反応などを経て樹脂組成物がハード（ｈａｒｄ）な状態に転換された場合を意味する。また、前記において常温硬化型、湿気硬化型、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、前記硬化状態が常温下で誘導されるか、あるいは適切な湿気の存在下、熱の印加または活性エネルギー線の照射により誘導した組成物を意味する。

第１層は、例えば、溝に、光遮断物質、光反射物質または光散乱物質が充填されている状態において、表面の最大高さ粗さ（ｍａｘｉｍｕｍ ｈｅｉｇｈｔ ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）が１μｍ以下、０．８μｍ以下、０．６μｍ以下、０．４μｍ以下，または０．２μｍ以下とすることができる。前記最大高さ粗さは、カットオフ（ｃｕｔ ｏｆｆ）内の粗さ曲線で中心線と平行でありながら、前記粗さ曲線の最高点を通る直線と最低点を通る直線間の距離を意味し、例えば、第１層上において１００μｍ^２の面積を有する任意の領域に対して測定した値とすることができる。液晶配向膜の第１層が前記表面の最大高さ粗さの範囲を満たす場合、光遮断物質などが充填された溝の領域と充填されない領域との段差を減少させることができるので、液晶配向膜に偏光板を付着する場合に膨れ現象が発生しなく、後述する光学フィルタ用一体型偏光板の製造に有用に用いられる。

本出願は、さらに前記液晶配向膜の製造方法に関する。

一つの実施形態において、前記液晶配向膜は、５〜３００μｍの範囲内の幅と０．５〜５μｍの範囲内の深さを有する溝を含む層の表面に、液晶配向能を付与することを含む方法により製造される。

一つの実施形態において、溝を含む層の表面への液晶配向能の付与は、例えば、表面に溝が形成された第１層を形成し、前記溝が形成された第１層の表面に液晶配向層を形成する方法により行うことができる。図７は、例示的な液晶配向膜の製造方法を示す。図７を参照すると、液晶配向膜は、（ａ）段階のように、基材層１０５上に溝が形成された下部層１０３、例えばトレンチフィルムを形成し、（ｂ）段階のように、溝に光遮断物質１０６または光遮断物質１０６と光反射物質１０７を充填し、（ｃ）段階のように、液晶配向層１０４を形成することで製造される。また、後述のように、液晶配向膜が光学フィルタに適用される場合、前記（ａ）、（ｂ）および（ｃ）に、（ｄ）段階が追加されて液晶配向層１０４上に位相遅延特性が相違する、第１領域２０１および第２領域２０２を含む液晶層を形成することで、光学フィルタを製造することができる。

前記第１層への溝の形成は、例えば、下部層に凹凸面を形成する方式により行うことができる。下部層に凹凸面を形成する方式には特に制限がなく、例えば、下部層を形成する樹脂組成物のコーティング層を、目的とする凹凸構造を有する金型と接触させた状態で樹脂組成物を硬化させて、凹凸構造を実現することができる。他の一つの実施形態において、第１層への溝の形成は、例えば、基材層に凹凸面を形成する方式により行うことができ、前記基材層の凹凸面は、例えばプリンティング方式やレーザ加工などの方式により形成される。

前記第１層の表面への、液晶配向層の形成は、例えば、第１層にポリイミドなどの高分子膜を形成し、ラビング処理する方式か、または光配向性化合物をコーティングし、直線偏光の照射などを介して配向処理する方式またはナノインプリンティング方式などのようなインプリンティング方式で行うことができる。

他の一つの実施形態において、溝を含む層の表面への、液晶配向能の付与は、液晶配向層を形成した後に、液晶配向層の表面に溝を形成する方式で行うことができる。前記溝は、例えば、プリンティング方式やレーザ加工などの方式で形成することができる。

一つの実施形態において、液晶配向能の付与は、液晶配向膜が互いに相違する配向能を有する第１配向領域および第２配向領域を含むように行うことができる。一つの実施形態において、液晶配向膜は、前記第１配向領域および第２配向領域が互いに共通方向に延びるストライプ形状を有しながら互いに隣接して相互に配置されるように製造されることができる。一つの実施形態において、液晶配向膜は、前記液晶配向層の下部に存在する溝が液晶配向膜表面の法線方向から観察したときに前記第１配向領域および第２配向領域の境界で前記第１配向領域および第２配向領域と重なるように製造される。

また、前記液晶配向膜の製造方法は、液晶配向層を形成する前に、光遮断物質、光反射物質または光散乱物質を溝に充填することをさらに含むことができる。前記光遮断物質、光反射物質または光散乱物質を溝に充填する方式には、特に制限がなく、例えば、スクリーン印刷またはグラビア印刷などの印刷方式や、インクジェット方式による選択的なゼッティング方式が用いられる。

本出願は、さらに光学フィルタに関する。例示的な光学フィルタは、液晶配向膜および液晶層を含むことができ、液晶層は液晶配向膜の上部に存在することができる。液晶配向膜に関する内容は、本出願の例示的な液晶配向膜に対し、前述の内容が同じく適用され、液晶層は、例えば、互いに位相遅延特性が相違する第１および第２領域を有することができる。

光学フィルタは、例えば、入射する光を互いに偏光状態が相違する２種以上の光で分割する素子とすることができる。このような素子は、例えば、立体映像を実現するために用いられる。

前記液晶層は、互いに位相遅延特性が相違する第１および第２領域を有することができる。本明細書において「第１領域と第２領域の位相遅延特性が互いに相違するということ」は、例えば、第１および第２領域がすべて位相遅延特性を有する領域の状態において前記第１および第２領域が互いに同一であるか、または相違する方向に形成されている光軸を有し、さらに位相遅延値も互いに相違する領域の場合および互いに同一位相遅延値を有しながら相違する方向に形成されている光軸を有する場合が含まれる。

他の一つの実施形態において、「第１および第２領域の位相遅延特性が相違するということ」は、第１および第２領域のいずれか１つの領域は位相遅延特性を有する領域であり、他の領域は位相遅延特性がない光学的に等方性である領域の場合も含まれる。このような場合の例としては、前記液晶層が形成されている領域と形成されない領域をすべて含む形態を有することができる。第１または第２領域の位相遅延特性は、例えば、液晶化合物の配向状態、液晶層の屈折率関係または液晶層の厚さを調節して制御することができる。

一つの実施形態において、液晶配向膜は、２つ以上の溝を含み、該２つ以上の溝は、前記第１領域と第２領域が互いに共通される方向に延びるストライプ形状を有しながら離隔されて配置されていることができる。この場合に、液晶層の第１および第２領域も互いに共通方向に延びるストライプ形状を有しながら互いに隣接して相互に配置されていて、前記溝は液晶配向膜表面の法線方向から観察するときに前記第１および第２領域の境界で前記第１および第２領域と重なるように配置されてもよい。図８は、液晶配向膜において、液晶配向能を有する表面１０１に形成された溝１０２が第１領域２０１および第２領域２０２と重なるように配置されている、例示的な光学フィルタを示す図である。
他の一つの実施形態において、前記第１領域と第２領域は、格子パターンに互いに隣接して相互に配置されてもよい。この場合には、第１および第２領域も格子パターンに互いに隣接して相互に配置されていて、前記溝は液晶配向膜表面の法線方向から観察するときに前記第１および第２領域の境界で前記第１または第２領域と重なるように配置されてもよい。

一つの実施形態において、光学フィルタが立体映像を表示する装置に使用される場合、前記第１および第２領域のいずれか１つの領域は左眼用映像信号偏光調節領域（以下、「ＬＧ領域」と称する）であり、他の１つの領域は、右眼用映像信号偏光調節領域（以下、「ＲＧ領域」と称する）とすることができる。他の一つの実施形態において、光学フィルタが立体映像を表示する装置に使用される場合、光遮断物質などが充填された溝領域は光透過量調節領域（以下、「ＴＣ領域」と称する）とすることができる。

一つの実施形態において、前記第１および第２領域を含む液晶層により分割される、互いに異なる偏光状態を有する２種以上の光は、実質的に互いに直交した方向を有する直線偏光された２種の光を含むか、または左円偏光された光および右円偏光された光を含むことができる。

本明細書において角度を定義しながら、垂直、水平、直交または平行などの用語を使用する場合、特に他に規定しない限り、上記のそれぞれは、実質的な垂直、水平、直交、または平行を意味することで、例えば、製造誤差（ｅｒｒｏｒ）または偏差（ｖａｒｉａｔｉｏｎ）などを勘案した誤差を含むものである。よって、例えば、上記のそれぞれの場合、約±１５度以内の誤差、約±１０度以内の誤差、または約±５度以内の誤差を含むことができる。

他の一つの実施形態において、前記第１および第２領域のいずれか１つの領域は、入射光の偏光軸を回転させず、そのまま透過させる領域であり、他の領域は、入射光の偏光軸を、他の領域を透過した光の偏光軸に対して直交する方向に回転させて透過させる領域とすることができる。このような場合には、前記液晶層で重合性液晶化合物を含む領域は、第１および第２領域のいずれか１つの領域にだけ形成されてもよい。前記において液晶層が形成されない領域は、空の空間や、ガラスまたは光学的等方性である樹脂層または樹脂フィルムまたはシートが形成されてもよい。

他の一つの実施形態において、第１および第２領域のいずれか１つの領域は、入射光を左円偏光された光に変換して透過させる領域であり、他の領域は、入射光を右円偏光された光に変換して透過させる領域とすることができる。この場合、前記第１および第２領域は、互いに同一の位相遅延値を示しながら互いに相違する方向に形成された光軸を有する領域であるか、または１つの領域は、入射される光をその波長の１／４波長ほど遅延させることができる領域であり、他の１つの領域は入射される光をその波長の３／４波長ほど位相遅延させることができる領域とすることができる。

適切な例示として、前記第１および第２領域は、互いに同一の位相遅延値、例えば入射される光をその波長の１／４波長ほど位相遅延させることができる値を有し、さらに互いに相違する方向に形成されている光軸を有する領域とすることができる。前記において互いに相違する方向に形成されている光軸がなす角度は、例えば約９０度とすることができる。

液晶層は、例えば、面内遅相軸方向の屈折率と面内進相軸方向の屈折率との差が０．０５〜０．２、０．０７〜０．２、０．０９〜０．２または０．１〜０．２の範囲とすることができる。前記において、面内遅相軸方向の屈折率は、液晶層の平面において最も高い屈折率を示す方向の屈折率を意味し、進相軸方向の屈折率は、液晶層の平面上において最も低い屈折率を示す方向の屈折率を意味する。通常に光学異方性の液晶層で進相軸と遅相軸は互いに直交する方向に形成される。上記のそれぞれの屈折率は、５５０ｎｍまたは５８９ｎｍの波長の光に対して測定した屈折率とすることができる。前記液晶層は、さらに、厚さが約０．５〜２．０μｍまたは約０．５〜１．５μｍとすることができる。前記屈折率の関係と厚さを有する液晶層は、適用される用途に適合する位相遅延特性を実現することができる。前記屈折率の関係と厚さを有する液晶層は、光分割用光学フィルタに適合する。

液晶層は、例えば、光架橋性または光重合性液晶化合物の光架橋層または光重合層とすることができる。この分野では前記のような特性を示す多様な液晶化合物が公知されていて、その例としては、マルク（Ｍｅｒｋ）社のＲＭ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｍｅｓｏｇｅｎ）またはＢＡＳＦ社のＬＧ２４２などがあげられる。

液晶層は、例えば、多官能性重合性液晶化合物と単官能性重合性液晶化合物を含むことができる。前記重合性液晶化合物は、重合された形態で液晶層に含まれてもよい。

用語の「多官能性重合性液晶化合物」は、メソゲン（ｍｅｓｏｇｅｎ）骨格などを含んで液晶性を示し、さらに重合性官能基を２つ以上含む化合物を意味する。一つの実施形態において、前記多官能性重合性液晶化合物は重合性官能基を２〜１０個、２〜８個、２〜６個、２〜５個、２〜４個、２〜３個または２つ含むことができる。

また、用語の「単官能性重合性液晶化合物」は、メソゲン骨格などを含んで液晶性を示し、さらに１つの重合性官能基を含む化合物を意味する。

また、本明細書において「液晶層に重合された形態で含まれている液晶化合物」は前記液晶化合物が重合されて液晶層内で液晶高分子を形成している状態を意味する。

液晶層が多官能性および単官能性重合性化合物を含むことで、液晶層により優れた位相遅延特性を付与することができ、実現された位相遅延特性、例えば、液晶層の光軸および位相遅延値などが苛酷条件下でも安定的に維持されることができる。

一つの実施形態において、前記重合性液晶化合物は、下記化学式１に示す化合物とすることができる。

前記化学式１において、Ａは、単一結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ_１〜Ｒ_１０は、それぞれ独立的に水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、−Ｏ−Ｑ−Ｐ−または下記化学式２の置換基であるか、Ｒ_１〜Ｒ_５のうちの隣接する２つの置換基またはＲ_６〜Ｒ_１０のうちの隣接する２つの置換基は、互いに連結されて−Ｏ−Ｑ−Ｐ−に置換されたベンゼンを形成し、Ｒ_１〜Ｒ_１０のうちの少なくとも１つは、−Ｏ−Ｑ−Ｐ−または下記化学式２の置換基であるか、Ｒ_１〜Ｒ_５のうちの隣接する２つの置換基またはＲ_６〜Ｒ_１０のうちの隣接する２つの置換基の少なくとも一対は互いに連結されて−Ｏ−Ｑ−Ｐ−に置換されたベンゼンを形成し、前記において、Ｑはアルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｐは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの重合性官能基である。

前記化学式２において、Ｂは、単一結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−Ｒ_１１〜Ｒ_１５は、それぞれ独立的に、水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、または−Ｏ−Ｑ−Ｐ−であるか、Ｒ_１〜Ｒ_５のうちの隣接する２つの置換基またはＲ_６〜Ｒ_１０のうちの隣接する２つの置換基は、互いに連結されて−Ｏ−Ｑ−Ｐ−に置換されたベンゼンを形成し、Ｒ_１１〜Ｒ_１５のうちの少なくとも１つは−Ｏ−Ｑ−Ｐ−であるか、Ｒ_１１〜Ｒ_１５のうちの隣接する２つの置換基の対は互いに連結されて−Ｏ−Ｑ−Ｐ−に置換されたベンゼンを形成し、前記において、Ｑは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｐは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの重合性官能基である。

前記化学式１および２において、隣接する２つの置換基が互いに連結されて−Ｏ−Ｑ−Ｐ−に置換されたベンゼンを形成するということは、隣接する２つの置換基が互いに連結されて全体的に−Ｏ−Ｑ−Ｐ−に置換されたナフタリン骨格を形成することを意味する。

前記化学式２において、Ｂの左側の「−」は、Ｂが化学式１のベンゼンに直接連結されることを意味する。

前記化学式１および２において、用語の「単一結合」は、ＡまたはＢで表示される部分に別途の原子が存在しない場合を意味する。例えば、化学式１において、Ａが単一結合の場合、Ａの両側のベンゼンが直接連結されてビフェニル（ｂｉｐｈｅｎｙｌ）構造を形成することができる。

前記化学式１および２において、ハロゲンとしては、例えば、塩素、ブロームまたはヨードなどが例示される。

前記化学式１および２において、用語の「アルキル基」は、炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８または炭素数１〜４の直鎖または分枝鎖アルキル基または炭素数３〜２０、炭素数３〜１６または炭素数４〜１２のシクロアルキル基を意味する。前記アルキル基は、任意的に１つ以上の置換基により置換されることができる。

本明細書において、用語の「アルコキシ基」は、特に他に規定しない限り、例えば、炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８または炭素数１〜４のアルコキシ基を意味する。前記アルコキシ基は、例えば、直鎖、分枝鎖または環状とすることができる。また、前記アルコキシ基は、任意的に１つ以上の置換基により置換されることができる。

また、本明細書において、用語の「アルキレン基」または「アルキリデン基」は、特に他に規定しない限り、炭素数１〜１２、炭素数４〜１０または炭素数６〜９のアルキレン基またはアルキリデン基を意味する。前記アルキレン基またはアルキリデン基は、例えば、直鎖、分枝鎖または環状とすることができる。また、前記アルキレン基またはアルキリデン基は、任意的に１つ以上の置換基により置換されることができる。

また、本明細書において「アルケニル基」は、特に他に規定しない限り、炭素数２〜２０、炭素数２〜１６、炭素数２〜１２、炭素数２〜８または炭素数２〜４のアルケニル基を意味する。前記アルケニル基は、直鎖、分枝鎖または環状とすることができる。また、前記アルケニル基は、任意的に１つ以上の置換基により置換されることができる。

また、前記化学式１および２において、Ｐは、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、またはメタクリロイルオキシ基であるか、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であるか、またはアクリロイルオキシ基とすることができる。

液晶層は、例えば、単官能性重合性液晶化合物を、多官能性重合性液晶化合物を１００重量部に対し、０重量部超過１００重量部以下、１〜９０重量部、１〜８０重量部、１〜７０重量部、１〜６０重量部、１〜５０重量部、１〜３０重量部または１〜２０重量部に含むことができる。

前記範囲内において、多官能性および単官能性重合性液晶化合物の混合効果を極大化することができ、さらに、前記液晶層が前記接着剤層と優れた接着性を示すようにすることができる。本明細書において、特に他に規定しない限り、単位重量部は重量の割合を意味する。

前記多官能性および単官能性重合性液晶化合物は、水平配向された状態で液晶層に含まれてもよい。本明細書において、用語の「水平配向」は、重合された液晶化合物を含む液晶層の光軸が液晶層の平面に対し、約０〜２５度、約０〜１５度、約０〜１０度、約０〜５度または約０度の傾斜角度を有する場合を意味する。本明細書において、用語の「光軸」は、入射光が該当領域を透過するときの進相軸または遅相軸を意味する。

一つの実施形態において、光学フィルタは、液晶層の上部に形成された偏光層をさらに含むことができる。偏光層は、透過軸および該透過軸に直交する吸収軸が形成されている光学素子であり、光が入射されるとその中の透過軸方向と平行な偏光軸を有する信号のみを透過させることができる。例示的な液晶配向膜は、溝に光遮断物質などが充填されるため、光遮断領域と光遮断領域ではない領域との間の段差を低減することができるので、前記のように、光学フィルタと偏光板とが付着した光学フィルタ用一体型偏光板の製造時にも膨れ現象が発生しない。一つの実施形態において、前記偏光層の透過軸は、第１領域と第２領域の光軸がなす角度を二等分した線と直交するように配置することができ、例えば、前記偏光層の透過軸は、第１領域の光軸と４５度をなし、第２領域の光軸とは−４５度をなすことができる。

本出願は、さらに表示装置に関する。例示的な表示装置は、前記光学フィルタを含むことができる。光学フィルタに関する内容は、本出願の例示的な光学フィルタに対して前述の内容が等しく適用される。一つの実施形態において、表示装置は、立体映像表示装置（以下、「３Ｄ装置」）とすることができる。表示装置は、例えば、表示部をさらに含むことができ、この場合に表示部から出射した信号が光学フィルタを透過した後に観察者に伝達されるように配置される。

表示部は、駆動状態で、右眼用信号（以下、「Ｒ信号」）を生成することができる右眼用信号生成領域（以下、「ＲＳ領域」）と左眼用信号（以下、「Ｌ信号」）を生成することができる左眼用信号生成領域（以下、「ＬＳ領域」）を含むことができる。用語の「駆動状態」は、表示装置、例えば３Ｄ装置が映像、例えば、立体映像を表示している状態を意味する。

表示部は、さらにＲＳおよびＬＳ領域に隣接する光透過量調節領域（以下、「ＴＣ領域」）を含むことができる。本明細書において、説明の便宜上、表示部に含まれるＴＣ領域はＴＣ１領域と称し、光学フィルタに含まれるＴＣ領域はＴＣ２領域と称する。本明細書において、用語の「ＴＣ領域」は、その領域に入射される光を遮断するか、またはその領域に入射される光のうちの一部の光のみを透過させるように形成された領域を意味する。一つの実施形態において、ＴＣ領域は、入射される光の透過率、すなわち光透過率が０〜２０％、０〜１５％、０〜１０％または０〜５％である領域を意味する。

また、前記において、ＴＣ１領域がＲＳおよびＬＳ領域に隣接するということは、視野角範囲内に属する少なくともいずれか１つの角度において映像を観察したときに、ＲＳおよび／またはＬＳ領域から生成されたＲ信号および／またはＬ信号が光学フィルタに伝達される過程において、Ｒおよび／またはＬ信号の少なくとも一部がＴＣ１領域に入射されることで、ＴＣ１領域に入射した信号がＴＣ１領域によって遮断されるか、またはＴＣ領域に入射した信号の一部だけがＴＣ１領域を透過して光学フィルタに伝達されるようにする位置に、ＴＣ１領域が存在することを意味する。

本明細書において、用語の「視野角」は、例えば、ＬＳ領域から生成されたＬ信号が光学フィルタの左眼用信号偏光調節領域（以下、「ＬＧ領域」）を透過し、さらに右眼用信号偏光調節領域（以下、「ＲＧ領域」）は透過せずに観察者に伝達することができる角度の範囲、またはＲＳ領域から生成されたＲ信号が光学フィルタのＲＧ領域を透過し、さらにＬＧ領域は透過せずに観察者に伝達することができる角度の範囲を意味する。視野角を超える角度では、Ｌ信号がＲＧ領域を透過するか、あるいはＲ信号がＬＧ領域を透過した後に観察者に伝達されて映像の品質を低下させる、いわゆるクロストーク（ｃｒｏｓｓｔａｌｋ）現象が起きる。

一つの実施形態において、ＲＳおよびＬＳ領域に隣接して存在するＴＣ１領域は、前記ＲＳおよびＬＳ領域の間に位置することができる。ＴＣ１領域が、ＲＳおよびＬＳ領域の間に存在する態様の例としては、同一平面上において、ＲＳ、ＴＣ１およびＬＳ領域が順に位置する場合、または、ＲＳおよびＬＳ領域が位置する平面の前面または後面にＴＣ１領域が位置する場合などが例示される。ＲＳおよびＬＳ領域が位置する平面の前面または後面にＴＣ１領域が位置する場合には、ＴＣ１領域は、前記装置を正面から観察するときに、前記ＲＳおよび／またはＬＳ領域の少なくとも一部と重なった状態で存在することができる。

一つの実施形態において、光学フィルタは、偏光調節部および偏光調節部に隣接して存在するＴＣ２領域を含むことができる。前記光学フィルタの項目で記述したように、光学フィルタで位相遅延特性が互いに相違する第１および第２領域を含む液晶層は、偏光調節部に対応され、光学フィルタで光遮断物質などが充填された溝領域はＴＣ領域に対応される。

一つの実施形態において、偏光調節部は、ＲＧ領域およびＬＧ領域を含むことができる。ＲＧ領域は、例えば、駆動状態で表示部から生成されたＲ信号が入射される位置に存在することができる。また、ＬＧ領域は、例えば、駆動状態で表示部から生成されたＬ信号が入射される位置に存在することができる。例えば、光学フィルタの液晶層で第１および第２領域のいずれか１つの領域は、ＲＧ領域であり、他の１つの領域はＬＧ領域とすることができる。

ＴＣ２領域は、ＲＧおよびＬＧ領域と隣接して位置することができる。ＴＣ２領域がＲＧおよびＬＧ領域に隣接するということは、視野角範囲内に属する少なくともいずれか１つの角度で映像を観察したときに表示部から伝達されるＲ信号および／またはＬ信号がＲＧおよび／またはＬＧ領域に入射される前、ＲＧおよび／またはＬＧ領域を透過する過程、またはＲＧおよび／またはＬＧ領域を透過した後に、Ｒおよび／またはＬ信号の一部がＴＣ２領域に入射されることで、ＴＣ２領域に入射した信号がＴＣ２領域によって遮断されるか、またはＴＣ２領域に入射した信号の一部だけがＴＣ２領域を透過することができるようにする位置に、ＴＣ２領域が存在することを意味する。

一つの実施形態において、ＲＧおよびＬＧ領域に隣接して存在するＴＣ２領域は、ＲＧおよびＬＧ領域との間に位置することができる。ＴＣ２領域がＲＧおよびＬＧ領域との間に存在する態様の例としては、ＲＧおよびＬＧ領域が位置する平面の前面にＴＣ２領域が位置する場合などが例示される。ＲＧおよびＬＧ領域が位置する平面の前面にＴＣ２領域が位置する場合には、ＴＣ２領域は、前記装置を正面から観察したときに、ＲＧおよび／またはＬＧ領域の少なくとも一部と重なった状態で存在することができる。

１つの例示的な３Ｄ装置は、観察者が立体映像観察用眼鏡（以下、「３Ｄ眼鏡」）を着用して立体映像を観察する装置とすることができる。

図９は、本出願の例示的な３Ｄ装置を概略的に示す図である。図９のように、本出願の例示的な３Ｄ装置３は、表示部３０１と光学フィルタ３０２を含むことができる。表示部３０１は、光源３０１１、偏光板３０１２および映像生成領域３０１３を含むことができる。ＲＳおよびＬＳ領域は、映像生成領域３０１３に含まれ、偏光板３０１２および光源３０１１は、前記映像生成領域３０１３の一側に順に含まれる。

光源３０１１としては、例えば、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）などの表示装置で光源として通常使用される直下型（ｄｉｒｅｃｔ ｔｙｐｅ）またはエッジ型（ｅｄｇｅ ｔｙｐｅ）のバックライトユニット（ＢＬＵ；Ｂａｃｋ Ｌｉｇｈｔ Ｕｎｉｔ）が用いられる。光源３０１１としては、その他も多様な種類の装置が用いられる。

表示部３０１において、偏光板３０１２は、光源３０１１および映像生成領域３０１３との間に位置することができる。このような配置によって、光源３０１１から出射した光は、偏光板３０１２を透過した後に映像生成領域３０１３に入射される。偏光板は、透過軸および該透過軸に直交する吸収軸が形成されている光学素子とすることができる。偏光板に光が入射されると、入射された光のうちの偏光板の透過軸方向と平行な偏光軸を有する光だけが透過されることができる。本明細書では、後述する光学フィルタに含まれる偏光板との区別のために表示部に含まれる偏光板を第１偏光板と称し、光学フィルタに含まれる偏光板を第２偏光板と称する 。

映像生成領域３０１３は、駆動状態でＬ信号を生成するＬＳ領域とＲ信号を生成するＲＳ領域を含むことができる。

一つの実施形態において、映像生成領域３０１３は、２枚の基板との間に液晶層を介在させた透過型液晶パネルにより形成される領域または前記液晶パネルの内部に形成される領域とすることができる。液晶パネルは、例えば、光源３０１１側から順に配置された第１基板、画素電極、第１配向膜、液晶層、第２配向膜、共通電極および第２基板を含むことができる。第１基板には、例えば、透明画素電極に電気的に接続された駆動素子として、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）と配線などを含むアクティブ型駆動回路が形成されてもよい。画素電極は、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物を含むことで、画素別電極に機能することができる。また、第１または第２配向膜は、例えば、液晶層の液晶を配向させる役割をすることができる。液晶層は、例えば、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）またはＩＰＳ（Ｉｎ ＬＧａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードの液晶を含むことができる。液晶層は、駆動回路から印加される電圧によって、光源３０１１からの光を画素別に透過または遮断する機能を有する。共通電極は、例えば共通の対向電極として機能することができる。

映像生成領域３０１３には、駆動状態でＬまたはＲ信号を生成する領域として１つ以上の画素（ｐｉｘｅｌ）を含むＬＳおよびＲＳ領域が形成されてもよい。例えば、液晶パネルにおいて第１および第２配向膜との間に密封された液晶を含む１つ以上の単位画素がＬＳまたはＲＳ領域を形成してもよい。ＬＳおよびＲＳ領域は行および／または列方向に配置されてもよい。

図１０および図１１は、例示的なＲＳおよびＬＳ領域の配置を示す図である。図１０および図１１は、３Ｄ装置を正面から観察した場合のＲＳおよびＬＳ領域の配置とすることができる。一つの実施形態において、ＲＳおよびＬＳ領域は、図１０のように、共通の方向、例えば、長手方向に延びるストライプ形状を有し、隣接して相互に配置されてもよい。他の例示として、ＲＳおよびＬＳ領域は、図１１のように、格子パターンに互いに隣接して相互に配置されている。しかしながら、ＲＳおよびＬＳ領域の配置は、図１０および図１１の配置に制限なく、他の多様なデザインを適用することができる。

表示部３０１は、例えば、駆動状態において信号により各領域での画素を駆動することで、ＲおよびＬ信号を含む信号を生成することができる。

例えば、図９を参照すると、光源３０１１から出射した光が第１偏光板３０１２に入射されると、偏光板３０１２の透過軸と平行に偏光された光だけが透過されることができる。このように透過された光は映像生成領域３０１３に入射される。映像生成領域３０１３に入射してＲＳ領域を透過した光はＲ信号となり、ＬＳ領域を透過した光はＬ信号となる。

表示部３０１は、ＴＣ１領域を含むことができる。ＴＣ１領域は、ＲＳおよびＬＳ領域に隣接して位置することができる。例示的な装置３を模式的に示す図９では、ＴＣ１領域が映像生成領域３０１３でＲＳおよびＬＳ領域が形成される平面の前面に位置し、また正面から観察したときに前記ＲＳおよびＬＳ領域との間で前記ＲＳおよびＬＳ領域の一部と重なるように位置する。しかしながら、ＴＣ１領域の位置は図９に示した配置によって制限されない。例えば、ＴＣ１領域は、ＲＳおよびＬＳ領域が形成される平面の後面に位置するか、例えば、後述する図１８に示すように、ＲＳおよびＬＳ領域が形成される平面と同一平面に位置することもできる。図１２は、図１０のＬＳおよびＲＳ領域の配置形態をＴＣ１の存在を勘案してさらに示した図であり、図１３は、図１１のＬＳおよびＲＳ領域の配置をＴＣ１の存在を勘案してさらに示した図である。図１２および図１３においてＴＣ１領域は斜線で表示される。

ＴＣ１領域は、例えば、後述するＴＣ２領域と組み合わせて輝度の損失なしに、３Ｄ装置が広い視野角で映像を表示することができる。

一つの実施形態において、ＴＣ１領域は、ブラックマトリックスとすることができる。例えば、映像生成領域３０１３が透過型液晶パネルにより形成される領域であるか、その内部に形成される領域である場合、ＴＣ１領域は、前述のように液晶パネルに含まれる第２基板に通常的に存在するカラーフィルタに含まれるブラックマトリックスとすることができる。一つの実施形態において、ＴＣ１領域は、クロム（Ｃｒ）、クロムとクロム酸化物の二重膜（Ｃｒ／ＣｒＯｘ二重膜）、カーボンブラック（ｃａｒｂｏｎ ｂｌａｃｋ）、カーボン顔料などのような顔料（ｐｉｇｍｅｎｔ）を含む樹脂層またはグラファイト（Ｇｒａｐｈｉｔｅ）を含んで形成される領域とすることができる。前記素材を用いてＴＣ１領域を形成する方式には特に制限がない。例えば、ＴＣ１領域は、ブラックマトリックスを形成する通常的な方式であるフォトリソグラフィ（ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）やリフトオフ（ｌｉｆｔ ｏｆｆ）方式などで形成することができる。

３Ｄ装置において光学フィルタは、例えば、図９に示すように、偏光調節部３０２２を含み、第２偏光板３０２１をさらに含むことができる。第２偏光板は、前述の光学フィルタの偏光層とすることができる。第２偏光板３０２１は、表示部３０１と偏光調節部３０２２との間に含まれる。偏光調節部３０２２はＬＧおよびＲＧ領域を含む。さらにＴＣ２領域は、ＬＧおよびＲＧ領域に隣接して位置することができる。例示的な装置３を模式的に示す図９では、ＴＣ２領域がＲＧおよびＬＧ領域との間に位置し、またＲＧおよびＬＧ領域が位置する平面の前面に前記ＲＧおよびＬＧ領域の一部と重なるように位置するものとして表示される。これにより、映像生成領域３０１３から出射された信号は第２偏光板３０２１と偏光調節部３０２２を順に透過して観察者に伝達される。また、Ｒおよび／またはＬ信号の少なくとも一部は、視野角内のいずれか１つの角度で観察したときに、ＲＧおよび／またはＬＧ領域に入射される前、ＲＧおよび／またはＬＧ領域を透過する過程、またはＲＧおよび／またはＬＧ領域を透過した後にＴＣ２領域に入射されることができる。

一つの実施形態において、３Ｄ装置３に含まれる第１および第２偏光板１０１２、１０２１は、それぞれの吸収軸が互いに直交するように配置されてもよい。第１および第２偏光板１０１２、１０２１の透過軸も互いに直交してもよい。前記において、直交は、実質的な直交を意味し、例えば、±１５度以内、±１０度以内、または±５度以内の誤差を含むことができる。

偏光調節部３０２２に含まれるＲＧおよびＬＧ領域は、それぞれＲおよびＬ信号の偏光状態を調節することができる領域である。一つの実施形態において、ＲＧおよびＬＧ領域は、ＲおよびＬ信号が互いに相違する偏光状態を有したまま３Ｄ装置から出射されるようにする役割をする領域とすることができる。

一つの実施形態において、ＲＧ領域は、駆動状態においてＲＳ領域で生成および伝達されるＲ信号が入射されるように、ＲＳ領域に略対応する位置にＲＳ領域と略対応する大きさに配置されてよく、ＬＳ領域は、ＬＳ領域で生成および伝達されるＬ信号が入射されるように、ＬＳ領域の略対応する位置にＬＳ領域と略対応する大きさに配置されてもよい。ＲＳまたはＬＳ領域に対応する位置に対応する大きさにＲＧまたはＬＧ領域が形成されるということは、ＲＳ領域で生成されたＲ信号がＲＧ領域に入射され、ＬＳ領域で生成されたＬ信号がＬＧ領域に入射される位置および大きさを意味することで、必ず両者が同一位置に同一大きさに形成しなければならないことを意味するものではない。

ＲＧおよびＬＧ領域は、例えば、表示部のＲＳおよびＬＳ領域の配置に対応して共通方向、例えば、長手方向に延びるストライプ形状に形成され、また互いに隣接して相互に配置されるか、あるいは格子パターンに互いに隣接して相互に配置されてもよい。例えば、ＲＳおよびＬＳ領域が、図１０のように配置されている場合、ＲＧおよびＬＧ領域は図１４のような形態に配置されてよく、ＲＳおよびＬＳ領域が図１１のように配置されている場合、ＲＧおよびＬＧ領域は図１５のような形態に配置されてもよい。図１６は、図１４のＬＧおよびＲＧ領域の配置形態をＴＣ２の存在を勘案してさらに示した図であり、図１７は、図１５のＬＧおよびＲＧ領域の配置をＴＣ２の存在を勘案してさらに示した図である。図１６および図１７において、ＴＣ２領域は斜線として表示される。

一つの実施形態において、ＲＧおよびＬＧ領域をそれぞれ透過したＲおよびＬ信号は、実質的に互いに直交した方向に直線偏光された信号とすることができる。他の例示として、ＲＧおよびＬＧ領域をそれぞれ透過したＲおよびＬ信号のいずれか１つの信号は左円偏光された信号であり、他の１つの信号は右円偏光された信号とすることができる。これのために、ＬＧおよびＲＧ領域のうちの１つ以上の領域は位相差層を含むことができる。前記位相差層は、例えば、前記光学フィルタの液晶層とすることができる。

例えば、左円および右円偏光された信号を生成する場合としては、ＲＧおよびＬＧ領域がすべて位相差層を含み、ＲＧ領域に含まれる位相差層とＬＧ領域に含まれる位相差層が波長層の場合を例示する。互いに逆方向に回転する円編光された光を生成するために、ＲＧ領域に配置されたλ／４波長層の光軸とＬＧ領域に配置されたλ／４波長層の光軸は互いに相違するように形成されてもよい。一つの実施形態において、ＲＧ領域は位相差層として第１方向に光軸を有するλ／４波長層を含み、ＬＧ領域は位相差層として前記第１方向とは相違する第２方向に光軸を有するλ／４波長層を含むことができる。本明細書において、用語の「ｎλ波長層」は、入射される光をその波長のｎ倍ほど位相遅延させることができる位相遅延素子を意味し、前記において、ｎは、例えば、１／２、１／４または３／４とすることができる。また、本明細書において、用語の「光軸」は、光が該当領域を透過する過程における遅相軸（ｓｌｏｗ ａｘｉｓ）または進相軸（ｆａｓｔ ａｘｉｓ）を意味し、例えば、遅相軸を意味する。

ＲＧおよびＬＧ領域の態様が、前記のような態様に制限されるものではない。例えば、ＲＧおよびＬＧ領域のいずれか１つは３λ／４波長層を含み、他の領域はλ／４波長層を含む場合にも左円および右円偏光された光を生成することができる。
他の例示としては、前記ＲＧおよびＬＧ領域のいずれか１つの領域はλ／２波長層であり、他の領域は光学的に等方性である領域とすることができる。このような場合に、ＲＧおよびＬＧ領域をそれぞれ透過したＲおよびＬ信号は、実質的に互いに垂直した方向に偏光軸を有するように、直線偏光された光の形態で３Ｄ装置から出射されることができる。

一つの実施形態において、他の例示としてＴＣ２領域は、偏光調節部の表示部の反対側に位置することができる。前記状態においてＴＣ２領域は、装置を正面から見るときに、ＲＧまたはＬＧ領域、またはＲＧおよびＬＧ領域の少なくとも一部分と重なるように位置することができる。図１８は、ＴＣ２領域が偏光調節部の表示部の反対側に位置する３Ｄ装置（１２）を例示的に示す図である。図１８のように、ＴＣ２領域は、例えば、第２偏光板３０２１と接する偏光調節部３０２２の面とは反対側の偏光調節部３０２２の一面に接しながら、ＲＧおよび／またはＬＧ領域の少なくとも一部分と接するように位置することができる。

本出願に例示する３Ｄ装置は、ＴＣ１とＴＣ２領域を含み、これにより輝度の損失なしに広い視野角で立体映像を表示することができる。

一つの実施形態において、ＴＣ１およびＴＣ２領域は、下記数式１を満たすことができる。下記数式１を満たす範囲内で３Ｄ装置の輝度特性が適切に確保されて広い視野角を示すことができる。

前記数式１において、Ｈ_１は、ＴＣ１領域の幅であり、Ｈ_２は、ＴＣ２領域の幅であり、Ｐ_Ｌは、ＬＧ領域の幅であり、Ｐ_ＲはＲＧ領域の幅である。

図１８は、３Ｄ装置の映像生成領域３０１３および第２偏光板３０２１と偏光調節部３０２２を含む光学フィルタ３０２のみを側面から観察した場合を模式的に示す図であり、図１８には、前記の「Ｈ_１」、「Ｈ_２」、「Ｐ_Ｌ」および「Ｐ_Ｒ」がそれぞれ表示される。

３Ｄ装置において、「Ｈ_１」および「Ｈ_２」の具体的な範囲は、３Ｄ装置の具体的な仕様によって前記数式１を満たす範囲を考慮して適切に選択することができ、その具体的な値は特に制限されない。一つの実施形態において、Ｈ_２は、例えば、０μｍを超え、かつ１０００μｍ以下の範囲とすることができる。前記Ｈ_２の下限は、例えば、２０μｍ、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ、５５μｍ、６０μｍ、６５μｍ、７０μｍ、７５μｍまたは８０μｍとすることができる。また、前記Ｈ_２の上限は、例えば、９００μｍ、８００μｍ、７００μｍ、６００μｍ、５００μｍ、４００μｍ、３００μｍ、２９０μｍ、２８０μｍ、２７０μｍ、２６０μｍ、２５０μｍ、２４０μｍ、２３０μｍ、２２０μｍ、２１０μｍまたは２００μｍとすることができる。このような上限と下限の範囲において多様な値が選択および組み合わせてＨ_２の範囲が規定される。

また、「Ｈ_１」は、例えば、Ｈ_１とＨ_２の合が約０μｍを超え、かつ２０００μｍ以下の範囲になるように選択することができる。前記Ｈ_１とＨ_２の合の下限は、例えば、４０μｍ、５０μｍ、６０μｍ、７０μｍ、８０μｍ、９０μｍ、１００μｍ、１１０μｍ、１２０μｍ、１３０μｍ、１４０μｍ、１５０μｍまたは１６０μｍとすることができる。また、前記Ｈ_１とＨ_２の合の上限は、例えば、１９００μｍ、１８００μｍ、１７００μｍ、１６００μｍ、１５００μｍ、１４００μｍ、１３００μｍ、１２００μｍ、１１００μｍ、１０００μｍ、９００μｍ、８００μｍ、７００μｍ、６００μｍ、５００μｍ、４００μｍまたは３００μｍとすることができる。このような上限と下限の範囲において多様な値が選択および組み合わせてＨ_１とＨ_２の合の範囲が規定される。

また、前記３Ｄ装置において、「Ｐ_Ｒ」および「Ｐ_Ｌ」の具体的な範囲も、３Ｄ装置の具体的な仕様によって選択されることができ、その具体的な値は特に制限されない。一つの実施形態において、前記３Ｄ装置が４７インチの装置である場合に、前記「Ｐ_Ｒ」および「Ｐ_Ｌ」の具体的な範囲は、例えば、それぞれ１５０〜３５０μｍの範囲内で選択されることができる。通常的な装置のスペックを勘案すると、前記「Ｐ_Ｒ」および「Ｐ_Ｌ」の具体的な範囲は、例えば、１５０〜１０００μｍの範囲としてよい。

３Ｄ装置では、ＴＣ２領域の幅（Ｈ_２）がＴＣ１領域の幅（Ｈ_１）と同一であるか、またはそれよりも小さくてよい。一つの実施形態において、ＴＣ１領域の幅（Ｈ_１）とＴＣ２領域の幅（Ｈ_２）との差（Ｈ_１−Ｈ_２）は、例えば、１０００μｍ以内、９００μｍ以内、８００μｍ以内、７００μｍ以内、６００μｍ以内、５００μｍ以内、４００μｍ以内、３００μｍ以内、１７５μｍ以内、１５０μｍ以内、１２５μｍ以内、１００μｍ以内、７５μｍ以内、５０μｍ以内、または２５μｍ以内であるか、実質的に０μｍ以内とすることができる。このような状態において、前記３Ｄ装置は、輝度の損失なしに広い視野角を確保することができる。

前記３Ｄ装置は、例えば、正面から観察した相対輝度が６０％以上、６５％以上または７０％以上とすることができる。本明細書において、用語の「相対輝度」は、ＴＣ１およびＴＣ２領域がすべて形成されない３Ｄ装置における輝度（Ｉ_Ｏ）に対しＴＣ１およびＴＣ２領域が形成された３Ｄ装置における輝度（Ｉ_Ｔ）の割合（Ｉ_Ｔ／Ｉ_Ｏ）を意味する。

前記３Ｄ装置は、また、例えば、下記数式２を満たす角度「θ_Ｕ」の最大値と下記数式３を満たす角度「θ_Ｌ」の最大値がすべて３度またはそれ以上、５度またはそれ以上、８度またはそれ以上、８．５度またはそれ以上、９度またはそれ以上、９．５度またはそれ以上、１０度またはそれ以上、１０．５度またはそれ以上、１１度またはそれ以上、１１．５度またはそれ以上、１２度またはそれ以上、１２．５度またはそれ以上、１３度またはそれ以上、１３．５度またはそれ以上、１４度またはそれ以上、１４．５度またはそれ以上、または１５度またはそれ以上とすることができる。

前記数式２および３において、Ｈ_１は、ＴＣ１領域の幅であり、Ｈ_２は、ＴＣ２領域の幅であり、Ｔは、表示部から光学フィルタまでの距離であり、ｙは、ＴＣ１領域の幅を二等分する線の前記ＴＣ１領域の表面に対する仮想法線がＴＣ２領域と接する地点からＴＣ２領域が存在する部分までの距離である。

「θ_Ｕ」および「θ_Ｌ」は、例えば、それぞれの３Ｄ装置の視野角を意味する。数式２および３を、図１９を参照してさらに説明すると下記のようになる。

用語の「視野角」が、映像生成領域で生成されたＬ信号が光学フィルタのＬＧ領域を透過し、またＲＧ領域は透過せず観察者に伝達される角度の範囲、または映像生成領域で生成されたＲ信号が光学フィルタのＲＧ領域を透過し、またＬＧ領域は透過せず観察者に伝達される角度の範囲を意味するものとして仮定したときに、前記視野角は、図１９でそれぞれ「θ_Ｕ」および「θ_Ｌ」として表示される。

図１９のように、視野角は、映像生成領域から光学フィルタまでの距離（Ｔ）とＴＣ１およびＴＣ２領域の幅により決定される。前記において、映像生成領域から光学フィルタまでの距離（Ｔ）は、例えば、映像生成領域の光学フィルタと対向する面から光学フィルタのＬＧおよびＲＧ領域が終了する地点までの距離とすることができる。例えば、映像生成領域が液晶パネルで形成される領域の場合に、前記映像生成領域の光学フィルタと対向する面は、前記液晶パネルにおける液晶層の前記光学フィルタと対向する面を意味する。

前記距離（Ｔ）は、３Ｄ装置の仕様で決定されるもので、特に制限されない。例えば、前記距離（Ｔ）は、５ｍｍ以下、さらに約０．５〜５ｍｍ程度とすることができる。

図１９を参照すると、視野角「θ_Ｕ」および「θ_Ｌ」は、距離（Ｔ）が同一である場合、ＴＣ１およびＴＣ２領域の幅（Ｈ_１およびＨ_２）とＴＣ１およびＴＣ２領域の相対的位置によって決定されることがわかる。

すなわち、図１９を参照すると、視野角「θ_Ｕ」は、ｔａｎθ_ＵがＴＣ１領域の幅（Ｈ_１）の１／２倍の値に、ＴＣ１領域の幅を二等分する線の前記ＴＣ１または映像生成領域の表面に対する仮想法線（Ｃ）がＴＣ２領域と接する地点からＴＣ２領域が存在する部分までの距離（ｙ）の合計（Ｈ_１／２＋ｙ）を前記距離（Ｔ）で割った値と同様になるように形成されたことがわかる。また、視野角「θ_Ｌ」は、ｔａｎθ_ＬがＴＣ１領域の幅（Ｈ_１）の１／２倍の値に、前記ＴＣ２領域の幅（Ｈ_２）でＴＣ１領域の幅（Ｈ_１）を二等分する線の前記ＴＣ１領域または映像生成領域の表面に対する仮想法線（Ｃ）がＴＣ２領域と接する地点からＴＣ２領域が存在する部分までの距離（ｙ）を引いた値（Ｈ_２−ｙ）の合計（Ｈ_１／２＋Ｈ_２−ｙ）を前記距離（Ｔ）で割った値と同様になるように形成されたことがわかる。

ＴＣ１およびＴＣ２領域を含む３Ｄ装置では、ＴＣ１およびＴＣ２領域の大きさ、例えば、幅と前記ＴＣ１およびＴＣ２領域の相対的位置を適切に調節することで、立体映像の観察時に広い視野角を確保しながら輝度特性を優秀に確保することができる。

１つの例示的な前記３Ｄ装置は、正面から観察した相対輝度が６０％以上、６５％以上または７０％以上であり、さらにそれと共に前記数式２を満たす角度「θ_Ｕ」の最大値および前記数式３を満たす角度「θ_Ｌ」の最大値がすべて３度またはそれ以上、５度またはそれ以上、８度またはそれ以上、８．５度またはそれ以上、９度またはそれ以上、９．５度またはそれ以上、１０度またはそれ以上、１０．５度またはそれ以上、１１度またはそれ以上、１１．５度またはそれ以上、１２度またはそれ以上、１２．５度またはそれ以上、１３度またはそれ以上、１３．５度またはそれ以上、１４度またはそれ以上、１４．５度またはそれ以上、または１５度またはそれ以上とすることができる。

また、立体映像表示装置は、前記光学フィルタを光分割素子として含む限り、この分野で公知された多様な方式をすべて適用して製造することができる。

以下に、実施例および比較例を参照して前記液晶配向膜を詳しく説明するが、液晶配向膜の範囲は下記に提示した実施例により制限されない。

＜実施例１＞
ピッチが５４０μｍの４７インチ用ＦＰＲ（Ｆｉｌｍ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｒｅｔａｒｄ）において、液晶配向能が互いに相違する２つの領域の境界に幅が１００μｍの溝を形成し、光遮断物質で充填させて実施例１のＦＰＲを製造した。図２０は、実施例１のＦＰＲが立体映像表示装置用パネルに付着された場合、視野角による相対輝度を示す。図２０に示すように、実施例１のＦＰＲを使用する場合、光遮断領域であるＢＭ（Ｂｌａｃｋ Ｍａｔｒｉｘ）がないパネルに比べて、正面に対し８１．５％の相対輝度を示す。これにより、溝に光遮断物質が充填されたＦＰＲを使用した場合、立体映像表示装置の輝度が向上されることがわかった。

＜実施例２＞
ピッチが５４０μｍの４７インチ用ＦＰＲにおいて、液晶配向能が互いに相違する２つの領域の境界に幅が１００μｍの溝を形成し、光遮断物質と光反射物質で充填させて実施例２のＦＰＲを製造した。図２０は、実施例２のＦＰＲが立体映像表示装置用パネルに付着された場合、視野角による相対輝度を示す。図２０に示すように、実施例２のＦＰＲを使用した場合、光遮断領域であるＢＭ（Ｂｌａｃｋ Ｍａｔｒｉｘ）がないパネルに比べて、正面に対し８１．５％の輝度を示す。さらに、視野角が増加するにつれて視野角３０度ではＢＭがないパネルに比べて９０％まで相対輝度が上昇する。これにより、溝に光遮断物質と光反射物質が充填されたＦＰＲを使用した場合、立体映像表示装置において、光遮断効果と輝度向上効果が同時に発揮されるだけでなく、視野角による輝度向上効果も優れることがわかった。

＜比較例１＞
液晶配向膜に溝を形成せず、液晶配向膜上に光遮断膜を直接形成させて比較例１のＦＰＲを製造した。図２１は、比較例１（ａ）と実施例１（ｂ）とにおけるＦＰＲの光遮断効果を比較した結果である。図２１に示すように、同一の１００μｍ幅でパターンを形成する場合、比較例１のように溝を形成せず、光遮断膜を直接形成した場合は８０％の領域を遮断膜として使用することが可能であり、実施例１のように溝を形成し、光遮断物質を充填させた場合は９８％の領域を遮断膜として使用することが可能であった。比較例１のように、液晶配向膜の上に溝なしに光遮断膜を直接形成させた場合、光遮断膜の形成領域と光遮断膜が形成されない領域との位置による高差のために、光遮断効果が光遮断膜形成パターンの幅に比べて減少される。

１０１ 液晶配向能を有する表面
１０２ 溝
１０３ 下部層
１０４ 液晶配向層
１０５ 基材層
１０６ 光遮断物質
１０７ 光反射物質
２０１ 第１領域
２０２ 第２領域
３ ３Ｄ装置
３０１１ 光源
３０１２ 第１偏光板
３０１３ 映像生成領域
３０１ 表示部
３０２１ 第２偏光板
３０２２ 偏光調節部
３０２ 光学フィルタ
ＬＳ 左眼用信号生成領域
ＲＳ 右眼用信号生成領域
ＴＣ１ 第１透過量調節領域
ＬＧ 左眼用信号偏光調節領域
ＲＧ 右眼用信号偏光調節領域
ＴＣ２ 第２透過量調節領域
Ｈ_１ 第１光透過量調節領域の幅
Ｈ_２ 第２光透過量調節領域の幅
Ｐ_Ｌ 左眼用信号偏光調節領域の幅
Ｐ_Ｒ 右眼用信号偏光調節領域の幅
Ｔ 表示部から光学フィルタまでの距離
Ｃ 第１光透過量調節領域の幅を二等分する線の前記第１光透過量調節領域または映像生成領域の表面に対する仮想法線
ｙ 前記仮想法線（Ｃ）が第２光透過量調節領域と接する地点から第２光透過量調節領域の存在する部分までの距離
θ_Ｕ、θ_Ｌ 視野角

Claims (9)

1. ５〜３００μｍの範囲内の幅と０．５〜５μｍの範囲内の深さを有し、同一方向に延びるストライプ形状を有しながら離隔されて配置される２つ以上の溝が表面に形成されている第１層、および前記第１層の前記表面上に形成されている液晶配向層を含む液晶配向膜と、
   前記液晶配向層上に形成され、位相遅延特性が互いに相違する第１および第２領域を有する液晶層と、
   を含み、
   離隔されて配置されている前記溝間のピッチが５０〜１０００μｍの範囲内であり、
   前記溝には、光遮断物質、光反射物質または光散乱物質が充填される、光学フィルタ。
2. 前記光遮断物質は、カーボンブラック（ｃａｒｂｏｎ ｂｌａｃｋ）、黒煙、酸化鉄、アゾ系顔料またはフタロシアニン系顔料である、請求項１に記載の光学フィルタ。
3. 前記光反射物質は、金属性インク、コレステリック液晶、複屈折性物質である、請求項１に記載の光学フィルタ。
4. 前記光散乱物質は、シリカ粒子またはナノ粒子である、請求項１に記載の光学フィルタ。
5. 前記第１層の表面の最大高さ粗さが１μｍ以下である、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
6. 前記第１および第２領域は、互いに共通方向に延びるストライプ形状を有しながら互いに隣接して相互に配置されていて、前記溝は、配向膜表面の法線方向から観察したときに前記第１および第２領域の境界で前記第１または第２領域と重畳されるように配置される、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
7. 前記液晶層の上部に形成された偏光層をさらに含む、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
8. 請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の光学フィルタを含む、表示装置。
9. 右眼用信号を生成する右眼用信号生成領域と、左眼用信号を生成する左眼用信号生成領域と、前記右眼用および左眼用信号生成領域に隣接する光透過量調節領域を含む表示部と、を含み、前記光学フィルタは前記表示部の一側に前記右眼用信号が入射されることができる位置に、前記第１および第２領域のいずれか一領域が位置し、前記左眼用信号が入射される位置に前記第１および第２領域のいずれか他の一領域が位置することができ、下記数式２を満たす角度θ_Ｕの最大値と下記数式３を満たす角度θ_Ｌの最大値が３度以上となるように配置される、請求項８に記載の表示装置：
   数式２および３において、Ｈ_１は、光透過量調節領域の幅であり、Ｈ_２は、光学フィルタに形成された溝幅であり、Ｔは、表示部から光学フィルタまでの距離であり、ｙは、光透過量調節領域の二等分線の前記光透過量調節領域の表面に対する仮想法線が光学フィルタの溝と接する地点から該溝が存在する部分までの距離である。