JP5589911B2 - 光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物、光学フィルム又はシート、偏光子保護フィルム及び偏光板 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルムの形成に使用される電子線硬化型組成物、当該組成物を硬化して得られる光学フィルム又はシート、及びこれを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板に関し、これら技術分野に属する。
尚、下記においては、便宜上、特に断りがない場合は、「光学フィルム又はシート」を「光学フィルム」と記載する。又、アクリレート又はメタクリレートを、（メタ）アクリレートと表す。

液晶表示装置には、その画像形成方式から液晶パネル表面を形成するガラス基板の両側に偏光板を配置することが必要不可欠である。偏光板は、一般的には、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素等の二色性材料からなる偏光子の両面に、トリアセチルセルロース等を用いた偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤により貼り合せたものが用いられている。

偏光子保護フィルムには、液晶や偏光子を紫外線劣化から防ぐ目的で、紫外線吸収性能が必要とされることがある。現在は、偏光子保護フィルムとしてのトリアセチルセルロースフィルム中に紫外線吸収剤（以下、「ＵＶＡ」という）を添加し、紫外線吸収性能を持たせている。

しかしながら、トリアセチルセルロースは耐湿熱性が十分でなく、トリアセチルセルロースフィルムを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板を高温又は高湿下において使用すると、偏光度や色相等の偏光板の性能が低下するという欠点がある。又、トリアセチルセルロースフィルムは斜め方向の入射光に対するレタデーションや厚さ方向のレタデーションを有する。かかるレタデーションは、近年、液晶ディスプレイの大型化が進むにしたがって、顕著に視野角特性に影響を及ぼすようになっている。

そこで、従来からのトリアセチルセルロースに代わる偏光子保護フィルムの材料として、透明性の熱可塑性樹脂が検討されている。

特許文献１及び２には、透明性の熱可塑性樹脂にＵＶＡを添加して紫外線吸収性能を持たせた偏光子保護フィルムが開示されているが、このような偏光子保護フィルムにおいては、樹脂の黄変が大きく、ＵＶＡを含む熱可塑性樹脂組成物を成形する際に加えられる熱によりＵＶＡが蒸散して、得られた樹脂成形品の紫外線吸収能が低下したり、蒸散したＵＶＡにより成形装置が汚染される等の問題が生じることがある。
ＵＶＡを含む熱可塑性樹脂組成物から偏光子保護フィルムを製造する場合、樹脂との相溶性が悪い場合や添加量が多い場合には、析出してしまい、ヘイズが高くなることを原因として、偏光度が低下してしまう問題があった。

特許文献３には、偏光子保護フィルム用として面内レタデーションが小さい熱可塑性アクリル系樹脂が開示されているが、耐溶剤性が不充分であり、表面に塗布されるハードコート剤の溶剤や偏光子と保護フィルムの接着に用いられる液状接着剤の浸食による透明性の低下等の問題が生じることがあった。

特開平９−１６６７１１号公報 特開２００４−４５８９３号公報 特開２００６−９６９６０号公報

前記した通り従来からのトリアセチルセルロースに代わる偏光子保護フィルムの材料として検討されている透明性の熱可塑性樹脂は、ＵＶＡを含むものは樹脂の黄変が大きくなることがあり、又、耐溶剤性が不充分であるために溶剤や接着剤の浸食による透明性の低下等の問題が生じることがあった。

本発明は、ＵＶＡを含まずとも、又はＵＶＡを含んだとしても、硬化物の透明性と耐光性試験後の黄変度のバランスに優れ、耐溶剤性が良好で、正面及び斜め方向の面内レタデーションや厚さ方向レタデーションが小さい光学フィルム形成用電子線硬化型組成物、当該組成物から得られた光学フィルム、偏光子保護フィルム及び偏光板を提供することを目的とする。

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のジオール、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレート及び１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含み、硬化物のレタデーション及びヘイズが特定値を有する電子線硬化型組成物が、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明の組成物は、得られる硬化物の正面及び斜め方向の面内レタデーション及び厚さ方向レタデーションが１０ｎｍ以下で、ヘイズが１．０％以下という小さいものであり、これにより硬化物が透明性と耐光性試験後のバランスに優れ、さらに耐溶剤性にも優れたものとなる。
従って、本発明の電子線硬化光学フィルムは、偏光子保護フィルム用途に好適に使用することができ、偏光度が低下してしまうという問題もない。

本発明は、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール又はポリエーテルジオールから選ばれる少なくともひとつのジオール、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートの反応物であるウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）〔以下、単に「（Ａ）成分」という〕及び
１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｂ）〔以下、単に「（Ｂ）成分」という〕を含み、
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量を基準として、（Ａ）成分２０〜９５重量％及び（Ｂ）成分５〜８０重量％で含み、
硬化物のヘイズが１．０％以下で、かつ
厚さ８０μｍで測定した場合における硬化物の正面及び斜め４０°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが１０ｎｍ以下である
光学フィルム形成用電子線硬化型組成物に関する。
以下、本発明を詳細に説明する。尚、本明細書では、組成物に電子線照射して得られる架橋物及び硬化物を、まとめて「硬化物」と表す。

１．（Ａ）成分
本発明で使用する（Ａ）成分は、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール又はポリエーテルジオール（以下、これらをまとめて「ジオールａ」という）、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートの反応物であるウレタン（メタ）アクリレートである。
当該（Ａ）成分は、他のウレタン（メタ）アクリレートと比較して、ポリオールとしてジオールａ、有機ジイソシアネートとして無黄変型を使用することにより、耐光性試験後の黄変度が小さいものとなる。

（Ａ）成分としては、ジオールａと無黄変型有機ジイソシアネートを反応させてイソシアネート基含有化合物を製造し、これとヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを反応させた化合物（以下、「化合物Ａ１」という）、及びジオールａ、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを同時に反応させた化合物（以下、「化合物Ａ２」という）等が挙げられ、分子量を制御しやすいという理由で化合物Ａ１が好ましい。
（Ａ）成分としては、オリゴマー及びポリマーのいずれも使用可能であり、重量平均分子量１，０００〜５万のものが好ましく、より好ましくは３，０００〜３万である。
尚、本発明において、重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定した分子量をポリスチレン換算した値である。

ジオールａにおいて、ポリカーボネートジオールとしては、低分子量ジオール、ポリエーテルジオール又は／及びビスフェノールＡ等のビスフェノールとエチレンカーボネート及び炭酸ジブチルエステル等の炭酸ジアルキルエステルの反応物等が挙げられる。
ここで、低分子量ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール及び３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等が挙げられる。
ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール、並びにポリエチレンポリプロポキシブロックポリマージオール等のブロック又はランダムポリマーのジオール等が挙げられる。

ジオールａにおいて、ポリエステルジオールとしては、前記低分子量ジオール又は／及び前記ポリエーテルジオールと、アジピン酸、コハク酸、フタル酸、テトラヒドルフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸及びテレフタル酸等の二塩基酸又はその無水物等の酸成分とのエステル化反応物等が挙げられる。

ジオールａにおいて、ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール；ポリエチレンポリプロポキシブロックポリマージオール等のブロック又はランダムポリマーのジオール；並びにビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物のジオール及びビスフェノールＡプロピレンオキサイド付加物のビスフェノールＡアルキレンオキサイド付加物のジオール等が挙げられる。

これらのジオールａは、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。

無黄変型有機ジイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（以下、「ＩＰＤＩ」という）、４，４′−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）（以下、「Ｈ１２ＭＤＩ」という）及びω，ω′−ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。

これらの有機ジイソシアネート化合物は、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。

前記した化合物の中でも、硬化物に耐光性（耐候性）が要求される場合には、ＩＰＤＩ及びＨ１２ＭＤＩが好ましい。

ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ、ジ又はモノ（メタ）アクリレート、及びトリメチロールプロパンジ又はモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記した化合物の中でも、シートの柔軟性に優れるという点で、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート及びヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが好ましい。

（Ａ）成分は、常法に従い製造されたもので良い。
化合物Ａ１を製造する場合は、ジブチルスズジラウレート等のウレタン化触媒存在下、使用するジオールａ及び無黄変型有機ジイソシアネートを加熱攪拌し付加反応させ、さらにヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを添加し、加熱攪拌し付加反応させる方法等が挙げられ、化合物Ａ２を製造する場合は、前記と同様の触媒の存在下に、ジオールａ、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを同時に添加して加熱攪拌する方法等が挙げられる。

（Ａ）成分は、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。

２．（Ｂ）成分
（Ｂ）成分は、１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。本発明では（Ｂ）成分を含むことにより、組成物の塗工性と硬化物の機械強度のバランスをとることができる。

（Ｂ）成分としては、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アリル(メタ）アクリレート、２−エトキシエチル(メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、о−フェニルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、フェニル(メタ）アクリレート、о−フェニルフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェニル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。

（Ｂ）成分としては、前記した化合物の１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。

（Ｂ）成分としては、前記した化合物の中でも、ホモポリマーのガラス転移温度が５０℃以上である（メタ）アクリレートが好ましい。
当該（メタ）アクリレートの具体例としては、さらに組成物の硬化物が耐熱性及び耐光性にも優れたものとなる点で、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルモルホリン及びＮ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミドがより好ましい。

３．光学フィルム形成用電子線硬化型組成物
本発明は、前記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を必須成分として含む光学フィルム形成用電子線硬化型組成物である。
組成物の製造方法としては、常法に従えばよく、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を使用し、必要に応じてその他の成分をさらに使用し、これらを攪拌・混合して得ることができる。

本発明の組成物は、その硬化物のヘイズが１．０％以下であり、このようなヘイズを有するものは、特に、偏光子保護フィルム用として好適である。
硬化物のヘイズが１．０％を超えるものは、偏光解消による偏光度が低下してしまう。
本発明においてヘイズとは、フィルムの濁度を表し、フィルムへの入射光のうち、拡散透過光の全光線透過光に対する割合から求められるものを意味する。

又、本発明の組成物は、厚さ８０μｍで測定した場合における硬化物の正面及び斜め４０°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが１０ｎｍ以下である必要がある。これにより、偏光子保護フィルムとして用いた場合、視野角特性に優れた液晶ディスプレイを得ることができる。硬化物のレタデーションが１０ｎｍより大きいものは、視野角特性が劣るという問題がある。
さらに、厚さ８０μｍで測定した場合における硬化物の正面の面内レタデーションが１ｎｍ以下で、斜め４０°の面内レタデーションが５ｎｍ以下で、厚さ方向のレタデーションが１０ｎｍ以下であるものが好ましい。

本発明においてレタデーションとは、光学フィルムに直線偏光が入射したとき透過光を直交する２つの直線偏光に分解して考えたときの複屈折により生じる位相差を意味する。
具体的には、面内のレタデーション（Ｒｅ）及び厚さ方向のレタデーション（Ｒｔｈ）は、フィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙ（但し、ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率をｎｚ、フィルム厚さをｄとしたとき、下式で定義される値である。
Ｒｅ ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）｝×ｄ
さらに、本発明において、斜め４０°の面内レタデーションとは、光学フィルムに対して斜め４０°で直線偏光を入射したときの面内レタデーションを意味する。

（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の割合は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量を基準として（Ａ）成分２０〜９５重量％及び（Ｂ）成分５〜８０重量％とし、好ましくは（Ａ）成分３０〜９０重量％及び（Ｂ）成分１０〜７０重量％である。
（Ａ）成分の割合が２０重量％以上とすることで、得られる硬化物の柔軟性に優れるものとすることができ、他方９５重量％以下とすることで、組成物の粘度を低くし、塗工性に優れるものとすることができる。

本発明の組成物は、電子線硬化型組成物であり、必要に応じて従来公知の光重合開始剤を配合できるが、光重合開始剤を含まないものが好ましい。光重合開始剤を含まないことにより、得られる硬化物の耐熱性や耐光性に優れるものとすることができる。

本発明の組成物は、前記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を必須とするものであるが、目的に応じて種々の成分を配合することができる。
具体的には、（Ａ）及び（Ｂ）成分以外のエチレン性不飽和化合物〔以下、（Ｃ）成分という〕、有機溶剤〔以下、（Ｄ）成分という〕、重合禁止剤又は／及び酸化防止剤、耐光性向上剤等を挙げることができる。
以下これらの成分について説明する。

●（Ｃ）成分
（Ｃ）成分は、（Ａ）及び（Ｂ）成分以外のエチレン性不飽和化合物である。
（Ｃ）成分は、組成物全体の粘度を低下させる目的や、その他の物性を調整する目的で必要に応じて配合する成分である。

（Ｃ）成分の具体例としては、（Ａ）及び（Ｂ）成分以外の（メタ）アクリレート〔以下、「その他（メタ）アクリレート」という〕等が挙げられる。

その他（メタ）アクリレートとしては、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物〔以下、「多官能（メタ）アクリレート」という〕等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノールＡ ＥＯ変性（ｎ＝１〜２）ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（ｎ＝５〜１４）ジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（ｎ＝５〜１４）ジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコール（ｎ＝３〜１６）ジ（メタ）アクリレート、ポリ（１−メチルブチレングリコール）（ｎ＝５〜２０）ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレートの二官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。
尚、上記においてＥＯ変性とは、エチレンオキサイド変性を意味し、ｎはアルキレンオキサイド単位の繰返し数を意味する。

（Ｃ）成分としては、前記した化合物の１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。

（Ｃ）成分の割合としては、目的に応じて適宜設定すれば良く、得られる硬化物の柔軟性を低下させない量であれば良いが、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して１〜１００重量％が好ましく、より好ましくは１〜８０重量％である。

●（Ｄ）成分
本発明の組成物は、基材への塗工性を改善する等の目的で、（Ｄ）成分の有機溶剤を含むものが好ましい。

（Ｄ）成分の具体例としては、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びシクロヘキサン等の炭化水素系溶剤；
メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−イソプロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−イソペンチルオキシエタノール、２−ヘキシルオキシエタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール及び１−エトキシ−２−プロパノール等のアルコール系溶剤；
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビス(２−メトキシエチル)エーテル、ビス(２−エトキシエチル)エーテル及びビス(２−ブトキシエチル)エーテル等のエーテル系溶剤；
アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤が挙げられる。

（Ｄ）成分としては、前記した化合物の１種又は２種以上用いることができる。

（Ｄ）成分の割合としては、適宜設定すれば良いが、好ましくは組成物中に１０〜９０重量％が好ましく、より好ましくは４０〜８０重量％である。

●重合禁止剤又は／及び酸化防止剤
本発明の組成物には、重合禁止剤又は／及び酸化防止剤を添加することが、本発明の組成物の保存安定性を向上させことができ、好ましい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、並びに種々のフェノール系酸化防止剤が好ましいが、イオウ系二次酸化防止剤、リン系二次酸化防止剤等を添加することもできる。
これら重合禁止剤又は／及び酸化防止剤の総配合割合は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して、０．００１〜３重量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．５重量％である。

●耐光性向上剤
本発明の組成物には、紫外線吸収剤や光安定剤等の耐光性向上材を添加しても良い。
紫外線吸収剤としては、２−（２'−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物；
２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−イソ−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン等のトリアジン化合物；
２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４'−メチルベンゾフェノン、２,２'−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２、４、４'−トリヒドロキシベンゾフェノン、２,２',４,４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、又は２、２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物等を挙げることができる。
光安定性剤としては、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，６，６−）ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート、等の低分子量ヒンダードアミン化合物；Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート等の高分子量ヒンダードアミン化合物等のヒンダードアミン系光安定剤を挙げることができる。
耐光性向上剤の配合割合は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して、０〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは０〜１重量％である。

４．使用方法
本発明の組成物は、光学フィルム形成の目的に応じて種々の使用方法を採用することができる。
具体的には、基材に組成物を塗工し電子線を照射して硬化させる方法、基材に組成物を塗工し別の基材と貼り合せた後さらに電子線を照射して硬化させる方法、凹部を有する型枠に組成物を流し込み、電子線を照射して硬化させる方法等が挙げられる。

基材としては、剥離可能な基材及び離型性を有しない基材（以下、「非離型性基材」という）のいずれも使用することができる。
剥離可能な基材としては、離型処理されたフィルム及び剥離性を有する表面未処理フィルム（以下、まとめて「離型材」という）等が挙げられる。
離型材としては、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理シクロオレフィンポリマーフィルム及び表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）等が挙げられる。
本発明の組成物の硬化物のヘイズを１．０％以下に抑えるためには、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）を使用することが好ましい。

本願発明の組成物から得られる光学フィルムに対して、低いヘイズにしたり表面平滑性を付与するためには、剥離可能な基材として表面粗さＲａが１５０ｎｍ以下の基材を使用することが好ましい。
当該基材の具体例としては、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）等が挙げられる。
尚、本発明において表面粗さＲａとは、フィルムの表面の凹凸を測定し、平均の粗さを計算したものを意味する。

非離型性基材としては、前記以外の各種プラスチックが挙げられ、ポリビニルアルコール、トリアセチルセルロース及びジアセチルセルロース等のセルロースアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ノルボルネン等の環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。

塗工方法としては、目的に応じて適宜設定すれば良く、従来公知のバーコート、アプリケーター、ドクターブレード、ナイフコーター、コンマコーター、リバースロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター及びマイクログラビアコーター等で塗工する方法が挙げられる。

電子線照射における、線量等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。

５．光学フィルム
本発明の組成物は、光学フィルムの製造に好ましく使用できる。
以下、光学フィルムについて説明する。
尚、以下においては、図１及び図２に基づき一部説明する。

5−1．光学フィルムの製造方法
光学フィルムの製造方法としては常法に従えば良く、例えば、組成物を基材に塗布した後、電子線を照射して製造することができる。

図１は、離型材／硬化物から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す。
図１において、(1)は離型材を意味する。
組成物が無溶剤型の場合（図１：Ｆ１）は、組成物を離型材〔図１：(1)〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合（図１：Ｆ２）は、組成物を離型材〔図１：(1)〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる（図１：１−１）。
離型材に組成物層(2)が形成されてなるシートに対して電子線を照射することで、離型材／硬化物から構成される光学フィルムが得られる。電子線の照射は、通常、組成物層側から照射するが、離型材側からも照射できる。
上記において、基材(1)として離型材を使用すれば、離型材／硬化物から構成される光学フィルムを製造することができる。

本発明の組成物の塗工量としては、使用する用途に応じて適宜選択すればよいが、有機溶剤等を乾燥した後の膜厚が５〜２００μｍとなるよう塗工するのが好ましく、より好ましくは１０〜１００μｍである。

組成物が有機溶剤等を含む場合は、塗布後に乾燥させ、有機溶剤等を蒸発させる。
乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、４０〜１５０℃の温度に加熱する方法等が挙げられる。

電子線照射における、線量等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。

図２は、離型材／硬化物／離型材から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す。
図２において、(1)、(3)、(4)は離型材を意味する。
組成物が無溶剤型の場合（図２：Ｆ１）は、組成物を離型材〔図２：(1)〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合（図２：Ｆ２）は、組成物を離型材〔図２：(1)〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる（図２：２−１）。組成物層(2)には離型材(3)をラミネートした後電子線照射したり、電子線照射した後に離型材をラミネートすることで、離型材、硬化物及び離型材が、この順に形成されてなる光学フィルムが得られる。

上記図１及び２では基材として離型材を使用した例を記載したが、非離型性基材を使用して、光学フィルムを製造することもできる。
例えば、図１において、(1)の離型材に代え非離型性基材を使用し、前記と同様に電子線照射して硬化させ、非離型性基材／硬化物から構成される光学フィルムを製造することもできる。
又、図２において、(1)、(3)及び(4)のいずれかの離型材として、非離型性基材を使用し、前記と同様の方法で電子線照射して硬化させ、離型材／硬化物／非離型性基材から構成される光学フィルムや、非離型性基材／硬化物／非離型性基材から構成される光学フィルムを製造することもできる。
当該実施態様の具体例としては、非離型性基材として偏光子を使用し、組成物を塗工して電子線を照射し、偏光子に保護膜を直接形成させる方法等が挙げられる。

又、前記の例では、組成物を基材に塗工して光学フィルムを製造する例を挙げたが、膜厚が大きい光学フィルムを製造する場合は、特定の凹部を有する型枠等に組成物を流し込み、前記と同様にして電子線を照射して組成物を硬化させ光学フィルムを製造することもできる。

5−2．光学フィルムの用途
本発明の組成物から形成される光学フィルムは、ヘイズが１．０％以下で、かつ厚さ８０μｍで測定した場合における正面及び斜め４０°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが１０ｎｍ以下である。
当該光学フィルムは、種々の光学用途に使用できるものであり、より具体的には、液晶表示装置等に使用される偏光板の偏光子保護フィルム、プリズムシート用支持フィルム及び導光フィルム等が挙げられる。
本発明の組成物から形成される光学フィルムは、これらの中でも偏光子保護フィルムに公的に使用できるものである。

以下、本発明の組成物から形成される偏光子保護フィルム（以下、単に「保護フィルム」という）を使用した偏光板について説明する。

●偏光板
偏光板は、偏光子の少なくとも片面に保護フィルムが積層された構成である。
偏光子としては、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過する機能を有するものであれば種々の材料が使用できる。
例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着・配向させたヨウ素系偏光フィルム、ポリビニルアルコール系フィルムに二色性の染料を吸着・配向させた染料系偏光フィルム、二色性染料をコーティングし、配向・固定化した塗布型偏光子等が挙げられる。これら、ヨウ素系偏光フィルム、染料系偏光フィルム及び塗布型偏光子は、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を吸収する機能を有するもので、吸収型偏光子と呼ばれている。これらの偏光子の中でも、視認性に優れている吸収型偏光子を用いるのが好ましい。吸収型偏光子の厚みは、５〜４０μmが好ましい。
本発明の偏光板は、偏光子の少なくとも片面に、保護フィルムとして本発明の光学フィルムが積層された偏光板であって、接着剤により接着される。

偏光子と保護フィルムとの接着に用いる接着剤は、それぞれの接着性を考慮して任意のものを用いることができる。
接着剤としては、具体的には、ポリビニルアルコール系水系接着剤、溶剤系接着剤、ホットメルト系接着剤及び無溶剤系接着剤等が挙げられ、無溶剤系の活性エネルギー線硬化型接着剤を好適に用いることができる。
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、光カチオン硬化型接着剤、光ラジカル硬化型接着剤、及び光カチオン硬化と光ラジカル硬化を併用するハイブリッド型接着剤が挙げられる。
光カチオン硬化型接着剤としては、エポキシ化合物及びオキセタン化合物等の光カチオン硬化性化合物、並びに光カチオン重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。
光ラジカル硬化型接着剤としては、（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、ビニル化合物等の光ラジカル硬化性化合物、並びに光ラジカル重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。
ハイブリッド型接着剤としては、前記した光カチオン硬化性化合物、光ラジカル硬化性化合物、光カチオン重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。

偏光子の両面に保護フィルムを有する場合、本発明の保護フィルムを両面に有するものが最も好ましい。但し、必要に応じて本発明の保護フィルムを片面に使用し、もう片面には本願発明の保護フィルム以外の保護フィルム（以下、「その他保護フィルム」という）を使用することもできる。
その他保護フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロースやジアセチルセルロースのようなセルロースアセテート樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム、ノルボルネンのような環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂フィルム等が挙げられる。又、これらをディスプレイ側の保護フィルムとして使用する場合には位相差を有するフィルムであっても良い。

以下に、実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。尚、下記において「部」とは、重量部を意味する。

○製造例１〔（Ａ）成分の製造〕
攪拌機を備えた５００ｍＬ反応容器に、数平均分子量が２，０００のポリエステルポリオール（（株）クラレ製 Ｐ−２０２０、テレフタル酸と３−メチル−１，５−ペンタンジオールのエステル化物）を２００ｇ（０．０９８モル）、希釈剤としてイソボルニルアクリレートを１１４．２ｇ、触媒としてジブチルスズジラウレートを２９０ｍｇ（反応溶液中に１，０００ｐｐｍ）、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールを２９０ｍｇ仕込み、５容量％の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを攪拌しながら液温が７０℃になるまで加温した。反応溶液にＩＰＤＩ４３．７ｇ（０．１９６モル）を一括で添加し、２時間反応させた。
その後、２−ヒドロキシエチルアクリレートを２２．８ｇ（０．１９６モル）を添加し、３時間反応させ、赤外線吸収スペクトル装置（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ製ＦＴ−ＩＲ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ１００）によりスペクトルを測定し、イソシアネート基が完全に消費されたことを確認し、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−１」という）を含む３０％イソボルニルアクリレート希釈溶液を得た。
ＵＡ−１のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、Ｍｗという）を、ゲル浸透クロマトグラフィー（溶媒：テトラヒドロフラン、カラム：Ｗａｔｅｒｓ製ＨＳＰｇｅｌ ＨＲ ＭＢ−Ｌ）により測定した結果、９，３００であった。

○製造例２〔（Ａ）成分以外のウレタンアクリレートの製造〕
製造例１においてイソシアネートをｍ−キシリレンジイソシアネート３７ｇとした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−２」という）を含む３０％イソボルニルアクリレート希釈溶液を得た。
得られたＵＡ−２のＭｗは、１０，４００であった。

○製造例３〔（Ａ）成分以外のウレタンアクリレートの製造〕
製造例１においてイソシアネートをトリレン−２，６−ジイソシアネート３４．２ｇとした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−３」という）を含む３０％イソボルニルアクリレート希釈溶液を得た。
得られたＵＡ−３のＭｗは、８，５００であった。

○製造例４〔偏光子の製造〕
厚さ８０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の水浴で膨潤させた後、５重量％（重量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム＝１／１０）のヨウ素水溶液中で染色した。次いで、３重量％のホウ酸および２重量％ヨウ化カリウムを含む水溶液に浸漬し、さらに５５℃の４重量％のホウ酸および３重量％のヨウ化カリウムを含む水溶液中で５．５倍まで一軸延伸した後、５重量％のヨウ化カリウム水溶液に浸漬した。その後、７０℃のオーブンで１分間乾燥を行い、厚さ３０μｍの偏光子（以下、偏光子Ｐという）を得た。
得られた偏光子Ｐについて、偏光プリズム付き分光光度計（(株)島津製作所製ＵＶ−２２００）を用いて偏光度及び単体透過率を測定したところ、それぞれ９９．９９％及び４３．１％であった。

○製造例５〔紫外線硬化型接着剤の製造〕
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（ジャパンエポキシレジン（株）製ｊＥＲ８０７）５０部、テトラヒドロフルフリルアクリレート（大阪有機化学工業（株）製ＴＨＦ−Ａ）２０部、４−ヒドロキシルブチルアクリレート（日本化成（株）製４−ＨＢＡ）３０部、光重合開始剤（以下、「光開始剤」という）のヨードニウム（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］−ヘキサフルオルフォスフェート（ＢＡＳＦジャパン（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０）４部、２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬（株）製カヤキュアＤＥＴＸ−ｓ）１部をステンレス製容器に投入し、マグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、紫外線硬化型接着剤（以下、接着剤ＵＶＸという）を得た。

（１）実施例（組成物の製造）
後記表１に示す成分を表１に示す割合でステンレス製容器に投入し、加温しながらマグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、組成物を得た。

表１における略号は、下記を意味する。
・ＵＣＡ００２：ポリカーボネート系無黄変型ウレタンアクリレート、根上工業（株）製アートレジンＵＣＡ−００２〔Ｍｗ７，０００〕
・Ｍ１６００：ポリエーテル系ウレタンアクリレート、東亞合成（株）製アロニックスＭ−１６００
・ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート、大阪有機化学工業（株）製ＩＢＸＡ
・Ｍ１４０：Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、東亞合成（株）製アロニックスＭ−１４０
・Ｄｃ１１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ＢＡＳＦジャパン（株）製ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３

（３）実施例５〜８及び比較例７〜８（電子線硬化による光学フィルムの製造）
幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍの東レ（株）製フィルム「ルミラー５０−Ｔ６０」（表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ５０μｍ、表面粗さＲａ１１１ｎｍ、以下「ルミラー」という）に、実施例１〜４及び比較例３〜４で得られた組成物を加温し、膜厚が８０μｍになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍのルミラーをラミネートした後、（株）ＮＨＶコーポレーション製の電子線照射装置により、加速電圧２００ｋＶ、線量５０ｋＧｙ（ビーム電流及び搬送速度により調整）、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の条件下で電子線照射を行い、光学フィルムを得た。
硬化後、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、後記する全光線透過率、ヘイズ、耐光性試験、面内及び厚さ方向レタデーション、耐溶剤性の評価に用いた。

（４）比較例５〜６（紫外線硬化による光学フィルムの製造）
幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍのルミラーに、比較例１及び同２で得られた紫外線硬化型組成物を加温し、膜厚が８０μｍになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍのルミラーをラミネートした後、アイグラフィックス（株）製のコンベア式紫外線照射装置（高圧水銀灯、ランプ高さ１２ｃｍ、３６５ｎｍの照射強度４００ｍＷ／ｃｍ²（フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン（株）社製ＵＶ ＰＯＷＥＲ ＰＵＣＫの測定値））によりコンベア速度を調整して、積算光量１，０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線照射を行い、紫外線硬化型光学フィルムを得た。
硬化後、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、後記する評価に用いた。

（５）比較例９（電子線硬化による光学フィルムの製造）
離型材として東レフィルム加工（株）製離型フィルム「セラピールＢＸ８」（シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ３８μｍ、表面粗さＲａ３６３ｎｍ、以下「セラピール」という）、組成物として実施例１を用いた以外は、実施例５〜８及び比較例７〜８と同様にして、電子線硬化により光学フィルムを得た。
硬化後、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、後記する評価に用いた。

〔全光線透過率及びヘイズ〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、ヘイズメーター〔日本電色工業（株）製ＮＤＨ２０００〕を用いて全光線透過率及びヘイズを測定した。それらの結果を表２に示す。

〔耐光性試験〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの初期ＹＩ（Ｙｅｌｌｏｗｉｎｇ Ｉｎｄｅｘ）及び、紫外線フェードメーター〔スガ試験機（株）製紫外線ロングライフフェードメーターＦＡＬ−５Ｈ型〕に５００時間放置した後のＹＩ変化（△ＹＩ）を測定することで
、光学フィルムの耐光性を評価した。それらの結果を表２に示す。
尚、ＹＩ値は、高速積分球式分光透過率測定器〔（株）村上色彩技術研究所製ＳＰＥＣＴＲＯＰＨＯＴＯＭＥＴＥＲ ＤＯＴ−３Ｃ〕を用いて測定した。

〔面内及び厚さ方向レタデーション〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、位相差測定器（王子計測機器（株）製ＫＯＢＲＡ-２１ＡＤＨ)を用いて正面及び斜め４０°の面内レタデーション（以下、それぞれ「０°Ｒｅ」及び「４０°Ｒｅ」という）及び厚さ方向レタデーション（以下、「Ｒｔｈ」という）を測定した。それらの結果を表２に示す。

〔耐溶剤性〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの耐溶剤性（酢酸エチル）について、スポット試験により下記基準で評価した。それらの結果を表２に示す。
○：外観変化なし
×：溶剤浸食による白化

表２における略号は、下記を意味する。
・ＴＡＣ：トリアセチルセルロースフィルム、富士フイルム（株）製フジタック（ＵＶＡ入り、８０μｍ）

実施例５〜８は、本発明の組成物である実施例１〜４から組成物を電子線照射して得られた光学フィルムであり、ＵＶＡを含まずとも耐光性試験後の黄変度が小さく、ヘイズ、斜め４０°正面及び厚さ方向のレタデーションが小さく、耐溶剤性が良好であった。
これに対して、比較例５及び６は、（Ａ）及び（Ｂ）成分を含むものの、さらに光開始剤を含む比較例１及び同２の組成物を紫外線照射して製造された光学フィルムであり、実施例５〜８の光学フィルムよりも耐光性試験後の黄変度が大きく、特に、厚さ方向レタデーションが大きかった。
比較例７は、（Ａ）成分とは異なる難黄変型有機ジイソシアネートから製造されるウレタンアクリレート（ＵＡ−２）を含む比較例３の組成物から製造された光学フィルムであり、耐光性試験後の黄変度が大きかった。
比較例８は、（Ａ）成分とは異なる黄変型有機ジイソシアネートから製造されるウレタンアクリレート（ＵＡ−３）を含む比較例４の組成物から製造された光学フィルムであり、耐光性試験後の黄変度が非常に大きかった。
比較例９は、実施例１の組成物を使用したものであるが、離型材の表面粗さＲａが１５０ｎｍより大きいために硬化物のヘイズが１．０％よりも大きかった。
比較例１０は、従来のトリアセチルセルロースであるが、ＵＶＡを含むために初期黄変が大きかった。又、斜め４０°正面及び厚さ方向のレタデーションが大きく、熱可塑性樹脂であるために耐溶剤性が悪かった。

（６）実施例９〜１０及び比較例１１〜１２（偏光板の製造）
偏光子保護フィルムとして実施例５〜６及び比較例９で得られた光学フィルムやＴＡＣフィルムを用い、偏光子Ｐの両面に接着剤ＵＶＸを介して貼り合わせた後、アイグラフィックス（株）製のコンベア式紫外線照射装置（高圧水銀灯、ランプ高さ１５ｃｍ、３６５ｎｍの照射強度３７０ｍＷ／ｃｍ²（フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン（株）社製ＵＶ ＰＯＷＥＲ ＰＵＣＫの測定値））によりコンベア速度を調整して、積算光量２２０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線照射を行い、偏光板（幅１００ｍｍ×長さ１００ｍｍ）を得た。
なお、いずれの偏光子保護フィルムに対してもコロナ処理は行わなかった。

〔偏光度及び単体透過率の測定〕
実施例及び比較例で得られた偏光板について、偏光プリズム付き分光光度計（(株)島津製作所製ＵＶ−２２００）を用いて偏光度及び単体透過率を測定した。それらの結果を表３に示す。

〔偏光子保護フィルムと偏光子の接着性〕
実施例及び比較例で得られた偏光板における、偏光子保護フィルムと偏光子Ｐの接着性を手でひねりを加えてねじ切ったときの状態を以下の基準で評価した。それらの結果を表３に示す。
○：偏光子と偏光子保護フィルムとが一体化して剥がれが生じない。
×：偏光子と偏光子保護フィルムとの間に剥がれが認められる。

実施例９及び１０は、本発明の組成物である実施例５〜６で得られた光学フィルムを用いた偏光板であり、偏光子Ｐの性能が維持されており、コロナ処理を行わずとも接着性が良好であった。
これに対して、比較例１１は、比較例９で得られた光学フィルムを用いた偏光板であるが、接着性は良好なものの、光学フィルムのヘイズが高いため、偏光子Ｐの性能が維持されず偏光度が低下した。又、比較例１２は、従来のＴＡＣフィルムを用いた偏光板であるが、偏光子Ｐの性能が維持されたものの、コロナ処理を行わなかったため接着性が悪かった。

本発明の光学フィルム形成用電子線硬化型組成物は、光学フィルムの製造に好適に使用することができる。
さらに、本発明の光学フィルムは、前記で詳述した通り、偏光子保護フィルム用途において好適に使用される。

図１は、本発明の組成物を使用した光学フィルムの製造の１例を示す。 図２は、本発明の組成物を使用した光学フィルムの製造の１例を示す。

Claims (16)

1. ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール又はポリエーテルジオールから選ばれる少なくともひとつのジオール、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートの反応物であるウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）及び
   １個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｂ）を含み、
   （Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量を基準として、（Ａ）成分２０〜９５重量％及び（Ｂ）成分５〜８０重量％で含み、
   硬化物のヘイズが１．０％以下で、かつ
   厚さ８０μｍで測定した場合における硬化物の正面及び斜め４０°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが１０ｎｍ以下である
   光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物。
2. 厚さ８０μｍで測定した場合における硬化物の正面の面内レタデーションが１ｎｍ以下で、斜め４０°の面内レタデーションが５ｎｍ以下で、厚さ方向のレタデーションが１０ｎｍ以下である請求項１記載の光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物。
3. 前記（Ｂ）成分が、ホモポリマーのガラス転移温度が５０℃以上の化合物である請求項１又は請求項２記載の光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物。
4. 前記組成物が光重合開始剤を含まない請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物。
5. 請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の組成物の電子線照射硬化物が、フィルム状又はシート状に形成されてなり、
   ヘイズが１．０％以下で、かつ
   厚さ８０μｍで測定した場合における正面及び斜め４０°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが１０ｎｍ以下である
   光学フィルム又はシート。
6. 厚さ８０μｍで測定した場合における正面の面内レタデーションが１ｎｍ以下で、斜め４０°の面内レタデーションが５ｎｍ以下で、厚さ方向のレタデーションが１０ｎｍ以下である請求項５記載の光学フィルム又はシート。
7. 請求項５又は請求項６記載の光学フィルム又はシートからなる偏光子保護フィルム。
8. フィルム状又はシート状基材（以下、これらをまとめて「シート状基材」という）、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の組成物の電子線照射硬化物及びシート状基材が、この順に形成されてなる光学フィルム又はシート。
9. シート状基材のいずれか一方又は両方が、表面粗さＲａが１５０ｎｍ以下の基材である請求項８記載の光学フィルム又はシート。
10. シート状基材に、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の組成物を塗布した後、塗工面側又はシート状基材側から電子線を照射する光学フィルム又はシートの製造方法。
11. シート状基材が剥離可能な基材である請求項１０記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
12. シート状基材が剥離可能な基材であり、かつ表面粗さＲａが１５０ｎｍ以下である請求項１１記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
13. シート状基材に、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の組成物を塗布し、組成物の塗工面に他のシート状基材を貼合した後、前記シート状基材のいずれかの側から電子線を照射する光学フィルム又はシートの製造方法。
14. シート状基材のいずれか一方又は両方が剥離可能な基材である請求項１３記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
15. シート状基材が剥離可能な基材であり、かつ表面粗さＲａが１５０ｎｍ以下である請求項１４記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
16. ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、請求項７記載の偏光子保護フィルムが積層された偏光板であって、該偏光子が接着剤層を介して該偏光子保護フィルムに接着されてなる偏光板。

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