JP5890063B2 - 導電フィルム - Google Patents

Description

本発明は、導電フィルムに関し、例えばタッチパネルに用いて好適な導電フィルムに関する。

近時、タッチパネルが注目されている。タッチパネルは、ＰＤＡ（携帯情報端末）や携帯電話等の小サイズへの適用が主となっているが、パソコン用ディスプレイ等への適用による大サイズ化が進むと考えられる。

このような将来の動向において、従来の電極は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）を用いていることから、電気抵抗が大きい。そのため、適用サイズが大きくなるにつれて、電極間の電流の信号波形がなまり、応答速度（指先を接触してからその位置を検出するまでの時間）が遅くなるという問題がある。

そこで、金属製の細線（金属細線）にて構成した格子を多数並べて電極を構成することで表面抵抗を低下させることが知られている。また、規則的に格子を並べた場合に生じるモアレ現象を抑制するために、ランダムなパターンで金属細線を形成した導電フィルムが提案されている（例えば特表２０１１−５１３８４６号公報、特開２０１２−１８１８１５号公報、特開２０１２−１１９１６３号公報参照）。

特表２０１１−５１３８４６号公報に記載の導電フィルムは、複数の端子にそれぞれつながるメッシュバーと、メッシュバー間に配置された線区分（電気的に絶縁された区分）とを有し、特に、メッシュバーがランダムな形状の複数のセルを含む。

特開２０１２−１８１８１５号公報に記載の導電フィルムは、透明電極パターン部と透明絶縁パターン部とを基材表面に交互に敷き詰める。これにより、透明電極パターン部が形成されている領域と、透明電極パターン部が形成されていない領域（すなわち透明絶縁パターン部が形成されている領域）との光学特性の差を小さくして透明電極パターン部の視認を抑制する。さらに、透明絶縁パターン部において、複数の島部を離間してランダムに形成することで、モアレの発生を抑制する。

特開２０１２−１１９１６３号公報に記載の導電フィルムは、基体上にメッシュ状の線材が形成された導電フィルムである。この導電フィルム上にメッシュ状とは異なる模様を有する構造パターンを重畳する。この状態における平面視でのパワースペクトルと人間の標準視覚応答特性との畳み込み積分を行う。線材の平均線幅に相当する空間周波数の１／４倍周波数以上であり、且つ、１／２倍周波数以下である空間周波数帯域での各積分値が、零空間周波数での積分値よりも大きい特性を有する。その結果、例えばタッチパネル用途のように、複数の導電フィルムを積層する構成を採る場合であってもノイズ干渉（モアレ）の発生を防止することができる。

特表２０１１−５１３８４６号公報に記載の導電フィルムは、端子につながるメッシュバーを構成するセルのサイズが大きく異なる。最も大きなサイズのセルは、最も小さなセルの例えば５つ分のサイズを有する。そのため、メッシュバーの幅方向に１つのセルあるいは２つのセルしかなく、メッシュバーの電気抵抗が高くなるおそれがある。この場合、例えばメッシュバーの時定数が大きくなり、その結果、検知信号の検知精度が劣化するという問題がある。さらに、サイズの大きいセルと小さなセルの配置のばらつきが偏っている。そのため、例えば静電容量方式のタッチパネルに適用した場合に、電極として使用される領域間の抵抗及び静電容量のばらつきが大きくなる。その結果、タッチパネルを駆動するＩＣ（集積回路）に抵抗や静電容量のばらつきを打ち消すための回路や演算処理が必要になり、ＩＣに対する負荷が大きくなるという問題もある。

特開２０１２−１８１８１５号公報に記載の導電フィルムは、公報の図２８に示すように、領域Ｂ間につながる領域Ａの導電部被覆率が１００％、領域Ｂの導電部被覆率が７９％となっている。そのため、全体として見た場合に、隣接する領域Ａと領域Ｂとで透過率に違いが生じ、例えばまだら模様として視認されるおそれがある。

特開２０１２−１１９１６３号公報に記載の導電フィルムは、公報の図２１に示すように、第１基本格子間につながる第１接続部を構成するランダム形状の領域が、第１接続部の幅方向に１つあるいは２つしかない。そのため、第１接続部の電気抵抗が高くなるおそれがある。その結果、上述した特表２０１１−５１３８４６号公報の場合と同様に、例えば導電フィルムの時定数が大きくなり、検知信号の検知精度が劣化するという問題がある。

本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、以下の効果を奏する導電性フィルムを提供することを目的とする。

（ａ） 各電極を構成するセルのサイズが一様でないにも関わらず、各電極の抵抗及び静電容量のばらつきが小さく、透明導電層の表面抵抗も低く抑えることができる。

（ｂ） モアレを抑制することができると共に、電極の幅の狭い部分と広い部分での透過率にほとんど違いがなく、透過率の違いによる縞模様の発生を抑制することができ、視認性（金属細線が目立たない）を向上させることができる。

（ｃ） 導電フィルムに接続される駆動ＩＣの負荷を低減することができる。

［１］ 本発明に係る導電フィルムは、一方向に延びる複数の電極を有する透明導電層を有し、電極は、電極幅が場所によって一定ではなく、且つ、金属細線による複数の多角形のセルで構成され、各セルのサイズは、一様ではなく、セルの平均サイズは、電極の最も狭い幅の１／３０以上１／３未満であり、電極全体において、セルの平均サイズが均一であることを特徴とする。

セルの平均サイズが小さくなりすぎると、開口率及び透過率が低下し、それに伴って、透明性の劣化、視認性の劣化をもたらし、少なくとも透明導電層が人の目によって認識されやすくなるという問題がある。反対に、セルの平均サイズが大きくなりすぎると、開口率及び透過率は向上するが、各電極の電気抵抗が高くなり、タッチ位置の検知精度が劣化するという問題がある。

また、電極全体において、前記セルの平均サイズが均一であることで、電極内で透過率に偏りが生じなくなり、まだら模様（ムラ）として視認されにくくなる。すなわち、視認性が向上する。しかも、複数の電極間で、セルのサイズが一様でない複数のセルが偏りなく配列していることになり、電気的な偏りも最小限に抑えられることを示す。従って、導電フィルムを例えば静電容量方式のタッチパネルに適用した場合に、複数の電極間で抵抗及び静電容量のばらつきは小さくなる。これにより、導電フィルムに接続される駆動ＩＣに、抵抗や静電容量のばらつきを打ち消すための回路や演算処理を組み込む必要がなくなり、駆動ＩＣに対する負荷を低減することができる。

［２］ 本発明において、セルの平均サイズは、電極の最も狭い幅の１／１０以上１／３未満であることが好ましい。

［３］ 本発明において、セルの平均サイズは、電極の最も狭い幅の１／５以上１／３未満であることがさらに好ましい。

［４］ 本発明において、電極の最も狭い幅（最小電極幅）は、０．５〜２．０ｍｍであることが好ましい。最小電極幅が小さくなりすぎると、透明導電層の電気抵抗が高くなるおそれがある。この場合、例えば透明導電層の時定数が大きくなり、その結果、指が近接あるいは接触した位置（タッチ位置と記す）の検知精度が劣化するという問題がある。反対に、最小電極幅が大きくなりすぎると、例えば静電容量方式のタッチパネルに適用した場合に、人間の指が近接あるいは接触することによる静電容量の変化が相対的に小さくなり、検出精度が劣化するという問題がある。最小電極幅は、さらに好ましくは０．８〜１．８ｍｍ、より好ましくは０．８〜１．２ｍｍである。

［５］ 本発明において、セルを構成する一辺のランダム率は、２％以上２０％以下であることが好ましい。ランダム率が２％未満になると、各セルのサイズがほとんど一様になってしまい、複数のセルの配列によるモアレの抑制効果が低くなる。反対に、ランダム率が２０％よりも大きくなると、サイズの異なるセルの配列に偏りが生じやすくなり、透過率の偏りにより視認性の悪化が顕著になる。

［６］ 本発明において、セルを構成する一辺のランダム率は、４％以上１０％以下であることがさらに好ましい。

［７］ 本発明において、電極のうち、最も幅の狭い部分を構成する複数のセルの平均サイズと、電極のうち、最も幅の狭い部分を除く部分を構成する複数のセルの平均サイズとの比は、０．９〜１．１であることが好ましい。この範囲を逸脱すると、電極内で透過率に違いが生じ、まだら模様（ムラ）として視認されるおそれがある。

［８］ 本発明において、任意に選択した複数の電極の各抵抗値のうち、最大値をＲｍａｘ、最小値をＲｍｉｎ、各抵抗値の平均値をＲａｖｅとし、抵抗ばらつきを下記式で表したとき、抵抗ばらつきが１０％未満であることが好ましい。
抵抗ばらつき（％）＝｛（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／Ｒａｖｅ｝×１００

抵抗ばらつきが１０％以上だとタッチパネルを駆動するＩＣ（集積回路）に抵抗のばらつきを打ち消すための回路や演算処理が必要になり、ＩＣに対する負荷が大きくなるという問題がある。

［９］ 本発明において、任意に選択した複数の電極の各抵抗値のうち、最大値をＲｍａｘ、最小値をＲｍｉｎ、各抵抗値の平均値をＲａｖｅとし、抵抗ばらつきを下記式で表したとき、抵抗ばらつきが５％以下であることがさらに好ましい。
抵抗ばらつき（％）＝｛（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／Ｒａｖｅ｝×１００

［１０］ ［８］又は［９］において、任意に選択した複数の電極は、一方向に連続して並ぶ３つの電極であってもよい。この場合、同一の透明導電層からの検知信号のレベルがタッチ位置によって線形的に変化するか非線形的に変化するかを評価することができる。抵抗ばらつきが上述の好ましい範囲であれば、タッチ位置によって検知信号のレベルが線形的に変化し、駆動ＩＣでの検知精度を向上させることができる。

［１１］ 本発明において、透明導電層を構成する複数のセルのうち、配線との接続部に接続されたセルのサイズが同一であることが好ましい。

［１２］ 本発明において、セルを構成する一辺の長さは、１００μｍ以上８００μｍ以下であってもよい。これにより、セルの平均サイズを、電極の最も狭い幅の１／３０以上１／３未満にすることが容易になる。

［１３］ 本発明において、金属細線の線幅は０．１μｍ以上１５μｍ以下であってもよい。線幅が上記下限値未満の場合には、導電性が不十分となるためタッチパネルに使用した場合に、検出感度が不十分となる。他方、上記上限値を越えると金属細線に起因するモアレが顕著になったり、タッチパネルに使用した際に視認性が悪くなったりする。

本発明に係る導電フィルムによれば、以下の効果を奏する。
（１） 各電極を構成するセルのサイズが一様でないにも関わらず、各電極の抵抗及び静電容量のばらつきが小さく、透明導電層の表面抵抗も低く抑えることができる。
（２） モアレを抑制することができると共に、電極の幅の狭い部分と広い部分での透過率の差を軽減し、透過率の違いによる縞模様の発生を抑制することができ、視認性（金属細線が目立たない）を向上させることができる。
（３） 導電フィルムに接続される駆動ＩＣの負荷を低減することができる。

上記の目的、特徴及び利点は、添付した図面を参照して説明される以下の実施の形態の説明から容易に諒解されるであろう。

図１は、本実施の形態に係る導電フィルムの一例を示す平面図である。 図２は、導電フィルムの一例を一部省略して示す断面図である。 図３Ａは、透明導電層のパターン例を示す平面図であり、図３Ｂは、セルの一例を示す平面図である。 図４Ａは、一方の電極に小さいセルサイズのセルが配列した例を示す説明図であり、図４Ｂは、他方の電極に大きいセルサイズのセルが配列した例を示す説明図である。 図５Ａ〜図５Ｃは、透明導電層のパターン例についての変形例を示す平面図である。 図６Ａ〜図６Ｃは、セルサイズが一様でないセルの形状の変形例を示す平面図である。 図７は、導電フィルムによる積層導電フィルムを有するタッチパネルの構成を示す分解斜視図である。 図８は、積層導電フィルムを一部省略して示す分解斜視図である。 図９Ａは、積層導電フィルムの一例を一部省略して示す断面図であり、図９Ｂは、積層導電フィルムの他の例を一部省略して示す断面図である。 図１０Ａは、実施例１に係る導電フィルムの透明導電層のパターン例を示す平面図であり、図１０Ｂは、実施例５に係る導電フィルムの透明導電層のパターン例を示す平面図である。 図１１Ａは、比較例１に係る導電フィルムの透明導電層のパターン例を示す平面図であり、図１１Ｂは、比較例２に係る導電フィルムの透明導電層のパターン例を示す平面図である。 図１２Ａは、比較例３に係る導電フィルムの透明導電層のパターン例、特に、電極の一部のパターン例を示す平面図であり、図１２Ｂは、比較例４に係る導電フィルムの透明導電層のパターン例を示す平面図である。

以下、本発明に係る導電フィルムを用いた表示装置及び導電フィルムの実施の形態例を図１〜図１２Ｂを参照しながら説明する。なお、本明細書において数値範囲を示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。

本実施の形態に係る導電フィルムは、図１に示すように、透明基体１２（図２参照）の表面上に形成された導電部１４を有する。この導電部１４は、金属細線１６による２以上の透明導電層１８と各透明導電層１８の端部にパッド２０（接続部）を介して電気的に接続された端子配線パターン２２とを有する。なお、各透明導電層１８にはそれぞれ輪郭線（実線）を図示してあるが、実際には存在しない。透明導電層１８間には、詳細には図示しないが、透明導電層１８とは電気的に絶縁された透明ダミー層２４（二点鎖線で示す）が、同じく透明基体１２の表面上に形成されている。透明ダミー層２４は、透明導電層１８と同様に金属細線１６にて構成され、透明導電層１８が視認され難いようにカモフラージュするための層である。電極としては使用されない。もちろん、透明ダミー層２４を形成しなくてもよい。

各透明導電層１８は、例えば図３Ａに示すように、一方向（ｙ方向）に延び、複数の電極２６が一方向に配列された形状を有する。各電極２６は、電極幅が場所によって一定ではなく、且つ、金属細線１６による複数の多角形のセル２８（図１及び図３Ｂ参照）で構成されている。なお、図１では、セル２８の表示を一部省略して示す。また、図１において、各透明導電層１８にそれぞれ輪郭線（実線）を図示してあるが、実際には存在しない。また、透明ダミー層２４の図示を省略している。

そして、導電フィルム１０をタッチパネル用の導電フィルムとして使用する場合には、透明導電層１８の金属細線１６の線幅は０．１μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。より好ましくは１μｍ以上９μｍ以下であり、さらに好ましくは２μｍ以上７μｍ以下である。透明導電層１８の表面抵抗は、０．１〜１００オーム／ｓｑ．の範囲にあることが好ましい。下限値は、１オーム／ｓｑ．以上、３オーム／ｓｑ．以上、５オーム／ｓｑ．以上、１０オーム／ｓｑ．以上であることが好ましい。上限値は、７０オーム／ｓｑ．以下、５０オーム／ｓｑ．以下であることが好ましい。

各セル２８のサイズ（セルサイズＬｓ）は、図３Ｂに示すように、一様ではなく、セル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅ（Ｌｓａｖｅは図示せず）は、電極２６の最も狭い幅Ｌｍｉｎの１／３０以上１／３未満である。また、電極２６全体において、セル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅが均一となっている。具体的には、各透明導電層１８は、ｙ方向に帯状に延び、最も幅の狭い部分２６ａが一定間隔で現れる形状となっている。電極２６は、一方の最も幅の広い部分２６ｂの中央部分から最も幅の狭い部分２６ａを間に挟んで他方の最も幅の広い部分２６ｂの中央部分までの領域を示す。つまり、透明導電層１８は、複数の電極２６がｙ方向に接続（直列接続）された形態となっている。また、各透明導電層１８は、最も幅の広い部分２６ｂから最も幅の狭い部分２６ａにかけて、幅が徐々に狭くなる部分２６ｃを有する。なお、以下の説明では、電極２６のうち、最も幅の広い部分２６ｂの幅を最大電極幅Ｌｍａｘと記し、最も幅の狭い部分２６ａの幅を最小電極幅Ｌｍｉｎと記す。

最大電極幅Ｌｍａｘとしては、導電フィルム１０をタッチパネル用の導電フィルムとして使用する場合は、人間の指の大きさ、特に、タッチパネルに近接あるいは接触する部分の幅（一般に、３〜７ｍｍ）を選択することができる。最小電極幅Ｌｍｉｎは、０．５〜６．０ｍｍを選択することができ、好ましくは０．８〜３．０ｍｍ、さらに好ましくは、０．８〜１．２ｍｍである。最小電極幅Ｌｍｉｎが小さくなりすぎると、透明導電層１８の電気抵抗が高くなるおそれがある。この場合、例えば透明導電層１８の時定数が大きくなり、その結果、指が近接あるいは接触した位置（タッチ位置と記す）の検知精度が劣化する。反対に、最小電極幅Ｌｍｉｎが大きくなりすぎると、例えば静電容量方式のタッチパネルに適用した場合に、人間の指が近接あるいは接触することによる静電容量の変化が相対的に小さくなり、検出精度が劣化する。

各セル２８は、多角形で構成されている。多角形としては、三角形、四角形（正方形、長方形、平行四辺形、ひし形等）、五角形、六角形等が挙げられる。また、多角形を構成する辺の一部が曲線からなっていてもよい。また、ｙ方向と直交する方向（最小電極幅Ｌｍｉｎを示す方向：ｘ方向）に沿った長さをセルサイズＬｓとしたとき、平均セルサイズＬｓａｖｅは、最小電極幅Ｌｍｉｎの１／３０以上１／３未満が好ましい。さらに好ましくは１／１０以上１／３未満であり、より好ましくは１／５以上１／３未満である。平均セルサイズＬｓａｖｅが小さくなりすぎると、開口率及び透過率が低下し、それに伴って、透明性の劣化する。反対に、セル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅが大きくなりすぎると、開口率及び透過率は向上するが、各電極２６の電気抵抗が高くなり、タッチ位置の検知精度が劣化する。また、最も幅の狭い部分２６ａを構成するセルの個数が場所によって大きく変化するため、各透明導電層１８の抵抗が大きく変化する。そのため、タッチパネルを駆動するＩＣ（駆動ＩＣ）に抵抗や静電容量のばらつきを打ち消すための回路や演算処理が必要になり、駆動ＩＣに対する負荷が大きくなる。

セル２８を構成する一辺の長さＬｄは、最小電極幅Ｌｍｉｎに対する平均セルサイズＬｓａｖｅにもよるが、１００μｍ以上８００μｍ以下であることが好ましい。さらに好ましくは１００μｍ以上４００μｍ以下であり、より好ましくは１５０μｍ以上３００μｍ以下であり、最も好ましくは２１０μｍ以上２５０μｍ以下である。これにより、平均セルサイズＬｓａｖｅを最小電極幅Ｌｍｉｎの１／３０以上１／３未満にすることが容易になる。

また、セルサイズＬｓが一様でないセル２８を構成する一辺のランダム率は、好ましくは２％以上２０％以下であり、より好ましくは４％以上１０％以下である。さらに好ましくは６％以上８％以下である。ここで、ランダム率とは、連続する３０個のセルを取り出し、各セル２８の一辺の長さＬｄのうち、最大値をＬｄｍａｘ、最小値をＬｄｍｉｎ、平均値をＬｄａｖｅとしたとき、下記（１）式及び（２）式で求まる値のうち、大きい値をいう。
（Ｌｄｍａｘ−Ｌｄａｖｅ）／Ｌｄａｖｅ×１００ ……（１）
（Ｌｄａｖｅ−Ｌｄｍｉｎ）／Ｌｄａｖｅ×１００ ……（２）

そして、ランダム率が２％未満になると、各セル２８のセルサイズＬｓがほとんど一様になってしまい、複数のセル２８の配列によるモアレの抑制効果が低くなる。反対に、ランダム率が２０％よりも大きくなると、セルサイズの偏りによりムラが生じ、視認性が悪化する。例えば図４Ａ及び図４Ｂにおいて、最も幅の狭い部分２６ａのパターンに示すように、一方の電極２６（図４Ａ参照）では、小さいセルサイズのセル２８が配列し、他方の電極２６（図４Ｂ参照）では、大きいセルサイズのセル２８が配列する等である。

また、本実施の形態では、電極２６全体を構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅが均一である。具体的には、例えば図３Ａに示すように、電極２６のうち、最も幅の広い部分２６ｂから幅が徐々に狭くなる部分２６ｃにかけての領域を構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅと、最も幅の狭い部分２６ａを構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅとの比が０．９〜１．１であることを示す。この範囲を逸脱すると、電極２６内で透過率に違いが生じ、まだら模様（ムラ）として視認されるおそれがある。

さらに、本実施の形態では、セルサイズＬｓが一様でない複数のセル２８の分散性（ランダム性）が良好となっている。具体的には、例えば図１０Ａに示すように、任意に選択した３つの電極（電極１〜電極３）の各抵抗（抵抗１〜抵抗３）の抵抗ばらつきが、１０％未満が好ましく、さらに好ましくは５％以下である。

ここで、抵抗ばらつきは、任意に選択した複数の電極の各抵抗値のうち、最大値をＲｍａｘ、最小値をＲｍｉｎ、各抵抗値の平均値をＲａｖｅとしたとき、下記式で求めることができる。
抵抗ばらつき（％）＝｛（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／Ｒａｖｅ｝×１００

図１０Ａでは同一の透明導電層１８について、一方向に連続して並ぶ３つの電極を選択した場合を示している。これによって、同一の透明導電層１８からの検知信号のレベルがタッチ位置によって線形的に変化するか非線形的に変化するかを評価することができる。抵抗ばらつきが上述の好ましい範囲であれば、タッチ位置によって検知信号のレベルが線形的に変化し、駆動ＩＣでの検知精度を向上させることができる。なお、それぞれ別の透明導電層１８から電極２６を選択してもよい。

さらに、本実施の形態では、透明導電層１８を構成する複数のセル２８のうち、パッド２０（接続部）に接続されたセル２８のセルサイズＬｓが同一となっている。

上述の例では、透明導電層１８の輪郭形状を、最も幅の広い部分２６ｂから最も幅の狭い部分２６ａにかけて、幅が徐々に狭くなる部分２６ｃを有する形状とした。その他の例としては、図５Ａに示すように、最も幅の広い部分２６ｂから最も幅の狭い部分２６ａにかけて、幅がステップ状に変化する形状でもよい。あるいは、図５Ｂに示すように、最も幅の広い部分２６ｂの長さＬｂ（透明導電層１８の延在方向に沿った長さ）と最も幅の狭い部分２６ａの長さＬａとを同じにしてもよい。あるいは、図５Ｃに示すように、最も幅の広い部分２６ｂの中央に、多角形状（例えばひし形状）の光透過部分３０を設けてもよい。

また、セルサイズＬｓが一様でないセル２８の形状としては、上述した正方形のほか、図６Ａに示すように、各辺がランダムに変化する六角形でもよい。図６Ｂに示すように、湾曲部の形状及び長さがランダムに変化する湾曲形状でもよい。図６Ｃに示すように、サイズの異なる四角形及び五角形がランダムに配置された形状でもよい。

次に、上述の導電フィルム１０を用いたタッチパネル１００について図７〜図９Ｂを参照しながら説明する。

タッチパネル１００は、センサ本体１０２と図示しない制御回路（駆動ＩＣ等で構成）とを有する。センサ本体１０２は、図７、図８及び図９Ａに示すように、上述した導電フィルム１０による第１導電フィルム１０Ａと第２導電フィルム１０Ｂとを積層して構成した積層導電フィルム５０と、その上に積層された保護層１０４とを有する。なお、図９Ａでは保護層１０４の記述を省略している。積層導電フィルム５０及び保護層１０４は、例えば液晶ディスプレイ等の表示装置１０８における表示パネル１１０上に配置されるようになっている。センサ本体１０２は、上面から見たときに、表示パネル１１０の表示画面１１０ａに対応した領域に配されたセンサ部１１２と、表示パネル１１０の外周部分に対応する領域に配された端子配線部１１４（いわゆる額縁）とを有する。

タッチパネル１００に適用した第１導電フィルム１０Ａは、図７、図８及び図９Ａに示すように、第１透明基体１２Ａの一主面上に形成された第１導電部１４Ａを有する。この第１導電部１４Ａは、上述した導電フィルム１０の導電部１４とほぼ同様の構成を有するため、その重複説明を省略するが、複数の第１透明導電層１８Ａがそれぞれｙ方向に延在して形成されている。なお、各第１透明導電層１８Ａにはそれぞれ輪郭線（実線）を図示してあるが、実際には存在しない。また、第１透明導電層１８Ａ間には、詳細には図示しないが、第１透明導電層１８Ａとは電気的に絶縁された第１透明ダミー層２４Ａ（二点鎖線で示す）が、同じく第１透明基体１２Ａの表面上に形成されている。もちろん、第１透明ダミー層２４Ａを形成しなくてもよい。

第１導電フィルム１０Ａは、図８に示すように、センサ部１１２に対応した部分に、上述した複数の第１透明導電層１８Ａが配列されている。端子配線部１１４には、各第１パッド２０Ａから導出された金属細線による複数の第１端子配線パターン２２Ａが配列されている。

図７の例では、第１導電フィルム１０Ａの外形は、上面から見て長方形状を有し、センサ部１１２の外形も長方形状を有する。端子配線部１１４のうち、第１導電フィルム１０Ａの一方の長辺側の周縁部には、その長さ方向中央部分に、複数の第１端子１１６ａが前記一方の長辺の長さ方向に配列形成されている。また、センサ部１１２の一方の長辺（第１導電フィルム１０Ａの一方の長辺に最も近い長辺：ｘ方向）に沿って複数の第１パッド２０Ａが直線状に配列されている。各第１パッド２０Ａから導出された第１端子配線パターン２２Ａは、第１導電フィルム１０Ａの一方の長辺におけるほぼ中央部に向かって引き回され、それぞれ対応する第１端子１１６ａに電気的に接続されている。従って、センサ部１１２における一方の長辺の両側に対応する各第１パッド２０Ａに接続された第１端子配線パターン２２Ａは、ほぼ同じ長さにて引き回される。もちろん、第１端子１１６ａを第１導電フィルム１０Ａのコーナー部やその近傍に形成してもよい。しかし、複数の第１端子配線パターン２２Ａのうち、最も長い第１端子配線パターン２２Ａと最も短い第１端子配線パターン２２Ａとの間に大きな長さ上の違いが生じる。その結果、最も長い第１端子配線パターン２２Ａとその近傍の複数の第１端子配線パターン２２Ａに対応する第１導電フィルム１０Ａへの信号伝達が遅くなるという問題がある。そこで、本実施の形態のように、第１導電フィルム１０Ａの一方の長辺の長さ方向中央部分に、第１端子１１６ａを形成することで、局所的な信号伝達の遅延を抑制することができる。これは、応答速度の高速化につながる。

一方、第２導電フィルム１０Ｂは、図７、図８及び図９Ａに示すように、第２透明基体１２Ｂの一主面上に形成された第２導電部１４Ｂを有する。この第２導電部１４Ｂについても、上述した導電フィルム１０の導電部１４とほぼ同様の構成を有するため、その重複説明を省略する。第２導電部１４Ｂは、複数の第２透明導電層１８Ｂがそれぞれｘ方向に延在して形成されている。なお、図８では、セル２８の表示を一部省略して示す。また、各第２透明導電層１８Ｂにはそれぞれ輪郭線（実線）を図示してあるが、実際には存在しない。第２透明導電層１８Ｂ間には、詳細には図示しないが、第２透明導電層１８Ｂとは電気的に絶縁された第２透明ダミー層２４Ｂ（二点鎖線で示す）が、同じく第２透明基体１２Ｂの表面上に形成されている。もちろん、第２透明ダミー層２４Ｂを形成しなくてもよい。

１つ置き（例えば奇数番目）の各第２透明導電層１８Ｂの一方の端部、並びに偶数番目の各第２透明導電層１８Ｂの他方の端部は、それぞれ第２パッド２０Ｂを介して金属細線による第２端子配線パターン２２Ｂに電気的に接続されている。そして、センサ部１１２に対応した部分に、複数の第２透明導電層１８Ｂが配列され、端子配線部１１４には各第２パッド２０Ｂから導出された複数の第２端子配線パターン２２Ｂが配列されている。

図７に示すように、端子配線部１１４のうち、第２導電フィルム１０Ｂの一方の長辺側の周縁部には、その長さ方向中央部分に、複数の第２端子１１６ｂが前記一方の長辺の長さ方向に配列形成されている。また、センサ部１１２の一方の短辺（第２導電フィルム１０Ｂの一方の短辺に最も近い短辺：ｙ方向）に沿って複数の第２パッド２０Ｂ（例えば奇数番目の第２パッド２０Ｂ）が直線状に配列されている。センサ部１１２の他方の短辺（第２導電フィルム１０Ｂの他方の短辺に最も近い短辺：ｙ方向）に沿って複数の第２パッド２０Ｂ（例えば偶数番目の第２パッド２０Ｂ）が直線状に配列されている。

複数の第２透明導電層１８Ｂのうち、例えば奇数番目の第２透明導電層１８Ｂが、それぞれ対応する奇数番目の第２パッド２０Ｂに接続されている。偶数番目の第２透明導電層１８Ｂが、それぞれ対応する偶数番目の第２パッド２０Ｂに接続されている。奇数番目及び偶数番目の第２パッド２０Ｂからそれぞれ導出された第２端子配線パターン２２Ｂは、第２導電フィルム１０Ｂの一方の長辺におけるほぼ中央部に向かって引き回され、それぞれ対応する第２端子１１６ｂに電気的に接続されている。従って、例えば第１番目と第２番目の第２端子配線パターン２２Ｂは、ほぼ同じ長さにて引き回される。以下同様に、第２ｎ−１番目と第２ｎ番目の第２端子配線パターン２２Ｂは、それぞれほぼ同じ長さにて引き回されることになる（ｎ＝１、２、３・・・）。

もちろん、第２端子１１６ｂを第２導電フィルム１０Ｂのコーナー部やその近傍に形成してもよい。しかし、上述したように、最も長い第２端子配線パターン２２Ｂとその近傍の複数の第２端子配線パターン２２Ｂに対応する第２導電フィルム１０Ｂへの信号伝達が遅くなるという問題がある。そこで、本実施の形態のように、第２導電フィルム１０Ｂの一方の長辺の長さ方向中央部分に、第２端子１１６ｂを形成することで、局所的な信号伝達の遅延を抑制することができる。これは、応答速度の高速化につながる。

なお、第１端子配線パターン２２Ａの導出形態を上述した第２端子配線パターン２２Ｂと同様にし、第２端子配線パターン２２Ｂの導出形態を上述した第１端子配線パターン２２Ａと同様にしてもよい。

そして、第１導電フィルム１０Ａと第２導電フィルム１０Ｂとを重ねて積層導電フィルム５０とする場合は、例えば第１導電フィルム１０Ａを、第１透明導電層１８Ａの延在方向がｙ方向となるように位置決めする。第２導電フィルム１０Ｂを、第２透明導電層１８Ｂの延在方向がｘ方向となるように位置決めする。その後、第１透明導電層１８Ａの最も幅の狭い部分２６ａと、第２透明導電層１８Ｂの最も幅の狭い部分２６ａとを対向させて積層すればよい。

なお、第２導電フィルム１０Ｂの第２透明導電層１８Ｂの形状としては、上述したように、第１透明導電層１８Ａと同様の形状としてもよいが、電極幅が一定の帯状パターンとしてもよい。この場合、電極幅は、第１透明導電層１８Ａの最小電極幅Ｌｍｉｎに合わせてもよいし、最大電極幅Ｌｍａｘに合わせてもよい。

この積層導電フィルム５０をタッチパネルとして使用する場合は、第１導電フィルム１０Ａ上に保護層１０４を形成する。第１導電フィルム１０Ａから導出された多数の第１端子配線パターン２２Ａと、第２透明導電層１８Ｂから導出された多数の第２端子配線パターン２２Ｂとを、例えばスキャンをコントロールする駆動ＩＣに接続する。

タッチ位置の検出方式としては、自己容量方式や相互容量方式を好ましく採用することができる。すなわち、自己容量方式であれば、第１導電フィルム１０Ａに対して順番にタッチ位置検出のための電圧信号を供給し、第２導電フィルム１０Ｂに対して順番にタッチ位置検出のための電圧信号を供給する。指先が保護層１０４の上面に接触又は近接させることで、タッチ位置に対向する第１透明導電層１８Ａ及び第２透明導電層１８ＢとＧＮＤ（グランド）間の容量が増加する。これにより、当該第１透明導電層１８Ａ及び第２透明導電層１８Ｂからの伝達信号の波形が他の透明導電層からの伝達信号の波形と異なった波形となる。従って、駆動ＩＣでは、第１透明導電層１８Ａ及び第２透明導電層１８Ｂから供給された伝達信号に基づいてタッチ位置を演算する。

一方、相互容量方式の場合は、例えば第１透明導電層１８Ａに対して順番にタッチ位置検出のための電圧信号を供給し、第２透明導電層１８Ｂに対して順番にセンシング（伝達信号の検出）を行う。指先が保護層１０４の上面に接触又は近接させることで、タッチ位置に対向する第１透明導電層１８Ａと第２透明導電層１８Ｂ間の寄生容量に対して並列に指の浮遊容量が加わる。これにより、当該第２透明導電層１８Ｂからの伝達信号の波形が他の第２透明導電層１８Ｂからの伝達信号の波形と異なった波形となる。従って、駆動ＩＣでは、電圧信号を供給している第１透明導電層１８Ａの順番と、供給された第２透明導電層１８Ｂからの伝達信号に基づいてタッチ位置を演算する。

このような自己容量方式又は相互容量方式のタッチ位置の検出方法を採用することで、保護層１０４の上面に同時に２つの指先を接触又は近接させても、各タッチ位置を検出することが可能となる。なお、投影型静電容量方式の検出回路に関する先行技術文献として、米国特許第４，５８２，９５５号明細書、米国特許第４，６８６，３３２号明細書、米国特許第４，７３３，２２２号明細書、米国特許第５，３７４，７８７号明細書、米国特許第５，５４３，５８８号明細書、米国特許第７，０３０，８６０号明細書、米国特許出願公開２００４／０１５５８７１号明細書等がある。

上述の積層導電フィルム５０では、図８及び図９Ａに示すように、第１透明基体１２Ａの一主面に第１導電部１４Ａを形成し、第２透明基体１２Ｂの一主面に第２導電部１４Ｂを形成するようにした。その他の例として、図９Ｂに示すように、透明基体１２の一主面に第１導電部１４Ａを形成し、透明基体１２の他主面に第２導電部１４Ｂを形成するようにしてもよい。この場合、第２透明基体１２Ｂが存在せず、第２導電部１４Ｂ上に、透明基体１２が積層され、透明基体１２上に第１導電部１４Ａが積層された形態となる。また、第１導電フィルム１０Ａと第２導電フィルム１０Ｂとはその間に他の層が存在してもよく、第１導電部１４Ａと第２導電部１４Ｂとが絶縁状態であれば、それらが対向して配置されてもよい。

図７に示すように、第１導電フィルム１０Ａと第２導電フィルム１０Ｂの例えば各コーナー部に、第１導電フィルム１０Ａと第２導電フィルム１０Ｂの貼り合わせの際に使用する位置決め用の第１アライメントマーク１１８ａ及び第２アライメントマーク１１８ｂを形成することが好ましい。この第１アライメントマーク１１８ａ及び第２アライメントマーク１１８ｂは、第１導電フィルム１０Ａと第２導電フィルム１０Ｂを貼り合わせて積層導電フィルム５０とした場合に、新たな複合アライメントマークとなる。この複合アライメントマークは、該積層導電フィルム５０を表示パネル１１０に設置する際に使用する位置決め用のアライメントマークとしても機能することになる。

上述の例では、第１導電フィルム１０Ａ及び第２導電フィルム１０Ｂを投影型静電容量方式のタッチパネル１００に適用した例を示したが、その他、表面型静電容量方式のタッチパネルや、抵抗膜式のタッチパネルにも適用することができる。

なお、上述した本実施の形態に係る導電フィルム１０は、表示装置１０８のタッチパネル用の導電フィルムのほか、表示装置１０８の電磁波シールドフィルムや、表示装置１０８の表示パネル１１０に設置される光学フィルムとしても利用することができる。表示装置１０８としては液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬ、無機ＥＬ等が挙げられる。

次に、導電フィルム１０の製造方法について説明する。導電フィルム１０を製造する第１の方法としては、例えば透明基体１２に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施す。これにより、露光部及び未露光部にそれぞれ金属銀部及び光透過性部を形成して導電部１４を形成する。なお、さらに金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施して、金属銀部に導電性金属を担持させてもよい。

第２の方法は、透明基体１２上にめっき前処理材を用いて感光性被めっき層を形成し、その後、露光、現像処理した後にめっき処理を施す。これにより、露光部及び未露光部にそれぞれ金属部及び光透過性部を形成して導電部１４を形成する。さらに金属部に物理現像及び／又はめっき処理を施して、金属部に導電性金属を担持させてもよい。

めっき前処理材を用いる方法（第２の方法）のさらに好ましい形態としては、次の２通りの形態が挙げられる。なお、下記のより具体的な内容は、特開２００３−２１３４３７号公報、特開２００６−６４９２３号公報、特開２００６−５８７９７号公報、特開２００６−１３５２７１号公報等に開示されている。
（ａ） 透明基体１２上に、めっき触媒又はその前駆体と相互作用する官能基を含む被めっき層を塗布する。その後、露光・現像した後にめっき処理して金属部を被めっき材料上に形成させる。
（ｂ） 透明基体１２上に、ポリマー及び金属酸化物を含む下地層と、めっき触媒又はその前駆体と相互作用する官能基を含む被めっき層とをこの順に積層する。その後、露光・現像した後にめっき処理して金属部を被めっき材料上に形成させる。

第３の方法は、透明基体１２上に形成された金属箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成する。レジストパターンから露出する銅箔をエッチングして、導電部１４を形成する。

第４の方法は、透明基体１２上に金属微粒子を含むペーストを印刷する。その後、ペーストに金属めっきを行うことによって、メッシュパターンを形成する。

第５の方法は、透明基体１２上に、メッシュパターンをスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷形成する。

第６の方法は、透明基体１２上に、導電部１４をインクジェットにより形成する。

次に、本実施の形態に係る導電フィルム１０において、特に好ましい態様であるハロゲン化銀写真感光材料を用いる方法を中心にして述べる。

本実施の形態に係る導電フィルム１０の製造方法は、感光材料と現像処理の形態によって、次の３通りの形態が含まれる。
（１） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は熱現像して、金属銀部を該感光材料上に形成させる。
（２） 物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を溶解物理現像して、金属銀部を該感光材料上に形成させる。
（３） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して、金属銀部を非感光性受像シート上に形成させる。

上記（１）の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料上に光透過性導電膜等の透光性導電性膜が形成される。得られる現像銀は、化学現像銀又は熱現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で、後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。

上記（２）の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀粒子が溶解されて現像核上に沈積することによって、感光材料上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀は比表面の小さい球形である。

上記（３）の態様は、未露光部においてハロゲン化銀粒子が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって、受像シート上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。

いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる。拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる。

ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味である。すなわち、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」（共立出版社、１９５５年刊行）、Ｃ．Ｅ．Ｋ．Ｍｅｅｓ編「Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ， ４ｔｈ ｅｄ．」（Ｍｃｍｉｌｌａｎ社、１９７７年刊行）に解説されている。本件は液処理に係る発明であるが、その他の現像方式として熱現像方式を適用する技術も参考にすることができる。例えば、特開２００４−１８４６９３号、同２００４−３３４０７７号、同２００５−０１０７５２号の各公報、特願２００４−２４４０８０号、同２００４−０８５６５５号の各明細書に記載された技術を適用することができる。

ここで、本実施の形態に係る導電フィルム１０の各層の構成について、以下に詳細に説明する。

［透明基体１２］
透明基体１２としては、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等を挙げることができる。上記プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネイト、環状オレフィン（ＣＯＰ）等を用いることができる。透明基体１２としては、融点が約２９０℃以下であるプラスチックフィルム、又はプラスチック板が好ましい。特に、光透過性や加工性等の観点から、ＰＥＴが好ましい。

［銀塩乳剤層］
導電フィルム１０の金属細線１６となる銀塩乳剤層は、銀塩とバインダーの他、溶媒や染料等の添加剤を含有する。

本実施の形態に用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩及び酢酸銀等の有機銀塩が挙げられる。本実施の形態においては、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましい。

銀塩乳剤層の塗布銀量（銀塩の塗布量）は、銀に換算して１〜３０ｇ／ｍ²が好ましく、１〜２５ｇ／ｍ²がより好ましく、５〜２０ｇ／ｍ²がさらに好ましい。この塗布銀量を上記範囲とすることで、導電フィルム１０とした場合に所望の表面抵抗を得ることができる。

本実施の形態に用いられるバインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。

本実施の形態の銀塩乳剤層中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。銀塩乳剤層中のバインダーの含有量は、銀／バインダー体積比で１／４以上が好ましく、１／２以上がより好ましい。銀／バインダー体積比は、１００／１以下が好ましく、５０／１以下がより好ましい。また、銀／バインダー体積比は１／１〜４／１であることがさらに好ましい。１／１〜３／１であることが最も好ましい。銀塩乳剤層中の銀／バインダー体積比をこの範囲にすることで、塗布銀量を調整した場合でも抵抗値のばらつきを抑制することができる。その結果、均一な表面抵抗を有する導電フィルム１０を得ることができる。なお、銀／バインダー体積比は、原料のハロゲン化銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（重量比）に変換し、さらに、銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（体積比）に変換することで求めることができる。

＜溶媒＞
銀塩乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。

＜その他の添加剤＞
本実施の形態に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限は無く、公知のものを好ましく用いることができる。

［その他の層構成］
銀塩乳剤層の上に図示しない保護層を設けてもよい。また、銀塩乳剤層よりも下に、例えば下塗り層を設けることもできる。

次に、導電フィルム１０の作製方法の各工程について説明する。

［露光］
本実施の形態では、導電部１４を印刷方式によって施す場合を含むが、印刷方式以外は、導電部１４を露光と現像等によって形成する。すなわち、透明基体１２上に設けられた銀塩含有層を有する感光材料又はフォトリソグラフィ用フォトポリマーを塗工した感光材料への露光を行う。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。

［現像処理］
本実施の形態では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。本発明における現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。本発明における定着処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。

現像、定着処理を施した感光材料は、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ましい。

現像処理後の露光部に含まれる金属銀部の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。

以上の工程を経て導電フィルム１０は得られる。現像処理後の導電フィルム１０に対しては、さらにカレンダー処理を行ってもよい。カレンダー処理により、各透明導電層の表面抵抗を所望の表面抵抗（０．１〜１００オーム／ｓｑ．の範囲）に調整することができる。

［物理現像及びめっき処理］
本実施の形態では、前記露光及び現像処理により形成された金属銀部の導電性を向上させる目的で、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／又はめっき処理を行ってもよい。本発明では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属銀部に担持させてもよく、物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部に担持させてもよい。なお、金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施したものを含めて「導電性金属部」と称する。

本実施の形態における「物理現像」とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオン等の金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタントＢ＆Ｗフィルム、インスタントスライドフィルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。また、物理現像は、露光後の現像処理と同時に行っても、現像処理後に別途行ってもよい。

本実施の形態において、めっき処理は、無電解めっき（化学還元めっきや置換めっき）、電解めっき、又は無電解めっきと電解めっきの両方を用いることができる。本実施の形態における無電解めっきは、公知の無電解めっき技術を用いることができ、例えば、プリント配線板等で用いられている無電解めっき技術を用いることができ、無電解めっきは無電解銅めっきであることが好ましい。

［酸化処理］
本実施の形態では、現像処理後の金属銀部、並びに、物理現像及び／又はめっき処理によって形成された導電性金属部には、酸化処理を施すことが好ましい。酸化処理を行うことにより、例えば、光透過性部に金属が僅かに沈着していた場合に、該金属を除去し、光透過性部の透過性をほぼ１００％にすることができる。

［導電性金属部］
本実施の形態の導電性金属部の線幅（金属細線１６の線幅）は、３０μｍ以下から選択可能である。導電フィルム１０をタッチパネルとして使用する場合には、金属細線１６の線幅は０．１μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。より好ましくは１μｍ以上９μｍ以下であり、さらに好ましくは２μｍ以上７μｍ以下である。線幅が上記下限値未満の場合には、導電性が不十分となるためタッチパネルに使用した場合に、検出感度が不十分となる。他方、上記上限値を越えると導電性金属部に起因するモアレが顕著になったり、タッチパネルに使用した際に視認性が悪くなったりする。なお、上記範囲にあることで、導電性金属部のモアレが改善され、視認性が特によくなる。セルの一辺の長さは１００μｍ以上８００μｍ以下であることが好ましい。さらに好ましくは１００μｍ以上４００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以上３００μｍ以下、最も好ましくは２１０μｍ以上２５０μｍ以下である。また、導電性金属部は、アース接続等の目的においては、線幅は２００μｍより広い部分を有していてもよい。

本実施の形態における導電性金属部は、可視光透過率の点から開口率は８０％以上であることが好ましい。さらに好ましくは８５％以上であり、最も好ましくは９０％以上である。開口率とは、金属細線を除いた透光性部分が全体に占める割合である。

［光透過性部］
本実施の形態における「光透過性部」とは、導電フィルム１０のうち導電性金属部以外の透光性を有する部分を意味する。露光方法に関しては、ガラスマスクを介した方法やレーザー描画によるパターン露光方式が好ましい。

［導電フィルム１０］
本実施の形態に係る導電フィルム１０における透明基体１２の厚さは、５〜３５０μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。５〜３５０μｍの範囲であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。

透明基体１２上に設けられる金属銀部の厚さは、透明基体１２上に塗布される銀塩含有層用塗料の塗布厚みに応じて適宜決定することができる。金属銀部の厚さは、０．００１ｍｍ〜０．２ｍｍから選択可能であるが、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましい。さらに好ましくは０．０１〜９μｍであり、最も好ましくは０．０５〜５μｍである。また、金属銀部はパターン状であることが好ましい。金属銀部は１層でもよく、２層以上の重層構成であってもよい。金属銀部がパターン状であり、且つ、２層以上の重層構成である場合、異なる波長に感光できるように、異なる感色性を付与することができる。これにより、露光波長を変えて露光すると、各層において異なるパターンを形成することができる。

導電性金属部の厚さは、タッチパネル１００の用途としては、薄いほど表示パネル１１０の視野角が広がるため好ましく、視認性の向上の点でも薄膜化が要求される。このような観点から、導電性金属部に担持された導電性金属からなる層の厚さは、９μｍ未満であることが好ましい。より好ましくは０．１μｍ以上５μｍ未満であり、さらに好ましくは０．１μｍ以上３μｍ未満である。

本実施の形態では、上述した銀塩含有層の塗布厚みをコントロールすることにより所望の厚さの金属銀部を形成し、さらに物理現像及び／又はめっき処理により導電性金属粒子からなる層の厚みを自在にコントロールすることができる。そのため、５μｍ未満、好ましくは３μｍ未満の厚みを有する導電フィルムであっても容易に形成することができる。

なお、本実施の形態に係る導電フィルム１０の製造方法では、めっき等の工程は必ずしも行う必要はない。本実施の形態に係る導電フィルム１０の製造方法では銀塩乳剤層の塗布銀量、銀／バインダー体積比を調整することで所望の表面抵抗を得ることができるからである。なお、必要に応じてカレンダー処理等を行ってもよい。

（現像処理後の硬膜処理）
銀塩乳剤層に対して現像処理を行った後に、硬膜剤に浸漬して硬膜処理を行うことが好ましい。硬膜剤としては、例えば、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン等のジアルデヒド類及びほう酸等の特開平２−１４１２７９号公報に記載のものを挙げることができる。

本実施の形態に係る導電フィルム１０には、反射防止層やハードコート層等の機能層を付与してもよい。

［カレンダー処理］
現像処理済みの金属銀部にカレンダー処理を施して平滑化するようにしてもよい。これによって金属銀部の導電性が顕著に増大する。カレンダー処理は、カレンダーロールにより行うことができる。カレンダーロールは通常一対のロールからなる。

カレンダー処理に用いられるロールとしては、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等のプラスチックロール又は金属ロールが用いられる。特に、両面に乳剤層を有する場合は、金属ロール同士で処理することが好ましい。片面に乳剤層を有する場合は、シワ防止の点から金属ロールとプラスチックロールの組み合わせとすることもできる。線圧力の上限値は１９６０Ｎ／ｃｍ（２００ｋｇｆ／ｃｍ、面圧に換算すると６９９．４ｋｇｆ／ｃｍ²）以上、さらに好ましくは２９４０Ｎ／ｃｍ（３００ｋｇｆ／ｃｍ、面圧に換算すると９３５．８ｋｇｆ／ｃｍ²）以上である。線圧力の上限値は、６８８０Ｎ／ｃｍ（７００ｋｇｆ／ｃｍ）以下である。

カレンダーロールで代表される平滑化処理の適用温度は１０℃（温調なし）〜１００℃が好ましい。より好ましい温度は、金属メッシュパターンや金属配線パターンの画線密度や形状、バインダー種によって異なるが、おおよそ１０℃（温調なし）〜５０℃の範囲にある。

なお、本発明は、下記表１及び表２に記載の公開公報及び国際公開パンフレットの技術と適宜組合わせて使用することができる。「特開」、「号公報」、「号パンフレット」等の表記は省略する。

以下に、本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

この実施例では、実施例１〜８並びに比較例１〜４に係る導電フィルムについて、モアレの改良効果、視認性、ランダム性及び開口率を評価した。評価結果を後述する表３に示す。

＜実施例１〜８、比較例１〜４＞
（ハロゲン化銀感光材料）
水媒体中のＡｇ１５０ｇに対してゼラチン１０．０ｇを含む、球相当径平均０．１μｍの沃臭塩化銀粒子（Ｉ＝０．２モル％、Ｂｒ＝４０モル％）を含有する乳剤を調製した。

また、この乳剤中にはＫ₃Ｒｈ₂Ｂｒ₉及びＫ₂ＩｒＣｌ₆を濃度が１０^-7（モル／モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子にＲｈイオンとＩｒイオンをドープした。この乳剤にＮａ₂ＰｄＣｌ₄を添加し、さらに塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った。その後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量が１０ｇ／ｍ²となるように透明基体（ここでは、共にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））上に塗布してハロゲン化銀感光材料を得た。この際、Ａｇ／ゼラチン体積比は２／１とした。

（露光）
露光は、実施例１〜８、比較例１〜４についてそれぞれ決定された露光パターンで、ハロゲン化銀感光材料に対して行った。露光は上記パターンのフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光した。

（現像処理）
・現像液１Ｌ処方
ハイドロキノン ２０ ｇ
亜硫酸ナトリウム ５０ ｇ
炭酸カリウム ４０ ｇ
エチレンジアミン・四酢酸 ２ ｇ
臭化カリウム ３ ｇ
ポリエチレングリコール２０００ １ ｇ
水酸化カリウム ４ ｇ
ｐＨ １０．３に調整
・定着液１Ｌ処方
チオ硫酸アンモニウム液（７５％） ３００ ｍｌ
亜硫酸アンモニウム・１水塩 ２５ ｇ
１，３−ジアミノプロパン・四酢酸 ８ ｇ
酢酸 ５ ｇ
アンモニア水（２７％） １ ｇ
ｐＨ ６．２に調整

上記処理剤を用いて露光済み感材を、富士フィルム社製自動現像機 ＦＧ−７１０ＰＴＳを用いて処理条件：現像３５℃ ３０秒、定着３４℃ ２３秒、水洗 流水（５Ｌ／分）の２０秒処理で行った。

（実施例１：図１０Ａ）
図１０Ａに示すように、１つのセル２８の形状が正方形、セル２８を構成する金属細線１６の線幅が５μｍ、１つのセル２８の抵抗率が４．１６×１０^-7オーム／ｓｑ．、平均セルサイズＬｓａｖｅが２１２．１μｍである。セル２８の一辺の長さＬｄは、平均が１５０μｍ、ランダム率が８％で、１３８〜１６２μｍを連続一様分布で選択した。透明導電層１８の最大電極幅Ｌｍａｘは１．６ｍｍ、最小電極幅Ｌｍｉｎは１．０ｍｍである。従って、平均セルサイズＬｓａｖｅは、最小電極幅Ｌｍｉｎの１／４．７１である。なお、透明導電層１８には輪郭線（実線）を図示してあるが、実際には存在しない。以下同じである。

平均セルサイズは次のようにして求めた。すなわち、図１０Ａに示すように、一方向に連続して並ぶ３つの電極（電極１〜電極３）のＳＥＭ画像を取得した。ＳＥＭ画像から３つの電極の全セルサイズを画像処理にて求めてその合計値を算出し、該合計値をセルの個数で除算して平均セルサイズを求めた。最小電極幅は次のようにして求めた。すなわち、上述の３つの電極のＳＥＭ画像から、全最小電極幅を画像処理にて求めてその合計値を算出した。該合計値を電極の数（この場合、３つ）で除算して最小電極幅を求めた。この算出方法は、以下に示す実施例２〜８、比較例１〜４においても同様である。

以下の説明において、最も幅の広い部分２６ｂから幅が徐々に狭くなる部分２６ｃにかけての領域を「特定領域」と記す。

上記特定領域を構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅと、最も幅の狭い部分２６ａを構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅとの比（表３では「平均セルサイズの比」と表記）は、０．９〜１．１の範囲であった。

この場合も、一方向に連続して並ぶ３つの電極（電極１〜電極３）のＳＥＭ画像から、上記特定領域を構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅと、最も幅の狭い部分２６ａを構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅを画像処理と平均値計算で求めて、上述の平均セルサイズの比を求めた。

（実施例２）
平均セルサイズＬｓａｖｅが２００．０μｍであって、最小電極幅Ｌｍｉｎの１／５である点で実施例１と異なる。セル２８の一辺の長さＬｄは、標準長さが１４１μｍ、ランダム率が８％で、１３０〜１５２μｍを連続一様分布で選択した。

（実施例３）
平均セルサイズＬｓａｖｅが１００．０μｍであって、最小電極幅Ｌｍｉｎの１／１０である点で実施例１と異なる。セル２８の一辺の長さＬｄは、標準長さが７１μｍ、ランダム率が８％で、６５〜７７μｍを連続一様分布で選択した。

（実施例４）
ランダム率が１０％である点で実施例１と異なる。従って、セル２８の一辺の長さＬｄは、１３５〜１６５μｍを連続一様分布で選択した。

（実施例５）
図１０Ｂ（図１０Ａとは縮尺が異なっている）に示すように、ランダム率が２０％である点で実施例１と異なる。従って、セル２８の一辺の長さＬｄは、１２０〜１８０μｍを連続一様分布で選択した。

（実施例６）
ランダム率が２％である点で実施例１と異なる。従って、セル２８の一辺の長さＬｄは、１４７〜１５３μｍを連続一様分布で選択した。

（実施例７）
ランダム率が２５％である点で実施例１と異なる。従って、セル２８の一辺の長さＬｄは、１１３〜１８７μｍを連続一様分布で選択した。

（実施例８）
ランダム率が１％である点で実施例１と異なる。従って、セル２８の一辺の長さＬｄは、１４９〜１５１μｍを連続一様分布で選択した。

（比較例１）
図１１Ａに示すように、ランダム率が０％であって、セルサイズＬｓが一様である点で実施例１と異なる。

（比較例２）
実施例１と異なる点は以下の通りである。図１１Ｂ（図１１Ａとは縮尺が異なっている）に示すように、上記特定領域を構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅが２１２．１μｍである。最も幅の狭い部分２６ａを構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅが２８２．８μｍである。表３では「２１２．１（２８２．８）」と表記した。これらの比（平均セルサイズの比）は１．３３である。平均セルサイズＬｓａｖｅ（この場合、最も幅の狭い部分２６ａの平均セルサイズ）が、最小電極幅Ｌｍｉｎの１／３．５４である。

（比較例３）
図１２Ａに、電極２６の一部を示すように、平均セルサイズＬｓａｖｅが２８．３μｍであって、最小電極幅Ｌｍｉｎの１／３５．３である点で実施例１と異なる。

（比較例４）
図１２Ｂに示すように、平均セルサイズＬｓａｖｅが３５３．５μｍであって、最小電極幅Ｌｍｉｎの１／２．８である点で実施例１と異なる。

〔評価〕
（開口率の算出）
透明性の良否を確認するために、実施例１〜８並びに比較例１〜４について、それぞれ導電フィルム１０の透過率を分光光度計を用いて測定し、さらに比例計算によって開口率を算出した。

（視認性の評価）
実施例１〜８並びに比較例１〜４について、導電フィルム１０を表示装置１０８の表示パネル１１０上に貼り付けた後、表示装置１０８を駆動して白色を表示させる。その際に、線太りや黒い斑点がないかどうか、また、まだら模様等が目立つかどうかを肉眼で確認した。「Ａ」、「Ｂ」、「Ｃ」の順で視認性が優れていることを示し、この場合、「Ａ」が最も視認性が優れていることを示す。

（モアレの評価）
実施例１〜８並びに比較例１〜４について、導電フィルム１０を表示装置１０８の表示パネル１１０上に貼り付けた後、表示装置１０８を回転盤に設置し、表示装置１０８を駆動して白色を表示させる。その状態で、回転盤をバイアス角−２０°〜＋２０°の間で回転し、モアレの目視観察・評価を行った。

モアレの評価は、表示装置１０８の表示画面から観察距離０．５ｍで行い、モアレが顕在化しなかった場合をα、モアレが問題のないレベルでほんの少し見られた場合をβ、モアレが顕在化した場合をγとした。そして、総合評点として、αとなる角度範囲が１０°以上の場合をＡ、αとなる角度範囲が１０°未満の場合はＢ、αとなる角度範囲がなくγとなる角度範囲が３０°未満の場合はＣ、αとなる角度範囲がなくγとなる角度範囲が３０°以上ある場合をＤとした。

（ランダム性の評価）
図１０Ａ〜図１１Ｂ、図１２Ｂ等に示すように、一方向に連続して並ぶ３つの電極（電極１〜電極３）の端部中央にそれぞれ直径０．２ｍｍの導体（導体ａ〜ｄ）を置いた。その後、導体ａ及び導体ｂ間の抵抗１、導体ｂ及び導体ｃ間の抵抗２、導体ｃ及び導体ｄ間の抵抗３を測定した。そして、３つの電極の各抵抗値のうち、最大値をＲｍａｘ、最小値をＲｍｉｎ、各抵抗値の平均値をＲａｖｅとして、抵抗ばらつきを下記式から求めた。
抵抗ばらつき（％）＝｛（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／Ｒａｖｅ｝×１００

この抵抗ばらつきをランダム性の評価とした。抵抗ばらつきが低いほどランダム性が良好であることを示す。

表３から、実施例１〜４及び６は、いずれもモアレ改良効果がＢ評価（良好）であり、視認性も良好であった。また、抵抗ばらつきも５．０％以下で良好であり、開口率も９０％以上であった。実施例５は、モアレ改良効果がＡ評価で最も良好であった。ただ、ランダム率が２０％であったため、他の実施例と比して、メッシュ状のむらが少し目立っていた。これは、抵抗ばらつきにも影響しており、他の実施例よりも僅かにばらつきが大きかった。もちろん、実用的には問題のないレベルである。実施例７は、他の実施例（実施例１〜４及び６）と比して、メッシュ状のむらが少し目立っていたが、モアレ改良効果がＢ評価（良好）であり、抵抗ばらつきも６．０％で良好であり、開口率も９０％以上であった。実施例８は、他の実施例（実施例１〜４及び６）と比して、モアレ改良効果がＣ評価であったが、視認性が良好であり、抵抗ばらつきも０．５％で良好であり、開口率も９０％以上であった。

比較例１は、ランダム率が０％であるため、モアレ改良効果が最も低くかった。比較例２は、上述した平均セルサイズの比が１．３３であったため、幅が徐々に狭くなる部分と最も幅の狭い部分との境界が目立つと共に、まだら模様も視認された。なお、開口率の９４．７％（９６．０％）のうち、９４．７％は、上記特定領域の開口率を示し、９６．０％は、最も幅の狭い部分２６ａの開口率を示す。比較例３は、モアレ改良効果及び抵抗ばらつきが良好であったが、開口率が６０．０％と低く、視認性も悪く、特に、透明性の点で実用レベルでないことがわかった。比較例４は、モアレ改良効果、視認性及び開口率が共に良好であったが、抵抗ばらつきが３２．２％と大きく、タッチ位置の検出精度の点で問題があることがわかった。

上述のことから、以下のことがわかる。平均セルサイズＬｓａｖｅは、最小電極幅Ｌｍｉｎの１／３０以上１／３未満が好ましく、さらに好ましくは１／１０以上１／３未満、より好ましくは１／５以上１／３未満である。セル２８を構成する一辺のランダム率は、好ましくは２％以上２０％以下であり、より好ましくは４％以上１０％以下であり、さらに好ましくは６％以上８％以下である。電極２６のうち、上記特定領域を構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅと、最も幅の狭い部分２６ａを構成する複数のセル２８の平均セルサイズＬｓａｖｅとの比は０．９〜１．１である。

上述した実施例１〜６に係る導電フィルムを用いてそれぞれ投影型静電容量方式のタッチパネルを作製した。指で触れて操作したところ、応答速度が速く、検出感度に優れることがわかった。また、２点以上をタッチして操作したところ、同様に良好な結果が得られ、マルチタッチにも対応できることが確認できた。

本発明に係る導電フィルムは、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。

Claims (13)

1. 一方向に延びる複数の電極（２６）を有する透明導電層（１８）を有し、
   前記電極（２６）は、電極幅が場所によって一定ではなく、且つ、金属細線（１６）による複数の多角形のセル（２８）で構成され、
   各前記セル（２８）のサイズは、一様ではなく、
   前記セル（２８）の平均サイズは、前記電極（２６）の最も狭い幅の１／３０以上１／３未満であり、
   前記電極（２６）全体において、前記セル（２８）の平均サイズが均一であることを特徴とする導電フィルム。
2. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
   前記セル（２８）の平均サイズは、前記電極（２６）の最も狭い幅の１／１０以上１／３未満であることを特徴とする導電フィルム。
3. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
   前記セル（２８）の平均サイズは、前記電極（２６）の最も狭い幅の１／５以上１／３未満であることを特徴とする導電フィルム。
4. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
   前記電極（２６）の最も狭い幅は、０．５〜２．０ｍｍであることを特徴とする導電フィルム。
5. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
   前記セル（２８）を構成する一辺のランダム率は、２％以上２０％以下であることを特徴とする導電フィルム。
6. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
   前記セル（２８）を構成する一辺のランダム率は、４％以上１０％以下であることを特徴とする導電フィルム。
7. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
   前記電極（２６）のうち、前記最も幅の狭い部分（２６ａ）を構成する複数の前記セル（２８）の平均サイズと、前記電極（２６）のうち、前記最も幅の狭い部分（２６ａ）を除く部分を構成する複数の前記セル（２８）の平均サイズとの比は、０．９〜１．１であることを特徴とする導電フィルム。
8. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
   任意に選択した複数の前記電極（２６）の各抵抗値のうち、最大値をＲｍａｘ、最小値をＲｍｉｎとし、各抵抗値の平均値をＲａｖｅとしたとき、
   ｛（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／Ｒａｖｅ｝×１００
   で示される抵抗ばらつきが１０％未満であることを特徴とする導電フィルム。
9. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
   任意に選択した複数の前記電極（２６）の各抵抗値のうち、最大値をＲｍａｘ、最小値をＲｍｉｎとし、各抵抗値の平均値をＲａｖｅとしたとき、
   ｛（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／Ｒａｖｅ｝×１００
   で示される抵抗ばらつきが５％以下であることを特徴とする導電フィルム。
10. 請求項８又は９記載の導電フィルムにおいて、
    任意に選択した複数の前記電極（２６）は、一方向に連続して並ぶ３つの電極であることを特徴とする導電フィルム。
11. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
    前記透明導電層（１８）を構成する複数の前記セル（２８）のうち、配線（２２）との接続部（２０）に接続されたセル（２８）のサイズが同一であることを特徴とする導電フィルム。
12. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
    前記セル（２８）を構成する一辺の長さは、１００μｍ以上８００μｍ以下であることを特徴とする導電フィルム。
13. 請求項１記載の導電フィルムにおいて、
    前記金属細線（１６）の線幅は０．１μｍ以上１５μｍ以下であることを特徴とする導電フィルム。

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