JP5689855B2 - インプラントと、インプラントに用いられるキーパ及びインプラント本体部 - Google Patents

Description

本発明は、インプラントオーバーデンチャーを顎堤に固定するためのインプラントと、インプラントに用いられるキーパ及びインプラント本体部に関する。

歯科の分野において、口腔内に安定してインプラントオーバーデンチャーを固定するための構造として、インプラントオーバーデンチャーシステムが知られている。インプラントオーバーデンチャーシステムは、顎堤に埋設されたインプラントを介して、顎堤にインプラントオーバーデンチャーを固定する構造である。
インプラントは、顎堤に埋設されるインプラント本体部とインプラント本体部の一端に配され口腔内に露出するインプラント側接続部とを有している。

インプラントオーバーデンチャーは、複数の人工歯とこれを固定すると共に顎堤を覆う義歯床を有しており、義歯床内にインプラント側接続部と連結する義歯側接続部を有している。
インプラント側接続部と義歯側接続部との連結構造としては、後述のごとく、磁力を利用するものと、機械的な係合を利用するものとが提案されている。

従来のインプラントオーバーデンチャーシステムに用いられるインプラントには、薬事法の基準により、インプラント本体部における直径が３．０ｍｍ以上でかつ７ｍｍ以下と比較的大型の一般的にインプラントと呼ばれるものと、インプラント本体部における直径が３．０ｍｍ未満の上記インプラントよりも小型のミニインプラントと呼ばれるものがある。

特許文献１には、上記の比較的大型のインプラントを用いて、インプラントとインプラントオーバーデンチャーとを磁力によって固定する構造が示されている。インプラント側接続部は、磁性体によって形成されたキーパからなり、義歯側接続部は、義歯床に埋設された磁石構造体からなる。インプラントオーバーデンチャーとインプラントとは、磁石構造体の磁力によってキーパを吸着することにより固定されている。

また、上記のミニインプラントとインプラントオーバーデンチャーとを用いたインプラントオーバーデンチャーシステムとしては、両者を機械的に固定する構造が知られている。インプラント側接続部は、略円柱状をなしており、その先端部側に形成されたヘッド部と、ヘッド部とインプラント本体部との境界に形成された凹溝部とを有している。また、義歯側接続部は、ヘッド部を収容可能な収容部を備えたキャビティと、凹溝部と収容部との間に配されるＯリングとを有している。インプラントオーバーデンチャーとミニインプラントとは、収容部の内側にヘッド部を配置し、Ｏリングによって生じる締め付け力によって固定される。

特開平７−１３６１９０号公報

ところで、特許文献１に示されたインプラントオーバーデンチャーシステムには以下の課題がある。
特許文献１に示されたインプラントオーバーデンチャーシステムは、磁力を用いてインプラントオーバーデンチャーとインプラントとを固定しているため、インプラントオーバーデンチャーの着脱が容易であるが、その一方で、インプラントオーバーデンチャーを固定するのに必要な磁気吸引力を得るために、キーパ及び磁石構造体の吸着面積を確保する必要がある。そのため、従来から用いられている比較的大型のインプラントを用いる必要がある。

従来のインプラントは、インプラントを顎堤に埋設し、インプラントオーバーデンチャーシステムとして使用可能となるまでに３回程の手術が必要となる場合がある。具体的には、１回目の手術で顎骨への穴あけとインプラントの植立を行い、２回目の手術で歯肉パンチング（穴あけ）と歯肉の穴の形成を行う。そして、３回目の手術で補綴物であるインプラントオーバーデンチャーをインプラントに配設する。これらの手術にかかる期間は、約６カ月と長期に及ぶため、手術にかかる費用が高額となりやすい。（以下、本明細書において、上記した従来のインプラントにかかる手術方法を、適宜、従来法という。）

また、上記のミニインプラントとインプラントオーバーデンチャーとを機械的に固定するインプラントオーバーデンチャーシステムは、ミニインプラントを用いることで従来のインプラントに比べ、手術の回数、期間、費用を大幅に低減できる。具体的には、顎骨及び歯肉の穴あけ、インプラントの植立、及びインプラントオーバーデンチャーの配設が１回の手術で行われる。（以下、本明細書において、上記したミニインプラントにかかる手術方法を、適宜、ミニインプラント法という。）

しかし、ミニインプラントにおいては、その直径が従来のインプラントに比べて小さいため、特許文献１の磁力を用いた構造とすることが困難であり、機械式の固定構造が選択されている。機械式の固定構造は、磁力を用いた構造に比べて着脱がし難く、メンテナンス性に課題がある。

また、ミニインプラントは、上記のごとく、直径が小さいため、強度的には従来のインプラントに劣る。ミニインプラントにおいて、軸方向と交差する側方から力が加わった場合、ミニインプラントに回転モーメントが生じることとなる。ここで、ミニインプラントが埋設される顎骨の構造と、この顎骨に埋設されたミニインプラントに回転モーメントが加わる原理について説明する。

ミニインプラントが埋設される顎堤の顎骨は、その表面に形成された緻密骨と、この緻密骨の内側に形成された海綿骨とによって構成されている。
緻密骨は、顎骨の表面から約１ｍｍ程度の厚さで形成されており、緻密で硬い骨組織を有している。また、海綿骨は、緻密骨に比べて軟らかいポーラスな骨組織を有している。

上記の顎骨に固定されたミニインプラントに側方から力が加わると、緻密骨によって保持された部位の近傍が支点となり、ミニインプラントに回転モーメントが生じる。このとき、海綿骨は、緻密骨に比べて軟らかいながらもミニインプラントの回転を止めるように反力を発生する。このように、ミニインプラントに回転モーメントと反力とがかかることで、ミニインプラントには応力が生じる。この応力により、ミニインプラントに変形等が生じ、修正や再調整が必要となる場合がある。

本発明は、上記の背景に鑑みてなされたものであり、手術にかかる負担を低減すると共に、強度の低下防止が可能なインプラントと、インプラントに用いられるキーパ及びインプラント本体部を提供しようとするものである。

本発明の第一の態様は、インプラントオーバーデンチャーを顎堤に固定するためのインプラントであって、
顎堤に埋設される非磁性体からなるインプラント本体部と、顎堤から露出すると共に上記インプラントオーバーデンチャーに配された磁石構造体と共に磁気回路を構成する磁性体からなるキーパとを有しており、
該キーパの被吸着面の外形における外接円の直径ｄ１は、φ１．８ｍｍ以上に設定してあり、上記インプラント本体部における顎骨に埋設される埋設部分の最大直径ｄ２は、φ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０ｍｍ以下に設定してあり、上記直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．５の関係を有していることを特徴とするインプラントにある。

本発明の第２の態様は、上記インプラントに用いられ、顎堤から露出して配設されるキーパであって、
上記インプラントオーバーデンチャーに配設された磁石構造体と共に磁気回路を構成する磁性体からなり、
上記磁石構造体との被吸着面の外形における外接円の直径ｄ１は、φ１．８ｍｍ以上に設定してあり
上記インプラントに用いられ顎骨に埋設される非磁性体からなるインプラント本体部における顎骨に埋設される埋設部分の最大直径ｄ２と、上記直径ｄ１とは、ｄ１／ｄ２≦１．５の関係を有していることを特徴とするキーパにある。
また、本発明の第３の態様は、上記インプラントに用いられ、顎堤に埋設される非磁性体からなるインプラント本体部であって、
顎骨に埋設される埋設部分の最大直径ｄ２は、φ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０ｍｍ以下に設定してあり、
インプラントオーバーデンチャーに配設された磁石構造体と共に磁気回路を構成する磁性体からなるキーパの磁石構造体との被吸着面の外形における外接円の直径ｄ１と、上記最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．５の関係を有していることを特徴とするインプラント本体部にある。

従来のミニインプラントは、インプラント本体部の最大直径が小さいため、施工が容易である反面、磁力を用いてインプラントオーバーデンチャーと上記インプラントとを固定する構造とした場合、インプラントオーバーデンチャーを固定するために必要な磁気吸引力を得にくいという課題があった。磁気吸引力を増大させるために、キーパにおける被吸着面の外形を大きくするといった構造も考えられる。

しかし、磁石構造体とキーパとの間における磁気吸引力を大きくするために、キーパの外径を大きくすると、インプラント本体部の外周縁よりも外側の位置に、キーパの外周部がオフセットすることとなる。このオフセットした部位に、被吸着面と交差する方向の力が加わった場合、緻密骨によって保持された部位の近傍を支点として回転モーメントが生じる。

また、上記の回転モーメントは、被吸着面のオフセット量が大きくなるほど増大するため、単純にキーパを大きくすることは、インプラントとして必要な強度を確保できない場合があり、ミニインプラントによる磁力を用いたインプラントオーバーデンチャーシステムの実現は難しいと考えられていた。

上記第一の態様では、上記キーパの被吸着面の外形における外接円の直径ｄ１を、φ１．８ｍｍ以上に設定し、上記インプラント本体部の最大直径ｄ２を、φ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０ｍｍ以下に設定してあり、上記直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．５の関係を有している。このように、上記インプラント本体部に対して、上記キーパを適切な寸法で拡径させることにより、上記キーパの外周縁における上記インプラント本体部からのオフセット量を低減しつつ、磁力を増大させることができる。それゆえ、上記インプラントの強度を確保しながら、上記キーパと上記インプラント本体部との間における磁気吸引力を増大させることができる。

また、上記インプラントオーバーデンチャーと上記インプラントとを磁力によって固定することにより、上記インプラントオーバーデンチャーに側方の力がかかったとしても、磁石構造体とキーパとの間ですべりが生じるため、上記インプラントへと大きな側方の力が伝わることを防止できる。これにより、上記インプラントにおける変形や損傷を防止することができる。

また、上記インプラント本体部の最大直径ｄ２を、上記のごとく、φ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０ｍｍ以下に設定してある。そのため、上記インプラントを１回の手術で施工することができる。

また、上記最大直径ｄ２がφ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０未満の範囲内にある場合、上記インプラントは、一般的にミニインプラントに区分され、１回の手術で施工することができる。このように、上記最大直径ｄ２をφ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０ｍｍ以下の範囲とすることで、上記インプラントにかかる手術を、ミニインプラント法と同様に１回とすることができ、従来のインプラントに比べて、手術の回数、期間、費用の低減が可能となる。

また、上記インプラントオーバーデンチャーシステムにおいては、上記インプラントの数を、上記インプラントオーバーデンチャーの固定に最適なものとすることにより、上記インプラントにおいて、上記インプラントオーバーデンチャーを安定して固定することを可能とした。

すなわち、複数の上記インプラントを配することで、１つの上記インプラントでは不足する磁力を補い、上記インプラントオーバーデンチャーを固定するのに必要十分な磁気吸引力を得ることができる。

このように、上記インプラントによれば、従来のミニインプラントにおいては難しいと考えられていた、磁力を用いたインプラントとインプラントオーバーデンチャーとの固定を、インプラントの寸法、数及び配置を上記のごとく最適化することによって実用化が可能となる。

これにより、従来のミニインプラントにおける利点であった施工にかかる手術の回数、期間、費用の低減と、磁力によってインプラントにインプラントオーバーデンチャーを固定する構造における利点であった着脱の容易化とこれに伴うメンテナンス性の向上との両立が可能となる。

また、上記インプラントにおいて、上記インプラント本体部は、上記インプラント本体部における顎骨に埋設される埋設部分から突出形成された中実の挿入部を有し、上記キーパは、上記挿入部を配置可能な挿入凹部を有しており、上記挿入部を上記挿入凹部に挿入して上記インプラント本体部と上記キーパとを固定していることが好ましい。これにより、上記インプラント本体部の外形が同じであって、上記インプラント本体部側に上記挿入凹部を設けた場合よりも、強度の低下を防止することができる。

すなわち、上記のごとく、上記インプラント本体部の直径を小さくした場合、上記インプラント本体部側に挿入凹部を設けると、その肉厚が小さくなりやすく、強度の低下につながりやすい。
これに対し、上記キーパは、顎堤から露出して配される部分であるため、上記インプラントを埋設する手術へ影響を与えにくい。また、上記磁石構造体との間における磁気吸引力の観点から見ても、上記キーパは、軸方向から見た外径が大きい方が有利である。そのため、軸方向から見たとき、上記キーパの外形は、上記インプラント本体部との間の強度的なバランスが取れる範囲で、上記インプラント本体部の外形に比べて大きく設定することができる。したがって、上記キーパに上記挿入凹部を設けても、その肉厚を確保することができる。

このように、上記キーパに上記挿入凹部を設けることで、上記キーパに必要とされる強度を確保しながら、上記インプラント本体部の強度低下を防止することが可能となり、上記インプラント全体における強度低下を防止することができる。

また、上記インプラント本体部の最大直径ｄ２を、上記のごとく、φ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０ｍｍ以下に設定してある。そのため、インプラントを１回の手術で施工することができる。

また、上記最大直径ｄ２がφ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０未満の範囲内にある場合、上記インプラントは、一般的にミニインプラントに区分され、１回の手術で施工することができる。このように、上記最大直径ｄ２をφ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０ｍｍ以下の範囲とすることで、上記の上記インプラントにかかる手術を、ミニインプラント法と同様に１回とすることができ、従来のインプラントに比べて、手術の回数、期間、費用の低減が可能となる。

これにより、従来のミニインプラントにおける利点であった手術の回数、期間、費用の低減及び、従来のミニインプラントにおける課題であった強度の確保の両方を実現することが可能となる。

以上のごとく、手術にかかる負担を低減しながら強度の低下を防止することが可能なインプラントと、インプラントに用いられるキーパ及びインプラント本体部を提供することができる。

実施例１における、インプラントオーバーデンチャーシステムを示す説明図。 実施例１における、インプラントの断面図。 実施例１における、インプラント本体部の外観図。 実施例１における、（ａ）キーパの構造を示す断面図、（ｂ）キーパの上面視を示す説明図。 実施例１における、（ａ）磁石構造体の構造を示す断面図、（ｂ）磁石構造体の下面視を示す説明図。 実施例１における、インプラントオーバーデンチャーシステムを示す上面視図。 実施例２における、（ａ）インプラント本体部を示す外観図、（ｂ）キーパの断面を示す説明図。 実施例３における、インプラントオーバーデンチャーシステムを示す断面図。 実施例３における、（ａ）磁石構造体の構造を示す平面方向の断面図、（ｂ）磁石構造体の構造を示す垂直面方向の断面図。 実施例４における、キャップ部材を有するインプラントオーバーデンチャーシステムを示す断面図。 実施例５における、スリーブを有するインプラントオーバーデンチャーシステムを示す断面図。 実施例６における、当接面が球面形状を有するインプラントオーバーデンチャーシステムを示す断面図。 実施例６における、（ａ）磁石構造体を示す断面図、（ｂ）キーパを示す部分断面図。 インプラント及び磁石構造体の配置例を示す説明図。 インプラント及び磁石構造体の他の配置例を示す説明図。 実施例７における、インプラントオーバーデンチャーシステムを示す説明図。 実施例８における、インプラントオーバーデンチャーシステムを示す説明図。

上記インプラントオーバーデンチャーシステムにおいて、上記キーパの被吸着面の外形における外接円の上記直径ｄ１は、φ２．５ｍｍ以上であることがより好ましい。また、上記直径ｄ１は、φ３．０ｍｍ以上であることが更に好ましい。この場合には、上記インプラントオーバーデンチャーが有する上記磁石構造体との間に、充分な磁気吸引力をより確実に発生させることができる。

また、上記直径ｄ１を、φ１．８ｍｍ未満とすると、上記磁石構造体との間に生じる磁気吸引力が不足する場合がある。
また、上記直径ｄ１の最大値は、上記インプラント本体部の上記最大直径ｄ２に起因し、ｄ１／ｄ２≦１．５の関係を満足するよう決定する。ｄ１／ｄ２が１．５を超えると、上記インプラント本体部に対し、上記キーパの外周におけるオフセット量が増大する。そのため、このオフセットした部位に上記キーパの被吸着面と交差する力が加わった際に、インプラント本体部に過大な回転モーメントを生じる場合がある。

また、上記直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．３の関係を有していることがより好ましい。また、上記直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．２の関係を有していることが更に好ましい。この場合には、上記直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とのバランスをより最適とすることができる。

上記インプラントオーバーデンチャーシステム及び上記インプラントにおいて、上記最大直径ｄ２は、φ２．５ｍｍ以上でかつφ３．０ｍｍ以下であることがより好ましい。この場合には、上記インプラントの強度向上効果及び、手術の回数、期間、費用の低減効果をより確実に得ることができる。

上記最大直径ｄ２をφ１．２ｍｍ未満とすると、上記インプラント本体部の強度が不足する場合がある。
また、上記最大直径ｄ２がφ３．０ｍｍを超えると、上記インプラントオーバーデンチャーシステムの施工を一回の手術で行えなくなる場合がある。

また、上記磁石構造体は、上記インプラントオーバーデンチャーにおける左右対称の位置に配されていてもよい。この場合には、上記インプラントバーデンチャーにかかる咬合圧を、上記インプラントを介して、顎堤へ均等に分散することができる。これにより、上記インプラントオーバーデンチャーを顎堤に安定して固定することができる。

また、上記インプラントオーバーデンチャーシステムにおいて、上記磁石構造体及び上記インプラントの配設数は、２〜４個であってもよい。この場合には、上記インプラントオーバーデンチャーを固定するために必要な磁気吸引力を得ながら、上記インプラントをバランスよく配置することができる。これにより、上記インプラントオーバーデンチャーを安定して固定することができる。
上記磁石構造体及び上記インプラントの配設数が２個未満の場合、上記インプラントオーバーデンチャーを固定する磁力が不足し十分な磁気吸引力をえられない場合がある。
上記磁石構造体及び上記インプラントの配設数が４個を超える場合、手術にかかる時間や費用が増大する場合がある。

また、上記インプラントオーバーデンチャーは、下顎の顎堤と対応して形成されており、下顎の顎堤に配された上記インプラントに上記インプラントオーバーデンチャーを固定するよう構成されていてもよい。この場合には、下顎が上記インプラントオーバーデンチャーを下方から支えるため、上顎に比べて、上記インプラントオーバーデンチャーを保持しやすい。このように、上記インプラントオーバーデンチャーを下顎用に特化することで、より安定して固定することができる。

また、上記磁石構造体によって吸着される上記キーパの被吸着面の外形における外接円の直径ｄ１は、φ１．８ｍｍ以上であり、該直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．５の関係を有していることが好ましい。この場合には、上記直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とをバランスよく設定することができる。これにより、上記磁石構造体と上記キーパとの間に充分な磁気吸引力を確保しつつ、上記キーパの上記被吸着面上に、該被吸着面と交差する方向の力が加わった場合に、上記インプラントに過大な回転モーメントが生じることを防止できる。

また、上記直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．３の関係を有していることがより好ましい。また、上記直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．２の関係を有していることが更に好ましい。この場合には、上記直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とのバランスをより最適とすることができる。

また、上記インプラントは、上記挿入部を上記挿入凹部に圧入することにより、上記インプラント本体部と上記キーパとを固定して構成されていてもよい。この場合には、上記インプラント本体部と上記キーパとを、容易かつ効率よく固定し、生産性を向上することができる。

また、上記挿入部は、その外周側面にネジ山を形成した雄ネジ部を構成しており、上記挿入凹部は、その内周側面にネジ山を形成した雌ネジ部を構成しており、上記雄ネジ部と上記雌ネジ部とを螺合することにより、上記インプラント本体部と上記キーパとを固定して構成されていてもよい。この場合には、上記インプラント本体部から上記キーパを容易に取り外すことができる。これにより、上記インプラントのメンテナンス性をより向上することができる。また、上記キーパは、磁性体であるため、ＭＲＩ等を使用した際に影として映り込むが、上記のごとく取り外しを可能とすることにより、映り込みを防止することができる。

また、上記キーパの少なくとも外周側面には、窒化チタン皮膜が形成されていてもよい。この場合には、患者が上記キーパの素材の金属アレルギーを有していたとしても、上記キーパが歯肉と接触し、アレルギー症状が出ることを防止することができる。

（実施例１）
インプラントオーバーデンチャーシステム及びこれに用いられるインプラントにかかる実施例について、図１〜図６を参照して説明する。
図１に示すごとく、インプラントオーバーデンチャーシステム１は、インプラント１０によってインプラントオーバーデンチャー３を顎堤８に固定するためのものである。
インプラントオーバーデンチャー３は、複数の人工歯３１と、該複数の人工歯３１を固定すると共に顎堤８の歯肉８１を覆う義歯床３２と、該義歯床３２に配された複数の磁石構造体４とを有している。

図２に示すごとく、インプラント１０は、顎堤８に埋設される非磁性体からなるインプラント本体部１１と、該インプラント本体部１１の一端に顎堤８から露出するように配され磁石構造体４と共に磁気回路を構成する磁性体からなるキーパ２とを有している。

図３及び図４に示すごとく、磁石構造体４によって吸着されるキーパ２の被吸着面２２５の外形における外接円の直径ｄ１は、φ３．０ｍｍに設定してあり、インプラント本体部１１の埋設部分における最大直径ｄ２は、φ２．５ｍｍに設定してあり、直径ｄ１と最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．５の関係を有している。

以下、さらに詳細に説明する。
図１及び図６に示すごとく、本例のインプラントオーバーデンチャーシステム１は、上述した顎堤８に埋設される２本のインプラント１０と、インプラント１０に固定されるインプラントオーバーデンチャー３とを備えている。

図１に示すごとく、下顎の無歯顎における顎堤８は、その表面に形成された歯肉８１と、顎骨８２とからなる。顎堤８は、上方から見て略Ｕ字状に形成されており、その断面形状は略山型をなしている。

インプラントオーバーデンチャー３は、顎堤８を覆うように配されており、複数の人工歯３１と、人工歯３１を固定する義歯床３２と、インプラント１０のキーパ２と共に磁性回路を構成する磁石構造体４とを備えている。

図１及び図６に示すごとく、義歯床３２は、上方から見て略Ｕ字状に形成されており、その段面形状は、上方に配された頂部３２１と、頂部３２１の側方両端部から斜め下方に延設された側壁部３２２とからなる。つまり、義歯床３２の断面形状は、下方に開口した略山型をなしている。尚、義歯床３２の内側面の形状は、顎堤８を型取って形成されており、顎堤８と対応した形状を有している。

図６に示すごとく義歯床３２に配された複数の人工歯３１は、中切歯３１１、側切歯３１２、犬歯３１３、第一小臼歯３１４、第二小臼歯３１５、第一大臼歯３１６、第二大臼歯３１７とそれぞれ対応した形状をなしている。各人工歯３１は、義歯床３２の頂部３２１上面において、略左右対称の位置にそれぞれ２本ずつ配されており、１つの義歯床３２には、計１４本の人工歯３１が配されている。

図１及び図５に示すごとく、義歯床３２に配された略円板状の磁石構造体４は、永久磁石４１と、これを覆うヨーク４２とを有している。
磁石構造体４の永久磁石４１は、略円板状をなしており、その周囲全周がヨーク４２によって覆われている。ヨーク４２は、軟磁性ステンレス鋼からなり、下方に向かって開口した配置凹部４２２を有するヨーク本体部４２１と、配置凹部４２２の開口部を覆う蓋体４２４とを有している。ヨーク本体部４２１は、その上端部から外周側に向かって延設された鍔部４２３を備えている。鍔部４２３は、上下方向から見たとき楕円形状をなしており、義歯床３２に磁石構造体４を埋設した際に、抜け止め及び回転防止の役割を果たすものである。ヨーク４２は、ヨーク本体部４２１の配置凹部４２２内に永久磁石４１を配すると共に、その開口部を蓋体４２４によって封止することで、永久磁石４１を内包している。

図１及び図５に示すごとく、磁石構造体４の下面は、円形でかつ平滑な平面からなる吸着面４３をなしており、吸着面４３における最大外接円ｄ３は、φ３．０ｍｍに設定してある。磁石構造体４は、義歯床３２の頂部３２１の裏面において、顎堤８に配された２本のインプラント１０と対応した位置に、それぞれ吸着面４３のみを露出して埋設されている。

図１及び図２に示すごとく、義歯床３２を顎堤８に固定するためのインプラント１０は、顎堤８に埋設される非磁性体からなるインプラント本体部１１と、インプラント本体部１１の上端に配されたキーパ２とを有している。
図２及び図３に示すごとく、インプラント本体部１１は、チタン合金からなり、外周側面にネジ山を有するネジ部１１１と、ネジ部１１１の基端から外周側に向かって延設された鍔部１１２と、鍔部１１２の上面に突出形成された挿入部１２とを有している。

図３に示すごとく、ネジ部１１１は、その外周側面において軸方向に沿って螺旋状に形成されたネジ山を有すると共に、先端に向かうにつれて、徐々に外径が小さくなるテーパ状をなしている。

鍔部１１２の上面から上方に立設した挿入部１２は、その軸方向から見たとき、六角形をなす多角柱形状をなしており、鍔部１１２との境界部には、直径を縮小した凹溝部１２１が形成されている。尚、本例において、インプラント本体部の最大直径ｄ２は、φ２．５ｍｍに設定した。

図４に示すごとく、挿入部１２に配されるキーパ２は、軟磁性ステンレス鋼からなり、上方から見たとき、４つの辺と各辺を繋ぐ４つの円弧によって形成された略四角形状をなしており、略板状のキーパ上面部２１と、キーパ上面部２１の外周縁部から下方に向かって垂下した略円筒状のキーパ側壁部２２とを備えている。

キーパ上面部２１は、その上面に、上方から見たとき円形をなすと共に、平滑な平面からなる被吸着面２２５を有しており、被吸着面２２５よりも外周側は、外側に向かうにつれ下方に傾斜したテーパ面が形成されている。
ここで、上記の磁石構造体４における吸着面４３とキーパ２の被吸着面２２とは、共に平面によって形成されている。そのため、磁石構造体４とキーパ２とを互いに密着させることができる。これにより、磁気回路におけるエアギャップが最小化され、十分な磁気吸引力が得られる。

被吸着面２２５における外接円の直径ｄ１は、磁石構造体４における吸着面４３と同様にφ３．０ｍｍとした。したがって、被吸着面２２５における外接円の直径ｄ１とインプラント本体部の最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２＝１．２の関係を有している。
尚、本例においては、被吸着面２２５と吸着面４３とを同一の形状としたが、これに限るものではなく、形状及び大きさが異なっていてもよい。

図２及び図４に示すごとく、キーパ側壁部２２の内周は、挿入部１２と対応した挿入凹部２２１をなしている。挿入凹部２２１は、その軸方向から見て略六角形状の内周面を有しており、その開口端部には内側に向かって延設された内周鍔部２２２が形成されている。この内周鍔部２２２は、挿入部１２の凹溝部１２１に係合可能に構成されている。また、キーパ側壁部２２の外周側面２２６には、窒化チタン皮膜が形成されている。

図２に示すごとく、上述したインプラント本体部１１とキーパ２とは、インプラント本体部１１の挿入部１２をキーパ２の挿入凹部２２１の内側に圧入嵌合することによって互いに固定され、インプラント１０を形成している。
図６に示すごとく、インプラント１０は、顎堤８において、インプラントオーバーデンチャー３における一対の犬歯３１３に相当する人工歯３１が配される位置と対応して、略左右対称の位置にそれぞれ一本ずつ配される。そして、インプラント１０のキーパ２における被吸着面２２５に、インプラントオーバーデンチャー３に配された磁石構造体４の吸着面４３が吸着することで、インプラントオーバーデンチャー３を顎堤８に固定している。

次に本例における作用効果について説明する。
本例のインプラントオーバーデンチャーシステム１においては、キーパ２の被吸着面２２５の外形における外接円の直径ｄ１を、φ３．０ｍｍに設定し、インプラント本体部１１の最大直径ｄ２を、φ２．５ｍｍに設定してあり、直径ｄ１と最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２＝１．２の関係を有している。このように、キーパ２を適切な寸法で拡径させることにより、キーパ２の外周縁におけるインプラント本体部１１からのオフセット量を低減しつつ、磁力を増大させることができる。それゆえ、インプラント１０の強度を確保しながら、キーパ２とインプラント本体部１１との間における磁気吸引力を増大させることができる。

また、インプラントオーバーデンチャー３とインプラント１０とを磁力によって固定することにより、インプラントオーバーデンチャー３に側方の力がかかったとしても、磁石構造体４とキーパ２との間ですべりが生じる。そのため、インプラント１０へ大きな側方の力が伝わることを防止することができる。これにより、インプラント１０における変形や損傷を防止することができる。

また、インプラント本体部１１の最大直径ｄ２を、上記のごとく設定することで、インプラントを埋設するのにかかる手術を、ミニインプラント法と同様に１回とすることができる。そのため、従来のインプラント１０に比べて、手術の回数、期間、費用の低減が可能となる。

また、上記のごとく、インプラント１０の数を、インプラントオーバーデンチャー３の固定に最適なものとすることにより、インプラント１０において、インプラントオーバーデンチャー３を安定して固定することを可能とした。

すなわち、２つのインプラント１０を配することで、インプラントオーバーデンチャー３を固定するために必要な磁気吸引力を得ながら、インプラント１０をバランスよく配置することができる。これにより、インプラントオーバーデンチャー３を安定して固定することができる。

このように、インプラントオーバーデンチャーシステム１によれば、従来のミニインプラントにおいては難しいと考えられていた、磁力を用いたインプラント１０とインプラントオーバーデンチャー３との固定を、インプラント１０の寸法、数及び配置を上記のごとく最適化することによって実用化が可能となる。

これにより、従来のミニインプラントにおける利点であった施工にかかる手術の回数、期間、費用の低減と、磁力によってインプラント１０にインプラントオーバーデンチャー３を固定する構造における利点であった着脱の容易化とこれに伴うメンテナンス性の向上との両立が可能となる。

また、磁石構造体４は、インプラントオーバーデンチャー３における左右対称位置に配されている。そのため、インプラントバーデンチャー３にかかる咬合圧を、インプラント１０を介して、顎堤８へ均等に分散することができる。これにより、インプラントオーバーデンチャー３を顎堤８に安定して固定することができる。

また、インプラントオーバーデンチャー３は、下顎の顎堤８と対応して形成されており、下顎の顎堤８に配されたインプラント１０にインプラントオーバーデンチャー３を固定するよう構成されている。そのため、下顎がインプラントオーバーデンチャー３を下方から支えるため、上顎に比べて、インプラントオーバーデンチャー３を保持しやすい。このように、インプラントオーバーデンチャー３を下顎用に特化することで、より安定して固定することができる。

また、インプラント１０は、インプラント本体部１１の挿入部１２をキーパ２の挿入凹部２２１内に配置することで、インプラント本体部１１とキーパ２とを互いに固定している。これにより、インプラント本体部１１の外形が同じであって、インプラント本体部１１側に挿入凹部２２１を設けた場合よりも、強度の低下を防止することができる。

すなわち、上記のごとく、インプラント本体部１１の直径を小さくした場合、インプラント本体部１１側に挿入凹部２２１を設けると、その肉厚が小さくなりやすく、強度の低下につながりやすい。
これに対し、キーパ２は、顎堤８から露出して配される部分であるため、インプラント１０を埋設する手術へ影響を与えにくい。また、磁石構造体４との間における磁気吸引力の観点から見ても、キーパ２は、軸方向から見た外径が大きい方が有利である。そのため、軸方向から見たとき、キーパ２の外形は、インプラント本体部１１との間の強度的なバランスが取れる範囲で、インプラント本体部１１の外形に比べて大きく設定することができる。したがって、キーパ２に挿入凹部２２１を設けても、その肉厚を確保することができる。

このように、キーパ２に挿入凹部２２１を設けることで、キーパ２に必要とされる強度を確保しながら、インプラント本体部１１の強度低下を防止することが可能となり、インプラント１０全体における強度低下を防止することができる。

また、インプラント１０は、挿入部１２を挿入凹部２２１に圧入することにより、インプラント本体部１１とキーパ２とを固定して構成されている。そのため、インプラント本体部１１とキーパ２とを、容易かつ効率よく固定し、生産性を向上することができる。

また、キーパ２の少なくとも外周側面には、窒化チタン皮膜が形成されている。そのため、患者がキーパ２の素材の金属アレルギーを有していたとしても、キーパ２が歯肉と接触し、アレルギー症状が出ることを防止することができる。

また、本例に示したインプラント１０は、インプラント本体部１１とキーパ２とを互いに圧入固定した後、顎堤８に形成された下穴に螺合する。このとき、上記のごとく、インプラント本体部１１の挿入部１２を、その軸方向から見たとき、六角形をなす多角柱形状とすることにより、螺合時にインプラント本体部１１とキーパ２とが相対的に回転することを防止し、両者を一体に回転させることができる。

以上のごとく、手術にかかる負担を低減すると共に、着脱が容易でメンテナンス性を向上することが可能なインプラントオーバーデンチャーシステム１と、強度の低下を防止することが可能なインプラント１０とを提供することができる。

（実施例２）
本例は、実施例１におけるインプラント１０の挿入部１２及び挿入凹部２２１の形状を変更した例である。
図７（ａ）に示すごとく、インプラント本体部１１の挿入部１２は、上方から見たとき、正六角形をなす締結係合部１２３と、締結係合部１２３の上面に形成された雄ネジ部１２２とを有している。雄ネジ部１２２は、円筒状をなすと共に、その外周側面にはネジ山が形成されている。

図７（ｂ）に示すごとく、キーパ２の挿入凹部２２１の内周面には、雄ネジ部１２２と対応した雌ネジ部２２３が形成されている。また、挿入凹部２２１の開口端部には、挿入部１２の締結係合部１２３を内包可能な拡大開口部２２４が形成されている。

本例において、インプラント１０を顎堤８に配する際には、締結係合部１２３に工具を係合させてインプラント本体部１１を予め顎堤８に埋設した後、顎堤８から露出した雄ネジ部１２２にキーパ２を螺合することによって、インプラント１０が形成される。
その他の構成は実施例１と同様である。

本例のインプラントオーバーデンチャーシステム１において、挿入部１２は、その外周側面にネジ山を形成した雄ネジ部１２２を構成しており、挿入凹部２２１は、その内周側面にネジ山を形成した雌ネジ部２２３を構成しており、雄ネジ部１２２と雌ネジ部２２３とを螺合することにより、インプラント本体部１１とキーパ２とを固定して構成されている。そのため、インプラント本体部１１からキーパ２を容易に取り外すことができる。これにより、インプラント１０のメンテナンス性をより向上することができる。また、キーパ２は、磁性体であるため、ＭＲＩ等を使用した際に影として映り込むが、上記のごとく取り外しを可能とすることにより、映り込みを防止することができる。

（実施例３）
本例は、実施例１のインプラントオーバーデンチャーシステム１における磁石構造体４０の構成を変更した例を示すものである。
図８及び図９に示すごとく、磁石構造体４０は、永久磁石４０１と、永久磁石４０１の側方両側に配された一対のヨーク４０２と、一対のヨーク４０２が配された部位以外の永久磁石４０１の表面を覆うシールドケース４０４とを有している。

図９に示すごとく、永久磁石４０１は、磁極（Ｎ極及びＳ極）の方向（図中の矢印方向）が、一対のヨーク４０２と永久磁石４０１の並び方向となるように着磁されている。永久磁石４０１は、並び方向から見て六角形状をなすブロック状に形成されている。
シールドケース４０４は、非磁性の材料からなり、並び方向と直交した方向に配された永久磁石４０１の表面を覆っている。これにより、永久磁石４０１の磁気が、並び方向以外の方向に漏れないようになっている。

一対のヨーク４０２は、軟磁性ステンレス鋼によって形成されている。各ヨーク４０２は並び方向から見て永久磁石４０１にシールドケース４０４を配した際の外形と対応した六角形状をなしている。また、ヨーク４０２を上方から見たとき、永久磁石４０１と反対側に配された外側面は円弧形状をなしている。また、外側面には、外側に向かって延設された鍔部４０５を有しており、磁石構造体４０を義歯床３２に配した際に抜け止めの役割を果たしている。
その他の構成は実施例１と同様である。

磁石構造体４０がキーパ２を吸着する際には、磁石構造体４０とキーパ２とにより、これらを循環する磁気のループＬが形成される。この磁気のループＬは、永久磁石４０１のＮ極から、一対のヨーク４０２及びキーパ２を通じて、永久磁石４０１のＳ極へと循環させる。このように形成された磁気のループＬによれば、強い磁力を発生させ大きな磁気吸引力を得ることができる。これにより、限られた吸着面積で磁気吸引力を向上することが可能となり、インプラントオーバーデンチャー３をより安定して固定することができる。尚、磁石構造体４０は、従来の磁石構造体に比べて高さ方向の寸法が大きくなりやすいため、高さ方向のスペースに余裕がある前歯部分に配することがより好ましい。
また、実施例１と同様の作用効果を得ることができる。

（実施例４）
本例は、インプラントオーバーデンチャーシステム１における構成の一例を示すものである。
図１０に示すごとく、インプラントオーバーデンチャーシステム１は、キャップ部材５１を介して、インプラントオーバーデンチャー３の義歯床３２に磁石構造体４を配してある。
キャップ部材５１は、合成樹脂からなり、円板状のキャップ本体部５１１と、キャップ本体部５１１の外周縁から下方に形成された円筒状のキャップ側保持部５１２を有している。キャップ側保持部５１２の開口端部には、内側に向かって延設された保持鍔部５１３を有しており、磁石構造体４が有する鍔部４２３と係合可能に構成されている。

また、キャップ側保持部５１２の軸方向における長さ寸法は、鍔部４２３の厚みに比べて大きく設定してあり、磁石構造体４は、キャップ側保持部５１２の内側におけるキャップ本体部５１１の下面と保持鍔部５１３の間を、その軸方向に移動可能に構成されている。
その他の構成は実施例１と同様である。

本例のインプラントオーバーデンチャーシステム１は、上記のごとく、キャップ部材５１を介して義歯床３２に配された磁石構造体４が、その軸方向に移動可能に配置されている。そのため、キャップ部材５１埋設したインプラントオーバーデンチャー３においては、これを固定するインプラント１０に対してキャップ部材５１を含むインプラントオーバーデンチャー３全体が移動可能となる。

これにより、キーパ２と磁石構造体４との当接位置が一定であっても、キャップ部材５１を把持したインプラントオーバーデンチャー３全体をキーパ２に対してキャップ本体部５１１の下面と保持鍔部５１３とが配された範囲内において相対的に位置変更させることができる。それゆえ、歯茎の形状変化などの経時的変化が生じた場合にも、その経時的変化に追従して装着位置を変化させることができる。これにより、インプラントオーバーデンチャー３の再調整や修正の必要性を低減させることができる。
また、実施例１と同様の作用効果を得ることができる。

（実施例５）
本例は、インプラントオーバーデンチャーシステム１におけるバリエーションの他の例を示すものである。
図１１に示すごとく、本例のインプラントオーバーデンチャーシステム１は、インプラントオーバーデンチャー３の義歯床３２に、非磁性のステンレス鋼等の金属によって形成されたスリーブ５２を配してある。
スリーブ５２は、全体形状が略円筒状をなしており、一方の開口端部は磁石構造体４の外周側面を覆うように配されている。スリーブ５２における他方の開口端部は、磁石構造体４における吸着面４３よりも突出して形成されており、インプラントオーバーデンチャー３を顎堤８に配した際に、その内側にキーパ２を配置可能なキーパ配置凹部５２１を形成している。
その他の構成は実施例１と同様である。

本例のインプラントオーバーデンチャーシステム１は、磁石構造体４にスリーブ５２を装着した状態でインプラントオーバーデンチャー３の義歯床３２内に埋設されている。そして、スリーブ５２と吸着面４３とによって囲まれるキーパ配置凹部５２１に、キーパ２が配され、磁石構造体４における先端の吸着面４３とキーパ２の被吸着面２２５とが当接して固定される。この状態においては、スリーブ５２がキーパ２の外周側面を取り囲んだ状態となる。

ここで、スリーブ５２は、上記のごとく金属よりなる。そのため、キーパ２と磁石構造体４との当接面（吸着面４３と被吸着面２２５）の間を斜めに引き剥がす方向に相対的な回転力が生じても、キーパ２の外周側面を取り囲むスリーブ５２がこの動きを阻止する。そのため、インプラントオーバーデンチャー３の外れを従来よりも抑制することができる。

また、スリーブ５２は、可撓性を有する素材によって形成することもできる。この場合、インプラントオーバーデンチャー３に対して側方からの力が付与された場合には、スリーブ５２とキーパ２との間のクリアランス分及びスリーブ５２が弾性変形する範囲内で磁石装置とキーパ２との横滑りが許容され、側方からの力を緩和することができる。
また、実施例１と同様の作用効果を得ることができる。

（実施例６）
本例は、実施例１のインプラントオーバーデンチャーシステム１における、キーパ２の被吸着面２２５及び磁石構造体４の吸着面４３の形状を変更した例を示すものである。
図１２及び図１３（ｂ）に示すごとく、キーパ２の被吸着面２２５は、凸球面形状をなしている。
また、磁石構造体４の吸着面４３は、キーパ２の被吸着面２２５と対応した凹球面形状をなしている。
その他の構成は実施例１と同様である。

本例のインプラントオーバーデンチャーシステム１においては、磁石構造体４の吸着面４３がキーパ２の球面状の被吸着面２２５と対応した凹球面状である。そのため、磁石構造体４とキーパ２とを互いに密着させることができる。これにより、磁気回路におけるエアギャップが最小化され、十分な磁気吸引力が得られる。
また、磁石構造体４とキーパ２との間に回動機能を付与することができる。そのため、インプラントオーバーデンチャー３がキーパ２に対して揺動、回動し、磁石構造体４とキーパ２との間に隙間を生ずることなく、噛み合わせに伴うインプラントオーバーデンチャー３の揺動、回動が可能となる。
また、実施例１と同様の作用効果が得られる。

上述した実施例１〜実施例６においては、インプラント１０及び磁石構造体４の数を２つとしたが、２つ以上とすることもできる。図１４及び図１５に、インプラント１０及び磁石構造体４の数を３つ又は４つ配置した配置例を示す。

図１４に示すごとく、インプラント１０及び磁石構造体４の数がそれぞれ３つの場合には、２本の中切歯３１１の間に相当する位置に１つを配し、残りの２つは、それぞれ左右の第一小臼歯３１４に相当する位置に配することができる。このように、インプラント１０及び磁石構造体４の数が奇数の場合には、略中央位置となる２本の中切歯の間に１つ配し、それ以外のものは左右対称に配置することが好ましい。

図１５に示すごとく、インプラント１０及び磁石構造体４の数がそれぞれ４つの場合には、それぞれ左右の側切歯３１２に相当する位置及び第一小臼歯３１４に相当する位置に配することができる。
尚、第二小臼歯〜第二大臼歯と対応した位置の顎堤には、神経が多く通っているため、インプラントは、中切歯〜第一小臼歯と対応した位置の顎堤に埋設することが好ましい。また、中切歯〜犬歯と対応した位置の顎堤に埋設することがより好ましい。

また、上述の各実施例に示したインプラント１０及び磁石構造体４の配置は一例であり、上記以外にも種々の配置とすることができる。また、左右対称とは、正中線に対しておおよそ線対称の位置に配されていればよい。

（実施例７）
本例は、顎堤８に残存歯がある場合のインプラントオーバーデンチャーシステムの例である。
図１６に示すごとく、顎堤８には、左側の側切歯８０２、犬歯８０３の２本の残存歯がある。

図１６に示すごとく、インプラントオーバーデンチャー３の義歯床３２は、残存歯と対応した位置を切欠いて形成された退避凹部３２３を有している。したがって、義歯床３２には、左側の側切歯３１２及び犬歯３１３の人工歯３１が配されていない。退避凹部３２３は、外側に向かって開口しており、その内側に残存歯（８０２、８０３）を配置可能に形成されている。

図１６に示すごとく、義歯床３２の人工歯３１における右側の中切歯３１１、犬歯３１３と対応した位置には、それぞれ磁石構造体４を埋設してある。本例においては、残存歯である左側の側切歯８０２及び犬歯８０３に対して、略左右対称の位置に磁石構造体４を配してある。

図１６に示すごとく、顎堤８には、インプラントオーバーデンチャー３に埋設された磁石構造体４と対応した位置に、それぞれインプラント１０が配されている。
その他の構成は実施例１と同様である。
本例においても実施例１と同様の作用効果を得ることができる。

（実施例８）
本例は、インプラントオーバーデンチャーシステムを部分的に適用した例である。
図１７に示すごとく、顎堤８には、右側の中切歯８０１、側切歯８０２、犬歯８０３、第一小臼歯８０４、第二小臼歯８０５、第一大臼歯８０６、第二大臼歯８０７及び左側の中切歯８０１、側切歯８０２、犬歯８０３の１０本の残存歯がある。

図１７に示すごとく、インプラントオーバーデンチャー３の義歯床３２は、顎堤８における残存歯が配されていない部分を覆うように形成されており、第一小臼歯３１４、第二小臼歯３１５、第一大臼歯３１６、第二大臼歯３１７の４本の人工歯３１を有している。また、義歯床３２には、人工歯３１における右側の第二小臼歯３１５及び第一大臼歯３１６と対応した位置に、それぞれ磁石構造体４を埋設してある。

図１７に示すごとく、顎堤８には、インプラントオーバーデンチャー３に埋設された磁石構造体４と対応した位置に、それぞれインプラント１０が配されている。
本例において、磁石構造体４及びインプラント１０は、インプラントオーバーデンチャー３の長手方向における略中央位置を通り長手方向と直交する直線を基準線とし、基準線に対して線対称の位置に配されている。
その他の構成は実施例１と同様である。
本例においても実施例１と同様の作用効果を得ることができる。

１ インプラントオーバーデンチャーシステム
１０ インプラント
１１ インプラント本体部
１１１ ネジ部
２ キーパ
２２５ 被吸着面
３ インプラントオーバーデンチャー
３１ 人工歯
３２ 義歯床
４ 磁石構造体
４３ 吸着面
８ 顎堤
８１ 歯肉
８２ 顎骨

Claims (8)

1. インプラントオーバーデンチャーを顎堤に固定するためのインプラントであって、
   顎堤に埋設される非磁性体からなるインプラント本体部と、顎堤から露出すると共に上記インプラントオーバーデンチャーに配された磁石構造体と共に磁気回路を構成する磁性体からなるキーパとを有しており、
   該キーパの被吸着面の外形における外接円の直径ｄ１は、φ１．８ｍｍ以上に設定してあり、上記インプラント本体部における顎骨に埋設される埋設部分の最大直径ｄ２は、φ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０ｍｍ以下に設定してあり、上記直径ｄ１と上記最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．５の関係を有していることを特徴とするインプラント。
2. 請求項１に記載のインプラントにおいて、上記インプラント本体部は、上記インプラント本体部における顎骨に埋設される埋設部分から突出形成された中実の挿入部を有し、上記キーパは、上記挿入部を配置可能な挿入凹部を有しており、上記挿入部を上記挿入凹部に挿入して上記インプラント本体部と上記キーパとを固定していることを特徴とするインプラント。
3. 請求項２に記載のインプラントであって、上記挿入部を上記挿入凹部に圧入することにより、上記インプラント本体部と上記キーパとを固定することを特徴とするインプラント。
4. 請求項３に記載のインプラントであって、上記キーパの外周側面には、上記インプラントを顎堤に埋設するための工具を係合可能に形成されていることを特徴とするインプラント。
5. 請求項２に記載のインプラントであって、上記挿入部は、その外周側面にネジ山を形成した雄ネジ部を構成しており、上記挿入凹部は、その内周側面にネジ山を形成した雌ネジ部を構成しており、上記雄ネジ部と上記雌ネジ部とを螺合することにより、上記インプラント本体部と上記キーパとを固定することを特徴とするインプラント。
6. 請求項５に記載のインプラントであって、上記インプラント本体部の上記インプラント本体部における上記挿入部には、上記インプラント本体部を顎堤に埋設するための工具を係合する締結係合部が形成されていることを特徴とするインプラント。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載のインプラントに用いられ、顎堤から露出して配設されるキーパであって、
   上記インプラントオーバーデンチャーに配設された磁石構造体と共に磁気回路を構成する磁性体からなり、
   上記磁石構造体との被吸着面の外形における外接円の直径ｄ１は、φ１．８ｍｍ以上に設定してあり、
   上記インプラントに用いられ顎堤に埋設される非磁性体からなるインプラント本体部における顎骨に埋設される埋設部分の最大直径ｄ２と、上記直径ｄ１とは、ｄ１／ｄ２≦１．５の関係を有していることを特徴とするキーパ。
8. 請求項１〜６のいずれか一項に記載のインプラントに用いられ、顎堤に埋設される非磁性体からなるインプラント本体部であって、
   顎骨に埋設される埋設部分の最大直径ｄ２は、φ１．２ｍｍ以上でかつφ３．０ｍｍ以下に設定してあり、
   インプラントオーバーデンチャーに配設された磁石構造体と共に磁気回路を構成する磁性体からなるキーパの磁石構造体との被吸着面の外形における外接円の直径ｄ１と、上記最大直径ｄ２とは、ｄ１／ｄ２≦１．５の関係を有していることを特徴とするインプラント本体部。

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