JP5678801B2 - 光電変換素子 - Google Patents
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Description
・高い揮発性を有するため封止が非常に難しい。
・高い腐食性を有するため、電極として用いることのできる材料が限られている。
・ヨウ素系酸化還元対は可視光領域に非常に大きい吸光度係数を示し、色素の光吸収が阻害され、性能低下の原因となっている他、太陽電池の意匠性を強調する場合、ヨウ素の色が妨げとなり色素の鮮やかさを十分に生かすことができない。
(1)透明導電膜上に半導体層を設けてなる半導体電極と、対向電極と、前記両極間に保持された電解質層とを備えた光電変換素子であって、
前記半導体層が、金属酸化物半導体粒子の平均粒子径の異なる層が2層以上積層してなる積層膜であり、
前記電解質層が、酸化還元対として2,5−ジ−t−ブチルベンゾキノン及び2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノンの両方をそれぞれ1.0mM〜1.0M、添加剤とし安息香酸アンモニウムを1.0mM〜2.0M含有することを特徴とする光電変換素子。
(2)積層膜において、対向電極に向かうほど、平均粒子径の大きい層が位置するように積層されていることを特徴とする上記(1)記載の光電変換素子。
(3)積層膜において、透明導電膜に最も近い層の金属酸化物半導体粒子の平均粒子径が100nm以下であり、透明導電膜から最も遠い層の金属酸化物半導体粒子の平均粒子径が200〜700nmであることを特徴とする上記(1)または(2)記載の光電変換素子。
透明基体1は、可視光を透過するものが使用でき、透明なガラスが好適に利用できる。また、透明導電膜2が形成される側の表面を加工して入射光を散乱させることで、高効率で入射光を利用することができる。また、ガラスに限らず、光を透過するものであればプラスチック板やプラスチックフィルム等も使用できる。
透明導電膜2には、可視光を透過して、かつ導電性を有する材料が使用できる。このような材料としては、例えば金属酸化物が挙げられる。特に限定はされないが、例えばフッ素をドープした酸化スズ(以下、「FTO」と略記する。)や、酸化インジウム、酸化スズと酸化インジウムの混合体(以下、「ITO」と略記する。)、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化亜鉛などが好適に用いることができる。
半導体層3は、平均粒子径が異なる金属酸化物半導体粒子からなる層が、多層に積層したものである。金属酸化物半導体の種類は特に限定はされないが、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズなどが挙げられ、特に二酸化チタン、さらにはアナターゼ型二酸化チタンが好適である。また、電気抵抗値を下げるため、金属酸化物の粒界は少ないことが望ましい。
電解質層6は、酸化還元対として2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノンと、2,5−ジ−t−ブチルベンゾキノンと、安息香酸アンモニウムを混合した組成となっている。
安息香酸アンモニウムは、酸解離定数が大きく、NH4+が安定に存在できる。
0.05≦x/y≦20、0.5≦(x+y)/z≦2.0
触媒層7としては、電解質中の酸化還元対の酸化体を還元体に還元する還元反応を速やかに進行させることが可能な電極特性を有するものであれば特に限定されないが、塩化白金酸を塗布、熱処理したものや、白金を蒸着した白金触媒電極、活性炭、グラッシーカーボン、カーボンナノチューブのような炭素材料、硫化コバルトなどの無機硫黄化合物、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリンなどの導電性高分子などが使用できるが、その中でも白金触媒電極が好ましく使用できる。また、触媒層7の厚さは、5nm〜5μmが適当であり、特に好ましくは50nm〜2μmである。
電極基材8は、触媒層7の支持体兼集電体として用いられるため、表面部分に導電性を有していることが好ましく例えば、金属として白金、金、銀、ルテニウム、銅、アルミニウム、ニッケル、コバルト、クロム、鉄、モリブデン、チタン、タンタル、およびそれらの合金や、炭素材料として、例えば黒鉛(グラファイト)、カーボンブラック、グラッシーカーボン、カーボンナノチューブ、フラーレンなど、金属酸化物として、FTO、ITO、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アンチモンなどを用いることができる。また、表面が導電性を有するように処理すれば、ガラスやプラスチックなどの絶縁体も用いることができる。
(光電変換素子の作製)
以下のようにして、図1に示す構造の光電変換素子を作製した。
ジオマテック(株)製のITO膜付きガラス(スパッタ品)を必要なサイズに切り出し、ガラス洗浄剤で洗い、洗浄剤を純水で洗い流した後、アセトン、ヘキサン、アセトン、純水、純水の順番で各5分ずつ超音波洗浄を行った。乾燥後、UVオゾン洗浄機を用いて10分間仕上洗浄を行った後、70℃のTiCl4水溶液中に30分間浸漬した。浸漬後、純水で洗浄し、よく乾燥した。
増感色素として、N3と呼ばれるシス−ビス(イソチオシアナト)ビス(2,2’−ピビリジル−4,4’−ジカルボキシラート)ルテニウム(II)(和光純薬工業(株)製)を用いた。色素溶液は、0.3mMのエタノール溶液とした。そして、上記の半導体電極を色素溶液に浸漬し、遮光下40℃程度で3時間静置した。その後それぞれエタノールで余分な色素を洗浄し、風乾した。
対向電極は、ガラス基板の上に白金薄膜層を蒸着したものを用いた。白金薄膜の厚さは約200nmであった。
アルゴン置換を行ったガラス容器に安息香酸アンモニウムを278mg(2.0mM)入れ、1mlの酢酸を加えた。固体が溶けきるまで振り混ぜた後、2,5−ジ−t−ブチルベンゾキノンを220.3mg(1.0mM)、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン222.3mg(1.0mM)を加え、アセトニトリルにて全量を20mlとした。尚、酢酸及びアセトニトリルは、凍結脱気したものを用いた。
半導体電極と、対向電極との間に電解質層を介在させ、側面をエポキシ系接着剤でシールした。尚、この作業はアルゴン置換されたグローブボックス内にて行った。
光電変換素子の光電変換特性について、ソーラーシミュレーターを用いて評価した。擬似太陽光は、AM1.5条件下で100mW/cm2の光を用い、開放電圧、短絡電流、フィルファクターから変換効率(η1)を算出した。また、上記した小径のTiO2ペーストのみを用いて同じ厚さの半導体層を形成して比較用光電変換素子を作製した。そして、比較用光電変換素子の変換効率(η2)との比(η1/η2)を求めた。
小径のTiO2ペーストのみを用いて厚さ15μmの半導体層を形成した以外は実施例と同様にして光電変換素子を作製し、その変換効率を求めた。
大径のTiO2ペーストのみを用いて厚さ10μmの半導体層を形成した以外は実施例と同様にして光電変換素子を作製し、その変換効率を求めた。
電解液層にヨウ素系酸化還元対を用い、第1の半導体層の厚さを15μm、第2の半導体層の厚さを10μmとして光電変換素子を作製し、その変換効率を求めた。
1 透明基体
2 透明導電膜
3 半導体層
4 第1の半導体層
5 第2の半導体層
6 電解質層
7 触媒層
8 電極基材
9 半導体電極
10 対向電極
Claims (3)
- 透明導電膜上に半導体層を設けてなる半導体電極と、対向電極と、前記両極間に保持された電解質層とを備えた光電変換素子であって、
前記半導体層が、金属酸化物半導体粒子の平均粒子径の異なる層が2層以上積層してなる積層膜であり、
前記電解質層が、酸化還元対として2,5−ジ−t−ブチルベンゾキノン及び2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノンの両方をそれぞれ1.0mM〜1.0M、添加剤とし安息香酸アンモニウムを1.0mM〜2.0M含有することを特徴とする光電変換素子。 - 積層膜において、対向電極に向かうほど、平均粒子径の大きい層が位置するように積層されていることを特徴とする請求項1記載の光電変換素子。
- 積層膜において、透明導電膜に最も近い層の金属酸化物半導体粒子の平均粒子径が100nm以下であり、透明導電膜から最も遠い層の金属酸化物半導体粒子の平均粒子径が200〜700nmであることを特徴とする請求項1または2記載の光電変換素子。
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