JP5749269B2 - ネガ型輻射線感応性リソグラフィック印刷プレートのための輻射線感応性コーティング組成物用のコポリマー、前記コポリマーを含むポリマー粒子、及びコポリマーバインダー - Google Patents
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- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims description 134
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 57
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 52
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 49
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 34
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 20
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 title description 46
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 203
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 103
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 58
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 48
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 48
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 45
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 42
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 42
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 42
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 claims description 40
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 claims description 35
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 34
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 33
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical group NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 32
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 29
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 27
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 24
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 22
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims description 22
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 21
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 20
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 18
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 16
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 15
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 11
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 claims description 10
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 claims description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N propylene glycol Substances CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 claims description 8
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- XMYQHJDBLRZMLW-UHFFFAOYSA-N methanolamine Chemical compound NCO XMYQHJDBLRZMLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 206010011703 Cyanosis Diseases 0.000 claims description 3
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 31
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 30
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 28
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 19
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 alkyl methacrylates Chemical class 0.000 description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropan-1-ol Chemical compound COC(C)CO YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical group N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KZRAAPTWXAMZHQ-UHFFFAOYSA-N methoxymethanamine Chemical compound COCN KZRAAPTWXAMZHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YOZHLACIXDCHPV-UHFFFAOYSA-N n-(methoxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound COCNC(=O)C(C)=C YOZHLACIXDCHPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N n-(methoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound COCNC(=O)C=C ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKXNMJGAFLJIFV-UHFFFAOYSA-N 2-(3-cyanopropanoylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCNC(CCC#N)=O XKXNMJGAFLJIFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1(3H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)OCC2=C1 WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 2
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 2
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 2
- XTUSEBKMEQERQV-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;hydrate Chemical compound O.CC(C)O XTUSEBKMEQERQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001542 size-exclusion chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005420 sulfonamido group Chemical group S(=O)(=O)(N*)* 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 2
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- YMZVFFIXEPBLJX-UHFFFAOYSA-N 3-(4-butyl-2-methyl-1h-indol-3-yl)-3-(2-methyl-1-octylindol-3-yl)-2-benzofuran-1-one Chemical compound C1=CC(CCCC)=C2C(C3(C4=CC=CC=C4C(=O)O3)C3=C(C)N(C4=CC=CC=C43)CCCCCCCC)=C(C)NC2=C1 YMZVFFIXEPBLJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJQFCQXFOHVYQJ-PMACEKPBSA-N BF 4 Chemical compound C1([C@@H]2CC(=O)C=3C(O)=C(C)C4=C(C=3O2)[C@H](C(C)C)C2=C(O4)C(C)=C(C(C2=O)(C)C)OC)=CC=CC=C1 NJQFCQXFOHVYQJ-PMACEKPBSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNVKKFBRPWLSCJ-UHFFFAOYSA-N Echinocystinsaeure-lacton Natural products CC1(C)CCC23C(O)CC4(C)C5(C)CCC6C(C)(C)C(O)CCC6(C)C5CCC4(OC2=O)C3C1 YNVKKFBRPWLSCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 241000677635 Tuxedo Species 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005264 aryl amine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005228 aryl sulfonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- CEZCCHQBSQPRMU-UHFFFAOYSA-L chembl174821 Chemical compound [Na+].[Na+].COC1=CC(S([O-])(=O)=O)=C(C)C=C1N=NC1=C(O)C=CC2=CC(S([O-])(=O)=O)=CC=C12 CEZCCHQBSQPRMU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical group [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- FWQHNLCNFPYBCA-UHFFFAOYSA-N fluoran Chemical compound C12=CC=CC=C2OC2=CC=CC=C2C11OC(=O)C2=CC=CC=C21 FWQHNLCNFPYBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- GOCLJAKNIYYTMF-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-[2-(2-octoxyphenyl)-6-phenylpyridin-4-yl]aniline Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=CC=C1C1=CC(C=2C=CC(=CC=2)N(C)C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GOCLJAKNIYYTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen(.) Chemical compound [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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Description
1.
・シアノ含有ペンダント(pendant)基を含み、そのシアノがコポリマーの骨格に直接結合していないモノマー単位A;
・フィルム形成性ペンダント基を含むモノマー単位B;
・ポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)を含む側鎖を含み、その側鎖が、アミド、カルバメート、エステル、又はウレア連結基を介してコポリマーの骨格に結合されているモノマー単位C;並びに
・任意選択により場合によっては、カチオン重合によって架橋反応をすることができる少なくとも1つの官能基を含んでいてもよいモノマーD、
を含むコポリマー。
下記式:
・a、c、及びdは、約0.01〜約0.90の範囲のモル比であり;
・b及びeは、約0〜約0.90の範囲のモル比であり;
・A1はモノマー単位Aを表し;
・A2はモノマー単位A又はモノマー単位Bを表し;
・A3はモノマー単位Cを表し;
・A4はモノマー単位Bを表し;且つ
・A5はモノマー単位B又はモノマー単位Dを表し、
A1及びA2のモノマー単位Aは互いに異なり、
A2、A4、及びA5のモノマー単位Bは互いに異なる。)
である、上記1のコポリマー。
モノマー単位Aが下記式:
・Rは、水素、メチル、又はエチルであり;
・R1は存在しないか、又は1〜4つのアルキルもしくはアルコキシ置換基を表し、そのアルキル及びアルコキシ置換基は任意選択で場合によっては1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよく、そのアルキル及びアルコキシ置換基は任意選択で場合によっては1つ以上のシアノで置換されていてもよく;
・U1はアミド又はエステル連結基であり;
・V1は存在しないか、又は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、又はカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルを表し、そのアルキルは任意選択により1つ以上のシアノで置換されていてもよく;且つ
・Wは−CN又は
で表される、上記1又は2のコポリマー。
モノマー単位Aが下記式:
で表される、上記3のコポリマー。
下記式:
・Rは、水素、メチル、又はエチルであり;
・U3は存在しないか、又はアミドもしくはエステル連結基を表し;且つ
・Zはアルキル又はアリールであり;
そのアルキルは任意選択により1つ以上のヒドロキシル、アルコキシ、又はハライドで置換されていてもよく;且つ
そのアリールは、任意選択により1つ以上のヒドロキシル、アルコキシ、又はハライドで置換されていてもよい1つ以上のアルキルで、任意選択により場合によっては置換されていてもよい。)
のモノマー単位Bを含む、上記1〜4のいずれかのコポリマー。
下記式:
Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・R1は存在しないか、又は1〜4つのアルキル置換基を表し;そのアルキル置換基は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、又はカルバメート官能基を含んでいてもよく;
・U4は存在しないか、又はアミドもしくはエステル連結基を表し;
・V4は存在しないか、又は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルを表し;かつ
・Aは−COOH、−PO(OH)2、
で表されるモノマー単位Bを含む、上記1〜5のいずれかのコポリマー。
モノマー単位Bが下記式:
・Rは水素又はメチルであり;
・R1は水素又はアルキルであり;且つ
・xは1〜10の範囲の繰り返し単位の数である。)
で表される、上記1〜6のいずれか一つのコポリマー。
モノマー単位Cが、シアノ基含有置換基、ヒドロキシル基、又はメトキシ基で末端封止されている、上記1〜7のいずれか一つのコポリマー。
モノマー単位Cが下記式:
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・Jは存在しないか、又はアミド、エステル、カルバメート、又はウレア連結基を表し;且つ
・K及びLは一緒になって側鎖を形成し、Kはポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)鎖を含み、且つLは、−OH、−OCH3、−CN、又は
R1は存在しないか、又は1〜4つのアルキルもしくはアルキルオキシ置換基を表し、そのアルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択で1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよく、そのアルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択で1つ以上のシアノで置換されていてもよく;且つ
V1は存在しないか、又は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルを表し、そのアルキルは任意選択で1つ以上のシアノで置換されていてもよい。)
である。〕
で表される、上記8のコポリマー。
1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート連結基が、上記のポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)鎖の一方又は両方の末端に結合している、上記9のコポリマー。
アルキルが、上記のポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)鎖の一方又は両方の末端に結合しており、そのアルキルが任意選択で1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよい、上記9又は10のコポリマー。
モノマー単位Cが下記式:
・Rは独立に水素、メチル、又はエチルであり;
・x、y、及びnは1〜20の範囲であり;
・zは0〜20の範囲であり;
・Qは独立に−O−、
・Gは、
ヒドロキシル、
メトキシ、
であり、且つ
Q及びG中のR1は水素又はアルキルである。〕
で表される、上記1〜11のいずれかのコポリマー。
カチオン重合によって架橋反応をしうる少なくとも1つの官能基が、N−アルコキシメチルアミド(例えば、N−メトキシメチルアミド)、N−ヒドロキシメチルアミド、N−アルコキシメチルアクリルアミド(例えば、N−メトキシメチルアクリルアミド)、N−アルコキシメチルメタクリルアミド(例えば、N−メトキシメチルメタクリルアミド)、ヒドロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、エポキシ、又はオキセタンである、上記1〜12のいずれかのコポリマー。
モノマー単位Dが下記式:
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・Eは存在しないか、又はアミドもしくはエステル連結基を表し;
・Fは、任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルであるか、あるいは、ポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)鎖であって、その鎖は任意選択で1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルと一方もしくは両方の末端で結合していてもよく;且つ
・Gはカチオン重合によって架橋反応をすることができる官能基である。)
で表される、上記12のコポリマー。
モノマー単位Dが下記式:
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・R1は水素又はアルキルであり;且つ
・m及びnは1〜50の範囲である。)
で表される、上記1〜14のいずれかのコポリマー。
A5がモノマー単位Dを表す、上記1〜15のいずれかのコポリマー。
ポリマー粒子の形態である、上記1〜16のいずれかのコポリマー。
上記のポリマー粒子が約80〜約1000nmの範囲の粒径を有する、上記17のコポリマー。
上記のポリマー粒子が約150〜約300nmの範囲の粒径を有する、上記18のコポリマー。
・シアノ含有ペンダント基を含み、そのシアノがコポリマーバインダーの骨格に直接結合していないモノマー単位A;
・フィルム形成性ペンダント基を含むモノマー単位B;及び
・任意選択により場合によっては、カチオン重合によって架橋反応をすることができる少なくとも1つの官能基を含むモノマーD、
を含むコポリマーバインダー。
下記式:
・a及びdは、約0.01〜約0.90の範囲のモル比であり;
・b及びeは、約0〜約0.90の範囲のモル比であり;
・A1はモノマー単位Aを表し;
・A2はモノマー単位A又はモノマー単位Bを表し;
・A4はモノマー単位Bを表し;且つ
・A5はモノマー単位B又はモノマー単位Dを表し、
A1及びA2のモノマー単位Aは互いに独立しており、
A2、A4、及びA5のモノマー単位Bは互いに独立である。)
である、上記20のコポリマーバインダー。
モノマー単位Aが下記式:
・Rは、水素、メチル、又はエチルであり;
・R1は存在しないか、又は1〜4つのアルキルもしくはアルキルオキシ置換基を表し、そのアルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択で場合によっては1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよく、そのアルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択で場合により1つ以上のシアノで置換されていてもよく;
・U1はアミド又はエステル連結基であり;
・V1は存在しないか、又は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、又はカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルを表し、そのアルキルは任意選択により1つ以上のシアノで置換されていてもよく;且つ
・Wは−CN又は
で表される、上記20又は21のコポリマーバインダー。
モノマー単位Aが下記式:
で表される、上記20〜22のコポリマーバインダー。
下記式:
・Rは、水素、メチル、又はエチルであり;
・U3は存在しないか、又はアミドもしくはエステル連結基であり;且つ
・Zはアルキル又はアリールであり;
そのアルキルは任意選択により1つ以上のヒドロキシル、アルキルオキシ、又はハライドで置換されていてもよく;且つ
そのアリールは、任意選択により1つ以上のヒドロキシル、アルキルオキシ、又はハライドで置換されていてもよい1つ以上のアルキルで、任意選択により場合によっては置換されていてもよい。)
のモノマー単位Bを含む、上記20〜23のいずれかのコポリマーバインダー。
コポリマーバインダーのモノマー単位Bが下記式:
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・R1は存在しないか、又は1〜4つのアルキル置換基を表し;そのアルキル置換基は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、又はカルバメート官能基を含んでいてもよく;
・U4は存在しないか、又はアミドもしくはエステル連結基を表し;
・V4は存在しないか、又は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルを表し;かつ
・Aは−COOH、−PO(OH)2、
である上記20〜24のいずれかのコポリマーバインダー。
モノマー単位Bが下記式:
・Rは水素又はメチルであり;
・R1は水素又はアルキルであり;且つ
・xは1〜10の範囲の繰り返し単位の数である。)
で表される、上記20〜25のいずれかのコポリマーバインダー。
カチオン重合によって架橋反応をしうる少なくとも1つの官能基が、N−アルコキシメチルアミド(例えば、N−メトキシメチルアミド)、N−ヒドロキシメチルアミド、N−アルコキシメチルアクリルアミド(例えば、N−メトキシメチルアクリルアミド)、N−アルコキシメチルメタクリルアミド(例えば、N−メトキシメチルメタクリルアミド)、ヒドロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、エポキシ、又はオキセタンである、上記20〜26のいずれかのコポリマーバインダー。
モノマー単位Dが下記式:
・Rは水素、メチル、又はエチルであり、
・Eは存在しないか、又はアミドもしくはエステル連結基を表し、
・Fは、任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルであるか、あるいは、ポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)鎖であって、その鎖は、任意選択で1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルと一方もしくは両方の末端で結合していてもよく、
・Gはカチオン重合によって架橋反応をすることができる官能基である。)
で表される、上記27のコポリマーバインダー。
モノマー単位Dが下記式:
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・R1は水素又はアルキルであり;且つ
・m及びnは1〜50の範囲である。)
で表される、上記20〜28のいずれかのコポリマーバインダー。
A5がモノマー単位Dを表す、上記20〜29のいずれかのコポリマーバインダー。
・上記1〜19のいずれか一つで定義されたコポリマー及び/又は上記20〜30のいずれか一つで定義されたコポリマーバインダー;
・フリーラジカル及び/又は酸を発生させる化合物;
・近赤外線吸収性化合物;及び
・場合により、任意選択による添加物、
を含む、ネガ型で機能するリソグラフィック印刷プレートのための輻射線感応性コーティング組成物。
約20〜約60w/w%の上記コポリマーを含む、31のコーティング組成物。
約2〜約30w/w%の上記コポリマーバインダーを含む、31又は32のコーティング組成物。
近赤外輻射線感応性コーティングを含むネガ型リソグラフィックオフセット印刷プレートであって、そのコーティングが上記31〜33のいずれかで定義されたコーティング組成物から調製されている印刷プレート。
近赤外輻射線感応性コーティングを含むネガ型リソグラフィックオフセット印刷プレートであって、そのコーティングが
・上記1〜19のいずれか一つで定義されたコポリマー及び/又は上記20〜30のいずれか一つで定義されたコポリマーバインダー;
・フリーラジカル及び/又は酸を発生させる化合物;
・近赤外線吸収性染料;及び
・場合により、任意選択による添加剤、
を含む印刷プレート。
上記1、3、4、20、22、及び23のいずれか一つで定義されたモノマー単位Aに相当するモノマー。
上記1、5〜7、20、及び24〜26のいずれか一つで定義されたモノマー単位Bに相当するモノマー。
上記1及び8〜12のいずれか一つで定義されたモノマー単位Cに相当するモノマー。
上記1、13〜15、20、及び27〜29のいずれか一つで定義されたモノマー単位Dに相当するモノマー。
コポリマー
であることはできない。むしろこのモノマー単位は式:
で表されることができる。
・シアノ含有ペンダント(pendant)基を含み、そのシアノがコポリマーの骨格に直接結合していないモノマー単位A;
・フィルム形成性ペンダント基を含むモノマー単位B;
・ポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)を含む側鎖を含み、その側鎖が、アミド、カルバメート、エステル、又はウレア連結基を介してコポリマーの骨格に結合されているモノマー単位C;並びに
・任意選択成分として場合によっては、カチオン重合によって架橋反応をすることができる少なくとも1つの官能基を含むモノマー単位D、
を含む。
・a、c、及びdは、約0.01〜約0.90の範囲のモル比であり;
・b及びeは、約0〜約0.90の範囲のモル比であり;
・A1はモノマー単位Aを表し;
・A2は別のモノマー単位A又はモノマー単位Bを表し;
・A3はモノマー単位Cを表し;
・A4は別のモノマー単位Bを表し;且つ
・A5は別のモノマー単位B又はモノマー単位Dを表す。
ある実施態様において、モノマー単位Aは下記式で表される。
・Rは、水素、メチル、又はエチルであり;
・R1は存在しないか、又は1〜4つのアルキルもしくはアルキルオキシ置換基を表し、そのアルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択で場合によっては1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよく、そのアルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択で場合によっては1つ以上のシアノで置換されていてもよく(ある実施態様ではそのアルキル及びアルキルオキシ置換基は1〜10の炭素原子を有する);
・U1はアミド又はエステル連結基であり;
・V1は存在しないか、あるいは1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基で任意選択により置換されていてもよいアルキルを表し、そのアルキルは任意選択で場合により1つ以上のシアノで置換されていてもよい(ある実施態様ではアルキルは1〜15の炭素原子を有する);且つ
・Wは−CN又は
・Rは、水素、メチル、又はエチルであり;
・U3は存在しないか、又はアミドもしくはエステル連結基を表し;且つ
・Zはアルキル又はアリールであり;
そのアルキルは任意選択により1つ以上のヒドロキシル、アルキルオキシ、又はハライドで置換されていてもよく;且つ
そのアリールは、任意選択により1つ以上のヒドロキシル、アルキルオキシ、又はハライドで置換されていてもよい1つ以上のアルキルで、任意選択により場合によっては置換されていてもよい。
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・R1は存在しないか、又は1〜4つのアルキル置換基を表し;そのアルキル置換基は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、又はカルバメート官能基を含んでいてもよく;
・U4は存在しないか、又はアミドもしくはエステル連結基を表し;
・V4は存在しないか、又は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルを表し;かつ
・Aは−COOH、−PO(OH)2、
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・Jは存在しないか、あるいはアミド、エステル、カルバメート、又はウレア連結基を表し;
・K及びLは一緒になって側鎖を形成し、Kはポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)鎖を含み、且つLは−OH、−OCH3、−CN、又は
R1は存在しないか、あるいは1〜4つのアルキル又はアルキルオキシ置換基を表し、そのアルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、又はカルバメート官能基を含んでいてもよく、そのアルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択により1つ以上のシアノで置換されていてもよい(ある態様では、アルキル及びアルキルオキシ置換基は1〜10の炭素原子を有する);
V1は存在しないか、あるいは1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、又はカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキルを表し、そのアルキルは任意選択で1つ以上のシアノで置換されていてもよい(ある態様では、アルキルは1〜15の炭素原子を有する)。
・Rは独立に水素、メチル、又はエチルであり;
・x、y、及びnは1〜20の範囲であり;
・zは0〜20の範囲であり;
・Qは独立に、−O−、
・Gは、ヒドロキシル、メトキシ、
Q及びG中のR1は水素又はアルキルである。
N−アルコキシメチルアミド(例えば、N−メトキシメチルアミド)、
N−ヒドロキシメチルアミド、
N−アルコキシメチルアクリルアミド(例えば、N−メトキシメチルアクリルアミド)、
N−アルコキシメチルメタクリルアミド(例えば、N−メトキシメチルメタクリルアミド)、
ヒドロキシ、
アルコキシ、
ヒドロキシアルキル、
エポキシ、又は
オキセタン、
であり、ある態様では、アルキルは1〜10の炭素原子を有し、及び/又はアルコキシは1〜10の炭素原子を有する。
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・Eは存在しないか、あるいはアミド又はエステル連結基であり;
・Fはアルキル(ある態様では1〜55の炭素原子を含む)であり、これは任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、又はカルバメート官能基を含んでいてもよく;
あるいはポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-ポリプロピレングリコール)鎖であって、この鎖は任意選択により一方又は両方の末端でアルキル(ある態様では1〜10の炭素原子を含む)と結合していてもよく、このアルキルは任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、又はカルバメート官能基を含んでいてもよく;
・Gはカチオン重合によって架橋反応をしうる官能基である。
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・R1は水素又はアルキルであり;
・m及びnは1〜50の範囲である。
・モノマー単位A、これは上述したとおりの、シアノ含有ペンダント基を含み、そのシアノはコポリマーバインダーの骨格に直接結合しないモノマー単位である;及び
・少なくとも1種の別のタイプのモノマー単位、
を含むコポリマーバインダーに関する。
・モノマー単位A;
・モノマー単位B(これは上述したように膜形成性のペンダント基を含むモノマー単位である);及び
・任意選択により場合によってはモノマー単位D(これは上述したようにカチオン重合によって架橋反応をしうる少なくとも1つの官能基を含むモノマー単位である)、
を含む。
で表される。
・上で定義したコポリマー、及び/又は上で定義したポリマー粒子、及び/又は上で定義したコポリマーバインダー;
・フリーラジカル及び/又は酸を生成する化合物;
・近赤外線吸収性化合物;及び
・任意選択で場合によっては添加剤、
を含む。
AはPF6、SbF6、アリールスルホネート、アルキルスルホネート、及びBF4を表し、
Rは、直鎖状又は分枝状のアルキル、あるいはポリ(アルキレングリコール)を表し、
nは、1〜50の範囲の繰り返し単位の数を表す。
ある態様では、上記のアルキルは1〜5の炭素原子を有し、ポリ(アルキレングリコール)は1〜50の範囲の繰り返し単位を有する。
・3′,6′−ビス[N−[2−[メタンスルホニル]フェニル]−N−メチルアミノ]スピロ[2−ブチル−1,1−ジオキソ[1,2−ベンゾイソチアゾール−3(3H),9′−(9H)キサンテン]](米国特許第4,345,017号の方法によって調製した);
・9−ジエチルアミノ[スピロ[12H−ベンゾ(a)キサンテン−12,1′(3′H)−イソベンゾフラン)−3′−オン](カナダ国のBFグッドリッチ社から入手可能);
・2′−ジ(フェニルメチル)アミノ−6′−[ジエチルアミノ]スピロ[イソベンゾフラン−1(3H),9′−(9H)−キサンテン]−3−オン(カナダ国のBFグッドリッチ社から入手可能);
・3−[ブチル−2−メチルインドール−3−イル]−3−[1−オクチル−2−メチルインドール−3−イル]−1−(3H)−イソベンゾフラノン(カナダ国のBFグッドリッチ社から入手可能);
・6−[ジメチルアミノ]−3,3−ビス[4−ジメチルアミノ]−フェニル−(3H)イソベンゾフラノン(カナダ国のBFグッドリッチ社から入手可能);
・2−[2−オクチルオキシフェニル]4−[4−ジメチルアミノフェニル]−6−フェニルピリジン(カナダ国のBFグッドリッチ社から入手可能);又は
・ロイコラクトン染料、例えば、Blue−63、GN−169、及びRed−40、これらは日本の山本化成社から入手可能である。
1.コポリマー、ポリマー粒子、及び/又はコポリマーバインダー;
2.上で定義したフリーラジカル及び/又は酸を生成する化合物;
3.上で定義した近赤外線吸収性染料;及び
4.任意選択により場合によって添加剤。
これらの全ては上で定義したとおりである。
を有するポリマー粒子を、1Lの四つ口フラスコ中で75℃にて窒素雰囲気下で一定の高剪断撹拌を用いて、対応するモノマーを溶かした46gのn−プロパノール及び107gの脱イオン水の混合物を加熱することによって合成した。30分間の加熱後、0.4gのV59をその反応混合物に添加した。溶液は重合60分以内に濁った。75℃で10時間の重合後、さらに0.5gのV59を反応混合物に添加し、重合をさらに14時間続けた。空気を反応混合物に導入し、75℃での撹拌をさらに2時間続けて重合を終わらせた。得られたポリマー粒子の分子量をテトラヒドロフラン溶液中で測定した。粒径はイソプロパノール−水溶液中(30−70w/w%)で測定した。
を有するポリマー粒子を、1Lの四つ口フラスコ中で75℃にて窒素雰囲気下で一定の高剪断撹拌を用いて、対応するモノマーを溶かした107gのn−プロパノール及び46gの脱イオン水の混合物を加熱することによって合成した。30分間の加熱後、0.4gのV59をその反応混合物に添加した。溶液は重合60分以内に濁った。75℃で10時間の重合後、さらに0.5gのV59を反応混合物に添加し、重合をさらに14時間続けた。空気を反応混合物に導入し、75℃での撹拌をさらに2時間続けて重合を終わらせた。得られたポリマー粒子の分子量をテトラヒドロフラン溶液中で測定した。粒径はイソプロパノール−水溶液中(70−30w/w%)で測定した。
を有するコポリマーバインダーCN−BD01を、80℃、窒素雰囲気且つ一定の撹拌のもとで、300gのジメチルアセトアミド溶液中の45gのシアノメチルアセトアミド−エチルメタクリレート、12.0gのメタクリル酸、12.0gの2−ヒドロキシエチルメタクリレート、及び12.0gのスチレンのフリーラジカル重合によって調製した。2gのVazo59をフリーラジカル開始剤として用いた。重合を24時間後に停止させた。得られたポリマーの平均分子量は、ポリスチレン標準品を用いたGPCによって測定して45,000g/モルだった。このポリマー溶液をジメチルアセトアミドで調節して15%固形分質量とし、これはこのまま使用できた。
を有するコポリマーバインダーCN−BD02を、80℃、窒素雰囲気且つ一定の撹拌のもとで、300gのジメチルアセトアミド溶液中の45gのシアノメチルアセトアミド−エチルメタクリレート、12.0gのProsmer(登録商標)PE、12.0gの2−ヒドロキシエチルメタクリレート、及び12.0gのスチレンのフリーラジカル重合によって調製した。2gのVazo59をフリーラジカル開始剤として用いた。重合を24時間後に停止させた。得られたポリマーの平均分子量は、ポリスチレン標準品を用いたGPCによって測定して32,000g/モルだった。このポリマー溶液をジメチルアセトアミドで調節して15%固形分質量とし、これはこのまま使用できた。
を有するコポリマーバインダーCN−BD03を、80℃、窒素雰囲気且つ一定の撹拌のもとで、300gのジメチルアセトアミド溶液中の45gのN−(4−シアノフェニル)カルボニルエチルメタクリレート、16.0gのメタクリル酸、12.0gの2−ヒドロキシエチルメタクリレート、及び10.0gのスチレンのフリーラジカル重合によって調製した。2gのVazo59をフリーラジカル開始剤として用いた。重合を24時間後に停止させた。得られたポリマーの平均分子量は、ポリスチレン標準品を用いたGPCによって測定して47,000g/モルだった。このポリマー溶液をジメチルアセトアミドで調節して15%固形分質量とし、これはこのまま使用できた。
本明細書は多くの文献を参照しており(先行技術文献の欄)、その内容を参照によりその全体を本明細書に援用する。
Claims (14)
- ・シアノ含有ペンダント基を含み、前記シアノがコポリマーの骨格に直接結合していないモノマー単位A;
・フィルム形成性ペンダント基を含むモノマー単位B;
・ポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)を含む側鎖を含み、前記側鎖が、アミド、カルバメート、エステル、又はウレア連結基を介してコポリマーの骨格に結合されているモノマー単位C;並びに
・任意選択により場合によっては、カチオン重合によって架橋反応をすることができる少なくとも1つの官能基を含むモノマー単位D、
を含むコポリマーであって、
前記コポリマーは、下記式:
(式中、
・a、c、及びdは、0.01〜0.90の範囲のモル比であり;
・b及びeは、0〜0.90の範囲のモル比であり;
・A1はモノマー単位Aを表し;
・A2はモノマー単位A又はモノマー単位Bを表し;
・A3はモノマー単位Cを表し;
・A4はモノマー単位Bを表し;且つ
・A5はモノマー単位B又はモノマー単位Dを表し、
A1及びA2のモノマー単位Aは互いに異なり、
A2、A4、及びA5のモノマー単位Bは互いに異なる。)
で表され、
前記モノマー単位Aが下記式:
(式中、
・Rは、水素、メチル、又はエチルであり;
・R 1 は存在しないか、又は1〜4つのアルキルもしくはアルキルオキシ置換基を表し、前記アルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよく、前記アルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択により場合によっては1つ以上のシアノで置換されていてもよく;
・U 1 はアミド又はエステル連結基であり;
・V 1 は存在しないか、又は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、又はカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキレンを表し、前記アルキレンは任意選択により1つ以上のシアノで置換されていてもよく;且つ
・Wは−CN又は
である。)
で表され、
前記モノマー単位Bが下記式:
(式中、
・Rは、水素、メチル、又はエチルであり;
・U 3 は存在しないか、又はアミドもしくはエステル連結基を表し;且つ
・Zはアルキル又はアリールであり;
前記アルキルは任意選択により1つ以上のヒドロキシル、アルキルオキシ、又はハライドで置換されていてもよく;且つ
前記アリールは、任意選択により1つ以上のヒドロキシル、アルキルオキシ、又はハライドで置換されていてもよい1つ以上のアルキルで、任意選択により置換されていてもよい。)又は下記式:
(式中、R1は水素又はアルキルである。)
で表され、
前記モノマー単位Cが下記式:
〔式中、
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・Jは、アミド、エステル、カルバメート、又はウレア連結基を表し;且つ
・K及びLは一緒になって側鎖を形成し、Kはポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)鎖を含み、且つLは、−CN、又は
(式中、
R 1 は存在しないか、又は1〜4つのアルキルもしくはアルキルオキシ置換基を表し、前記アルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択で1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、スルホンアミド、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよく、前記アルキル及びアルキルオキシ置換基は任意選択で1つ以上のシアノで置換されていてもよく;且つ
V 1 は存在しないか、又は任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキレンを表し、前記アルキレンは任意選択で1つ以上のシアノで置換されていてもよい。)
である。〕
で表され、
前記モノマー単位Dが下記式:
(式中、
・Rは水素、メチル、又はエチルであり、
・Eは存在しないか、又はアミドもしくはエステル連結基を表し、
・Fは、任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよいアルキレンであるか;
あるいは、ポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)鎖であって、前記の鎖は、1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基を任意選択により含んでいてもよいアルキレンと一方もしくは両方の末端で、任意選択により結合していてもよく;且つ
・Gはカチオン重合によって架橋反応をすることができる官能基である。)
で表される、コポリマー。 - 1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート連結基が、前記のポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)鎖の一方又は両方の末端に結合している、請求項1に記載のコポリマー。
- アルキレンが、前記のポリ(エチレングリコール)、ポリ(プロピレングリコール)、及び/又はポリ(エチレングリコール-ran-プロピレングリコール)鎖の一方又は両方の末端に結合しており、前記アルキレンが任意選択により1つ以上のエーテル、エステル、アミン、アミド、ウレア、ピペラジニル、もしくはカルバメート官能基を含んでいてもよい、請求項1に記載のコポリマー。
- モノマー単位Aが下記式:
(式中、Rは、水素、メチル、又はエチルであり、nは1〜10の範囲である。)
で表される請求項1〜3のいずれか一項に記載のコポリマー。 - モノマー単位Bが下記式:
(式中、
・Rは水素又はメチルであり;
・R1は水素又はアルキルである。)
で表される、請求項1〜4のいずれか一項に記載のコポリマー。 - モノマー単位Cが下記式:
〔式中、
・Rは独立に水素、メチル、又はエチルであり;
・x、y、及びnは1〜20の範囲であり;
・zは0〜20の範囲であり;
・Qは独立に−O−、
又は、−O−CH 2 CH 2 −NH−C(=O)−NH−CH 2 −であり;かつ、
・Gは、
(式中、nは上で定義したとおりである。)
であり、且つ
Q及びG中のR1は水素又はアルキルである。〕
で表される、請求項1〜5のいずれか一項に記載のコポリマー。 - カチオン重合によって架橋反応をしうる前記の少なくとも1つの官能基が、N−アルコキシメチルアミド、N−ヒドロキシメチルアミド、N−アルコキシメチルアクリルアミド、N−アルコキシメチルメタクリルアミド、ヒドロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、エポキシ、又はオキセタンである、請求項1〜6のいずれか一項に記載のコポリマー。
- モノマー単位Dが下記式:
(式中、
・Rは水素、メチル、又はエチルであり;
・R1は水素又はアルキルであり;且つ
・m及びnは1〜50の範囲である。)
で表される、請求項1〜6のいずれか一項に記載のコポリマー。 - A5がモノマー単位Dを表す、請求項1〜8のいずれか一項に記載のコポリマー。
- ポリマー粒子の形態である、請求項1〜9のいずれか一項に記載のコポリマー。
- 前記ポリマー粒子が80〜1000nmの範囲の粒径を有する、請求項10に記載のコポリマー。
- 前記ポリマー粒子が150〜300nmの範囲の粒径を有する、請求項11に記載のコポリマー。
- 請求項1〜12のいずれか一項に記載したコポリマーを含むことを特徴とする、ネガ型で機能する熱リソグラフィック印刷プレートのための近赤外もしくはUV輻射感応性コーティング組成物。
- ・請求項1〜12のいずれか一項に記載したコポリマー;
・フリーラジカル及び/又は酸を発生させる化合物;並びに
・近赤外線吸収性化合物、を含み、さらに
・任意選択によるさらなる添加剤を含むか又はさらなる添加剤含まない、ネガ型で機能するリソグラフィック印刷プレートのための輻射線感応性コーティング組成物。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US24242109P | 2009-09-15 | 2009-09-15 | |
| US61/242,421 | 2009-09-15 | ||
| PCT/CA2010/001400 WO2010148520A2 (en) | 2009-09-15 | 2010-09-14 | Copolymers, polymeric particles comprising said copolymers and copolymeric binders for radiation-sensitive coating compositions for negative-working radiation-sensitive lithographic printing plates |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013504632A JP2013504632A (ja) | 2013-02-07 |
| JP5749269B2 true JP5749269B2 (ja) | 2015-07-15 |
Family
ID=43386936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012528202A Expired - Fee Related JP5749269B2 (ja) | 2009-09-15 | 2010-09-14 | ネガ型輻射線感応性リソグラフィック印刷プレートのための輻射線感応性コーティング組成物用のコポリマー、前記コポリマーを含むポリマー粒子、及びコポリマーバインダー |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9482944B2 (ja) |
| EP (1) | EP2478020A4 (ja) |
| JP (1) | JP5749269B2 (ja) |
| KR (1) | KR101390985B1 (ja) |
| CN (1) | CN102510869B (ja) |
| AU (1) | AU2010265775B2 (ja) |
| BR (1) | BR112012001663B1 (ja) |
| CA (1) | CA2768722C (ja) |
| IN (1) | IN2012DN00777A (ja) |
| MX (1) | MX351243B (ja) |
| RU (1) | RU2571098C2 (ja) |
| TW (1) | TWI447131B (ja) |
| UA (1) | UA104323C2 (ja) |
| WO (1) | WO2010148520A2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5749269B2 (ja) | 2009-09-15 | 2015-07-15 | マイラン・グループ | ネガ型輻射線感応性リソグラフィック印刷プレートのための輻射線感応性コーティング組成物用のコポリマー、前記コポリマーを含むポリマー粒子、及びコポリマーバインダー |
| WO2011006265A2 (en) * | 2010-09-14 | 2011-01-20 | Mylan Group | Copolymers for near-infrared radiation-sensitive coating compositions for positive-working thermal lithographic printing plates |
| US20120141942A1 (en) * | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Domenico Balbinot | Method of preparing lithographic printing plates |
| KR102027756B1 (ko) * | 2012-01-19 | 2019-10-02 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 네가티브형 감광성 수지 조성물 |
| KR102144796B1 (ko) * | 2012-10-02 | 2020-08-14 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 네가티브형 감광성 수지조성물 |
| GB201609983D0 (en) * | 2016-06-08 | 2016-07-20 | Thermo Fisher Scient Geneart Gmbh And Life Technologies As | Solid support |
| JPWO2018221134A1 (ja) * | 2017-05-31 | 2020-03-26 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版原版作製用樹脂組成物、及び、平版印刷版の作製方法 |
| CN110809521B (zh) * | 2017-06-30 | 2022-01-07 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 |
| WO2019039074A1 (ja) * | 2017-08-25 | 2019-02-28 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法 |
| EP3904100B1 (en) * | 2019-01-31 | 2025-09-03 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing a lithographic printing plate, and lithographic printing method |
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| CN101528458B (zh) | 2006-10-23 | 2013-10-30 | 富士胶片株式会社 | 表面金属膜材料及其制造方法、金属模型材料及其制造方法、聚合物层形成用组合物、含有腈基的聚合物及其合成方法、使用含有腈基的聚合物的组合物及层压体 |
| TWI409280B (zh) | 2007-07-31 | 2013-09-21 | American Dye Source Inc | 聚合物染料、塗覆層組合物及熱微影印刷板 |
| JP5194638B2 (ja) * | 2007-08-22 | 2013-05-08 | 株式会社豊田中央研究所 | 微小物体を固定化する固相材料、微小物体が固定化された固相体及びその製造方法 |
| US7604924B2 (en) | 2007-10-24 | 2009-10-20 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements and methods of use |
| US20090186299A1 (en) | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Ting Tao | Methods for imaging and processing negative-working imageable elements |
| JP5268384B2 (ja) * | 2008-02-12 | 2013-08-21 | 富士フイルム株式会社 | ナノインプリント用硬化性組成物およびパターン形成方法 |
| JP5314944B2 (ja) | 2008-06-20 | 2013-10-16 | 富士フイルム株式会社 | 液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| US20100021844A1 (en) * | 2008-07-22 | 2010-01-28 | Jianfei Yu | Negative-working imageable elements and method of use |
| JP5749269B2 (ja) | 2009-09-15 | 2015-07-15 | マイラン・グループ | ネガ型輻射線感応性リソグラフィック印刷プレートのための輻射線感応性コーティング組成物用のコポリマー、前記コポリマーを含むポリマー粒子、及びコポリマーバインダー |
| EP2451821B1 (en) | 2009-10-29 | 2016-07-20 | Mylan Group | Gallotannic compounds for lithographic printing plate coating compositions |
-
2010
- 2010-09-14 JP JP2012528202A patent/JP5749269B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-09-14 KR KR1020127009166A patent/KR101390985B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2010-09-14 WO PCT/CA2010/001400 patent/WO2010148520A2/en not_active Ceased
- 2010-09-14 CN CN201080039062.3A patent/CN102510869B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-09-14 EP EP10791128.1A patent/EP2478020A4/en not_active Withdrawn
- 2010-09-14 BR BR112012001663-6A patent/BR112012001663B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-09-14 UA UAA201200742A patent/UA104323C2/ru unknown
- 2010-09-14 CA CA2768722A patent/CA2768722C/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-09-14 MX MX2012002015A patent/MX351243B/es active IP Right Grant
- 2010-09-14 IN IN777DEN2012 patent/IN2012DN00777A/en unknown
- 2010-09-14 US US13/391,363 patent/US9482944B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-09-14 AU AU2010265775A patent/AU2010265775B2/en not_active Ceased
- 2010-09-14 RU RU2012102774/04A patent/RU2571098C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2010-09-15 TW TW099131138A patent/TWI447131B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013504632A (ja) | 2013-02-07 |
| WO2010148520A2 (en) | 2010-12-29 |
| AU2010265775A2 (en) | 2012-03-15 |
| WO2010148520A4 (en) | 2011-04-07 |
| TW201114785A (en) | 2011-05-01 |
| AU2010265775A1 (en) | 2012-02-16 |
| BR112012001663B1 (pt) | 2020-02-11 |
| IN2012DN00777A (ja) | 2015-06-26 |
| RU2012102774A (ru) | 2013-09-27 |
| US20120190810A1 (en) | 2012-07-26 |
| EP2478020A2 (en) | 2012-07-25 |
| KR101390985B1 (ko) | 2014-05-02 |
| CA2768722A1 (en) | 2010-12-29 |
| MX2012002015A (es) | 2012-05-29 |
| RU2571098C2 (ru) | 2015-12-20 |
| HK1168118A1 (en) | 2012-12-21 |
| CN102510869A (zh) | 2012-06-20 |
| UA104323C2 (ru) | 2014-01-27 |
| MX351243B (es) | 2017-10-05 |
| TWI447131B (zh) | 2014-08-01 |
| AU2010265775B2 (en) | 2013-09-12 |
| CN102510869B (zh) | 2014-12-24 |
| KR20120089478A (ko) | 2012-08-10 |
| US9482944B2 (en) | 2016-11-01 |
| WO2010148520A3 (en) | 2011-02-17 |
| EP2478020A4 (en) | 2015-04-15 |
| BR112012001663A2 (pt) | 2018-03-13 |
| CA2768722C (en) | 2014-12-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130906 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140317 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140428 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140718 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140728 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150413 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150513 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |