JP5490955B1 - 導電性積層体およびそれを用いるタッチパネル - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明は、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有し、且つ透明高分子基材との非常に高い密着力を発揮するハードコート層を有する導電性積層体を提供すること。
【解決手段】 本発明はポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、導電層が積層された導電性積層体であり、
前記ハードコート層が、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
（Ｃ）３またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレート、および
（Ｄ）３またはそれ以上のアクリレート基およびエステル骨格を有する多官能ウレタンアクリレート
を含むハードコーティング組成物から形成され、それぞれの配合量を制限する導電性積層体を提供する。
【選択図】 なし

Description

本発明は、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層および導電層を積層した導電性積層体、特に高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有し、且つポリカーボネート基材との優れた密着力を発揮するハードコート層を有する導電性積層体、およびそれを用いるタッチパネルに関する。

液晶表示装置（液晶ディスプレイ）は、薄型、軽量、低消費電力などの利点を有しており、コンピュータ、ワードプロセッサ、テレビジョン、携帯電話、携帯情報端末機器等の様々な分野で使用されている。またこれらの液晶表示装置において、画面上の表示を押さえることによって機器を操作する機構を有する、いわゆるタッチパネルが急速に普及している。このようなタッチパネルは、その優れた操作性により、例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレットＰＣ、携帯情報端末機器、銀行ＡＴＭ、自動販売機、携帯情報端末（ＰＤＡ）、複写機、ファクシミリ、ゲーム機、博物館およびデパートなどの施設に設置される案内表示装置、カーナビゲーション、マルチメディアステーション（コンビニエンスストアに設置される多機能端末機）、鉄道車両のモニタ装置などにおいて広く用いられている。

タッチパネルにおいては、一般に、透明基材上に設けられた透明導電層を有する透明導電性積層体が一般に用いられている。透明導電層の形成は、一般に、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）などが用いられている。

透明導電層を有するフィルムを構成する基材フィルムとしては、透明性の高さおよび価格などの点から、ＰＥＴフィルム、ポリカーボネートフィルムなどのフィルムが用いられることが多い。そしてこれらの基材フィルムには、耐擦傷性および耐久性などを向上させることを目的として、透明ハードコート層が設けられることがある。一方で、透明基材フィルム上に透明ハードコート層を設けることによって、干渉縞が発生するという問題がある。この干渉縞の発生は、視認性の低下をもたらす。

干渉縞の発生は、本発明者等はすでに特願２０１２−０７９７５５号や特願２０１２−０７９７５６号によりハードコーティング組成物を提案して、屈折率がポリカーボネート基材に近いもの提供し、解消した。これら２件の特許出願は、本発明を特許出願する時点ではまだ公開されていないものであるが、更に改良することが必要になった。

上記の特許出願では、フェニルフェノールアクリレートが、ハードコート層の構成成分として含まれている。この成分は、低分子量の単官能成分であり、これが基材として用いられることが多いポリカーボネート基材をエッチング浸食してポリカーボネート基材との密着性を向上させていると考えている。しかしながら、このフェノールノボラック型アクリレートは、ハードコート層の上に形成される透明導電性膜（通常ＩＴＯ膜）の結晶化を阻害する傾向があり、作業性を低下する。また、この成分は、上述のようにポリカーボネート基材をエッチング浸食してポリカーボネート基材との密着性を向上するのであるが、より高度な密着性試験（過酷密着性試験）では、基材表面の凝集破壊を発生させてしまうという不具合も見られる。

特願２０１２−０７９７５５号 特願２０１２−０７９７５６号

本発明は上記の問題点を解決することを課題とする。より特定すれば、本発明は、これまで本発明者等が開発した導電性積層体において、ハードコート層を改善して、基材であるポリカーボネート基材との密着性をより高くし、揮発成分を無くして加熱処理時に揮散成分が無くなるようにすることを課題とする。

本発明は、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、導電層が積層された導電性積層体であり、
前記ハードコート層が、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
（Ｃ）３またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレート、および
（Ｄ）３またはそれ以上のアクリレート基およびエステル骨格を有する多官能ウレタンアクリレート
を含むハードコーティング組成物から形成され、
前記ハードコーティング組成物が、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）１５〜２５質量部、ビスフェノール骨格含有アクリレート（Ｂ）２５〜３５質量部、多官能性アクリレート（Ｃ）２５〜３５質量部および多官能ウレタンアクリレート（Ｄ）１５〜２５質量部含み、かつ、
前記導電性積層体が、導電性積層体を１３０℃で２時間熱処理した際に、揮散する樹脂成分を実質的に含まない
ことを特徴とする導電性積層体を提供するものであり、これにより上記課題が解決される。

上記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、好ましくは、下記式（Ｉ）

（Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ＨまたはＣＨ_２ＯＨであり、Ｒ^２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２〜５であり、ｍは０〜５である。］
で示されるものである。

上記ハードコート層は、ガラス転移点６０〜８０℃であるのが好ましい。

上記ハードコート層の屈折率は、１．５３５〜１．５４５であるのが好ましい。

上記ハードコート層中に含まれる、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム−スズ酸化物の総含有量は、ハードコート層中の０．０００１質量％以下であるのが好ましい。

上記の導電層の厚さは、好ましくは、５〜１００ｎｍである。

本発明は、また、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、色差調整層、導電層が積層された導電性積層体であり、
前記ハードコート層が、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
（Ｃ）３またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレート、および
（Ｄ）３またはそれ以上のアクリレート基およびエステル骨格を有する多官能ウレタンアクリレート
を含むハードコーティング組成物から形成され、
前記ハードコーティング組成物が、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）１５〜２５質量部、ビスフェノール骨格含有アクリレート（Ｂ）２５〜３５質量部、多官能性アクリレート（Ｃ）２５〜３５質量部および多官能ウレタンアクリレート（Ｄ）１５〜２５質量部含み、かつ、
前記導電性積層体が、導電性積層体を１３０°で２時間熱処理した際に、揮散する樹脂成分を実質的に含まず、
前記色差調整層が、硬化性樹脂（ｉ）および平均一次粒子径１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子（ｉｉ）または平均一次粒子径１００ｎｍ以下の金属フッ化物粒子（ｉｉｉ）のいずれか一方または両方を含有する組成物から形成され、
粒子（ｉｉ）および（ｉｉｉ）の総質量は、硬化樹脂（ｉ）１００質量部に対して０〜２００質量部であり、
導電性積層体に対して波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光を照射した場合における反射率（Ｒ１）、および、導電性積層体を１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に４０℃で３分間浸漬した後、乾燥させた後の導電性積層体に対して波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光を照射した場合における反射率（Ｒ２）とした場合に、Ｒ１およびＲ２の差ΔＲが１以下である、
ことを特徴とする導電性積層体も提供する。

上記導電性積層体に含まれる硫黄元素を含む有機化合物の総含有量は、0〜2000ppmであることが好ましい。

上記導電層の上部に、補助電極層が存在し、導電層と補助電極層の総厚が20〜500nmであることが好ましい。

本発明では、また、ポリカーボネート基材の一方の面上に、ハードコート層、色差調整層および導電層が積層されており、かつ、
透明高分子基材の他の一方の面上に、第１成分および第２成分を含むアンチブロッキング層形成組成物によって形成された層を有する導電性積層体であり、
第１成分は不飽和二重結合含有アクリル共重合体を含み、第２成分は多官能アクリレートを含み、
第１成分のＳＰ値（ＳＰ１）および第２成分のＳＰ値（ＳＰ２）の差△ＳＰが１〜２の範囲内であり、
アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第１成分と第２成分が相分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成されるアンチブロッキング層が形成されることが好ましい。

少なくとも片面に導電層が設けられた電極基板を用いたタッチパネルにおいて、少なくとも１枚の電極基板として上述の導電性積層体を用いることが好ましい。

本発明の導電性積層体は、特定組成のハードコーティング組成物をポリカーボネート基材に塗布することにより形成されるハードコート層を有している。本発明のハードコート層は、良好な硬度を有すると共に、高い視認性および伸長性を有することを特徴とする。本発明のハードコート層は、屈折率が高いことを特徴とする。そのため、ポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明におけるハードコート層を設けた場合であっても、干渉縞が発生しないという利点がある。

本発明のハードコート層は、金属酸化物などの高屈折率剤を含まなくても屈折率が高いことを特徴とする。そのため、得られるハードコート層は、硬度および屈折率が高いことに加えて、高い伸長性を有するという特徴がある。

本発明のハードコート層を形成するハードコーティング組成物には、タッチパネル電極を製造する工程においてかかる熱や圧力が原因で揮散する樹脂成分、または分解により揮散し得る骨格を有した樹脂成分を含まない為、上層に形成される透明導電性膜の結晶化を阻害することは少ない。密着性という面では、ポリカーボネート基材との密着性および上層に形成される層との密着性が共に改善されて、より高いレベルの密着性試験（過酷密着性試験）においても高い密着性が確保できる。

本発明のハードコート層を形成するハードコーティング組成物中には、エステル骨格を有するウレタンアクリレートが含まれており、上述のようにより高いレベルの密着性試験（過酷密着性試験）においても高い密着性が確保でき、しかもポリカーボネート基材上にハードコート層を形成した場合においても干渉縞を発生させない効果が得られる。ポリカーボネート基材との屈折率差が大きくなると、通常、干渉縞を発生してしまうが、本発明で用いるハードコーティング層は、1.535-1.545という屈折率を有していても、干渉縞を発生させない効果が見られる。

エッチング処理された透明導電性積層体を示す概略説明図である。

本発明の導電性積層体は、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、色差調整層および導電層が積層された、導電性積層体である。尚、色差調整層は、形成されない場合も本発明に含まれるが、便宜上色差調整層が存在する態様について説明する。また、各層の形成順序も必ずしもこの順序に特定されないが、説明を簡単にするため、この順序で形成する態様について説明する。更に、本発明の導電性積層体は、基本的に透明な導電性積層体として用いられる場合が多いと考えるが、必ずしも透明である態様に限定されず、導電層などは不透明なものであっても本発明の範囲に含まれる。以下、本発明の導電性積層体を構成する各層について説明する。

ポリカーボネート基材
本発明の導電性積層体に用いるポリカーボネート基材としては、透明であるものが一般的であるが、上述のように本発明の導電性積層体は透明で無いものもふくまれるので、必ずしも透明でなくても良い。透明の場合、光学的に複屈折の少ないもの、あるいは位相差を波長（例えば５５０ｎｍ）の１／４（λ／４）や波長の１／２（λ／２）に制御したもの、さらには複屈折をまったく制御していないものを、用途に応じて適宜選択することができる。ここで言うように用途に応じて適宜選択を行う場合としては、例えば液晶ディスプレイに使用する偏光板や位相差フィルム、インナー型のタッチパネルのように、直線偏光、楕円偏光、円偏光などの偏光によって機能を発現するディスプレイと共に、本発明の透明導電性積層体を用いる場合をあげることができる。

ポリカーボネート基材の屈折率は、その構成モノマーによって変化するが、通常は１．５以上１．６未満程度である。また、ポリカーボネートフィルムの位相差R（550）は0〜160nmであって、下記式（１）、（２）を満たすフィルムであることが望ましい。
０．６０＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜１．２０ （１）
０．８０＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．４０ （２）
（但し、Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）およびＲ（６５０）は夫々、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差である。）
ポリカーボネート基材の屈折率は、好ましくは１．５６以上１．６０未満を満たすフィルムであることが望ましい。さらに好ましくは、屈折率１．５７以上１．５９未満であって、位相差R（550）は0〜１０nmであって、下記式（３）、（４）を満たすフィルムであることが望ましい。
１．０１＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜１．２０ （３）
０．８０＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜０．９９ （４）

ポリカーボネート基材の厚さは適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性などの点より１０〜５００μｍ程度であり、特に２０〜３００μｍが好ましく、３０〜２００μｍがより好ましい。

ハードコート層
本発明の導電性積層体が有するハードコート層は、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレー
ト、
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
（Ｃ）３またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレート、および
（Ｄ）３またはそれ以上のアクリレート基およびエステル骨格を有する多官能ウレタンアクリレート
を含むハードコーティング組成物を塗装して硬化させることによって得られたハードコー
ト層である。ここで、上記ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は１５〜２５質量部、ビスフェノール骨格含有アクリレート（Ｂ）は２５〜３５質量部、多官能性アクリレート（Ｃ）は２５〜３５質量部および多官能ウレタンアクリレート（Ｄ）は１５〜２５質量部含まれることを条件とする。

（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリ
レート
上記ハードコーティング組成物は、（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレートを含む。ハードコーティング組成物がフェノールノボラック型アクリレート（Ａ）を含むことによって、得られるハードコート層が、透明であり、かつ、高い硬度を有する高屈折率層となる。これにより、干渉縞の発生を効果的に防ぐことができる。

フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、下記式（Ｉ）

（Ｉ）

［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ＨまたはＣＨ_２ＯＨであり、Ｒ^２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２〜５であり、ｍは０〜５である。］
で示される、フェノールノボラック型アクリレートであるのが好ましい。上記式（Ｉ）中、ｎは２〜４でありｍは０〜３であるであるのがより好ましく、ｎは２〜４でありｍは０〜１であるのがさらに好ましい。

フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の重量平均分子量は、４００〜２５００であるのが好ましく、４５０〜２０００であるのがさらに好ましい。また、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の水酸基価は、１００〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇであるのが好ましく、１２０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇであるのがさらに好ましい。

本明細書において、各成分の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によって測定することができる。重量平均分子量の測定においては、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）などの高速ＧＰＣ装置などを用いることができる。ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）を用いた、重量平均分子量の具体的な測定条件として、試験サンプル２ｇを秤量し、真空乾燥機内にて４０℃２時間処理し水分を除去した後、ＴＨＦ溶液にて０．２％の濃度となるように希釈し、カラム注入量：１０μｌ、流速：０．３５ｍｌ/ｍｉｎの条件で測定する態様が挙げられる。

上記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、１５〜２５質量部含まれることを条件とする。フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の量が１５質量部未満である場合、得られるハードコート層の硬度が低くなる不具合があり、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の量が２５質量部を超える場合は、ポリカーボネートフィルムなどの透明高分子基材との密着力が低くなる不具合がある。

（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
本発明のハードコーティング組成物は、（Ｂ）アルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレートを含む。このアクリレート（Ｃ）は、ビスフェノール骨格を含有することでポリカーボネートフィルムなどポリカーボネート基材との濡れ性を向上させ、ハードコート層との密着力を高める利点がある。ジアクリレート（Ｂ）の具体例は、ビスフェノールＡをエチレンオキシドで鎖延長し、それに（メタ）アクリル酸を反応したものが挙げられる。

本発明においては、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、成分（Ｂ）は２５〜３５質量部含まれることを条件とする。成分（Ｂ）の量が２５質量部より少ない場合は、ポリカーボネートフィルムなどの透明高分子基材との密着力が低下する不具合があり、成分（Ｂ）の量が３５質量部を超える場合は、得られるハードコート層の屈折率が低下し、視認性を損なう不具合がある。

（Ｃ）３またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレート
本発明のハードコーティング組成物は、３またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレートを含む。この多官能アクリレートは通常モノマーと言われる分子量であるが、２以上の分子が結合したオリゴマーであっても良い。これらの多官能アクリレートモノマーは、ハードコーティング組成物を塗装した後の活性エネルギー線の照射により、（メタ）アクリロイル基の反応に基づく硬化反応が生じ、高硬度を有するハードコート層が得られるという利点がある。

３またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレートの例としては、例えば、ヒドロキシプロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、およびこれらのオリゴマーなどが挙げられる。これらの多官能アクリレートは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

本発明においては、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、成分（Ｃ）は２５〜３５質量部含まれることを条件とする。成分（Ｃ）の量が２５質量部より少ない場合は、ポリカーボネートフィルムなどの透明高分子基材との密着力が低下する不具合があり、成分（Ｃ）の量が３５質量部を超える場合は、得られるハードコート層の屈折率が低下し、視認性を損なう不具合がある。

（Ｄ）３またはそれ以上のアクリレート基およびエステル骨格を有する多官能ウレタンアクリレート
本発明のハードコーティング組成物は、３またはそれ以上のアクリレート基およびエステル骨格を有する多官能ウレタンアクリレート（Ｄ）を含む。この多官能ウレタンアクリレート（Ｄ）を含むことによって、得られるハードコート層がポリカーボネート基材へ十分な密着性を発揮し、また、形成するハードコート層の屈折率が1.535-1.545であっても、干渉縞を防ぐことができる。アクリレート基の数は、３またはそれ以上でありが、好ましくは３〜４である。官能基数が少ないと、分子量の大きさより、反応性が低下し、密着性及び硬度を低下させ、官能基数が多すぎると、硬化収縮による密着性低下の懸念がある。

多官能アクリレート（Ｄ）は、例えば、ポリカーボネートジオール（ａ）（以下、成分（ａ）という場合がある。）と、分子中に２個の水酸基と２個のエチレン性不飽和基とを含有する(メタ)アクリレート化合物（ｂ）（以下、成分（ｂ）ということがある。）と、ポリイソシアネート（ｃ）（以下、成分（ｃ）ということがある。）を反応させることにより得られる。

上記ポリカーボネートジオール(a)は、HO-(R-O-C(=O)-O)−R’OH（式中、RおよびR’は同一または異なる炭素数２〜１０の直鎖または分岐鎖アルキレン基であり、炭素数はＲおよびＲ’の合計の数である。）で表される炭素数２〜１０の直鎖および分岐鎖を持つジオールが挙げられる。上記式中のRまたはR’は、具体的には、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、シクロヘキシレン基、ネオペンチレン基、ノニレン基、２−メチル−１，８−オクチレン基などが挙げられ、これらのうち２種以上を併用したものであってもよい。これらのなかでは、１，５−ペンタンジオールおよび／または１，６−ヘキサンジオールとから合成されたポリカーボネートジオールが好ましい。また、成分（ａ）としては、１種の化合物を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。などが挙げられる。これらの多官能アクリレートは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

分子中に２個の水酸基と２個のエチレン性不飽和基とを含有する（メタ）アクリレート化合物（ｂ）とは、具体的には、プロピレングリコールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、１，６ヘキサンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、エチレングリコールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、１，５−ペンタンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、１，７−ヘプタンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、１，８−オクタンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物などが挙げられる。また、そのほかにも、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物などが挙げられる。これらのなかでは、プロピレングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、１，６ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物が好ましい。

ポリイソシアネート（ｃ）としては特に制限はないが、例えば、脂肪族系ジイソシアネート化合物、脂環族系ジイソシアネート化合物、芳香族系ジイソシアネート化合物などのジイソシアネート化合物が好ましく使用できる。具体的には、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、メチルシクロヘキサン−２，４（又は２，６）−ジイソシアネート、１，３−（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート、ジアニシジンジイソシアネート、フェニルジイソシアネート、ハロゲン化フェニルジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、ブチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、オクタデシレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート重合体、ジフェニルメタンジイソシアネートの重合体、ヘキサメチレンジイソシアネートの重合体、３−フェニル−２−エチレンジイソシアネート、クメン−２，４−ジイソシアネート、４−メトキシ−１，３−フェニレンジイソシアネート、４−エトキシ−１，３−フェニレンジイソシアネート、２，４’−ジイソシアネートジフェニルエーテル、５，６−ジメチル−１，３−フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジイソシアネートジフェニルエーテル、ベンジジンジイゾシアネート、９，１０−アンスラセンジイソシアネート、４，４’−ジイソシアネートベンジル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアネートジフェニルメタン、２，６−ジメチル−４，４’−ジイソシアネートジフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジイソシアネートジフェニル、１，４−アンスラセンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、２，４，６−トリレントリイソシアネート、２，４，４’−トリイソシアネートジフェニルエーテル、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，１０−デカメチレンジイソシアネート、１，３−シクロヘキシレンジイソシアネート、４，４’−メチレン−ビス（シクロヘキシルイソシアネート）などを挙げることができる。

多官能ウレタンアクリレート（Ｄ）の製造例としては、上述した（ａ）〜（ｃ）成分を有機溶媒（例えば、メチルエチルケトン）に投入し、必要に応じて昇温下に反応させることにより製造できる。反応の終了は、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート基の存在が確認できなくなったことにより確認する。

多官能ウレタンアクリレート（Ｄ）は、重量平均分子量２０，０００〜６０，０００を有するのが好ましく、また重量平均分子量３０，０００〜５０，０００を有するのがさらに好ましい。多官能ウレタンアクリレート（Ｄ）の重量平均分子量は、分子量が高くなり過ぎると、粘度が高くなり、平滑性が損われ干渉縞が悪化し、分子量が低すぎると、粘度が下がり、塗面の平滑性が保てず干渉縞が悪化する。

また、多官能ウレタンアクリレート（D）は、密着性の観点より、水酸基価０〜２０ｍｇＫＯＨ／ｇを有するのが好ましく、また水酸基価０〜５ｍｇＫＯＨ／ｇを有するのがさらに好ましい。水酸基価を低く制御することで、湿熱試験後の密着性を良好に保つ効果が得られる。

本発明においては、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、成分（Ｄ）は１５〜２５質量部含まれることを条件とする。成分（Ｄ）の量が１５質量部より少ない場合は、密着力が低下し、成分（Ｄ）の量が２５質量部を超える場合は、ハードコート層の硬度を損なう。

光重合開始剤など
本発明のハードコーティング組成物は光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤が存在することによって、紫外線などの活性エネルギー線照射により樹脂成分が良好に重合することとなる。光重合開始剤の例として、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル系重合開始剤などが挙げられる。アルキルフェノン系光重合開始剤として、例えば２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノンなどが挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤として、例えば２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系光重合開始剤として、例えば、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどが挙げられる。オキシムエステル系重合開始剤として、例えば、１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）、オキシフェニル酢酸、２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステル、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルなどが挙げられる。これらの光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、また２種以上を併用してもよい。

上記光重合開始剤のうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１および２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどがより好ましく用いられる。

光重合開始剤の好ましい量は、上記成分（Ａ）、（Ｂ）および他の（メタ）アクリレート類（これらを合わせて「樹脂成分」という。）１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部であり、より好ましくは１〜１０質量部である。

本発明で用いられるハードコーティング組成物は、溶媒を含んでもよい。溶媒は、特に限定されるものではなく、組成物中に含まれる成分、塗装される基材の種類および組成物の塗装方法などを考慮して適時選択することができる。用いることができる溶媒の具体例としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒；などが挙げられる。これらの溶媒を単独で使用してもよく、また２種以上を併用して使用してもよい。これらの溶媒のうち、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒およびケトン系溶媒が好ましく使用される。

本発明のハードコーティング組成物は、必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。このような添加剤として、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤などの常用の添加剤が挙げられる。

上記ハードコーティング組成物は、上記構成によって、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２またはインジウム−スズ酸化物などの金属酸化物からなる高屈折率剤などを含ませなくても、高い屈折率を有するハードコート層を形成することができることに特徴がある。そのため、上記ハードコーティング組成物は、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム−スズ酸化物からなる群から選択される金属酸化物などの高屈折率剤を含まないのが好ましい。より詳しくは、上記ハードコーティング組成物を用いて形成されるハードコート層中に含まれる、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム−スズ酸化物の総含有量がハードコート層中の０．０００１質量％以下であるのが好ましい。金属酸化物などの高屈折率剤が、ハードコート層中に存在する場合は、樹脂成分のみの層と比較して、一般に伸長性および耐屈曲性が劣ることとなるためである。

上記ハードコーティング組成物を用いて形成されるハードコート層は、ハードコート層としての良好な硬度を有すると共に、１．５３５〜１．５４５という高い屈折率を有することが好ましい。ハードコート層がこの範囲に屈折率を有していると、透明導電性積層体において干渉縞の発生を良好に抑制することができるという利点がある。

上記ハードコーティング組成物を用いて設けられるハードコート層は、高い視認性および良好な硬度といったハードコート層において求められる性能に加えて、高い伸長性とポリカーボネート基材に対する高い密着性を有することも特徴とする。そしてこの伸長性の高さによって、透明な導電性積層体の視認性が飛躍的に向上するという利点がある。透明導電性積層体の製造において、透明導電層を設けるための加工処理時において、ハードコート層を有する基材フィルムに部分的負荷が生じる傾向がある。例えば、ハードコート層を有する基材フィルムにおいて、部分的負荷がかかることによって、ハードコート層と基材フィルムとの間における熱収縮率・熱膨張率の相違に基づくフィルムのうねり・よれが生じることがある。これらのフィルムのうねり・よれが、ＩＴＯなどの透明導電層が存在する部分と存在しない部分とが視覚的に区別される視認性低下をもたらすこととなる。これは、タッチパネルなどにおいて視認性を大きく低下することとなる。

本発明において用いられるハードコーティング組成物を用いて設けられるハードコート層は、高い視認性および良好な硬度といったハードコート層において求められる性能に加えて、高い伸長性を有することを特徴とする。本発明におけるハードコート層が高い伸長性を有することによって、透明導電層を設ける段階における加熱などにより、基材フィルムが局所的に熱膨張した場合であっても、ハードコート層が良好に追随し、その結果、ＩＴＯなどの透明導電層が存在する部分と存在しない部分とが視覚的に区別される視認性低下の不具合が解消されるという利点がある。また、本発明の導電性積層体はポリカーボネート基材との密着性が高く、高度な密着性試験（過酷密着性試験）でも良好な状態を確保する。更に、本発明の導電性積層体は、１３０℃で２時間熱処理した場合でも、揮散する樹脂成分が無く、上層の導電層を結晶化を阻害することも無い。

ハードコート層は、ポリカーボネート基材上に、上記のハードコーティング組成物を塗布することにより形成される。ハードコーティング組成物の塗布方法は、ハードコーティング組成物および塗装工程の状況に応じて適時選択することができ、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）などにより塗布することができる。

ハードコート層の厚みは、特に制限されるものではなく、種々の要因を考慮して適時設定することができる。例えば、０．０１〜２０μｍのハードコート層が得られるようにハードコーティング組成物を塗布することができる。

ハードコーティング組成物の塗布により得られた塗膜を硬化させることによって、ハードコート層が形成される。この硬化は、必要に応じた波長の活性エネルギー線を発する光源を用いて照射することによって行うことができる。照射する活性エネルギー線として、例えば露光量０．１〜１．５Ｊ／ｃｍ^２の光、好ましくは０．３〜１．５Ｊ／ｃｍ^２の光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば３６０ｎｍ以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。

本発明のハードコート層は、ガラス転位温度６０〜８０℃を有するのが好ましい。この範囲にあると、タッチパネル電極を製造する工程にて高い伸張性を発揮し、透明導電層のパターンを見えにくくする利点を有する。ハードコート層のガラス転位温度が６０℃より低いと、ハードコート膜に十分な硬度が得られず、透明導電層の製膜時に白化を発生させる。逆に、ハードコート層のガラス転位温度が８０℃より高いと、伸張性が損われ、透明導電層のパターンを見えにくくする効果が得られなくなる。

色差調整層
本発明の導電性積層体は、ハードコート層の上に色差調整層を形成してもよい。色差調整層は、ハードコート層と透明導電層の間に存在するのが好ましい。色差調整層は、１層であってもよく、２層またはそれ以上からなる層であってもよい。色差調整層は、層間の密着性および透明導電性積層体の光学特性（透過率および色調など）を改良する層である。

本発明において、この色差調整層は、
硬化樹脂成分（ｉ）、そして
平均一次粒子径１００ｎｍ以下である金属酸化物粒子（ii）および／または平均一次粒子径１００ｎｍ以下である金属フッ化物粒子（iii）
を含む層である。ここで、色差調整層中における粒子（ii）および（iii）の総質量は、硬化樹脂成分（ｉ）１００質量部に対して０〜２００質量部の範囲内であることを条件とする。

上記硬化樹脂成分（ｉ）として、紫外線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂を用いることができる。本発明における色差調整層は、硬化樹脂成分（ｉ）として、紫外線硬化型樹脂を用いるのがより好ましい。

紫外線硬化型樹脂は、紫外線硬化性能を有するモノマーを含む組成物によって得ることができる。紫外線硬化性能を有するモノマーとしては、例えば、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、変性スチレンアクリレート、メラミンアクリレート、シリコン含有アクリレートなどの単官能および多官能アクリレートが挙げられる。

具体的なモノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性アクリレート、イソシアヌール酸アルキレンオキサイド変性アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリプロピレングリコールトリアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エポキシ変性アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートなどのウレタン変性アクリレート、エポキシ変性アクリレートなどの多官能モノマーが挙げられる。これらのモノマーは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

これらの紫外線硬化性能を有するモノマーの中でも、ウレタン変性アクリレートが好ましい。ウレタン変性アクリレートは市販品を使用することができ、例えば、日本合成化学工業（株）製の紫光シリーズ、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂなど；根上工業（株）製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３など；新中村化学工業（株）製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ６Ｈ、Ｕ１５ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩなど；ダイセル・ユーシービー（株）製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、例えば、１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、 ４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０など；荒川化学工業（株）製のビームセットシリーズ、例えば、３７１、３７１ＭＬＶ、３７１Ｓ、５７７、５７７ＢＶ、５７７ＡＫなど；三菱レイヨン（株）製のＲＱシリーズなど；ＤＩＣ（株）製のユニディックシリーズなど；ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＣＮ９００６、ＣＮ９６８（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）などを用いることができる。

硬化樹脂成分（ｉ）が、紫外線硬化型樹脂である場合は、色差調整層を形成する組成物が光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤として、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾイルベンゾエート、チオキサンソンなどの、一般的に用いられる光重合開始剤を用いることができる。

色差調整層を形成する組成物はさらに、光増感剤を含んでもよい。光増感剤として、例えば、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンなどの一般的に用いられる光増感剤を用いることができる。

色差調整層を形成する組成物はさらに、各種アルコキシシランの加水分解物を含んでもよい。

硬化樹脂成分（ｉ）が、熱硬化性樹脂である場合は、色差調整層を形成する組成物は、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなどのシラン化合物をモノマーとしたオルガノシラン系熱硬化性モノマー、エーテル化メチロールメラミンなどをモノマーとしたメラミン系熱硬化性モノマー、イソシアネート系熱硬化性モノマー、フェノール系熱硬化性モノマー、エポキシ系熱硬化性モノマー、などの熱硬化性モノマーを含んでもよい。これらの熱硬化性モノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記熱硬化性モノマーに加えて、必要に応じた熱可塑性樹脂成分を含んでもよい。

硬化樹脂成分（ｉ）が、熱硬化性樹脂である場合は、色差調整層を形成する組成物は、反応促進剤または硬化剤を含むのが好ましい。反応促進剤としては、例えば、トリエチレンジアミン、ジブチル錫ジラウレート、ベンジルメチルアミン、ピリジンなどが挙げられる。硬化剤としては、例えば、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。

本発明において、色差調整層は、上記硬化樹脂成分（ｉ）に加えて、平均一次粒子径１００ｎｍ以下である金属酸化物粒子（ii）および／または平均一次粒子径１００ｎｍ以下である金属フッ化物粒子（iii）が含まれる。そしてこれらの粒子（ii）および（iii）の総質量は、硬化樹脂成分（ｉ）１００質量部に対して０〜２００質量部の範囲内であることを条件とする。粒子（ｉi）および（iii）の総質量は、所望の光学特性を得るために（ｉ）、（ii）、(iii)それぞれの屈折率に応じ適宜調整できるが、硬化後の膜強度の観点から硬化樹脂成分（ｉ）１００質量部に対して０〜１５０質量部の範囲内であるのが好ましく、０〜１００質量部の範囲内であるのがより好ましい。

色差調整層中における粒子（ii）および（iii）の総質量が２００質量部を超える場合は、層間密着性が劣る不具合がある。

上記金属酸化物粒子（ii）の具体例として、例えば、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム−スズ酸化物などが挙げられる。これらの金属酸化物粒子（ii）は何れも、高屈折率を有することを特徴とする。そのため、金属酸化物粒子（ii）が含まれる色差調整層は、基本的には、高屈折率層となる。この金属酸化物粒子（ii）として、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２が、より好ましく用いられる。金属酸化物粒子（ii）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

なお、上述の通り、これらの金属酸化物粒子（ii）は、いずれも、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であることを条件とする。平均一次粒子径が１００ｎｍを超える場合は、色差調整層形成時に粒子の凝集等により、視認可能なサイズとなりやすいため、ヘイズ値が上昇するまたは異物状の外観欠点となるなどの不具合がある。本明細書において、平均一次粒子径は、粒子をｎ−ＢｕＯＨ等の溶媒に分散した液体を粒度分布計で測定した時の５０％体積粒子径を表す。

上記金属フッ化物粒子（iii）を構成する金属の具体例として、例えば、カルシウム、バリウム、マグネシウム、ストロンチウムなどが挙げられる。これらの金属の中でも、マグネシウムであるのがより好ましい。これらの金属フッ化物粒子（iii）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、必要に応じて、上記金属フッ化物粒子（iii）とＳｉＯ_２とを組みあわせて用いてもよい。

これらの金属フッ化物粒子（iii）は何れも、低屈折率を有することを特徴とする。そのため、金属フッ化物粒子（iii）が含まれる色差調整層は、基本的には、低屈折率層となる。なお、上述の通り、これらの金属フッ化物粒子（iii）は、いずれも、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であることを条件とする。平均一次粒子径が１００ｎｍを超える場合は、色差調整層形成時に粒子の凝集等により、視認可能なサイズとなりやすいため、ヘイズ値が上昇するまたは異物状の外観欠点となるなどの不具合がある。

本発明における色差調整層は、１層で構成されていてもよく、２層以上で構成されていてもよい。例えば色差調整層が１層である場合は、上記金属酸化物粒子（ii）を含む高屈折率層であるのが好ましい。他の態様として、例えば、上記金属酸化物粒子（ii）および金属フッ化物粒子（iii）の両方を含む態様が挙げられる。色差調整層が１層である場合における色差調整層の厚さは、３０〜３００ｎｍであるのが好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましい

また、例えば色差調整層が２層である場合は、上記金属酸化物粒子（ii）を含む高屈折率層および上記金属フッ化物粒子（iii）を含む低屈折率層からなる２層構造であるのが好ましい。この場合においては、ハードコート層と高屈折率層とが接する態様であるのがより好ましい。色差調整層が一層の高屈折率層および一層の低屈折率層からなる２層で構成される場合は、色差調整層全体の厚さは、３０〜３００ｎｍであるのが好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましい。

色差調整層の形成は、例えば、紫外線硬化性能を有するモノマー、そして上記金属酸化物粒子（ii）および／または金属フッ化物粒子（iii）を含む組成物を、ハードコート層を有する透明高分子基材のハードコート層上に塗装し、次いで、紫外線などの活性エネルギー線を照射して硬化させることによって形成することができる。あるいは、熱硬化性モノマー、そして上記金属酸化物粒子（ii）および／または金属フッ化物粒子（iii）を含む組成物を、ハードコート層を有する透明高分子基材のハードコート層上に塗装し、次いで加熱硬化させることによって形成することができる。

色差調整層が２層である場合の一例として、まず、金属酸化物粒子（ii）を含む組成物をハードコート層上に塗装して硬化させた後、金属フッ化物粒子（iii）を含む組成物を塗装して硬化させることによって、２層からなる色差調整層を形成することができる。

色差調整層が２層である場合の他の一例として、まず、金属フッ化物粒子（iii）を含む組成物を塗装して硬化させた後、金属酸化物粒子（ii）を含む組成物をハードコート層上に塗装して硬化させることによって、２層からなる色差調整層を形成することができる。

上記組成物を塗装する方法として、ドクターナイフ、バーコーター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、スピンコーターなどの当業者において通常行われる塗工機械を用いる塗装方法、スプレーを用いた塗装方法、浸漬による塗装方法などが挙げられる。

また、上記組成物は、必要に応じた有機溶媒を含んでもよい。有機溶媒として、例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、シクロヘキサノンなどの炭化水素系溶媒、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチルなどのケトン系溶媒、キシレン、トルエンなどの芳香族系溶媒などが挙げられる。これらの有機溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

紫外線硬化性能を有するモノマーを含む組成物を硬化させる場合は、この硬化は、必要に応じた波長の活性エネルギー線を発する光源を用いて照射することによって行うことができる。照射する活性エネルギー線として、例えば露光量０．１〜１．５Ｊ／ｃｍ^２の光、好ましくは０．３〜１．５Ｊ／ｃｍ^２の光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば３６０ｎｍ以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。

また、熱硬化性モノマーを含む組成物を硬化させる場合は、例えば、６０〜１４０℃で１〜６０分間加熱することによって硬化させることができる。ここで、加熱温度および加熱時間は、組成物に含まれる熱硬化性モノマーの種類に応じて選択することができる。

導電層および導電性積層体
本発明の導電性積層体は、通常、ハードコート層の上、または色差調整層の上に、導電層が形成されている。導電層は、導電性積層体の全体が透明の時は、透明導電層であり、透明でない場合は通常の金属の導電層であっても良い。透明導電層の構成材料としては、特に制限は無いが、例えば、金属層、または金属化合物層を挙げることができる。透明導電層を構成する成分としては、例えば酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫等の金属酸化物の層が挙げられる。これらのうち酸化インジウムを主成分とした結晶質の層であることが好ましく、特に結晶質のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）からなる層が好ましく用いられる。

また、透明導電層が結晶質ＩＴＯの場合、結晶粒径は、特に上限を設ける必要はないが５００ｎｍ以下であることが好ましい。結晶粒径が５００ｎｍを超えると屈曲耐久性が悪くなるため好ましくない。ここで結晶粒径とは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）下で観察される多角形状または長円状の各領域における対角線または直径の中で最大のものと定義される。透明導電層が非晶質ＩＴＯの場合には、環境信頼性が低下することがある。

導電層は、公知の手法にて形成することが可能であり、例えばＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法等の物理的形成法等を用いることができる。大面積に対して均一な膜厚の金属化合物層を形成するという工業生産性に着目すると、ＤＣマグネトロンスパッタリング法が望ましい。なお、上記物理的形成法（ＰＶＤ）のほかに、化学気相堆積法、ゾルゲル法などの化学的形成法を用いることもできるが、膜厚制御の観点からはやはりスパッタリング法が望ましい。

導電層の膜厚は、導電性の点から５〜５０ｎｍであることが好ましい。更に好ましくは５〜３０ｎｍである。導電層の膜厚が５ｎｍ未満では抵抗値の経時安定性に劣る傾向があり、また５０ｎｍを超えると屈曲耐久性の低下のためタッチパネルとして好ましくない。

本発明の導電性積層体をタッチパネルに用いる場合、タッチパネルの消費電力の低減と回路処理上の必要等から、膜厚１０〜４０ｎｍにおいて透明導電層の表面抵抗値が１０〜２０００Ω／□、より好ましくは３０〜１０００Ω／□の範囲を示す透明導電層を用いることが好ましい。

なお、導電層が透明の場合、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、導電性酸化物微粒子等を分散した分散液を高分子基材上に湿式法（例えば、スピンコート法、グラビア、スロットダイ、印刷など）によって形成した層を用いることもできる。

こうして形成された導電層は、エッチング処理によるパターン形成が行われる。このエッチング処理は、一般に、導電層を、パターン形成マスクで覆い、次いで酸性水溶液などのエッチング液を用いて導電層をエッチングすることによって行われる。エッチング液として、例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸、酢酸などの有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が挙げられる。より具体的なエッチング液として、１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られる強酸水溶液が挙げられる。

なお、導電層をパターン化する前もしくは後に、必要に応じて、熱処理してもよい。導電層が熱処理により結晶化するＩＴＯの場合、熱処理を行うことによって、透明性および導電性を向上させることができるという利点がある。熱処理は、例えば、１００〜１５０℃で、１５〜１８０分加熱することによって行うことができる。

本発明の導電性積層体は、導電性積層体に対して波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光源を照射した場合における反射率（Ｒ１）、および、導電性積層体を、１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に４０℃で３分間浸漬した後、乾燥させた後の導電性積層体に対して、波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光源を照射した場合における反射率（Ｒ２）において、Ｒ１およびＲ２の差△Ｒが１以下であることを特徴とする。

上記強酸水溶液は、エッチング処理において一般的に用いられる、いわゆる王水と言われる強酸水溶液である。上記強酸水溶液を用いてエッチング処理を行うことによって、導電層はエッチングされることとなる。図１は、エッチング処理された導電性積層体を示す概略説明図である。導電性積層体（１０）は、ポリカーボネート基材（１）の一方の面上に、ハードコート層（３）、色差調整層（５）および透明導電層（７）が順次積層された構造を有する。ここで、（１１）で示される部分が、エッチング処理によるパターニングによって、導電層（７）が取り除かれた部分であり、そして（１３）で示される部分が、エッチング処理においてマスクされていた部分であり、導電層がそのまま残された部分である。ここで、上記反射率Ｒ１は、図１中の（１３）の部分における反射率を意味し、そして上記反射率Ｒ２は、図１中の（１１）の部分における反射率を意味する。そして本発明の導電性積層体においては、波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光源を照射した場合における反射率において、Ｒ１およびＲ２の差△Ｒが１以下であることを特徴とする。つまり、本発明の導電性積層体においては、導電層（７）が存在する部分および存在しない部分において、反射率の差がほとんど生じていない。これにより、極めて高い視認性が達成されることとなった。

導電性積層体の反射率の測定は、例えば日立製作所Ｕ−３０００などの分光光度計を用いて、入射角１０度における分光反射率をＪＩＳ Ｋ５６００−４−５に準拠して測定することができる。

アンチブロッキング層
本発明の導電性積層体は、ポリカーボネート基材の一方の面上に、ハードコート層、色差調整層および導電層が順に積層された構造を有する。この導電性積層体は、必要に応じて、ポリカーボネート基材の他の一方の面上に、アンチブロッキング層が形成されていてもよい。他の一方の面上にアンチブロッキング層を形成することによって、導電性積層体の製造工程におけるブロッキング現象の発生を抑えることができ、製造時における保存安定性が向上するという利点がある。

アンチブロッキング層を形成する組成物として、例えば、第１成分および第２成分を含むアンチブロッキング層形成組成物が挙げられる。第１成分のＳＰ値（ＳＰ１）および第２成分のＳＰ値（ＳＰ２）の差△ＳＰが１〜２の範囲内であり、アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第１成分と第２成分が相分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成される、アンチブロッキング層形成組成物であるのがより好ましい。

第１成分として、不飽和二重結合含有アクリル共重合体が用いられる。不飽和二重結合含有アクリル共重合体は、例えば（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合した樹脂、（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびエポキシ基を有するモノマーとを反応させた樹脂、（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびイソシアネート基を有するモノマーとを反応させた樹脂などにアクリル酸やグリシジルアクリレートなどの不飽和二重結合を有しかつ他の官能基を有する成分を付加させたものなどが挙げられる。これらの不飽和二重結合含有アクリル共重合体は１種を単独で用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。この不飽和二重結合含有アクリル共重合体は、重量平均分子量で２０００〜１０００００であるのが好ましく、５０００〜５００００であるのがより好ましい。

第２成分のモノマーまたはオリゴマーとして、多官能性不飽和二重結合含有モノマーまたはそのオリゴマーであるのがより好ましい。なお、本明細書でいう「オリゴマー」とは、繰り返し単位を有する重合体であって、この繰り返し単位の数が３〜１０であるものをいう。多官能性不飽和二重結合含有モノマーとして、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリレートとの脱アルコール反応物である多官能アクリレート、具体的には、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどを用いることができる。この他にも、ポリエチレングリコール＃２００ジアクリレート（共栄社化学（株）社製）などの、ポリエチレングリコール骨格を有するアクリレートモノマーを使用することもできる。これらの多官能性不飽和二重結合含有モノマーは１種を単独で用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。第２成分は、多官能アクリレートであるのがより好ましい。

第１成分および第２成分が上記組み合わせである場合に好ましい有機溶媒として、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒；アニソール、フェネトールプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は１種を単独で用いてもよく、また２種以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。

上記アンチブロッキング層形成組成物は、光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤として、例えば、２−ヒドロキシ−２メチル−１フェニル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタンノン−１などが挙げられる。

上記アンチブロッキング層形成組成物は、第１成分および第２成分それぞれのＳＰ値の差によって相分離がもたらされる。この相分離によって、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成されることとなる。第１成分のＳＰ値と第２成分のＳＰ値との差は１以上であるのが好ましく、１〜２の範囲内であるのがより好ましい。第１成分のＳＰ値と第２成分のＳＰ値との差が１以上ある場合は、互いの樹脂の相溶性が低く、それによりアンチブロッキング層形成組成物の塗布後に第１成分と第２成分との相分離がもたらされると考えられる。

ＳＰ値とは、ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ ｐａｒａｍｅｔｅｒ（溶解性パラメーター）の略であり、溶解性の尺度となるものである。ＳＰ値は数値が大きいほど極性が高く、逆に数値が小さいほど極性が低いことを示す。

例えば、ＳＰ値は次の方法によって実測することができる［参考文献：ＳＵＨ、ＣＬＡＲＫＥ、Ｊ．Ｐ．Ｓ．Ａ−１、５、１６７１〜１６８１（１９６７）］。

測定温度：２０℃
サンプル：樹脂０．５ｇを１００ｍｌビーカーに秤量し、良溶媒１０ｍｌをホールピペットを用いて加え、マグネティックスターラーにより溶解する。
溶媒：
良溶媒…ジオキサン、アセトンなど
貧溶媒…ｎ−ヘキサン、イオン交換水など
濁点測定：５０ｍｌビュレットを用いて貧溶媒を滴下し、濁りが生じた点を滴下量とする。

樹脂のＳＰ値δは次式によって与えられる。

Ｖi：溶媒の分子容（ｍｌ／ｍｏｌ）
φi：濁点における各溶媒の体積分率
δi：溶媒のＳＰ値
ｍｌ：低ＳＰ貧溶媒混合系
ｍｈ：高ＳＰ貧溶媒混合系

上記アンチブロッキング層形成組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、および紫外線吸収剤などの常用の添加剤を含んでもよい。

アンチブロッキング層形成組成物には、上記の第１成分および第２成分のほかに、通常使用される樹脂が含まれてもよい。上記アンチブロッキング層形成組成物は、上記のような第１成分および第２成分を用いることによって、樹脂粒子などを含ませなくても、凹凸を有する樹脂層を形成することができることに特徴がある。そのため、上記アンチブロッキング層形成組成物は、樹脂粒子を含まないのが好ましい。しかしながら、上記アンチブロッキング層形成組成物は、必要に応じて、無機粒子または有機粒子、若しくはそれらの複合物を少なくとも一種以上含んでもよい。これらの粒子は、特に表面に凹凸を形成する目的のために添加されるのではなく、相分離や析出を制御して、より均一で微細な凹凸を形成する為に添加される。これらの粒子の粒径は、平均粒径で０．５μｍ以下、好ましくは０．０１〜０．３μｍである。０．５μｍを超えると、若干透明性が低下する。

無機粒子の例としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ゼオライト、雲母、合成雲母、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、フッ化マグネシウム、スメクタイト、合成スメクタイト、バーミキュライト、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化錫）、酸化錫、酸化インジウムおよび酸化アンチモンからなる群から選択される少なくとも１種類が挙げられる。

有機粒子の例としては、アクリル、オレフィン、ポリエーテル、ポリエステル、ウレタン、ポリエステル、シリコーン、ポリシラン、ポリイミドおよびフッ素粒子からなる群から選択される少なくとも１種類が挙げられる。

上記アンチブロッキング層形成組成物は、第１成分および第２成分、そして必要に応じた溶媒、光重合開始剤、触媒、光増感剤などの添加剤を混合することにより調製される。アンチブロッキング層形成組成物中における第１成分と第２成分との比率は、０．１：９９．９〜５０：５０が好ましく、０．３：９９．７〜２０：８０がより好ましく、０．５：９９．５〜１０：９０がさらに好ましい。重合開始剤、触媒および光増感剤を用いる場合は、第１成分および第２成分そして必要に応じた他の樹脂（これらを合わせて「樹脂成分」という。）１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部、好ましくは１〜１０質量部加えることができる。溶媒を用いる場合は、上記樹脂成分１００質量部に対して、１〜９９００質量部、好ましくは１０〜９００質量部加えることができる。

上記アンチブロッキング層形成組成物を塗装し、次いで硬化させることによって、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層を形成することができる。アンチブロッキング層形成組成物の塗装方法として、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法などが挙げられる。アンチブロッキング層の厚さとして、例えば、０．０１〜２０μｍの厚さである態様が挙げられる。

アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後、光を照射することによって、相分離および硬化させることができる。照射する光として、例えば露光量０．１〜３．５Ｊ／ｃｍ^２の光、好ましくは０．５〜１．５Ｊ／ｃｍ^２の光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば、３６０ｎｍ以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。このように光を照射することによって、相分離および硬化が生じることとなる。

タッチパネル
本発明のタッチパネルは、透明な導電性積層体を有する。本発明のタッチパネルとして、例えば、静電容量方式のタッチパネルが挙げられる。また、本発明の透明な導電性積層体を、抵抗膜方式のタッチパネルに用いてもよい。

タッチパネル
本発明のタッチパネルは、透明な導電性積層体を有する。本発明のタッチパネルとして、例えば、静電容量方式のタッチパネルが挙げられる。また、本発明の透明な導電性積層体を、抵抗膜方式のタッチパネルに用いてもよい。

本発明の透明な導電性積層体をタッチパネル用基板として用いる場合における、具体的な層構成として、例えば下記の層構成が挙げられる：
透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材、
透明導電層／ハードコート層／ポリカーボネート基材、
透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／アンチブロッキング層、
透明導電層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／アンチブロッキング層、
透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／ハードコート層／色差調整層／透明導電層、
透明導電層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／ハードコート層／色差調整層／透明導電層、
補助電極層／透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材、
補助電極層／透明導電層／ハードコート層／ポリカーボネート基材、
補助電極層／透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／アンチブロッキング層、補助電極層／透明導電層／色差調整層／ハードコート層／透明高分子基材／アンチブロッキング層、
補助電極層／透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／ハードコート層／色差調整層／透明導電層／補助電極層、
補助電極層／透明導電層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／ハードコート層／透明導電層／補助電極層。尚、上記層構成は、最上層から最下層に向けて層を順に記載している。上記透明導電層のすぐ下層に、色差調整のためまたは密着性を改善するために金属酸化物層（具体的には、二酸化ケイ素、酸化ニオブ、酸化モリブデンなど金属酸化物からなる層）を形成してもよい。最上層の透明導電層のさらに上層に表面保護を目的としたハードコート層を設けても良い。その場合、ハードコート層は、本発明のハードコート層であっても良いが、本発明以外の通常のハードコート層であっても良い。

ここで言う補助電極層とは、配線用の電極材として使用可能な層を意味する。補助電極層の材料としては、比抵抗が１×１０^−６Ωｃｍ以上１×１０^−４Ωｃｍ以下のものが望ましい。比抵抗が１×１０^−６Ωｃｍ未満の金属材料を使用すると用途機能上では不安定であり、薄膜として形成することが難しくなる。一方、比抵抗が１×１０^−４Ωｃｍより大きい金属材料を使用すると、抵抗値が高すぎるために、細線加工した際に抵抗値が高くなってしまう。以上の理由から、実使用に適する金属は、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｉ／Ｃｒ、Ｔｉ群から選ばれる単一金属、または複数種からなる合金が推奨される。特に、電気導電性が高く、パターンエッチング、電気メッキ等の加工性に優れる金属で、電極と回路等のリード部との電気的機械的接続性（ハンダ、異方導電性コネクター等）が良く、曲げに強く、熱伝導性が高い上に、安価という点においてＣｕ、Ａｌ等が好ましく、特にＣｕが好ましい。

補助電極層の厚さとしては、特に限定されるものではないが、通常の設計仕様として０．００１〜１００μｍ、好ましくは０．０１〜２５μｍの範囲が推奨される。補助電極の形成には、公知の処理方法を使用できるが、スパッタリング法で形成することが好ましい。また、必要に応じてその後電解・無電解湿式金属メッキ等でさらに膜厚を厚くして導電性を上げても良い。

また、必要に応じて、上記補助電極層の保護（主に酸化防止）を目的に、補助電極層の上下層にＮｉ、Ｎｉ／Ｃｒ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｍｏ他からなる高融点金属層およびこれらの酸化物層を設けても良い。

本発明の導電性積層体は、１３０℃で２時間熱処理した際に、揮散する樹脂成分を実質的に含まないことを特徴とする。「実質的に含まない」とは、測定機器として、アジレント製６８９０Ｎ、５９７５ＭＳＤ及びフォロンティアラボ製ＰＹ-２０２０ｉＤを使用して、ガスクロマトグラフィーの測定条件は温度範囲が４０℃〜１３０℃、昇温速度は０．８℃／ｍｉｎ.として、パイロライザーの熱分解炉の温度は１３０℃、インターフェースの温度条件は２００℃として、溶媒と開始剤起因の揮発物以外の揮発組成物を次の基準に沿って判定した場合に、アバダンスが０〜２００００の範囲にあることを意味する。尚、この場合保導電性積層体は、ハードコート層のみならず、ポリカーボネート基材上に必要な層が全て形成された状態のものを言う。

本発明の導電性積層体は、その中に含まれる硫黄元素を含む有機化合物の総含有量が０〜５００ｐｐｍであることが好ましい。硫黄元素を含む有機化合物は、触媒などとして使用されるものであり、その総含有量である。硫黄元素を含む有機化合物の含有量の測定は、エネルギー分散形蛍光Ｘ線分析装置ＦＤＸ−７００ＨＳ（島津製作所）を用いて、透明導電性積層体を５０×５０ｍｍ寸法で準備し、導電層面をＸ線が照射されるように試料プレートに配置させて、定量分析方法にて硫黄の検量線を作製し、硫黄含有量を測定する。硫黄元素を含む７有機化合物が５００ｐｐｍを超えると、導電層、即ち電極など腐食する傾向が高い。

以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中、「部」および「％」は、ことわりのない限り、質量基準による。

製造例１ フェノールノボラック型アクリレート（１）の製造
攪拌装置、温度計、滴下漏斗および還流装置のついた反応装置に、フェノールノボラック樹脂（重量平均分子量７００〜９００、エポキシ当量１５０〜２００）１５０ｇおよびエピクロルヒドリン５５０ｇを混合し、１００℃、１００〜２００ｍｇの減圧条件下にて４８．５％の水酸化ナトリウム水溶液１１０ｇを２時間かけて滴下した。反応終了後、温度を室温まで冷却し過剰の水酸化ナトリウム水溶液を酸で中和、減圧下にて加熱し過剰のエピクロルヒドリンを除去した後、生成物をメチルイソブチルケトンに溶解させ、水洗濾別により副生成塩を除去してフェノールノボラック型のエポキシ樹脂溶液を得た。
得られたフェノールノボラック型のエポキシ樹脂の固形分１００重量部に対し、メトキノン１０００ｐｐｍ、トリフェニルホスフィン２０００ｐｐｍを加え、１００℃にてアクリル酸を滴下し、酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になるまで反応させフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）を得た。

得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）は、重量平均分子量が９５０であり、水酸基価は１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ、屈折率は１．５７２であった。

製造例２ フェノールノボラック型アクリレート（２）の製造
攪拌装置、温度計、滴下漏斗および還流装置のついた反応装置に、フェノールノボラック樹脂（重量平均分子量９００〜１１００、エポキシ当量１５０〜２００）１５０ｇおよびエピクロルヒドリン５５０ｇを混合し、１００℃、１００〜２００ｍｇの減圧条件下にて４８．５％の水酸化ナトリウム水溶液１１０ｇを２時間かけて滴下した。反応終了後、温度を室温まで冷却し過剰の水酸化ナトリウム水溶液を酸で中和、減圧下にて加熱し過剰のエピクロルヒドリンを除去した後、生成物をメチルイソブチルケトンに溶解させ、水洗濾別により副生成塩を除去してフェノールノボラック型のエポキシ樹脂溶液を得た。

得られたフェノールノボラック型のエポキシ樹脂の固形分１００重量部に対し、メトキノン１０００ｐｐｍ、トリフェニルホスフィン２０００ｐｐｍを加え、１００℃にてアクリル酸を滴下し、酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になるまで反応させフェノールノボラック型エポキシアクリレート（２）を得た。

得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（２）は、重量平均分子量が１２００であり、水酸基価は１３７ｍｇＫＯＨ／ｇ、屈折率は１．５７１であった。

製造例３ 多官能ウレタンアクリレートの製造
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとのポリカーボネートジオール（旭化成ケミカルズ社製ＰＣＤＬ Ｔ−５６５２、数平均分子量：２０００）３４１ｇと、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（昭和高分子社製リポキシＳＰ−１６ＬＤＡ）１７ｇと、イソホロンジイソシアネート４３ｇと、ジブチルスズジラウレート（反応触媒）０．２ｇ、メチルエチルケトン（有機溶媒）４００ｇとを投入し、７０℃において約２４時間攪拌し、反応させた。反応後、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が観測されなくなったのを確認した。このようにして、数平均分子量３００００、不飽和度０．２３ｍｏｌ／ｋｇの不飽和基含有ウレタン樹脂を得た。

実施例１
成分（Ａ）として、製造例１で得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）を、成分（Ｂ）として、ビスフェノールＡエチレンオキサイド２ｍｏｌ変性ジアクリレート、成分（Ｃ）として、ペンタエリスリトールトリアクリレート、成分（Ｄ）として、製造例３で得られた多官能ウレタンアクリレートを用いてハードコーティング組成物を調製した。表１に示された原料を、表１に示された固形分質量で順次混合し、撹拌して、ハードコーティング組成物を得た。

また、成分（Ｂ）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ００６２に準拠した方法により、アッベ屈折率計を用いて測定した。

得られたハードコーティング組成物を、帝人化成製１００μｍ光学用ＰＣフィルム（ピュアエース）上に滴下し、バーコーター＃９を用いて塗工した。

塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚５．０μｍのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。

ハードコート層の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ００６２に準拠した方法により、アッベ屈折率計を用いて測定した。

実施例２〜１５
成分（Ａ）の種類および量を表１に記載されたものに変更し、また成分（Ｂ）〜（Ｄ）の量を表１に記載されたものに変更し、実施例１と同様にして、ハードコーティング組成物を調製した。得られたハードコーティング組成物を用いて、実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。

比較例１〜１３
表２に示された配合により、ハードコーティング組成物を、実施例と同様にして調製した。得られたハードコーティング組成物を用いて、実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。

実施例１６
実施例１〜１５で得られたハードコートフィルムを用い、さらにこの硬化樹脂層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９５：５の組成で充填密度９８％の酸化インジウム−酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ＩＴＯ層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたＩＴＯ層の膜厚は約３０ｎｍ、製膜後の表面抵抗値は約１５０Ω／□であった。

比較例１４
比較例１〜１３で得られたハードコートフィルムを用い、さらにこの硬化樹脂層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９５：５の組成で充填密度９８％の酸化インジウム−酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ＩＴＯ層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたＩＴＯ層の膜厚は約３０ｎｍ、製膜後の表面抵抗値は約１５０Ω／□であった。

上記実施例１〜１５および比較例１〜１３において得られたハードコートフィルムおよび実施例１６および比較例１４で得られた透明導電性積層体について、下記評価を行った。評価結果を表１および２に示す。

反射率の差△Ｒの測定
実施例１６および比較例１４で得られた透明導電性積層体の反射率を、分光光度計（日立製作所Ｕ−３０００）を用いて、入射角１０度でＪＩＳ Ｋ５６００−４−５に準拠して、反射率Ｒ１を測定した。反射率の測定において用いた光源の波長は５００〜７５０ｎｍであった。

次いで、得られた透明導電性積層体を、１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に４０℃で３分間浸漬し、乾燥させた。この透明導電性積層体に対して、波長５００〜７５０ｎｍの光を照射し、反射率Ｒ２を測定した。なお、反射率Ｒ１は、図１中の（１３）の部分に示されるような、透明導電層が存在する部分の反射率を意味し、反射率Ｒ２は、図１中の（１１）の部分に示されるような、透明導電層が存在しない部分の反射率を意味する。

こうして得られたＲ１およびＲ２の差を△Ｒとした。波長５００〜７５０ｎｍの間で△Ｒが最大値となった△Ｒの値を表１、２に示した。

干渉縞評価
ポリカーボネート基材上に各実施例１〜１５または比較例１〜１３のハードコーティング組成物をバーコーターで塗工した後、７０℃の乾燥炉に１分間放置し、更にＦｕｓｉｏｎ−Ｈ光源で露光してそれぞれの実施例または比較例に対応する試験片を得た。得られた試験片を１００×１００ｍｍの黒色アクリル板に光学フィルム用粘着剤を用いハードコート塗工面が表面にくるように貼り合せた。スタンド式３波長蛍光灯（ＴＷＩＮＢＡＲＤ製 ＳＬＨ−３９９型）の蛍光管から垂直下１０ｃｍの距離にサンプルを設置して目視観察をし、評価結果が○以上のサンプルについては、更に太陽光下での目視観察を実施し、下記の評価基準に基づき、判定した。

◎ ： 干渉縞（干渉模様）が３波長蛍光灯下でも太陽光下でも視認されない
○ ： ３波長蛍光灯下で干渉縞（干渉模様）が視認されないが太陽光下では僅かに視認される
△ ： 干渉縞（干渉模様）が僅かに視認される
× ： 干渉縞（干渉模様）がはっきりと視認される

エッチングマーク（目視評価）
塩酸（１２規定）：硝酸（１６規定）：純水を質量比で３．３:１．０:７．６の割合で混合した強酸中に実施例１６および比較例１４で得られた透明導電性積層体を４０℃で３分間浸漬し、エッチング処理して、パターニングを施したサンプルを用いて、スタンド式３波長蛍光灯（ＴＷＩＮＢＡＲＤ製 ＳＬＨ−３９９型）の蛍光管から垂直下１０ｃｍの距離にサンプルを設置して目視観察をし、評価結果が○以上のサンプルは更に、太陽光の下で目視観察をし、下記基準で見た目の評価を行った。

◎：太陽光下及び３波長蛍光灯下でパターン部と非パターン部の判別が困難
○：太陽光下ではパターン部と非パターン部の判別がわずかに可能だが、３波長蛍光灯下ではパターン部と非パターン部の判別が困難
△：３波長蛍光灯下でパターン部と非パターン部の判別がわずかに可能
×：３波長蛍光灯下でパターン部と非パターン部の判別が容易に可能

揮散樹脂成分の含有有無の確認方法
実施例１６及び比較例１４にて得られた透明導電性積層体を１０ｍｇ準備し、以下の条件にて測定を実施した。

測定機器は、アジレント製６８９０Ｎ、５９７５ＭＳＤ及びフォロンティアラボ製ＰＹ-２０２０ｉＤを使用する。ガスクロマトグラフィーの測定条件は温度範囲が４０℃〜１３０℃、昇温速度は０．８℃／ｍｉｎ.として、パイロライザーの熱分解炉の温度は１３０℃、インターフェースの温度条件は２００℃とする。また溶媒と開始剤起因の揮発物以外の揮発組成物を次の基準に沿って判定した。
: アバンダンスが０〜２００００
△ : アバンダンスが２０００１〜３９９９９
× ： アバンダンスが４００００以上

硫黄含有量の測定方法
実施例１６及び比較例１４にて得られた透明導電性積層体を５０×５０ｍｍ寸法にて準備し、導電層面をＸ線が照射されるように試料プレートに配置させ以下の条件にて測定を実施した。測定機器はエネルギー分散形蛍光Ｘ線分析装置ＥＤＸ−７００ＨＳ（島津製作所製）を用い、定量分析方法にて硫黄の検量線を作製し、硫黄含有量を次の基準沿って判定した。
○ : 硫黄含有量が０〜１００ｐｐｍ
△ : 硫黄含有量が１０１〜５００ｐｐｍ
× ： 硫黄含有量が５０１ｐｐｍ以上

補助電極層腐食の確認方法
実施例１６及び比較例１４にて得られた透明導電性積層体を５０×５０ｍｍの寸法にて準備し、導電層面を銅板に接触させるよう配置し、重さ２００ｇのステンレス板を置き、更にその上に１ｋｇの重りを乗せた状態にて、８５℃×８５％ＲＨの湿熱試験機に投入した。
２５０時間後に試験機より取り出し、次の基準に沿って判定した。
： 銅板の変色が確認できない。
△ ： 銅板の変色が僅かに確認できる。
× ： 銅板の変色が確認できる。

密着性試験１（導電性積層体としての密着性）
ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して密着性試験を実施した。実施例１６及び比較例１４で得られた透明導電性積層体に、カッターナイフを用いて、１ｍｍ^２のカット（碁盤目）が１００個できるようにクロスカットを施した。次いで、作成した碁盤目の上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一方の端を持ち上げて上方に剥がした。この剥離動作を同一箇所で３回実施した。その後、剥がれた碁盤目の数を、以下に記載の基準に沿って判定した。下記評価基準で８以上を合格とする。

１０：剥がれなし
８：剥がれが５目以内である
６：剥がれが５目を超えて１５目以内である
４：剥がれが１５目を超えて３５目以内である
２：剥がれが３５目を超えて６５目以内である
０：剥がれが６５目を超えて１００目以内である

密着性試験２（ハードコートフィルムとしての密着性）
実施例１〜１５及び比較例１〜１３で得られたハードコートフィルムを、９５〜１００℃に保たれたイオン交換水に浸漬に２４時間処理した。浸漬１時間後にカッターナイフを用いて、１ｍｍ^２のカット（碁盤目）が１００個できるようにクロスカットを施した。次いで、作成した碁盤目の上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一方の端を持ち上げて上方に剥がした。この剥離動作を同一箇所で３回実施した。その後、剥がれた碁盤目の数を、密着性試験１と同様の基準にて６段階評価で判定した。

過酷密着性試験
実施例１〜１５及び比較例１〜１３で得られたハードコートフィルムを、８５℃×８５％ＲＨの湿熱試験にて５００時間処理した。湿熱処理１時間後にカッターナイフを用いて、１ｍｍ^２のカット（碁盤目）が１００個できるようにクロスカットを施した。次いで、作成した碁盤目の上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一方の端を持ち上げて上方に剥がした。この剥離動作を同一箇所で３回実施した。その後、剥がれた碁盤目の数を、密着性試験１と同様の基準にて６段階評価で判定した。

上記表１、表２中、
・イルガキュアー１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、光重合開始剤
・ビスフェノールＡ ＥＯ変性（２ｍｏｌ）ジアクリレート：東亜合成株式会社製、アロニックスＭ−２１１Ｂ、ビスフェノールＡ ＥＯ（２ｍｏｌ）変性ジアクリレート
・高屈折率フィラー１：ジルコニア ＺＲＭＩＢＫ３０ＷＴ％（酸化ジルコニウム、ＣＩＫナノテック社製）
・２官能ウレタンアクリレート：ＮＶ１００：ＣＮ−９８９３（サートマー社製）
を示す。

実施例のハードコーティング組成物を用いて形成されたハードコート層を有するハードコーティングフィルムは、何れも、干渉縞の発生がなく、かつ、高い屈折率、良好な硬度を有していた。さらに得られたハードコーティングフィルムは、伸長性および耐屈曲性も高く、初期密着性の他、ハードコートフィルムとしての密着性、過酷密着性試験においても問題の無いものであった。また、導電性積層体の揮発樹脂成分の含有量も硫黄含有量も少なく、導電層の腐食の問題も起こらない。

比較例１は単純なハードコートの適用例であり、屈折率が低いため干渉縞の発生が確認された。比較例２は、硫黄触媒含有多官能性アクリレートを用いた例であり、硫黄含有量や補助電極層の腐食が見られる。比較例３および４は、成分（Ａ）の量が本発明の範囲外である例である。これらの場合は、本発明の範囲を下回る場合（比較例４）には屈折率が低く、干渉縞が発生する不具合があり、範囲を上回る場合（比較例３）には密着性が低下する不具合が発生する。

比較例５及び６は、成分（Ｂ）の量が本発明の範囲外である例である。これらの場合は、本発明の範囲を下回る場合には屈折率が低く、干渉縞が発生する不具合があり、範囲を上回る場合には硬度、及び密着性が低下する不具合が発生する。

比較例７及び８は、成分（Ｃ）の量が本発明の範囲外である例である。これらの場合は、本発明の範囲を下回る場合には屈折率が低く、干渉縞が発生する不具合があり、範囲を上回る場合には硬度が低下する不具合が発生する。

比較例９および１０は、成分（Ｂ）を用いる代わりに、揮散樹脂の原因となるエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレートを配合した例である。比較例１０では、色差調整層に超微粒子を多く含む例を入れている。両方の例とも、揮散樹脂成分が多い。比較例１０では、エッチングマークも存在し、密着性も悪くなっている。

比較例１１と１３は、ハードコート層に伸長性を付与することを目的として、２官能ウレタンアクリレートを用いた例である。また、比較例１１および１３では、高屈折率フィラーが配合されている例である。これらの比較例では、高屈折率フィラーが含まれることによって、得られたハードコート層の屈折率自体は確かに高くなっている。その一方で、これらの比較例で得られたハードコート層は、何れも、干渉縞が確認されている。これらの比較例において干渉縞が確認された理由として、ハードコート層を形成する樹脂成分の屈折率が低い一方で、この樹脂成分中に、屈折率の高い高屈折率フィラーが混ざり込んでいる状態であるためと考えられる。このため、ハードコート層の屈折率自体は高くなっても、低屈折率である樹脂成分が悪影響を及ぼしてしまい、優れた干渉縞発生抑制効果が得られないと考えられる。比較例１２はハードコート層の伸張性と硬さは実施例と同等でありながら、屈折率が低い例であり、エッチングマーク、干渉縞の２つを抑制するには、樹脂系での屈折率調整と、伸張性を二つが必要ということを示している。

また、これらの実施例および比較例の結果からも、本発明によって得られるハードコート層において、優れた干渉縞抑制効果、密着性効果が達成されていることがわかる。

本発明は、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有し、且つポリカーボネート基材との優れた密着力を発揮するハードコート層を提供する。本発明のハードコーティング組成物によって形成される透明ハードコート層は、屈折率が高いことを特徴とする。そのため、ポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明における透明ハードコート層を設けた場合であっても、干渉縞が発生せず、かつ、高い伸長性が達成されているという利点があり、高い密着性を発現することから、過酷な密着性試験でも耐えることができ、使用用途大きく広がる。

１… ポリカーボネート基材
３… ハードコート層
５… 色差調整層
７… 導電層
１０… 導電性積層体
１１… 反射率Ｒ２を示す部分
１３… 反射率Ｒ１を示す部分

Claims (11)

1. ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、導電層が積層された導電性積層体であり、
   前記ハードコート層が、
   （Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
   （Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
   （Ｃ）３またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレート、および
   （Ｄ）３またはそれ以上のアクリレート基およびエステル骨格を有する多官能ウレタンアクリレート
   を含むハードコーティング組成物から形成され、
   前記ハードコーティング組成物が、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）１５〜２５質量部、ビスフェノール骨格含有アクリレート（Ｂ）２５〜３５質量部、多官能性アクリレート（Ｃ）２５〜３５質量部および多官能ウレタンアクリレート（Ｄ）１５〜２５質量部含み、かつ、
   前記導電性積層体が、導電性積層体を１３０℃で２時間熱処理した際に、揮散する樹脂成分を実質的に含まない
   ことを特徴とする導電性積層体。
2. 前記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、下記式（Ｉ）
   

   

   （Ｉ）
   ［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ＨまたはＣＨ_２ＯＨであり、Ｒ^２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２〜５であり、ｍは０〜５である。］
   で示される、請求項１記載の導電性積層体。
3. 前記ハードコート層が、ガラス転移点６０〜８０℃であることを特徴とする、請求項１または２記載の導電性積層体。
4. 前記ハードコート層の屈折率が１．５３５〜１．５４５である、請求項１〜３いずれかに記載の導電性積層体。
5. 前記ハードコート層に含まれる、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム−スズ酸化物の総含有量がハードコート層中の０．０００１質量％以下である、請求項１〜４いずれかに記載の導電性積層体。
6. 前記導電層の厚さが５〜１００ｎｍである、請求項１〜５いずれかに記載の導電性積層体。
7. ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、色差調整層、導電層が積層された導電性積層体であり、
   前記ハードコート層が、
   （Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
   （Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
   （Ｃ）３またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレート、および
   （Ｄ）３またはそれ以上のアクリレート基およびエステル骨格を有する多官能ウレタンアクリレート
   を含むハードコーティング組成物から形成され、
   前記ハードコーティング組成物が、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）１５〜２５質量部、ビスフェノール骨格含有アクリレート（Ｂ）２５〜３５質量部、多官能性アクリレート（Ｃ）２５〜３５質量部および多官能ウレタンアクリレート（Ｄ）１５〜２５質量部含み、かつ、
   前記導電性積層体が、導電性積層体を１３０°で２時間熱処理した際に、揮散する樹脂成分を実質的に含まず、
   前記色差調整層が、硬化性樹脂（ｉ）および平均一次粒子径１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子（ｉｉ）または平均一次粒子径１００ｎｍ以下の金属フッ化物粒子（ｉｉｉ）のいずれか一方または両方を含有する組成物から形成され、
   粒子（ｉｉ）および（ｉｉｉ）の総質量は、硬化樹脂（ｉ）１００質量部に対して０〜２００質量部であり、
   導電性積層体に対して波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光を照射した場合における反射率（Ｒ１）、および、導電性積層体を１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に４０℃で３分間浸漬した後、乾燥させた後の導電性積層体に対して波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光を照射した場合における反射率（Ｒ２）とした場合に、Ｒ１およびＲ２の差ΔＲが１以下である、
   ことを特徴とする導電性積層体。
8. 前記導電性積層体に含まれる硫黄元素を含む有機化合物の総含有量が0〜2000ppmであることを特徴とする請求項１〜７いずれかに記載の導電性積層体。
9. 前記導電層の上部に、補助電極層が存在し、導電層と補助電極層の総厚が20〜500nmであることを特徴とする請求項１〜８いずれかに記載の導電性積層体。
10. ポリカーボネート基材の一方の面上に、ハードコート層、色差調整層および導電層が積層されており、かつ、
    透明高分子基材の他の一方の面上に、第１成分および第２成分を含むアンチブロッキング層形成組成物によって形成された層を有する導電性積層体であり、
    第１成分は不飽和二重結合含有アクリル共重合体を含み、第２成分は多官能アクリレートを含み、
    第１成分のＳＰ値（ＳＰ１）および第２成分のＳＰ値（ＳＰ２）の差△ＳＰが１〜２の範囲内であり、
    アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第１成分と第２成分が相分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成されるアンチブロッキング層が形成されることを特徴とする、請求項１〜９いずれかに記載の導電性積層体。
11. 少なくとも片面に導電層が設けられた電極基板を用いたタッチパネルにおいて、少なくとも１枚の電極基板として請求項１〜１０のいずれか記載の導電性積層体を用いることを特徴とする、タッチパネル。

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