JP5649541B2 - 腐食抑制剤注入方法 - Google Patents
腐食抑制剤注入方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5649541B2 JP5649541B2 JP2011202239A JP2011202239A JP5649541B2 JP 5649541 B2 JP5649541 B2 JP 5649541B2 JP 2011202239 A JP2011202239 A JP 2011202239A JP 2011202239 A JP2011202239 A JP 2011202239A JP 5649541 B2 JP5649541 B2 JP 5649541B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anticorrosive
- adjuster
- temperature water
- corrosion inhibitor
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/18—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using inorganic inhibitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/18—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using inorganic inhibitors
- C23F11/185—Refractory metal-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F15/00—Other methods of preventing corrosion or incrustation
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21C—NUCLEAR REACTORS
- G21C17/00—Monitoring; Testing ; Maintaining
- G21C17/02—Devices or arrangements for monitoring coolant or moderator
- G21C17/022—Devices or arrangements for monitoring coolant or moderator for monitoring liquid coolants or moderators
- G21C17/0225—Chemical surface treatment, e.g. corrosion
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21D—NUCLEAR POWER PLANT
- G21D3/00—Control of nuclear power plant
- G21D3/08—Regulation of any parameters in the plant
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Description
本発明の腐食抑制剤注入方法の第1の実施形態は、金属構造材の表面に接液する高温水に、防食剤とこの防食剤の表面に吸着したpH調整剤とからなる防食剤−pH調整剤複合体と、酸化体とを注入し、放射線または紫外線を照射する腐食抑制剤注入方法である。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第1の実施形態では高温水に防食剤−pH調整剤複合体が注入される。防食剤−pH調整剤複合体は、防食剤とこの防食剤の表面に吸着したpH調整剤とからなる。
防食剤は、金属構造材に付着して金属構造材に防食効果を付与する固体の物質である。防食剤としては、金属構造材に対する充分な防食効果を有するとともに、放射線または紫外線の照射により光触媒反応を生じる、光触媒が用いられる。また、光触媒としては、たとえば半導体が用いられる。
pH調整剤は、高温水のpHを調整するものである。本発明の腐食抑制剤注入方法の第1の実施形態では、pH調整剤として、高温水への添加により高温水のpHを高くするアルカリ性型pH調整剤が用いられる。
酸化体は、pH調整剤を酸化する酸化剤である。酸化体としては、過酸化水素、酸素、オゾン、スーパーオキサイドラジカル(・O2−)、およびヒドロキシラジカル(・OH)から選ばれる1種以上が用いられる。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第1の実施形態において、放射線または紫外線は、防食剤−pH調整剤複合体の防食剤の表面および高温水中の少なくとも一方に存在するpH調整剤を、酸化体で酸化する反応を促進するとともに、高温水から新たに酸化体を生成するものである。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第1の実施形態の作用について、図面を参照して説明する。
図1は、本発明の腐食抑制剤注入方法の第1および後述する第2の実施形態で放射線を照射した場合における防食剤の付着過程を説明する概略図である。
第1の実施形態では、防食剤−pH調整剤複合体10を構成するpH調整剤12がアルカリ性型pH調整剤12Aであり、防食剤−pH調整剤複合体10が防食剤11とアルカリ性型pH調整剤12Aとからなる防食剤−pH調整剤複合体10Aになっている。
次に、放射線を照射した状態で防食剤−pH調整剤複合体と酸化体とを注入する方法の作用について説明する。
紫外線を照射する方法の作用について説明する。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第1の実施形態によれば、従来の腐食抑制剤注入方法に比べて、防食剤11の金属構造材65への付着速度が加速される。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第2の実施形態は、金属構造材の表面に接液する高温水に、防食剤とこの防食剤の表面に付着したpH調整剤とからなる防食剤−pH調整剤複合体を注入し、放射線または紫外線を照射する腐食抑制剤注入方法であって、放射線または紫外線の照射により、防食剤が高温水から酸化体を生成する腐食抑制剤注入方法である。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第2の実施形態の作用について、図1〜図4を参照して説明する。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第2の実施形態で放射線を照射する方法には、防食剤−pH調整剤複合体を注入した後に放射線を照射する方法と、放射線を照射した状態で防食剤−pH調整剤複合体を注入する方法とがある。はじめに、防食剤−pH調整剤複合体を注入した後に放射線を照射する方法の作用について説明する。
第2の実施形態では、防食剤−pH調整剤複合体10を構成するpH調整剤12がアルカリ性型pH調整剤12Aであり、防食剤−pH調整剤複合体10が防食剤11とアルカリ性型pH調整剤12Aとからなる防食剤−pH調整剤複合体10Aになっている。
次に、放射線を照射した状態で防食剤−pH調整剤複合体を注入する方法の作用について説明する。
紫外線を照射する方法の作用について説明する。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第2の実施形態によれば、従来の腐食抑制剤注入方法に比べて、防食剤11の金属構造材65への付着速度が加速される。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第3の実施形態は、金属構造材の表面に接液する高温水に、防食剤とこの防食剤の表面に付着したpH調整剤とからなる防食剤−pH調整剤複合体と、還元体とを注入し、放射線または紫外線を照射する腐食抑制剤注入方法である。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第3の実施形態では高温水に防食剤−pH調整剤複合体が注入される。防食剤−pH調整剤複合体は、防食剤とこの防食剤の表面に吸着したpH調整剤とからなる。
防食剤は、金属構造材に付着して金属構造材に防食効果を付与する固体の物質である。防食剤としては、金属構造材に対する充分な防食効果を有するとともに、放射線または紫外線の照射により光触媒反応を生じる、光触媒が用いられる。また、光触媒としては、たとえば半導体が用いられる。
pH調整剤は、高温水のpHを調整するものである。本発明の腐食抑制剤注入方法の第3の実施形態では、pH調整剤として、高温水への添加により高温水のpHを低くする酸性型pH調整剤が用いられる。
還元体は、pH調整剤を還元する還元剤である。還元体としては、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、シュウ酸、ギ酸、鉄(II)イオン、スズ(II)イオン、および亜硫酸塩から選ばれる1種以上が用いられる。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第3の実施形態において、放射線または紫外線は、防食剤−pH調整剤複合体の防食剤の表面および高温水中の少なくとも一方に存在するpH調整剤を、還元体で還元する反応を促進するとともに、高温水から新たに還元体を生成するものである。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第3の実施形態の作用について、図面を参照して説明する。
図5は、本発明の腐食抑制剤注入方法の第3および後述する第4の実施形態で放射線を照射した場合における防食剤の付着過程を説明する概略図である。
第3の実施形態では、防食剤−pH調整剤複合体10を構成するpH調整剤12が酸性型pH調整剤12Bであり、防食剤−pH調整剤複合体10が防食剤11と酸性型pH調整剤12Bとからなる防食剤−pH調整剤複合体10Bになっている。
次に、放射線を照射した状態で防食剤−pH調整剤複合体と還元体とを注入する方法の作用について説明する。
紫外線を照射する方法の作用について説明する。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第3の実施形態によれば、従来の腐食抑制剤注入方法に比べて、防食剤11の金属構造材65への付着速度が加速される。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第4の実施形態は、金属構造材の表面に接液する高温水に、防食剤とこの防食剤の表面に付着したpH調整剤とからなる防食剤−pH調整剤複合体を注入し、放射線または紫外線を照射する腐食抑制剤注入方法であって、放射線または紫外線の照射により、防食剤が高温水から還元体を生成する腐食抑制剤注入方法である。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第4の実施形態の作用について、図5〜図8を参照して説明する。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第4の実施形態で放射線を照射する方法には、防食剤−pH調整剤複合体を注入した後に放射線を照射する方法と、放射線を照射した状態で防食剤−pH調整剤複合体を注入する方法とがある。はじめに、防食剤−pH調整剤複合体を注入した後に放射線を照射する方法の作用について説明する。
第4の実施形態では、防食剤−pH調整剤複合体10を構成するpH調整剤12が酸性型pH調整剤12Bであり、防食剤−pH調整剤複合体10が防食剤11と酸性型pH調整剤12Bとからなる防食剤−pH調整剤複合体10Bになっている。
次に、放射線を照射した状態で防食剤−pH調整剤複合体を注入する方法の作用について説明する。
紫外線を照射する方法の作用について説明する。
本発明の腐食抑制剤注入方法の第4の実施形態によれば、従来の腐食抑制剤注入方法に比べて、防食剤11の金属構造材65への付着速度が加速される。
(放射線の照射による防食剤の金属構造材への付着試験)
図1(A)に示されるように、金属構造材としてのSUS65の表面に接液する150℃の高温水60に、防食剤としての二酸化チタンTiO2粒子11とこの二酸化チタン粒子11の表面に吸着したアルカリ性型pH調整剤12Aとからなる防食剤−pH調整剤複合体10Aと、酸化体としての酸素25とを注入した。注入後、高温水60の液性はアルカリ性であった。なお、高温水60中の防食剤−pH調整剤複合体10Aは、その多くが、図2(A)に示されるように、二酸化チタン粒子11の表面にアルカリ性型pH調整剤12Aが吸着した状態を保っていた。
この状態で、高温水60に放射線としてのγ線75を照射したところ、放射線場70において、防食剤−pH調整剤複合体10Aのアルカリ性型pH調整剤12Aと、酸素25とが反応した。
防食剤−pH調整剤複合体10Aのアルカリ性型pH調整剤12Aは、酸素25で酸化されて、図2(B)に示されるように、pH調整剤の酸化生成物42に変化した。pH調整剤の酸化生成物42は、高温水60のpHをアルカリ性にするpH調整力が、アルカリ性型pH調整剤12Aに比べて弱くなり、高温水60の液性はアルカリ性から中性側にシフトし、弱アルカリ性〜弱酸性になった。一方、酸素25は還元されてスーパーオキサイドラジカル・O2−に変化した。
二酸化チタン粒子11の表面に吸着していたpH調整剤の酸化生成物42は、図1(B)および図2(C)に示されるように、二酸化チタン粒子11の表面から脱離した。
pH調整剤の酸化生成物42が脱離した二酸化チタン粒子11は、表面エネルギーが変化した。また、高温水60の液性がアルカリ性から中性側にシフトし、弱アルカリ性〜弱酸性になったため、二酸化チタン粒子11の凝集速度が増加し、他の物質への付着速度が増加した。このため、二酸化チタン粒子11は、図1(B)に示されるように、SUS65の表面に速やかに付着した。
なお、二酸化チタン粒子11がSUS65の表面に付着した後の高温水60中には、pH調整剤の酸化生成物42およびスーパーオキサイドラジカル・O2−が存在していた。
(放射線の照射の有無の影響)
酸化体として酸素に代えて過酸化水素を用いた以外は、実施例1と同様にして、SUS65の表面に二酸化チタン粒子11を付着させた(実施例2)。実施例2では、防食剤−pH調整剤複合体10Aと過酸化水素とを注入した後の高温水60の液性はアルカリ性であったが、γ線75の照射後の高温水60のpHは7であった。
また、比較例として、γ線を照射しない以外は実施例2と同様にして、SUS65の表面に二酸化チタン粒子11を付着させた(比較例1)。比較例1では、防食剤−pH調整剤複合体10Aと過酸化水素とを注入した後の高温水60の液性は、アルカリ性のまま変化しなかった。
また、実施例2および比較例1について、SUS65の表面への二酸化チタン粒子11の付着量を測定した。
図9は、放射線照射の有無による防食剤の付着量の変化を示す特性図である。図9に、実施例2および比較例1における、高温水のpH、およびSUSの表面への二酸化チタン粒子の付着量を示す。
図9より、放射線(γ線)を照射すると、高温水のpHが中性側にシフトし、SUSの表面への二酸化チタン粒子の付着量も増加することが分かる。
(紫外線の照射の有無の影響)
SUS65に代えてSUS試験片65を用い、放射線(γ線)に代えてピーク波長254nm、0.2mW/cm2の紫外線を用いるとともに、高温水の温度を160℃とした以外は、実施例2と同様にして、SUS試験片65の表面に二酸化チタン粒子11を付着させた(実施例3)。
また、高温水の温度を100℃とした以外は、実施例3と同様にして、SUS試験片65の表面に二酸化チタン粒子11を付着させた(実施例4)。
さらに、紫外線を照射しない以外は、実施例3と同様にして、SUS試験片65の表面に二酸化チタン粒子11を付着させた(比較例2)。
また、紫外線を照射しない以外は、実施例4と同様にして、SUS試験片65の表面に二酸化チタン粒子11を付着させた(比較例3)。
実施例3および4では、n型半導体である二酸化チタン粒子11が紫外線の照射によって高温水中に酸化体を生成し、この酸化体がアルカリ性型pH調整剤12Aを酸化していた。そして、アルカリ性型pH調整剤12Aが酸化されることにより、高温水のpHがアルカリ性から中性側にシフトし、SUS試験片65の表面への二酸化チタン粒子11の付着速度が増加していた。
実施例3および4、ならびに比較例2および3について、SUS試験片65の表面への二酸化チタン粒子11の付着量を測定した。
図10は、紫外線照射の有無による防食剤の付着量の変化を示す特性図である。図10に、実施例3および4、ならびに比較例2および3における、SUS試験片の表面への二酸化チタン粒子の付着量を示す。
図10より、紫外線を照射すると、紫外線を照射しない場合に比べて二酸化チタン粒子の付着量が増加することが分かる。また、図10より、高温水の温度が高いと、二酸化チタン粒子の付着量が増加することが分かる。
(高温水のpHの影響)
図5(A)に示されるように、金属構造材としてのSUS試験片65の表面に接液する180℃の高温水60に、防食剤11とこの防食剤11の表面に吸着した酸性型pH調整剤12Bとからなる防食剤−pH調整剤複合体10Bと、還元体35とを注入した。注入後、高温水60の液性は酸性でpHは4であった。なお、高温水60中の防食剤−pH調整剤複合体10Bは、その多くが、図6(A)に示されるように、防食剤11の表面に酸性型pH調整剤12Bが吸着した状態を保っていた。
この状態で、高温水60に放射線としてのγ線75を照射したところ、放射線場70において、防食剤−pH調整剤複合体10Bの酸性型pH調整剤12Bと、還元体35とが反応した。
防食剤−pH調整剤複合体10Bの酸性型pH調整剤12Bは、還元体35で還元されて、図6(B)に示されるように、pH調整剤の還元生成物52に変化した。pH調整剤の還元生成物52は、高温水60のpHを酸性にするpH調整力が、酸性型pH調整剤12Bに比べて弱くなり、高温水60の液性はpH4から中性側にシフトし、最終的にpH7になった。一方、還元体35は酸化されて酸化物55となった。
防食剤11の表面に吸着していたpH調整剤の還元生成物52は、図5(B)および図5(C)に示されるように、防食剤11の表面から脱離した。
pH調整剤の還元生成物52が脱離した防食剤11は、表面エネルギーが変化した。また、高温水60の液性がpH4の酸性から中性側にシフトし、pH7になったため、防食剤11の凝集速度が増加し、他の物質への付着速度が増加した。このため、防食剤11は、図5(B)に示されるように、SUS試験片65の表面に速やかに付着した。
なお、防食剤11がSUS試験片65の表面に付着した後の高温水60中には、pH調整剤の還元生成物52および還元体の酸化生成物55が存在していた。
実施例5について、SUS試験片65の表面への防食剤11の付着量を測定した。
図11は、水のpHと防食剤の付着量との関係を示す特性図である。図11に、実施例5における、SUS試験片の表面への防食剤の付着量を示す。
(高温水のpHの影響)
γ線を照射しない以外は実施例5と同様にして、SUS試験片65の表面に防食剤11を付着させた。
比較例4について、SUS試験片65の表面への防食剤11の付着量を測定した。
図11に、比較例4における、SUS試験片の表面への防食剤の付着量を示す。
図11より、高温水の液性が酸性よりも中性のほうが防食剤の付着量が多いことが分かる。
11 防食剤(二酸化チタン粒子)
12 pH調整剤
12A アルカリ性型pH調整剤
12B 酸性型pH調整剤
25 酸化体
35 還元体
42 pH調整剤の酸化生成物
45 酸化体の還元生成物
52 pH調整剤の還元生成物
55 還元体の酸化生成物
60 高温水
65 金属構造材
70 放射線場
75 放射線
80 紫外線照射環境
85 紫外線
Claims (15)
- 金属構造材の表面に接液する高温水に、防食剤とこの防食剤の表面に吸着したpH調整剤とからなる防食剤−pH調整剤複合体と、酸化体とを注入し、放射線または紫外線を照射する腐食抑制剤注入方法であって、
前記防食剤−pH調整剤複合体の防食剤は、表面に、前記pH調整剤と前記酸化体とが反応する活性点を有し、
前記放射線または紫外線の照射により、前記防食剤−pH調整剤複合体の防食剤の表面および前記高温水中の少なくとも一方に存在するpH調整剤を、前記酸化体で酸化して前記pH調整剤のpH調整力を変化させ、前記高温水のpHを中性側にシフトさせることにより、前記防食剤の前記金属構造材への付着を加速することを特徴とする腐食抑制剤注入方法。 - 金属構造材の表面に接液する高温水に、防食剤とこの防食剤の表面に付着したpH調整剤とからなる防食剤−pH調整剤複合体を注入し、放射線または紫外線を照射する腐食抑制剤注入方法であって、
前記防食剤として光触媒を用い、
前記防食剤に前記放射線または紫外線を照射して前記防食剤の表面の前記高温水を光触媒反応によって分解し、
高温水が分解されて生成した前記酸化体で、前記防食剤−pH調整剤複合体の防食剤の表面および前記高温水中の少なくとも一方に存在するpH調整剤を酸化して前記pH調整剤のpH調整力を変化させ、前記高温水のpHを中性側にシフトさせることにより、前記防食剤の前記金属構造材への付着を加速することを特徴とする腐食抑制剤注入方法。 - 前記pH調整剤は、前記高温水への添加により前記高温水のpHを高くするアルカリ性型pH調整剤であり、前記防食剤−pH調整剤複合体が添加された後の高温水は、前記放射線または紫外線の照射前の液性がアルカリ性であり、
前記放射線または紫外線の照射により、前記pH調整剤を前記酸化体で酸化して、前記高温水の液性を中性側にシフトさせることを特徴とする請求項1または2に記載の腐食抑制剤注入方法。 - 金属構造材の表面に接液する高温水に、防食剤とこの防食剤の表面に付着したpH調整剤とからなる防食剤−pH調整剤複合体と、還元体とを注入し、放射線または紫外線を照射する腐食抑制剤注入方法であって、
前記防食剤−pH調整剤複合体の防食剤は、表面に、前記pH調整剤と前記還元体とが反応する活性点を有し、
前記放射線または紫外線の照射により、前記防食剤−pH調整剤複合体の防食剤の表面および前記高温水中の少なくとも一方に存在するpH調整剤を、前記還元体で還元して前記pH調整剤のpH調整力を変化させ、前記高温水のpHを中性側にシフトさせることにより、前記防食剤の前記金属構造材への付着を加速することを特徴とする腐食抑制剤注入方法。 - 金属構造材の表面に接液する高温水に、防食剤とこの防食剤の表面に付着したpH調整剤とからなる防食剤−pH調整剤複合体を注入し、放射線または紫外線を照射する腐食抑制剤注入方法であって、
前記防食剤として光触媒を用い、
前記防食剤に前記放射線または紫外線を照射して前記防食剤の表面の前記高温水を光触媒反応によって分解し、
高温水が分解されて生成した前記酸化体で、前記防食剤−pH調整剤複合体の防食剤の表面および前記高温水中の少なくとも一方に存在するpH調整剤を還元して前記pH調整剤のpH調整力を変化させ、前記高温水のpHを中性側にシフトさせることにより、前記防食剤の前記金属構造材への付着を加速することを特徴とする腐食抑制剤注入方法。 - 前記pH調整剤は、前記高温水への添加により前記高温水のpHを低くする酸性型pH調整剤であり、前記防食剤−pH調整剤複合体が添加された後の高温水は、前記放射線または紫外線の照射前の液性が酸性であり、
前記放射線または紫外線の照射により、前記pH調整剤を前記還元体で還元して、前記高温水の液性を中性側にシフトさせることを特徴とする請求項4または5に記載の腐食抑制剤注入方法。 - 中性側にシフトした後の前記高温水のpHが4〜10の範囲内にあることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の腐食抑制剤注入方法。
- 前記放射線は、α線、γ線、または中性子線であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の腐食抑制剤注入方法。
- 前記pH調整剤は、窒素、硫黄および炭素から選ばれる1種以上の元素を含む、無機化合物または有機化合物であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の腐食抑制剤注入方法。
- 前記防食剤は、半導体であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の腐食抑制剤注入方法。
- 前記防食剤は、酸化チタンTiO2であることを特徴とする請求項1〜3、および7〜10のいずれか1項に記載の腐食抑制剤注入方法。
- 前記防食剤は、酸化鉄Fe3O4、酸化クロムCr2O3、および酸化ニッケルNiOから選ばれる1種以上の酸化物であることを特徴とする請求項4〜10のいずれか1項に記載の腐食抑制剤注入方法。
- 前記酸化体は、過酸化水素、酸素、オゾン、スーパーオキサイドラジカル、およびヒドロキシラジカルから選ばれる1種以上であることを特徴とする1〜12のいずれか1項に記載の腐食抑制剤注入方法。
- 前記高温水は、100〜350℃であることを特徴とする1〜13のいずれか1項に記載の腐食抑制剤注入方法。
- 前記金属構造材は、ステンレス鋼、Ni基合金、または炭素鋼であることを特徴とする1〜14のいずれか1項に記載の腐食抑制剤注入方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011202239A JP5649541B2 (ja) | 2011-09-15 | 2011-09-15 | 腐食抑制剤注入方法 |
| EP12831961.3A EP2757177B1 (en) | 2011-09-15 | 2012-09-13 | Corrosion inhibitor injection method |
| MX2014002866A MX2014002866A (es) | 2011-09-15 | 2012-09-13 | Metodo para inyectar inhibidor de corrosion. |
| PCT/JP2012/073503 WO2013039163A1 (ja) | 2011-09-15 | 2012-09-13 | 腐食抑制剤注入方法 |
| US14/345,148 US9410252B2 (en) | 2011-09-15 | 2012-09-13 | Corrosion inhibitor injecting method |
| TW101133772A TWI466132B (zh) | 2011-09-15 | 2012-09-14 | Corrosion inhibitor injection method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011202239A JP5649541B2 (ja) | 2011-09-15 | 2011-09-15 | 腐食抑制剤注入方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013064170A JP2013064170A (ja) | 2013-04-11 |
| JP5649541B2 true JP5649541B2 (ja) | 2015-01-07 |
Family
ID=47883380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011202239A Expired - Fee Related JP5649541B2 (ja) | 2011-09-15 | 2011-09-15 | 腐食抑制剤注入方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9410252B2 (ja) |
| EP (1) | EP2757177B1 (ja) |
| JP (1) | JP5649541B2 (ja) |
| MX (1) | MX2014002866A (ja) |
| TW (1) | TWI466132B (ja) |
| WO (1) | WO2013039163A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010090307A1 (ja) * | 2009-02-09 | 2010-08-12 | 株式会社東芝 | プラントの運転方法及びシステム |
| US10079139B2 (en) * | 2011-03-17 | 2018-09-18 | Kent J. Voorhees | Metal oxide laser ionization-mass spectrometry |
| CN118299325A (zh) | 2016-08-10 | 2024-07-05 | 株式会社国际电气 | 衬底处理装置、金属部件及半导体器件的制造方法 |
| JP7299012B2 (ja) * | 2018-12-17 | 2023-06-27 | 株式会社Ihiインフラシステム | 不動態化処理方法、不動態化処理液及び不動態化処理容器 |
| US11911790B2 (en) | 2022-02-25 | 2024-02-27 | Saudi Arabian Oil Company | Applying corrosion inhibitor within tubulars |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5130080A (en) | 1990-04-02 | 1992-07-14 | General Electric Company | Method of providing extended life expectancy for components of boiling water reactors |
| JP4043647B2 (ja) * | 1999-06-23 | 2008-02-06 | 株式会社東芝 | 原子炉構造材及び原子炉構造材の腐食低減方法 |
| JP4334106B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2009-09-30 | 株式会社東芝 | 原子炉構造材料の光触媒付着方法 |
| JP3587161B2 (ja) * | 2000-10-26 | 2004-11-10 | 株式会社日立製作所 | 水質制御方法 |
| JP4094275B2 (ja) | 2001-11-06 | 2008-06-04 | 株式会社東芝 | 原子炉構造材料の光触媒皮膜形成方法 |
| JP2003232886A (ja) * | 2002-02-06 | 2003-08-22 | Toshiba Corp | 金属材料の腐食低減方法 |
| JP3988684B2 (ja) | 2003-06-12 | 2007-10-10 | 日産自動車株式会社 | 三次元測定方法およびリフト装置 |
| JP4343092B2 (ja) | 2004-11-29 | 2009-10-14 | 株式会社東芝 | 原子炉材料表面の改質方法及びその装置 |
| JP4776219B2 (ja) * | 2004-12-09 | 2011-09-21 | 株式会社東芝 | 原子力発電プラントとその耐食性被膜形成方法および原子炉運転方法 |
| KR101063132B1 (ko) * | 2006-02-09 | 2011-09-07 | 가부시끼가이샤 도시바 | 화학 제염 장치 및 그 제염 방법 |
| JP5398124B2 (ja) * | 2006-05-31 | 2014-01-29 | 株式会社東芝 | 腐食抑制皮膜生成方法及び原子力発電プラント |
| JP2009216289A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Toshiba Corp | プラント保護方法 |
| WO2010090307A1 (ja) | 2009-02-09 | 2010-08-12 | 株式会社東芝 | プラントの運転方法及びシステム |
| JP5676888B2 (ja) * | 2010-02-05 | 2015-02-25 | 株式会社東芝 | 薬剤注入システムおよび薬剤注入方法 |
-
2011
- 2011-09-15 JP JP2011202239A patent/JP5649541B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-09-13 US US14/345,148 patent/US9410252B2/en active Active
- 2012-09-13 MX MX2014002866A patent/MX2014002866A/es unknown
- 2012-09-13 WO PCT/JP2012/073503 patent/WO2013039163A1/ja not_active Ceased
- 2012-09-13 EP EP12831961.3A patent/EP2757177B1/en active Active
- 2012-09-14 TW TW101133772A patent/TWI466132B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2757177A1 (en) | 2014-07-23 |
| TWI466132B (zh) | 2014-12-21 |
| WO2013039163A1 (ja) | 2013-03-21 |
| US20140242299A1 (en) | 2014-08-28 |
| JP2013064170A (ja) | 2013-04-11 |
| TW201327575A (zh) | 2013-07-01 |
| MX2014002866A (es) | 2014-05-07 |
| US9410252B2 (en) | 2016-08-09 |
| EP2757177A4 (en) | 2015-04-29 |
| EP2757177B1 (en) | 2017-10-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5649541B2 (ja) | 腐食抑制剤注入方法 | |
| Muruganandham et al. | Recent developments in heterogeneous catalyzed environmental remediation processes | |
| Zhang et al. | Preparation of Fenton reagent with H2O2 generated by solar light-illuminated nano-Cu2O/MWNTs composites | |
| Zhang et al. | Elimination of BPA endocrine disruptor by magnetic BiOBr@ SiO2@ Fe3O4 photocatalyst | |
| Maurino et al. | Sustained production of H 2 O 2 on irradiated TiO 2–fluoride systems | |
| JP7065819B2 (ja) | 放射性廃液の処理方法 | |
| Liu et al. | Cobalt–aluminum oxide clusters-embedded γ-Al2O3 nanosheets for peroxymonosulfate activation: Interfacial pH-buffering property to eliminate cobalt leaching and boost the catalytic activity | |
| CN101602537B (zh) | 臭氧强化氧化亚硫酸盐水溶液的处理方法 | |
| Bajpai et al. | Sonochemical preparation and characterization of Sm‐doped GO/KSrPO4 nanocomposite photocatalyst for degradation of methylene blue dye | |
| KR102256404B1 (ko) | 제염 폐액의 처리 방법 | |
| Zhong et al. | La 2 CoO 4+ δ perovskite-mediated peroxymonosulfate activation for the efficient degradation of bisphenol A | |
| Marques et al. | Hydrogen production from aqueous glycerol using titanate nanotubes decorated with Au nanoparticles as photocatalysts | |
| Beyecha et al. | Study on challenges and solutions for enhancing photocatalytic activities of Ag3PO4 nanoparticles for degradation of organic dyes from wastewater | |
| CN105597754A (zh) | 一种Ag-rGO-BiVO4三者复合光催化剂的制备方法 | |
| JP5619685B2 (ja) | 白金添着酸化物ナノ粒子の製造方法 | |
| TWI646055B (zh) | 液體觸媒協同光催化反應去化廢酸溶液中雙氧水之方法及裝置 | |
| CN116002842B (zh) | 碳纳米管负载型催化剂活化过氧乙酸降解卡马西平的方法 | |
| Shin et al. | Optimal pH condition for hydrogen production using δ-FeOOH under UV irradiation | |
| CN108404948A (zh) | 一种(BiO)2CO3-BiO2-x复合光催化剂及其制备方法和应用 | |
| Seadira et al. | Solar photocatalytic hydrogen production from glycerol reforming using ternary Cu/THS/Graphene | |
| Lee et al. | Photocatalytic removal of Cu ions from aqueous Cu-EDTA solution using solution combusted zinc oxide nanopowder | |
| JP2010260981A (ja) | イオン交換樹脂の分解方法及び分解装置 | |
| Seliverstov et al. | Recovery of radioactive cobalt from aqueous EDTA solutions using concentrated ozone | |
| KR20130042074A (ko) | 마이크로 버블을 이용한 방사성 오염물 침착 금속재의 오염 제거 방법 및 이를 위한 처리 장치 | |
| KR20110117924A (ko) | 마이크로 버블을 이용한 방사성 오염물 침착 금속재의 오염 제거방법 및 이를 위한 처리장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140120 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140916 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140919 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141014 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141111 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5649541 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |