JP5128285B2 - 粒子検出方法およびシステム - Google Patents
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Description
監視される領域に、変調した放射ビームを発射することと、
画像捕捉手段を用いて該領域の複数の画像を捕捉することと、
該領域の画像変動を検出することとを含み、画像変動は粒子の存在を示すものである粒子検出方法であって、
発射ステップおよび捕捉ステップは、発射ビームのパワーレベルと間接的に比例した関係に従って、ビームが放射されている、変調放射ビームのオン期間および、画像が捕捉される、画像捕捉手段の露出期間を決定することを含み、
放射ビームのパワーレベルは、周囲光レベルの増加に応じて増加するようにした。
監視される領域での粒子を検出するシステムであって、
監視される領域に放射ビームを少なくとも周期的に発射するように構成された1つ又はそれ以上の光源と、
露出期間中に監視される領域の画像を収集するための1つ又はそれ以上の画像捕捉手段と、
画像内の変動を決定し、領域内の複数の場所で粒子の存在を検出するための画像プロセッサとを含み、
監視領域へのビーム発射の期間およびタイミングの少なくとも1つならびに露出期間が、発射ビームのパワーレベルと間接的に比例した関係に基づいて決定され、
発射ビームのパワーレベルは、周囲光レベルの増加に応じて増加するようにした。
少なくとも1つの領域の画像を取得するための画像捕捉デバイスと、
少なくとも1つの画像を解析して、領域内での粒子の存在を示すような、画像間での少なくとも1つの特性の存在または変動を検出するためのプロセッサとを備える。
時間(temporal)フィルタ。
空間フィルタ。
バンドパスフィルタ。
偏光フィルタ。
放射源の位置をプロセッサへ伝達するステップと、
放射ビームの衝突ポイントが見えるように、第2の画像捕捉デバイスを設置するステップと、
衝突ポイントの関連した位置情報をプロセッサへ伝達するステップと、
放射源の位置および衝突ポイントの位置情報の間の幾何学的関係に従って、ビームの経路を決定するステップとを含む。
ビーム源の位置である第1のポイントを配置することを含み、画像捕捉デバイスを用いて、放射ビームの経路を含む対象となる領域を決定するステップと、
画像捕捉デバイスの視野と放射ビームの交差部である第2のポイントを配置して、第1および第2のポイントに従って、ビームの経路を決定するステップと、
決定したビーム経路を含む対象となる領域を計算するステップとを含む。
領域内で放射ビームを方向付けることと、
画像捕捉デバイスを用いて、ビーム経路の少なくとも一部の視野を選択することと、
画像捕捉デバイスに対して、放射源の場所を決定することと、
画像捕捉デバイスに対して、ビームの方向を決定することと、
放射ビームを複数のセグメントに分割することと、
セグメントと画像捕捉デバイスの間の幾何学的関係を決定することと、
幾何学的関係を考慮するように、各セグメントについて、画像捕捉デバイスで受けた光のレベルを調整することと、を含む。
幾つかの状況では、多数の発光をシステム内で使用することが望ましい。これは、規則に適合し、バックアップを用意し、あるいは単一発光器でカバーできるより大きなエリアをカバーするのを支援する。
一実施形態では、レーザビーム直径を広くして、細かい繊維がビーム断面積の小さい部分とだけ交差するようにし、アラーム閾値を下回る小さな信号だけを発生する。この小さな信号がある期間(例えば、2時間またはそれ以上の時定数)一定のままであれば、それをその場所から得られる読み取り信号から引き算し、長期の較正精度を維持することができる。
図4のステップ401において、レーザ状態の決定が実行される。本実施形態でのソフトウエアは、カメラの視野内にレーザ源を有することに依拠しており、特定のフレームについてレーザの状態を決定する。
図4のステップ401において、重心アルゴリズムは、監視されるエリア内でレーザ源の画素座標を推定する。この位置情報は、必要に応じて「レーザオン」画像ごとに更新され、マウント及び/又は建物の時間移動に起因したレーザ源やカメラ位置でのドリフトを考慮している。安定性に影響を及ぼす因子は、建物内の壁の移動、搭載位置の剛性などがある。
図4のステップ403において、対象領域が計算される。図4のステップ404において、バックグランド消去が行われる。バックグランド消去の際に、補間およびフレーム引き算の組合せが用いられ、画像から、干渉している一時的に変化する情報および不変の情報を減少させる。画像は、図5に示すように、3つの対象領域に区分される。
図4のステップ405において、フレーム積分を実行する。複数のバックグランド消去したフレームが合計され、平均化され、あるいはローパスフィルタにかけられて、ノイズが減少した散乱光画像を取得できる。複数のフレームを平均化することによって、レーザのオン/オフスイッチングと相関しない干渉が減少して、欲しい(相関のある)散乱情報が保持される。典型的には、バックグランド消去およびフレーム積分で使用するフレームの合計数は、約100個(即ち、約3秒のビデオ)である。より長い積分期間またはローパスフィルタのより低いカットオフ周波数は、改善した信号対ノイズ比を生成でき、応答時間を犠牲にして、より高い感度のシステムを実現できる。
図4のステップ406において、発光器からの半径の関数として散乱の計算を実行している。システム幾何学に起因したビームに沿った強度変動および散乱は、この方法を用いて救済できる。データアレイが、レーザ源からの、積分領域での散乱光レベル対半径(例えば、捕捉した画像での画素で測定される)を含むように、計算される。
図4のステップ408において、システムの要素/コンポーネントの幾何が決定される。後述するような各画素(または画像ポイント)は、散乱体積に関する特定の幾何構成に対応しており、こうした画像ポイントの一般的なケースは図12に示される。こうしたポイントまたは画素の各々において、下記パラメータが決定できる。
2. r レーザ源からの距離(メートル)
3. D カメラからレーザ源までの距離
4. L ビームに沿った所定のポイントにおいて、1画素が見る物理長さ
散乱角の補正は、図4のステップ409に従って、論理的に決定される。入力として、プログラムは、所定の材料に関して散乱角および対応する利得のセットを含む散乱データファイルを必要とする。このファイル中のデータは、経験上の較正プロセスによって生成され、種々の煙タイプに関する平均値を含むようにしている。
所定のビーム半径について煙の決定は、図4のステップ407において実行される。散乱したデータアレイを画素当りベースの煙レベルに変換することは、図12に示すような、データD,dおよびθiの入力を必要とする。幾何を制限する長さまたは角度の何れの組合せも使用できる。
図4のステップ410において、ビーム画像セクタに渡る積分が実行され、検出した掩蔽(obscuration)を取得する。ビーム長さは、多くのセクタに分割されて、ビームに沿ったアドレス可能性(addressability)を提供し、レーザ源とレーザビームの散乱との間を区別する。レーザ源の場所の回りの画素は、散乱によって生じた強度が解析できなくなるため、セクタの一部として含まれない。特に、コリメートされていない光源は、フレアが発生して、光源の周囲にある画素で余分な強度を生じさせるからである。
最後に、図4を参照して、アラーム状態が計算される。各セクタについてのアラーム状態は、標準の吸引煙検出器のような閾値、遅延、優先エンコード機構、そして、使用者によて決定される他のパラメータに基づいて決定される。
システムは、本質的には、画像内でレーザスポットの不在である誤り条件の検出のために用意してもよい。レーザのオンオフ信号のデューティサイクルは、1つのバックグランド消去サイクルで使用したフレーム数について、33%〜66%の範囲内になるようチェックしてもよい。
多くの代替的実施形態が、応用および所望の特徴に応じて利用可能である。例えば、誤り検出は、多くの方法で実行され得る。
1フレーム/秒またはそれ以下の検出を必要とするのみである。従って、残りの画像は、監視目的のために使用可能である。
・赤外(IR)レーザの場合、アライメントをより容易に行う(カメラを使用してIRドットを見る)。
・感度およびアドレス可能性の観点から、より均一な対象範囲を得る。
・後方散乱放射を得る。
a)目標スポット45を、カメラ41の直接視野内に入れる。
b)手動または自動で、必要ならば永久的に、部分散乱媒体をビーム44の経路に配置して、ビーム位置をチェックする。
c)ビーム44内に時々入り込む浮遊粉塵(小さな粒子)によって生ずる散乱を検出して記録する。
d)反射素子または屈折素子を用いて、カメラ41は、直接視野の外にある目標スポット45を観測できる。
e)追加の撮像デバイスを用いて、目標スポット45の位置を監視する。
この説明目的のため、「後方散乱の幾何学」は、散乱角が90度より大きい配置であってもよい。従って、散乱光は、光源の一般的な方向に逆行しても構わない。後方散乱システムの実施形態は、カメラと同じハウジングの中に組み込んだ、あるいはカメラの近くに搭載した、レーザ(または他の電磁源)を有してもよい。
1)エッジ検出および相関を使用して、景色が最初に設置したものと実質的に同じであるかを決定する。もしそうでなければ、故障を知らせる。
2)画像処理技術を用いて容易に認識されるターゲット164、例えば、十字形(cross)を使用して、ターゲットマーカ164の位置(画像内)が、設置時から閾値量より多く動いていれば、故障を知らせる。
3)追加の光源または光源165を視野内で使用し、マーカを用意する。1つより多いマーカ164の使用は、カメラ回転の積極的な検出を可能にする。これらの光源165は、主たる光源162と同期して、処理を簡単にする。画像内での光源の位置が、設置時から閾値量より多く動いていれば、故障を知らせる。
既に説明したように、背景光の影響を低減するための技術が、目標スポット176の画像を強調するために使用できる。外側ビームは、これらの技術のために、オンとオフに切り替える必要になることがある。カメラ、画像獲得および処理システムでの遅延に応じて、主ビームとは逆位相で外側ビームを動作させることによって、応答時間を減少させることが可能である。
ターゲット画像を収集するためにカメラを使用する代わりに、ターゲットは、その上に搭載した光検出器を有してもよい。こうした検出器は、システムのアライメントを維持したり監視する目的で既に存在していてもよい。この配置の場合、カメラフレームレート制限が除かれるため、より短いインターロック応答遅延が可能である。
外側のレーザビームは、主レーザと同じ方向に伝搬する必要がない。これらのレーザ源は、主レーザのターゲットの周りに搭載可能であり、そして、主レーザ源に向かって伝搬し、主レーザ源の周りのターゲットポイントに着地してもよい。
カメラとレーザの対は、他で説明するように、相互監視を提供するために配置できる。この場合、これらはまたインターロック機能のために、画像収集、処理、および主レーザ制御を実行できる。
保護ビームは、分離したビームではなく、チューブ状の光であってもよい。こうしたチューブ状の光は、例えば、ターゲットにおいて円形または楕円形のように見えるであろう。画像処理ソフトウエアは、予想される楕円内の割り込みまたは影を検出することになる。当業者に理解されるように、使用可能な幾つかの画像処理技術がある。
干渉格子またはホログラムが、単一のレーザ源から外側ビームを作成するために、使用できる。単一のレーザ源は、主レーザ171でもよく、他の独立したレーザでもよい。
レーザの実際のケージの代替として、主レーザの周りにリング状のレーザ源(これらは必ずしも正確に平行化されていなくてもよい)を使用することである。主ビーム軸の近くの主ビームターゲットに搭載されたカメラは、レーザ源を観察する。主ビームに入る侵入物に関して、それは最初に外側光源のカメラ視野を妨害する。前回の配置で必要とされるのと同様な処理が、インターロック機能を提供できる。
他の実施形態では、ビジョン・ファイア・アンド・セキュリティ・プティ社が販売する監視製品で用いられるビデオモーション検出などの画像処理技術が、危険なレーザビームにごく接近してくる人間などの物体を検出するために使用できる。
1.カメラ/レーザの同期またはタイミング情報
2.システム構成データ
3.レーザ強度、デューティサイクル、カメラ露出コマンド
4.カメラとレーザのアライメントデータ(アクティブ・アライメント及び/又は故障の監視)
5.マルチレーザシステムにおけるレーザ許可/禁止(enable/disable)コマンド
6.レーザマーカの起動/停止/デューティサイクル/強度の制御コマンド
7.レーザの偏光または波長切り替えコマンド
8.火災パネルまたは他の外部システムへ報告するための火災アラーム状態
本発明に係る発射した放射および画像検出を用いた粒子検出システムでのレンズ歪みを補正するために何もしなければ、下記の影響が生ずることがある。
2.空間精度: 特定の画素に対応した空間内での計算した位置に誤差が生ずることがある。
3.利得誤差: 特定の画素に対応したビーム長さに誤差が生じて、システム利得誤差が生ずることがある。
所定の視野に関して、複合レンズ設計が、低歪みを与えるように最適化が可能である。適切なレンズの場合、狭い視野だけを必要とするシステムは、低歪みの補正を必要としないことがある。
画像内ポイントと空間内ポイントの間の関係の経験的な較正が実行可能である。これは、ビーム中で少し散乱を生じさせる物体を置いて、そして、空間内での物体位置および画像内で見える位置を記録することによって行うことができる。この処理は、ビームに沿った多くのポイントに関して繰り返す。
1.積分エリアは、記録したポイントを含むように選ばれる。補間または曲線近似(fitting)は、ポイント間の必要な積分エリアを推定するために用られる。積分エリアは、各ポイントで充分に広くして、ビーム拡がりおよび2つのポイントの位置での不確実性を考慮する。
レーザビームおよびカメラは、ビーム画像が画像中心の近くを通過するように、整列可能である。歪みは、大部分が半径のものであるため、その結果、ビームは依然としてラインとして見える。これは、ポイント間の直線を引くことによって、ビームに沿った2つのポイントだけの知識から積分エリアが計算可能である手法であり、そして、充分な幅は、ビーム拡がりおよび2つのポイント位置の不確実性を考慮する。
数学的モデルが、レンズ歪みを表現するために使用できる。多くの場合、半径歪みモデルが充分に正確である。こうしたモデルの例は、下記の式である。
M(r)=1+ar+br2 (または、改善/減少した精度について、より高次/低次の多項式を使用する)とすること。
白の背景上に均一なアレイの黒ドットからなる風景の画像を記録すること。
1つ又はそれ以上のドット列を選択すること。
画像内(歪んだ像面)で、これらの見かけ中心の座標を決定すること。
最小自乗最適化を使用して、歪まない像面への写像を行う際、直線ライン(または1つより多くの列を選択した場合は、複数ライン)に対して可能な限り接近したポイントを作る、最もフィットする係数a,b,Px,Pyを決定すること。
歪みモデルは、幾つかの方法で用いられる。概念的には、1つの方法は、カメラから捕捉した後、最初の処理ステップとして、完全「歪み無し」の全体画像に対するものである。
2.ビーム拡がりおよびポイント位置の不確実性を考慮する(レンズ歪みが無い場合に行われるのと同じ)閉じた多角形の内部にある画素セットを計算する。
3.各画素の座標を、歪んだ像面で最も近い画素位置に対して写像を行う。
4.バックグランド消去エリアについて、上記ステップを繰り返す
5.「画素半径」(画像内の光源の見かけ位置からの画素の距離)を計算する際に用いる全ての座標は、歪まない像面に対して最初に写像すべきである。
6.同様に、全ての幾何関連量(散乱角、レーザビーム上の対応する位置など)を計算する際に用いた座標は、歪まない像面に対して最初に写像すべきである。
1.歪みモデルの視覚的確認
2.外部システムへの監視画像の配給
1つのテクニックは、オフセットレンズとして知られている。図21において、レンズ212と受光面213からなるカメラは、光源211に由来する散乱光を検知する。レンズは、受光面の中心からオフセットしており、画像での収差を低減するように傾斜させてもよい。受光面は、光ビームに対してほぼ平行となるように配置される。
同様な効果を達成する他の方法は、プリズムを使用することである。図22に例を示しており、レンズ222と受光面223からなるカメラは、光源221に由来する散乱光を検知する。散乱光は、レンズに入る前にプリズム4を通過する。
更なる方法は、湾曲ミラーを使用する。図23に例を示しており、レンズ232と受光面233からなるカメラは、光源231に由来する散乱光を検知する。散乱光は、レンズに入る前に最初に湾曲ミラー234によって反射される。
Snを、レーザnがフルパワーである場合、レーザnによって照射される粒子からの関与分とする。
Lnを、n番目のレーザのパワーとする。但し、1はフルパワーを表し、0はレーザオフ状態を表す(分数のレーザパワー0<Ln<0も許容される。)。
Nを、レーザの合計数とする。
そして、下記の式が得られる。
システムによって感知される特別な場所を決定するためには、受光器および光源の内的および外的なパラメータを決定する必要がある。
受光器が、CCDやCMOSセンサなどのエリアアレイセンサを用いたカメラである場合、重要な内的パラメータは、焦点距離、センサ素子のxとyのピッチ、レンズの主軸と画像アレイの一致ポイント、および半径レンズ歪み係数である。
外的パラメータは、そのままで較正する必要がある。これらは、光源および受光器の搭載のモードに依存しているからである。空間場所の完全な決定のために測定する必要があるパラメータは、各光源および受光器に関して、光源の回転の実効中心、X,Y,Zおよび各デカルト(Cartesian)軸回りの回転、α,β,γである。
更なる実施形態では、散乱を検出するために用いられる同じ受光器は、ビームの到達を管理してもよい。これは、図41に示している。ビーム管理システムのこの実施形態ではビーム413は、受光器412のレンズに対して直接または近くの位置415に周期的に操縦される。これは、極めて高い信号レベルを生じさせることがあり、光ビームの到達を確認するために使用される。確認の後、ビームは、通常の位置414まで操縦される。この手法の利点は、別個のビーム管理要素の必要性を排除することによって、コストを低減している点である。
ビーム広がり効果に対する感度を改善するために、光吸収性の構造または表面、またはマスキング構造に主ビームを集束して、大きい粒子の散乱によって生ずるビームの広がりを強調することが可能である。この特性を持つ適切なターゲットの例は、図45に示すようなものであり、451は通常のターゲット表面であり、452は光吸収材料の円である。同様に、452は空洞構造でもよいことに留意し、こうしてアパーチャを通じた光の戻り反射を最小化する。
受光器が正しく動作するのを確認することが必要であろう。受光器が、CCDやCMOSカメラなどのエリアアレイ検出器である場合、欠陥画像要素(画素)または、画像アレイ表面上に落ちた余分なダスト粒子により、システムは光散乱イベントを見失うことがある。
非常に可燃性の材料が点火した場合に発生するような、突然の厚い煙柱が発生した場合、光ビームは大きく減衰して、前方散乱が検出されなくなる。これらの条件下では、本発明の更なる実施形態に従って、光源に向けて後方散乱した光を使用して、上述したような空気中の煙の場所および量を示すことが可能である。
Claims (26)
- 監視される領域に、変調した放射ビームを発射することと、
画像捕捉手段を用いて該領域の複数の画像を捕捉することと、
該領域の画像変動を検出することとを含み、画像変動は粒子の存在を示すものである粒子検出方法であって、
発射ステップおよび捕捉ステップは、発射ビームのパワーレベルと間接的に比例した関係に従って、ビームが放射されている、変調放射ビームのオン期間および、画像が捕捉される、画像捕捉手段の露出期間を決定することを含み、
放射ビームのパワーレベルは、周囲光レベルの増加に応じて増加するようにした、粒子検出方法。 - 変調ステップは、さらにビームのオン期間と画像捕捉手段の露出期間を同期させることをさらに含む請求項1記載の方法。
- ビームのオン期間は、露出期間より大きいか、それより小さいか、またはそれと等しい請求項2記載の方法。
- ビームは、パルス動作するようにした請求項1,2または3記載の方法。
- ビームのオン期間を、約数秒から約0.1msecまたはそれ以下の範囲に設定するステップと、
対応するビームパワーレベルを、約1.18mWまたはそれ以下から約500mWの範囲に設定するステップ、の1つ又はそれ以上のステップをさらに含む請求項1〜4のいずれかに記載の方法。 - 画像捕捉手段は、約25から100フレーム/秒の範囲のフレームレートで動作し、
ビームは、約12.5Hzから約50Hzの範囲の周波数でパルス動作するようにした請求項1〜5のいずれかに記載の方法。 - 粒子は、煙粒子を含む請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
- 画像捕捉手段は、1つ又はそれ以上の画像捕捉デバイスを備える請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
- 画像捕捉手段は、対向する画像捕捉デバイスを備える請求項1〜8のいずれかに記載の方法。
- 第1の画像捕捉デバイスと対をなす第1のビーム発光器を用意するステップと、
第2の画像捕捉デバイスと対をなす第2のビーム発光器を用意するステップと、
第2の画像捕捉デバイスを用いて、第1の発光器の発射ビームを監視するステップと、
第1の画像捕捉デバイスを用いて、第2の発光器の発射ビームを監視するステップと、をさらに含む請求項1〜9のいずれかに記載の方法。 - 第1および第2の対をなす発光器および画像捕捉デバイスのうちの1つ又はそれ以上は、同一の搭載配置に設けられる請求項10記載の方法。
- 第1および第2の対をなす発光器および画像捕捉デバイスのうちの1つ又はそれ以上を予備配列させるステップをさらに含む請求項10または11記載の方法。
- 予備配列ステップは、発光器のビームが、発光器の対応する対をなす画像捕捉デバイスの視野中心に対して予め定めた角度で現われるように、発光器のビーム方向を設定することを含む請求項12記載の方法。
- 発光器の対応する対をなす画像捕捉デバイスの視野中心に対するビーム発光の予め定めた角度をθ、個々の発光器/画像捕捉デバイスの対の間の距離をDメートルとし、第1の発光器のビームの目標スポットと第2の画像捕捉デバイスとの間の距離が、
S=D・tanθ
で与えられるようにした請求項13記載の方法。 - 放射ビームの発光および画像捕捉手段を同期させることをさらに含み、
所定のレートで放射ビームを発光させることと、
放射光源を、画像捕捉手段によって捕捉された1つ又はそれ以上のビデオ画像において識別することと、
画像捕捉手段のフレームレートを連続的に変更して、同期をとることとを含む請求項1記載の方法。 - 放射光源は、広い発光角度を有する2次光源が取り付けられる請求項15記載の方法。
- 光源との所定のタイミング関係で2次光源を点滅させて、画像捕捉手段の画像において光源の位置特定を容易にするステップをさらに含む請求項16記載の方法。
- 2次光源は、周期的パターンと疑似乱数シーケンスの1つ又はそれ以上で点滅するようにした請求項17記載の方法。
- 光源の発振器レートに近似した、画像捕捉手段のフレームレートを用意するステップと、
点滅する2次光源を識別するステップと、
画像捕捉手段のフレームレートの位相を変化させて、画像捕捉手段の露出と光源の間のタイミング関係を維持するステップと、をさらに含む請求項17または18記載の方法。 - 光源の発振器の周波数が、AC幹線電力周波数と同じ、その倍数、またはその約数になるように変更するようにした請求項15〜19のいずれかに記載の方法。
- 捕捉画像内で、発射ビームの入射ビームスポットの強度を記録することによって、経路損失測定値を決定するステップと、
記録した強度を、前回記録した強度と比較するステップとをさらに含む請求項1〜20のいずれかに記載の方法。 - 監視される領域での粒子を検出するシステムであって、
監視される領域に放射ビームを少なくとも周期的に発射するように構成された1つ又はそれ以上の光源と、
露出期間中に監視される領域の画像を収集するための1つ又はそれ以上の画像捕捉手段と、
画像内の変動を決定し、領域内の複数の場所で粒子の存在を検出するための画像プロセッサとを含み、
監視領域へのビーム発射の期間およびタイミングの少なくとも1つならびに露出期間が、発射ビームのパワーレベルと間接的に比例した関係に基づいて決定され、
発射ビームのパワーレベルは、周囲光レベルの増加に応じて増加するようにした粒子検出システム。 - ビームの発射は、画像捕捉手段の露出期間と同期している請求項22記載の粒子検出システム。
- ビームは、パルス動作するようにした請求項22または23記載の粒子検出システム。
- 領域へのビーム発射の期間は、約数秒から約0.1msecまたはそれ以下の範囲であり、
対応するビームパワーレベルは、約1.18mWまたはそれ以下から約500mWの範囲である請求項22〜24のいずれかに記載の粒子検出システム。 - 画像捕捉手段は、約25から100フレーム/秒の範囲のフレームレートで動作し、
ビーム発射の周期は、約12.5Hzから約50Hzの範囲である請求項22〜25のいずれかに記載の粒子検出システム。
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