JP4844961B2 - ベンズアミド誘導体 - Google Patents
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Description
特開2001−526255号公報(特許文献1、Warner Lambert)、
特開2002−249473号公報(特許文献2、石原産業)、
国際公開第02/47679号パンフレット(特許文献3、Emory Univ.)、
国際公開第02/059080号パンフレット(特許文献4、Guilford Pharmaceuticals)、
国際公開第93/23357号パンフレット(特許文献5、Res.Corporation Tech.Inc.)
に記載のものが挙げられる。しかし、これらに開示された化合物はいずれも血管新生抑制効果に関する記載は一切なく、示唆もない。国際公開第02/49632号パンフレット(特許文献6、医薬分子設計研究所)では、本発明のベンズアミド誘導体またはその塩と化学構造が類似した化合物を、NFkB活性化阻害剤、具体的にはこれらはIKK阻害剤として開示し、その応用として、癌、癌転移、血管増殖性疾患を示唆しているが、具体的な事実は開示されていない。
Q1は、−A2=A3−、または−O−、−S−および−N(R10)−から選択されるヘテロ原子であり;Q2は、−A4=A5−、または−O−、−S−および−N(R10)−から選択されるヘテロ原子であり;ただし、Q1およびQ2が同時にヘテロ原子となることはなく;
A2はC−X2またはNであり、A3はC−X3またはNであり、A4はC−X4またはNであり、A5はC−X5またはNであり;
R10は、水素原子、C1−6アルキル、ハロC1−6アルキル、C1−6アルキルカルボニルまたはアリールであり;ここで当該アリールは、ハロゲン原子、C1−6アルキルおよびC1−6アルコキシから選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
X1、X2、X3、X4およびX5は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ、ハロゲン原子、シアノ、ヒドロキシアミノカルボニル、ヒドロキシアミジノ、ニトロ、アミノ、アミジノ、グアニジノ、C1−6アルキルアミノ、ジC1−6アルキルアミノ、C1−6アルキルアミジノ、ジC1−6アルキルアミジノ、C1−6アルキルグアニジノ、ジC1−6アルキルグアニジノ、C1−6アルキルチオ、C1−6アルキルスルホ、C1−6アルキルスルホニル、C1−6アルキルホスホノ、ジC1−6アルキルホスホノ、C1−6アルキル、C1−6アルコキシ、C3−9シクロアルキル、C3−9シクロアルコキシ、C2−7アルケニル、C2−7アルキニル、C1−6アルキルカルボニル、C1−6アルコキシカルボニル(以上19個の基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、アリール、ヘテロアリールおよびシアノから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)、アリール、アリールオキシ、アリールカルボニル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールカルボニルおよびアリールC1−6アルキルオキシ(以上7個の基は、ハロゲン原子、C1−6アルキルおよびC1−6アルコキシから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)から成る群から選択され;または、
X1およびX2、X2およびX3、X3およびX4、ならびにX4およびX5は、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって、飽和または不飽和5〜7員炭素環、もしくは酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択される1またはそれ以上のヘテロ原子を含む飽和または不飽和5〜7員ヘテロ環を形成し;
Yは、C1−6アルキル、C3−9シクロアルキル、C2−7アルケニル、C2−7アルキニル、C1−6アルキルカルボニル、C1−6アルコキシカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、C1−6アルコキシ、C2−7アルケニルオキシ、C2−7アルキニルオキシ、C1−6アルキルチオ、C1−6アルキルスルホニル{以上15個の基は、飽和または不飽和3〜7員炭素環、1またはそれ以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択されるヘテロ原子を含む飽和または不飽和3〜7員ヘテロ環、ハロゲン原子、ヒドロキシ、C1−6アルコキシ、ヒドロキシC1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルコキシ、アミノC1−6アルコキシ、N−C1−6アルキルアミノC1−6アルコキシ、N,N−ジC1−6アルキルアミノC1−6アルコキシ、アミノ、C1−6アルキルアミノ、ヒドロキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、アミノC1−6アルキルアミノ、ジC1−6アルキルアミノ、ビス(ヒドロキシC1−6アルキル)アミノ、ビス(C1−6アルコキシC1−6アルキル)アミノ、ビス(アミノC1−6アルキル)アミノ、アミジノ、C1−6アルキルアミジノ、ジC1−6アルキルアミジノ、グアニジノ、C1−6アルキルグアニジノ、ジC1−6アルキルグアニジノ、シアノ、カルボキシル、C1−6アルコキシカルボニル、C1−6アルキルチオ、C1−6アルキルスルホニル、C1−6アルキルホスホノおよびジC1−6アルキルホスホノから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい}、アミノ、C1−6アルキルアミノ、ジC1−6アルキルアミノ(以上2個の基は、飽和または不飽和3〜7員炭素環、1またはそれ以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択されるヘテロ原子を含む飽和または不飽和3〜7員ヘテロ環、ハロゲン原子、ヒドロキシ、C1−6アルコキシ、ヒドロキシC1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルコキシ、アミノC1−6アルコキシ、N−C1−6アルキルアミノC1−6アルコキシ、N,N−ジC1−6アルキルアミノC1−6アルコキシ、アミノ、C1−6アルキルアミノ、ヒドロキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、アミノC1−6アルキルアミノ、ジC1−6アルキルアミノ、ビス(ヒドロキシC1−6アルキル)アミノ、ビス(C1−6アルコキシC1−6アルキル)アミノ、ビス(アミノC1−6アルキル)アミノ、アミジノ、C1−6アルキルアミジノ、ジC1−6アルキルアミジノ、グアニジノ、C1−6アルキルグアニジノ、ジC1−6アルキルグアニジノ、シアノ、カルボキシル、C1−6アルコキシカルボニル、C1−6アルキルチオ、C1−6アルキルスルホニル、C1−6アルキルホスホノおよびジC1−6アルキルホスホノから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、カルボキシルおよび1またはそれ以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択されるヘテロ原子を含む飽和または不飽和3〜7員ヘテロ環(当該ヘテロ環は、ヒドロキシ、C1−6アルキル、ハロC1−6アルキル、ヒドロキシC1−6アルキル、C1−6アルコキシC1−6アルキルおよびオキソから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)から成る群から選択され;
Zは、水素原子、ヒドロキシ、C1−6アルキル、C3−9シクロアルキル{以上2つの基は、飽和または不飽和3〜7員炭素環(当該炭素環基は、C1−6アルキル、ヒドロキシC1−6アルキルおよびC1−6アルコキシC1−6アルキルから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)、1またはそれ以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択されるヘテロ原子を含む飽和または不飽和3〜7員ヘテロ環(当該ヘテロ環基は、C1−6アルキル、ヒドロキシC1−6アルキルおよびC1−6アルコキシC1−6アルキルから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)、ハロゲン原子、ヒドロキシ、C1−6アルコキシ、ヒドロキシC1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルコキシ、ヒドロキシC1−6アルコキシC1−6アルコキシ、アミノC1−6アルコキシ、N−C1−6アルキルアミノC1−6アルコキシ、N,N−ジC1−6アルキルアミノC1−6アルコキシ、アミノ、C1−6アルキルアミノ、ヒドロキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、アミノC1−6アルキルアミノ、ジC1−6アルキルアミノ、ビス(ヒドロキシC1−6アルキル)アミノ、ビス(C1−6アルコキシC1−6アルキル)アミノ、ビス(アミノC1−6アルキル)アミノ、シアノ、カルボキシル、C1−6アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルバモイル、C1−6アルキルカルバモイル、ジC1−6アルキルカルバモイル(以上2個の基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノおよびアミノから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)、ホスホノ、C1−6アルキルホスホノ、ジC1−6アルキルホスホノ、スルホン酸、およびC1−6アルキルスルホから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい}、−OR1および−NR1R2から成る群から選択され;
R1およびR2は、それぞれ独立に、水素原子、C1−6アルキル、C1−6アルキルカルボニル、および1またはそれ以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択されるヘテロ原子を含む飽和または不飽和3〜7員ヘテロ環(以上の3個の基は、飽和または不飽和3〜7員炭素環、1またはそれ以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択されるヘテロ原子を含む飽和または不飽和3〜7員ヘテロ環、ハロゲン原子、ヒドロキシ、C1−6アルコキシ、ヒドロキシC1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルコキシ、アミノC1−6アルコキシ、N−C1−6アルキルアミノC1−6アルコキシ、N,N−ジC1−6アルキルアミノC1−6アルコキシ、アミノ、C1−6アルキルアミノ、ヒドロキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、アミノC1−6アルキルアミノ、ジC1−6アルキルアミノ、ビス(ヒドロキシC1−6アルキル)アミノ、ビス(C1−6アルコキシC1−6アルキル)アミノ、ビス(アミノC1−6アルキル)アミノ、シアノ、カルボキシル、C1−6アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ホスホノ、C1−6アルキルホスホノ、ジC1−6アルキルホスホノ、スルホン酸、およびC1−6アルキルスルホから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)から成る群より選択され;または、R1およびR2は結合する窒素原子と一緒になって、1つの窒素原子とさらに1またはそれ以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択されるヘテロ原子を含んでもよい飽和または不飽和5〜7員ヘテロ環を形成し;
Lは式:
の化合物またはそのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬上許容されうる塩が提供される。
の化合物またはそのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬上許容されうる塩が提供される。
X1、X2、X3、X4およびX5が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、C1−6アルキル、C1−6アルコキシ、ハロC1−6アルキル、ハロC1−6アルコキシ、C1−6アルキルチオおよびハロC1−6アルキルチオから選択され;または、X1およびX2、X2およびX3、X3およびX4、ならびにX4およびX5が、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって、シクロヘキサン環、シクロペンタン環、ベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン環、1,4−ジオキサン環、1,3−ジオキソラン環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾール環またはフラン環を形成する、上記化合物またはそのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬上許容されうる塩もまた提供される。X1、X2、X3、X4およびX5の具体例には、水素原子、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、t−ブチル、i−プロピル、メトキシ、i−プロポキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルチオおよびトリフルオロメチルチオなどが含まれる。もしくは、X1およびX2が、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって、シクロヘキサン環を形成し;X1およびX2が、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって、ピリジン環を形成し;X2およびX3が、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって、1,4−ジオキサン環を形成し;または、X2およびX3が、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって、シクロペンタン環を形成しうる。
製造方法1
式(II)においてLが−NH−C(O)−で表される化合物は、例えば、製造方法1−1、1−2、1−3または1−4に示す方法によって製造することができる。
アミン誘導体(1−1−A)と安息香酸誘導体(1−1−B)とを脱水縮合させることにより、アミド(1−1−C)を製造することができる。この反応は酸ハロゲン化剤または脱水縮合剤の存在下、活性エステル化剤の存在または非存在下、塩基の存在または非存在下、非プロトン性溶媒中、0℃〜180℃の反応条件で行われる。
式中、LGはハロゲン原子、スルホネート等の当該反応に適用可能な脱離基を示す。ベンゼン環上に脱離基を持つ化合物のシアノ化は、例えばSynthetic Communication,887−90,24(6),(1994).記載の方法を適宜適用して行うことができる。具体的には、化合物(1−1−C)を反応に不活性な溶媒中、例えばN,N−ジメチルホルムアミド中、触媒量のパラジウム錯体、例えばテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムの存在下、金属シアニド、例えばシアン化亜鉛と作用させることにより、対応するシアノ化体(1−1−D)を得ることができる。
ニトリル基のアミドへの加水分解は、例えば過酸化水素と無機塩基を用いる方法(例えばOrg.Syn.Coll.vol.2,586−588(1943).やJ.Med.Chem.,43,873−882(2000).など)、無機塩基の存在下、脂肪族アルコールあるいはジメチルスルホキシド中で行う方法(例えば特開2000−86610や特開2001−39936など)、あるいは酸の存在下加水分解する方法(特開平6−239810など)などが挙げられ、これらに記載の方法を適宜適用して行うことができる。好ましくは、無機塩基例えば炭酸カリウム存在下過酸化水素水を用いてアミド(1−1−E)へと変換する方法である。反応溶媒はジメチルスルホキシドなどを用いることができる。反応時間は約10分から約30時間である。反応温度は約10℃から約100℃の温度範囲である。
アミド(1−1−E)が保護基を有する場合、および/または官能基修飾が可能な置換基(例えば、水酸基、アミノ基、ハロゲン、カルボキシル基、カルボニル基、ニトロ基、シアノ基、炭素−炭素不飽結合、など)を有する場合、この工程で脱保護反応および/または官能基修飾をおこなうことにより最終目的物である化合物(1−1−F)を製造することができる。当該反応は、種々の公知の方法を用いることができ、保護基の選択および脱着操作は、例えば、「Greene and Wuts,“Protective Groups in Organic Sythesis”(第2版,John Wiley & Sons 1991)」に記載の方法により実施した。官能基修飾反応としては、例えば「Smith and March,“March’s Advanced Organic Chemistry”(第5版,John Wiley & Sons 2001)」あるいは「Richard C.Larock,Comprehensive Organic Transformations(VCH Publishers,Inc.1989)」に記載の方法により実施した。
製造方法1−1工程1のアミド化と同様の条件を適用することができる。
製造方法1−1工程3のニトリル加水分解と同様の条件を適用することができる。
製造方法1−1工程4の脱保護、官能基修飾と同様の条件を適用することができる。
式(II)においてLが−CH=CH−で表される化合物は、例えば、製造方法2−1、2−2、2−3および2−4に示す方法によって製造することができる。
式(I)においてLが−NH−C(O)−で表される化合物は、例えば、製造方法3−1、3−2または3−3に示す方法によって製造することができる。
アニリン誘導体(3−1−A)と安息香酸誘導体(3−1−B)とを脱水縮合させることにより、アミド(3−1−C)を製造することができる。この反応は酸ハロゲン化剤または脱水縮合剤の存在下、活性エステル化剤の存在または非存在下、塩基の存在または非存在下、非プロトン性溶媒中、0℃〜180℃の反応条件で行われる。
式中、LGはハロゲン原子、スルホネート等の当該反応に適用可能な脱離基を示す。ベンゼン環上に脱離基を持つ化合物のシアノ化は、例えばSynthetic Communication,887−90,24(6),(1994).記載の方法を適宜適用して行うことができる。具体的には、化合物(3−1−C)を反応に不活性な溶媒中、例えばN,N−ジメチルホルムアミド中、触媒量のパラジウム錯体、例えばテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムの存在下、金属シアニド、例えばシアン化亜鉛と作用させることにより、対応するシアノ化体(3−1−D)を得ることができる。
ニトリル基のアミドへの加水分解は、例えば過酸化水素と無機塩基を用いる方法(例えばOrg.Syn.Coll.vol.2,586−588(1943).やJ.Med.Chem.,43,873−882(2000).など)、無機塩基の存在下、脂肪族アルコールあるいはジメチルスルホキシド中で行う方法(例えば特開2000−86610や特開2001−39936など)、あるいは酸の存在下加水分解する方法(特開平6−239810など)などが挙げられ、これらに記載の方法を適宜適用して行うことができる。好ましくは、無機塩基例えば炭酸カリウム存在下過酸化水素水を用いてアミド(3−1−E)へと変換する方法である。反応溶媒はジメチルスルホキシドなどを用いることができる。反応時間は約10分から約30時間である。反応温度は約10℃から約100℃の温度範囲である。
アミド(3−1−E)が保護基を有する場合、および/または官能基修飾が可能な置換基(例えば、水酸基、アミノ基、ハロゲン、カルボキシル基、カルボニル基、ニトロ基、シアノ基、炭素−炭素不飽結合、など)を有する場合、この工程で脱保護反応および/または官能基修飾をおこなうことにより最終目的物である化合物(3−1−F)を製造することができる。当該反応は、種々の公知の方法を用いることができ、保護基の選択および脱着操作は、例えば、「Greene and Wuts,“Protective Groups in Organic Sythesis”(第2版,John Wiley & Sons 1991)」に記載の方法により実施した。官能基修飾反応としては、例えば「Smith and March,“March’s Advanced Organic Chemistry”(第5版,John Wiley & Sons 2001)」あるいは「Richard C.Larock,Comprehensive Organic Transformations(VCH Publishers,Inc.1989)」に記載の方法により実施した。
製造方法3−1工程1のアミド化と同様の条件を適用することができる。
エステル基の加水分解は、水性、例えばアルコール系溶媒中、無機塩基の存在下で加水分解する方法(例えば、Corey,E.J.;Szekely,I.;Shiner,C.S.Tetrahedron Lett.3529,1977)、あるいは酸の存在下加水分解する方法(例えば、Bryan,D.B.;Hall,R.F.;Holden,K.G.Fuffman,W.F.;Gleason,J.G.J.Am.Chem.Soc,1977,99,2353)などが挙げられ、これらに記載の方法を適宜適用して行うことができる。好ましくは、エタノールなどのアルコール溶媒中、水酸化カリウムあるいは水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いて加水分解する方法である。反応時間は約10分から約30時間で、好ましくは約30分から約3時間である。反応温度0℃〜溶媒沸点の温度範囲で、好ましくは約80℃〜100℃である。
種々のアミン類、例えばアンモニア、ヒドラジン、モノ置換アミン、置換ヒドラジン類などと安息香酸誘導体(3−2−D)とを脱水縮合させることにより、アミド(3−2−E)を製造することができる。この反応は酸ハロゲン化剤または脱水縮合剤の存在下、活性エステル化剤の存在または非存在下、塩基の存在または非存在下、非プロトン性溶媒中、0℃〜180℃の反応条件で行われる。また、光学活性なアミン類を原料として用いることにより、光学活性な本発明化合物を得ることができる。
工程1で得られる安息香酸誘導体エステル誘導体(3−2−C)は、工程2のエステル加水分解を経ることなくアミド(3−2−E)に変換できる。すなわち、この反応は、安息香酸誘導体エステル誘導体にルイス酸等の活性化剤の共存下、あるいは非共存下、種々のアミン類、例えばアンモニア、脂肪族アミンと非プロトン性あるいはプロトン性溶媒中、0℃〜180℃の反応条件で、常圧、あるいは加圧下で行われる。
製造方法3−1工程4の脱保護、官能基修飾と同様の条件を適用することができる。
製造方法3−1工程1のアミド化と同様の条件を適用することができる。
製造方法3−1工程4の脱保護、官能基修飾と同様の条件を適用することができる。
式(I)においてLが−CH=CH−で表される化合物は、例えば、製造方法4−1、4−2および4−3に示す方法によって製造することができる。
リン化合物(4−1−A)とアルデヒド(4−1−B)を脱水縮合させることにより、目的とするスチルベン誘導体(4−1−C)を製造することができる。この反応は、塩基存在下、溶媒中で−78℃〜溶媒沸点の反応温度で行われる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、あるいはN,N−ジイソプロピルエチルアミン、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、n−ブチルリチウム、ナトリウムアミド等の有機塩基が挙げられ、好ましくは水素化ナトリウム、リチウムイソプロピルアミド、またはリチウムヘキサメチルジシラジドを挙げることができる。溶媒としては、非反応性の溶媒が挙げられるが、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、メタノール、エタノール、トルエン、n−ヘキサン、ジメチルホルムアミド、などが挙げられテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
製造方法3−1工程2のシアノ化と同様の条件を適用することができる。
製造方法3−1工程3のニトリル加水分解と同様の条件を適用することができる。
製造方法3−1工程4の脱保護、官能基修飾と同様の条件を適用することができる。
製造方法4−1工程1の縮合と同様の条件を適用することができる。
製造方法3−2工程2のエステル加水分解と同様の条件を適用することができる。
製造方法3−2工程3のアミド化2と同様の条件を適用することができる。なお、光学活性なアミン類を原料として用いることにより、光学活性な本発明化合物を得ることができる。
工程1で得られる安息香酸誘導体エステル誘導体は工程2エステル加水分解を経ることなくアミドに変換できる。すなわち、この反応は、安息香酸誘導体エステル誘導体にルイス酸等の活性化剤の共存下、あるいは非共存下、種々のアミン類、例えばアンモニア、脂肪族アミンと非プロトン性あるいはプロトン性溶媒中、0℃〜180℃の反応条件で、常圧、あるいは加圧下で行われる。
製造方法3−1工程4の脱保護、官能基修飾と同様の条件を適用することができる。
製造方法4−3
製造方法4−1工程1の縮合と同様の条件を適用することができる。
製造方法3−1工程4の脱保護、官能基修飾と同様の条件を適用することができる。
本発明化合物の原料化合物の一部は新規化合物であり、これらの化合物は公知の原料化合物と同様にして、あるいは当業者に公知の方法を用いて容易に合成できる。
装置:Waters社製996−600E;
カラム:Combi ODS(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,和光純薬工業社製)、COSMOSIL(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,ナカライテスク社製)、あるいはInertsil C18(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,GLサイエンス社製);
移動相:0.05%トリフルオロ酢酸を含有する水(A)及び0.05%トリフルオロ酢酸を含有するアセトニトリル(B);
溶出法:10%Bから95%B(3.5分)、95%Bから10%B(1分)、10%Bで保持(0.5分)のステップワイズな溶媒勾配溶出;
流速:4.0mL/分。
装置:Waters社製996−600E;
カラム:Combi ODS(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,和光純薬工業社製)、COSMOSIL(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,ナカライテスク社製)、あるいはInertsil C18(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,GLサイエンス社製));
移動相:0.05%トリフルオロ酢酸を含有する水(A)及び0.05%トリフルオロ酢酸を含有するアセトニトリル(B);
溶出法:30%Bから35%B(0.2分)、35%Bから98%B(3.3分)、98%Bから30%B(1分)、30%Bで保持(0.5分)のステップワイズな溶媒勾配溶出;
流速:4.0mL/分。
装置:Agilent Technologies社製Agilent 1100;
カラム:Combi ODS(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,和光純薬工業社製)、COSMOSIL(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,ナカライテスク社製)、あるいはInertsil C18(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,GLサイエンス社製);
移動相:0.05%トリフルオロ酢酸を含有する水(A)及び0.05%トリフルオロ酢酸を含有するアセトニトリル(B);
溶出法:10%Bから95%B(3.5分)、95%Bで保持(1分)、95%Bから10%B(0.5分)のステップワイズな溶媒勾配溶出;
流速:2.0mL/分。
装置:Agilent Technologies社製Agilent 1100;
カラム:Combi ODS(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,和光純薬工業社製)、COSMOSIL(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,ナカライテスク社製)、あるいはInertsil C18(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,GLサイエンス社製);
移動相:0.05%トリフルオロ酢酸を含有する水(A)及び0.05%トリフルオロ酢酸を含有するアセトニトリル(B);
溶出法:10%Bから30%B(0.5分)、30%Bから98%B(3.5分)、98%Bで保持(1分)、98%Bから10%B(1分)のステップワイズな溶媒勾配溶出;
流速:2.0mL/分。
装置:Waters社製996−600E;
カラム:Combi ODS(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,和光純薬工業社製)、COSMOSIL(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,ナカライテスク社製)、あるいはInertsil C18(ODS,5μm,4.6mmI.D.x50mm,GLサイエンス社製);
移動相:0.05%トリフルオロ酢酸を含有する水(A)及び0.05%トリフルオロ酢酸を含有するアセトニトリル(B);
溶出法:1%Bから95%B(3.5分)、95%Bから1%B(1分)、1%Bで保持(0.5分)のステップワイズな溶媒勾配溶出;
流速:4.0mL/分。
移動相:0.05%トリフルオロ酢酸を含有する水(A)及び0.05%トリフルオロ酢酸を含有するアセトニトリル(B);
溶出法:10%Bで保持(0.5分)、10%Bから95%B(7.5分)、95%Bで保持(0.5分)、95%Bから10%B(1.5分)のステップワイズな溶媒勾配溶出;
流速:35mL/分。
3−N−(4−クロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−1−1)の製造
5−ブロモ−2−メトキシ安息香酸メチルの調製(CAS登録番号:7120−41−4)
5−ブロモ−2−メトキシ安息香酸の調製(CAS登録番号:2476−35−9)
5−ブロモ−N−(4−クロロフェニル)−2−メトキシベンズアミドの調製
5−シアノ−N−(4−クロロフェニル)−2−メトキシベンズアミドの調製
3−N−(4−クロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−1−1)の調製
3−N−(4−クロロフェニル)−4−プロポキシイソフタラミド(化合物1−1−2)の製造
4−アリルオキシ−3−N−(4−クロロフェニル)−イソフタラミド(化合物1−1−3)の製造
3−N−(4−クロロフェニル)−4−(2−ペンテニルオキシ)−イソフタラミド(化合物1−1−4)の製造
4−(2−ブチニルオキシ)−3−N−(4−クロロフェニル)−イソフタラミド(化合物1−1−5)の製造
4−ブトキシ−3−N−(4−クロロフェニル)−イソフタラミド(化合物1−1−6)の製造
4−(2−クロロエトキシ)−3−N−(4−クロロフェニル)−イソフタラミド(化合物1−1−7)の製造
ESI(LC/MSポジティブモード)m/z 353,355(M+H+);保持時間 3.25分(高速液体クロマトグラフィーの条件1)。
3−N−(4−クロロフェニル)−4−シクロプロピルメトキシ−イソフタラミド(化合物1−1−8)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−4−エチニル−イソフタラミド(化合物1−1−9)の製造
トリフルオロメタンスルホン酸 4−カルバモイル−2−(4−クロロフェニルカルバモイル)−フェニルエステル(化合物1−1−9−A)の調製
N−3−(4−クロロフェニル)−4−エチニル−イソフタラミド(化合物1−1−9)の調製
[4−カルバモイル−2−(4−トリフルオロメトキシ−フェニルカルバモイル)−フェノキシ]−酢酸 エチルエステル(化合物1−1−10)の製造
3−N−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−2−1)の調製
3−クロロメチル−4−メトキシ安息香酸エチルの調製
5−エトキシカルボニル−2−メトキシベンジルヘキサメチレンテトラミニウム クロリドの調製
3−ホルミル−4−メトキシ安息香酸エチルの調製(CAS登録番号:122136−03−2)
4−メトキシイソフタル酸 1−エチルの調製
N−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−4−メトキシイソフタラミン酸エチルの調製
N−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−4−メトキシイソフタラミン酸の調製
3−N−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−2−1)の調製
3−N−(4−tert−ブチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−2−2)の製造
3−N−(4−クロロフェニル)−1−N−シクロペンチル−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−2−3)の製造
N−(4−クロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミン酸エチルの調製
N−(4−クロロフェニル)−4−メトキシイソフタル酸の調製
3−N−(4−クロロフェニル)−1−N−シクロペンチル−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−2−3)の調製
N−3−(4−クロロフェニル)−4−メトキシ−N−1−メチル−イソフタラミド(化合物1−2−4)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−4−メトキシ−N−1−エチル−イソフタラミド(化合物1−25)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−N−1−シクロプロピル−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−6)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−4−メトキシ−N−1−(1−メトキシメチル−プロピル)−イソフタラミド(化合物1−2−7)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−N−1−(2−シアノエチル)−4−メトキシ−イソフタラミド(実施例1−2−8)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−N−1−イソプロピル−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−9)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−4−メトキシ−N−1−(3−メチル−ブチル)−イソフタラミド(化合物1−2−10)の製造
N−1−ベンジル−N−3−(4−クロロフェニル)−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−11)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−N−1−[2−(1H−イミダゾール−4−イル)−エチル]−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−12)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−4−メトキシ−N−1−(2−メトキシ−エチル)−イソフタラミド(化合物1−2−13)の製造
N−1−(2−クロロエチル)−N−3−(4−クロロフェニル)−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−14)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−4−メトキシ−N−1−(テトラヒドロフラン−2−イルメチル)−イソフタラミド(化合物1−2−15)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−N−1−シクロヘキシルメチル−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−16)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−N−1−フラン−2−イルメチル−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−17)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−N−1−[2−(2−ヒドロキシエトキシ)−エチル]−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−18)の製造
N−3−(4−クロロフェニル)−N−1−(2−ジメチルアミノエチル)−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−19)の製造
4−ニトロ−3−N−(4−クロロフェニル)−イソフタラミド(化合物1−2−20)の製造
N−(4−クロロフェニル)−4−ニトロイソフタミン酸メチルの調製
4−ニトロ−3−N−(4−クロロフェニル)−イソフタラミドの調製
4−アミノ−3−N−(4−クロロフェニル)−イソフタラミド(化合物1−2−21)の製造
4−クロロ−3−N−(4−クロロフェニル)−イソフタラミド(化合物1−2−22)の製造
4−ブロモ−3−N−(4−クロロフェニル)−イソフタラミド(化合物1−2−23)の製造
N3−(4−ブロモ−2−クロロ−フェニル)−N1−(2−ヒドロキシ−1−メチル−エチル)−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−24)の製造
N3−(4−ブロモ−2−クロロ−フェニル)−N1−((S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル)−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−2−25)の製造
3−N−(4−ブロモ−2−フルオロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−1)の製造
5−シアノ−2−メトキシ安息香酸メチルの調製(CAS登録番号:40757−12−8)
6−メトキシイソフタラミン酸の調製(CAS登録番号:89366−41−6)
3−N−(4−ブロモ−2−フルオロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−1)の調製
3−N−(2,3−ジクロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−2)の製造
3−N−(4−クロロ−2,5−ジメトキシフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−3)の製造
N−3−(2−クロロ−4−メチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−4)の製造
4−メトキシ−3−N−(2−トリフルオロメトキシフェニル)イソフタラミド(化合物1−3−5)の製造
4−メトキシ−3−N−(5,6,7,8−テトラヒドロナフタレン−1−イル)イソフタラミド(化合物1−3−6)の製造
3−N−(2−クロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−7)の製造
3−N−(2−フルオロ−3−トリフルオロメチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−8)の製造
3−N−インダン−5−イル−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−9)の製造
4−メトキシ−3−N−(2−メトキシフェニル)イソフタラミド(化合物1−3−10)の製造
3−N−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−11)の製造
3−N−(2−フルオロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−12)の製造
[実施例1−3−13]
3−N−(2−アセチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−13)の製造
3−N−(4−ブロモフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−14)の製造
4−メトキシ−3−N−(2−メチルスルファニルフェニル)イソフタラミド(化合物1−3−15)の製造
3−N−(2−クロロ−5−トリフルオロメチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−16)の製造
3−N−(2−クロロ−4−フルオロ−5−メチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−17)の製造
[実施例1−3−18]
3−N−(3,5−ジメトキシフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−18)の製造
4−メトキシ−3−N−(4−フェノキシフェニル)イソフタラミド(化合物1−3−19)の製造
3−N−(3,4−ジメチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−20)の製造
4−メトキシ−3−N−(4−トリフルオロメチルフェニル)イソフタラミド(化合物1−3−21)の製造
3−N−(2,3−ジヒドロベンゾ[1,4]ジオキシン−6−イル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−22)の製造
4−メトキシ−3−N−o−トリルイソフタラミド(化合物1−3−23)の製造
3−N−(2,4−ジフルオロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−24)の製造
3−N−(3−エチニルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−25)の製造
4−メトキシ−3−N−(3−トリフルオロメチルフェニル)イソフタラミド(化合物1−3−26)の製造
3−N−(3−クロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−27)の製造
3−N−(2−フルオロ−5−トリフルオロメチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−28)の製造
3−N−(2,5−ジメトキシフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−29)の製造
4−(5−カルバモイル−2−メトキシベンゾイルアミノ)安息香酸エチルエステル(化合物1−3−30)の製造
3−N−(5−クロロ−ピリジン−2−イル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−31)の製造
4−メトキシ−3−N−(4−トリル)イソフタラミド(化合物1−3−32)の製造
4−メトキシ−3−N−(5−メトキシ−2−メチルフェニル)イソフタラミド(化合物1−3−33)の製造
4−メトキシ−3−N−(3−メトキシ−5−トリフルオロメチルフェニル)イソフタラミド(化合物1−3−34)の製造
3−N−(2,4−ジメトキシフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−35)の製造
3−N−(2−クロロ−5−メチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−36)の製造
3−N−(2−クロロ−5−メトキシフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−37)の製造
4−メトキシ−3−N−ナフタレン−1−イル−イソフタラミド(化合物1−3−38)の製造
4−メトキシ−3−N−キノリン−5−イル−イソフタラミド(化合物1−3−39)の製造
3−N−(1H−インドール−5−イル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−40)の製造
3−N−(4−ブロモ−2−クロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−41)の製造
3−N−(2−ブロモ−4−クロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−42)の製造
3−N−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−43)の製造
3−N−(4−クロロ−2−フルオロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−44)の製造
3−N−(2,4−ジブロモフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−45)の製造
3−N−(2,4−ジクロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−46)の製造
4−メトキシ−3−N−ナフタレン−2−イル−イソフタラミド(化合物1−3−47)の製造
3−N−(2−ブロモ−4−トリフルオロメトキシフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−3−48)の製造
3−N−(5−ブロモ−ピリジン−2−イル)−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−3−49)の製造
4−メトキシ−3−N−キノリン−2−イル−イソフタラミド(化合物1−3−50)の製造
3−N−(4−トリフルオロメトキシ−2−クロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミド(化合物1−4−1)の製造
5−シアノ−2−メトキシ安息香酸の調製(CAS登録番号:84923−71−7)
5−シアノ−N−(4−トリフルオロメトキシ−2−クロロフェニル)−2−メトキシベンズアミドの調製
3−N−(4−トリフルオロメトキシ−2−クロロフェニル)−4−メトキシイソフタラミドの調製
3−N−(2−ブロモ−4−トリフルオロメチル−フェニル)−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−4−2)の製造
[実施例1−4−3]
4−メトキシ−3−N−(5−トリフルオロメチル−ピリジン−2−イル)−イソフタラミド(化合物1−4−3)の製造
3−N−(3−ブロモ−ピリジン−4−イル)−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−4−4)の製造
3−N−(2,6−ジメトキシ−ピリジン−3−イル)−4−メトキシ−イソフタラミド(化合物1−4−5)の製造
N−ベンゾチアゾール−2−イル−4−メトキシイソフタルアミド(化合物1−4−6)の製造
N−(2−アセチルチオフェン−3−イル)−4−メトキシイソフタルアミド(化合物1−4−7)の製造
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)ビニル]ベンズアミド(化合物2−1−1)の製造
4−ブロモ−1−メトキシ−2−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)ビニル]ベンゼンの調製
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシ−フェニル)ビニル]ベンゾニトリルの調製
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシ−フェニル)ビニル]ベンズアミド(化合物2−1−1)の調製
N−シクロペンチル−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシ−フェニル)ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−1)の製造
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)ビニル]安息香酸エチルの調製
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)ビニル]安息香酸の調製
N−シクロペンチル−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシ−フェニル)ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−1)の製造
4−メトキシ−N−メチル−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−2)の製造
N−エチル−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−3)の製造
N−シクロプロピル−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−4)の製造
4−メトキシ−N−(1−メトキシメチル−プロピル)−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−5)の製造
N−[2−(2−ヒドロキシエトキシ)−エチル]−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−6)の製造
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)ビニル]−4−メトキシ−ベンズアミド(化合物2−2−7)の製造
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)ビニル]−4−メトキシ−安息香酸エチルの調製
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)ビニル]−4−メトキシ−安息香酸の調製
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)ビニル]−4−メトキシ−ベンズアミドの調製
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−4−メトキシ−N−メチル−ベンズアミド(化合物2−2−8)の製造
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−N−エチル−4−メトキシ−ベンズアミド(化合物2−2−9)の製造
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−N−シクロペンチル−4−メトキシ−ベンズアミド(化合物2−2−10)の製造
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−N−シクロプロピル−4−メトキシ−ベンズアミド(化合物2−2−11)の製造
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−4−メトキシ−N−(1−メトキシメチル−プロピル)−ベンズアミド(化合物2−2−12)の製造
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−N−[2−(2−ヒドロキシエトキシ)−エチル]−4−メトキシ−ベンズアミド(化合物2−2−13)の製造
1H−NMR(270MHz,CD3OD)δ3.54−3.73(8H,m),3.95(3H,s),7.06(1H,d,J=8.8Hz),7.23(1H,d,J=16.8Hz),7.34(2H,d,J=8.2Hz),7.46(1H,d,J=16.8Hz),7.53(2H,d,J=8.2Hz),7.78(1H,dd,J=8.8Hz,2.1Hz),8.13(1H,d,J=2.1Hz)。
4−ブロモ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−14)の製造
4−ブロモ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−安息香酸メチルの調製
4−ブロモ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−安息香酸の調製
4−ブロモ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−14)の調製
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−4−シアノベンズアミド(化合物2−2−15)の製造
4−メトキシ−N−[1,2,4]トリアゾール−4−イル−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−16)の製造
4−メトキシ−N−ピロリジン−1−イル−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−17)の製造
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]安息香酸N’−ベンジルヒドラジド(化合物2−2−18)の製造
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]安息香酸N’−(2,2,2−トリフルオロエチル)ヒドラジド(化合物2−2−19)の製造
4−メトキシ−N−ピリジン−4−イルメチル−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−20)の製造
N−(2−シアノエチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−21)の製造
4−メトキシ−N−(2−メトキシエチル)−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−22)の製造
N−(2−ヒドロキシエチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−23)の製造
N−(2−ヒドロキシ−1,1−ビス−ヒドロキシメチル−エチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−24)の製造
N−(2,3−ジヒドロキシ−プロピル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−25)の製造
N−(2−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチル−エチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−26)の製造
N−(2−ヒドロキシ−1−メチル−エチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−27)の製造
N−{2−[2−(2−ヒドロキシ−エトキシ)−エトキシ]−エチル}−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−28)の製造
N−(1−ヒドロキシメチル−シクロプロピルメトキシ)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシ−フェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−29)の製造
3−[(E)−2−(2−フルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−2−30)の製造
3−[2−(2−フルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシ安息香酸エチルの調製
3−[(E)−2−(2−フルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミドの調製
N−(2,4−ジヒドロキシブチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−31)の製造
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−N−((2S,3S)−2,3,4,−トリヒドロキシ−ブチル)ベンズアミド(化合物2−2−32)の製造
N−(2,3−ジヒドロキシ−プロピル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−33)の製造
N−(2−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチル−エチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−34)の製造
N−(2−ヒドロキシエチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−35)の製造
N−(2−ヒドロキシ−1−メチル−エチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−36)の製造
3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]−4−メトキシ−N−((2S,3S)−2,3,4−トリヒドロキシ−ブチル)ベンズアミド(化合物2−2−37)の製造
N−(2,3−ジヒドロキシ−プロピル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−38)の製造
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)ビニル]安息香酸の調製
工程B
N−(2,3−ジヒドロキシ−プロピル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)ビニル]ベンズアミドの調製
N−(2−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチル−エチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−39)の製造
N−(2−ヒドロキシエチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−40)の製造
N−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−41)の製造
N−[2−(2−ヒドロキシエトキシ)−エチル]−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−42)の製造
N−(2,3−ジヒドロキプロピル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−ブロモフェニル)ビニル]−4−ベンズアミド(化合物2−2−43)の製造
3−[(E)−2−(4−ブロモフェニル)ビニル]−4−メトキシ安息香酸エチルの調製
3−[(E)−2−(4−ブロモフェニル)ビニル]−4−メトキシ安息香酸の調製
N−(2,3−ジヒドロキプロピル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−ブロモフェニル)ビニル]−4−ベンズアミドの調製
1H−NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.17−3.24(1H,m),3.35(2H,t,J=5.9Hz),3.38−3.44(1H,m),3.61−3.68(1H,m),3.92(3H,s),4.57(1H,t,J=5.9Hz),4.82(1H,d,J=4.9Hz),7.12(1H,d,J=8.8Hz),7.28(1H,d,J=16.4Hz),7.45(1H,d,J=16.4Hz),7.55(2H,d,J=8.8Hz),7.58(2H,d,J=8.8Hz),7.82(1H,dd,J=8.8Hz,2.0Hz),8.19(1H,d,J=2.0Hz),8.38(1H,t,J=5.9Hz)。
3−[(E)−2−(4−ブロモフェニル)ビニル]−N−(2−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチルエチル)−4−メトキシベンズアミド(化合物2−2−44)の製造
3−[(E)−2−(4−ブロモフェニル)−ビニル]−N−(2−ヒドロキシエチル)−4−メトキシベンズアミド(化合物2−2−45)の製造
3−[(E)−2−(4−ブロモフェニル)−ビニル]−N−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−4−メトキシベンズアミド(化合物2−2−46)の製造
3−[(E)−2−(4−ブロモフェニル)−ビニル]−N−[2−(2−ヒドロキシエトキシ)−エチル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−2−47)の製造
N−[(R)−2,3−ジヒドロキシ−プロピル)]−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−48)の製造
N−[(S)−2,3−ジヒドロキシ−プロピル)]−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−クロロフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−2−49)の製造
(R)−N−(2,3−ジヒドロキシ−プロピル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−50)の製造
1H−NMR(270MHz,DMSO−d6)δ3.20−3.30(1H,m),3.30−3.50(3H,m),3.60−3.75(1H,m),3.92(3H,s),4.61(1H,t,J=5.6Hz),4.85(1H,d,J=4.6Hz),7.13(1H,d,J=8.5Hz),7.30−7.50(4H,m),7.72(2H,d,J=8.9Hz),7.82(1H,dd,J=8.5Hz,2.0Hz),8.21(1H,d,J=2.0Hz),8.41(1H,bs)。
(S)−N−(2,3−ジヒドロキシ−プロピル)−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−51)の製造
N−[(S)−2−ヒドロキシ−1−(2−ヒドロキシエチルカルバモイル)エチル]−4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−2−52)の製造
3−[(E)−2−(3−フルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−3−1)の製造
3−ジメトキシメチル−4−メトキシ安息香酸エチルの調製
3−ジメトキシメチル−4−メトキシ安息香酸の調製
3−ホルミル−4−メトキシベンズアミドの調製
3−[(E)−2−(3−フルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミドの調製
4−メトキシ−3−[(E)−2−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−ビニル]ベンズアミド(化合物2−3−2)の製造
3−[(E)−2−(2,3−ジフルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−3−3)の製造
3−[(E)−2−(3−クロロ−2−フルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−3−4)の製造
3−[(E)−2−(2−フルオロ−4−メチルフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−3−5)の製造
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメチルスルファニル−フェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−3−6)の製造
3−[(E)−2−(2−フルオロ−4−トリフルオロメチル−フェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−3−7)の製造
3−[2−(4−シアノ−フェニル)−ビニル]−4−メトキシ−ベンズアミド(化合物2−3−8)の製造
3−[(E)−2−(4−フルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−4−1)の製造
3−(ジエトキシホスホニルメチル)−4−メトキシ−安息香酸の調製
ポリマー担持3−(ジエトキシホスホニルメチル)−4−メトキシ−ベンズアミドの調製
Rinkレジン(Advanced Chemtech社製、0.8mmol/g)8.06gにピペリジンとN,N−ジメチルホルムアミドの混合溶媒(1:4)50mLを加え、室温で3時間激しく振とうした。反応物をろ過後、残ったレジンをジクロロメタン、メタノールで洗浄し、減圧下乾燥した(Kaiser テストの結果:陽性)。このレジンにN−メチル−2−ピロリジノン50mL、工程Aで得られた3−(ジエトキシホスホニルメチル)−4−メトキシ−安息香酸5.85g、ベンゾトリアゾール−1−オール一水和物4.94g、及びN、N−ジイソプロピルカルボジイミド塩酸塩4.99mLを加え室温で15時間攪拌した。反応物をろ過後、ジクロロメタン、メタノールで洗浄し、残渣を減圧下乾燥して、ポリマー担持3−(ジエトキシホスホニルメチル)−4−メトキシ−ベンズアミドを調製した。
3−[(E)−2−(4−フルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミドの調製
4−メトキシ−3−((E)−2−p−トルイル−ビニル)−ベンズアミド(化合物2−4−2)の製造
3−[(E)−2−(4−エチルフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−4−3)の製造
4−メトキシ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−4−4)の製造
3−[(E)−2−(4−tert−ブチルフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−4−5)の製造
3−((E)−2−ビフェニル−4−イル−ビニル)−4−メトキシベンズアミド(化合物2−4−6)の製造
3−[(E)−2−(4−ブロモフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−4−7)の製造
3−[(E)−2−(4−ブロモ−2−フルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−4−8)の製造
3−[(E)−2−(2,4−ジクロロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−4−9)の製造
3−{(E)−2−[4−(4−フルオロベンジルオキシ)−3−メトキシフェニル]−ビニル}−4−メトキシベンズアミド(化合物2−4−10)の製造
3−[(E)−2−(2,4−フルオロフェニル)−ビニル]−4−メトキシベンズアミド(化合物2−4−11)の製造
4−メトキシ−3−((E)−2−ピリジン−3−イル−ビニル)ベンズアミド(化合物2−4−12)の製造
3−(ジエトキシホスホニルメチル)−4−メトキシ−ベンズアミドの調製
4−メトキシ−3−((E)−2−ピリジン−3−イル−ビニル)ベンズアミドの調製
4−ブロモ−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシ−フェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−5−1)の製造
[実施例2−5−2]
4−(2−ヒドロキシ−エチルアミノ)−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシ−フェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−5−2)の製造
4−ピロリジン−1−イル−3−[(E)−2−(4−トリフルオロメトキシ−フェニル)−ビニル]−ベンズアミド(化合物2−5−3)の製造
細胞増殖阻害試験
被験化合物はDMSOにて系列希釈後、Ca2+,Mg2+不含りん酸緩衝生理食塩水で50倍希釈し、その10μlを96穴プレートに分注した。ヒトさい帯静脈血管内皮細胞(Human umbilical vein endothelial cell;HUVEC、Clonetics社より購入)は、PRMI1640培地に10%牛胎児血清、30μg/mL血管内皮細胞成長培養助剤、50μg/mLヘパリンの添加培地にて、ヒト肺癌細胞株Calu−6は、MEM培地に10%牛胎児血清、0.1mM非必須アミノ酸、1mMピルビン酸ナトリウムの添加培地にて、それぞれ細胞懸濁液を調製した。1ウェルあたり3000個の細胞数となるように各細胞懸濁液の190μLを被験化合物添加済みプレートに分注し、37℃、5%炭酸ガスインキュベーターにて培養した。72時間後、20μLのWST−1(Roche Diagnostics社製)を各ウェルに添加し、2時間培養後、450nmの吸光度(対象波長:650nm)を測定した。被験化合物無添加の対照に対し、被験化合物添加時の阻害率より、被験化合物の50%増殖阻害濃度(IC50値)を算出した。
[実施例B−2]
管腔形成阻害試験
血管新生測定キット(KURABO製)に終濃度20μMで被験化合物を添加し、37℃、5%炭酸ガスインキュベーターにて培養した。11日間の培養後、形成された管腔を70%エタノールで固定し、管腔染色キットCD31染色用(KURABO製)を用いて染色した。顕微鏡下、各ウェルの染色像を撮影、画像ファイルとして保存し、KURABOの血管新生定量ソフトを用い管腔形成面積を測定した。対照を100%とし、被験化合物添加ウェルの阻害率%を算出した。
抗腫瘍試験
ヒト肺癌細胞株Calu−6の細胞懸濁液をハンクス液にて調製し、その5.0x106個を雌性Balb/cヌードマウスそ頚部皮下に移植した。腫瘍体積が200〜250mm3に達したときより、被験化合物を1日1回、11日間、経口投与した。腫瘍体積は、π/6x(長径x短径x厚さ)の計算式にて算出し、腫瘍増殖阻害率は、対照群の腫瘍体積変化に対する被験化合物投与群の腫瘍体積変化より算出した。
腫瘍内血管数の測定
ヒト肺癌細胞株Calu−6の5.0x106個を雌性Balb/cヌードマウスそ頚部皮下に移植し、腫瘍体積が200〜250mm3に達した時点より、被験化合物を1日1回、11日間、経口投与した。最終投与から24時間後、マウスより移植組織を摘出し、腫瘍長径の中央部分を厚さ2〜3mmの組織片としてO.C.T.Compoundに抱埋、凍結組織標本とした。凍結切片を作成し、抗マウスCD31抗体を用いた免疫組織学的手法により、腫瘍組織中の血管を染色した。顕微鏡下、染色組織を撮影、画像ファイルとして保存し、Image Pro(Promega)にて染色された血管数の測定をした。血管密度減少率は、対照群の血管密度に対する減少率として算出した。
Claims (9)
- 式(I):
[式中、A 1 はC−X 1 であり;
A2はC−X2またはNであり、A 3 はC−X 3 であり、A 4 はC−X 4 であり、A 5 はC−X 5 であり;
X 3 は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、C 1−6 アルキルチオ(該基は、ハロゲン原子から選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)、C 1−6 アルキル(該基は、ハロゲン原子から選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)、C 1−6 アルコキシ(該基は、ハロゲン原子から選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)、およびアリールから成る群から選択され;
X 1 、X 2 、X 4 およびX 5 は、それぞれ独立に、水素原子、およびハロゲン原子から選択され;
Yは、C 1−6 アルコキシであり;
Zは、水素原子、C 1−6 アルキル(該基は、フェニル、ピリジル、ハロゲン原子、ヒドロキシ、C 1−6 アルコキシ、ヒドロキシC 1−6 アルコキシ、ヒドロキシC 1−6 アルコキシC 1−6 アルコキシ、およびシアノから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)、C 3−9 シクロアルキル、−OR 1 および−NR 1 R 2 から成る群から選択され;
R 1 およびR 2 は、それぞれ独立に、水素原子、C 1−6 アルキル(該基は、飽和または不飽和3〜7員炭素環、およびヒドロキシから選択される1またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい)から成る群より選択され;または、R 1 およびR 2 は結合する窒素原子と一緒になって、ピロリジン環またはトリアゾール環を形成し;
Lは式:
で表される]
で表される化合物、またはその製薬上許容されうる塩。 - Zが、水素原子、メチル、エチル、シクロプロピル、シクロペンチル、2−ヒドロキシエチル、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル、2−メトキシエチル、2−シアノエチル、4−ピリジルメチル、1−メトキシブト−2−イル、2,3−ジヒドロキシプロプ−1−イル、1,3−ジヒドロキシプロプ−2−イル、1,3−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメチルプロプ−2−イル、1−ヒドロキシプロプ−2−イル、および2,3,4−トリヒドロキシブチルである、請求項1に記載の化合物、またはその製薬上許容されうる塩。
- Yがメトキシである、請求項1または2に記載の化合物、またはその製薬上許容されうる塩。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の化合物、またはその製薬上許容されうる塩を有効成分とする医薬組成物。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の化合物、またはその製薬上許容されうる塩を有効成分とする血管新生阻害剤。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の化合物、またはその製薬上許容されうる塩を有効成分とする血管新生を伴う疾患の治療または予防剤。
- 血管新生を伴う疾患が癌疾患である請求項6に記載の治療または予防剤。
- 癌疾患が固形腫瘍である請求項7に記載の治療または予防剤。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の化合物、またはその製薬上許容されうるそれらの塩を有効成分とする固形腫瘍の転移の治療または予防剤。
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