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JP3771705B2 - 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトレジストインク - Google Patents

感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトレジストインク Download PDF

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JP3771705B2
JP3771705B2 JP06160598A JP6160598A JP3771705B2 JP 3771705 B2 JP3771705 B2 JP 3771705B2 JP 06160598 A JP06160598 A JP 06160598A JP 6160598 A JP6160598 A JP 6160598A JP 3771705 B2 JP3771705 B2 JP 3771705B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水性化可能な感光性樹脂組成物に関し、さらに詳しくは、水又は希アルカリ水溶液で現像可能な感光性樹脂組成物であって、特にプリント配線板製造用フォトレジストインクとして有用なもの、及びこの感光性樹脂組成物から成るプリント配線板製造用フォトレジストインクに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
希アルカリ水溶液で現像可能なフォトレジストインクは、現像時に溶剤を用いる必要がなく、溶剤現像型のフォトレジストインクに比べ労働安全衛生面、環境汚染防止性、火災防止性などに優れていることから、近年、特にプリント配線板製造用インク、グラビアロール蝕刻用インク、スクリーン印刷版製造用インク、カラーフィルタ画素製造用インク、スクリーン印刷版製造用感光性組成物、カラーフィルタ保護膜製造用インク等の分野に盛んに利用されている。このような希アルカリ水溶液で現像可能なフォトレジストインクとしては、従来は例えば、特開平5−224413号公報、特開5−241340号公報に開示されているような感光性樹脂組成物が用いられていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような希アルカリ水溶液で現像可能なフォトレジストインクは、一般的には、インク成分を基材表面に均一に塗布して、その後の露光現像過程に供することができるように、その成分を各種有機溶剤に溶解もしくは分散させたものであり、そのため露光に際しては、あらかじめ予備乾燥によりこれら有機溶剤を揮発させておく必要があった。従って、塗布から予備乾燥塗膜形成の過程においては、有機溶剤に起因する労働安全衛生、環境汚染、火災防止などの問題は未解決のままであった。
【0004】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、基材ヘ塗布した後予備乾燥塗膜を形成する過程における有機溶剤の揮発に起因する労働安全衛生、環境汚染、火災防止等の問題を低減することができ、エッチングレジストインク、めっきレジストインク、ソルダーレジストインク、マーキングインク等のプリント配線板製造用フォトレジストインクや、グラビアロール蝕刻用フォトレジストインク、スクリーン印刷版製造用インク、カラーフィルタ画素製造用インク、スクリーン印刷版製造用感光性組成物、カラーフィルタ保護膜製造用インク等として有用であって、水性化が可能であり、水又は希アルカリ水溶液で現像可能な感光性樹脂組成物を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に記載の感光性樹脂組成物は、(A)ポリビニルアルコール系重合体にスチリルピリジニウム基もしくはスチリルキノリニウム基を導入してなる水溶性の感光性樹脂、又はポリビニルアルコール系重合体にN−アルキロール(メタ)アクリルアミドを付加してなる水溶性の感光性樹脂、
(B)分子中にカルボキシル基と、少なくとも2個のエチレン性不飽和基とを併せ持つ感光性プレポリマー、
(C)光重合開始剤、及び
(D)水
を含んで成る水又は希アルカリ水溶液で現像可能であることを特徴とするものである。
【0006】
また本発明の請求項2に記載の感光性樹脂組成物は、請求項1の構成に加えて、(E)光重合可能なエチレン性不飽和単量体を含んで成ることを特徴とするものである。
また本発明の請求項3に記載のプリント配線板製造用フォトレジストインクは、請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物から成ることを特徴とするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を説明する。なお本明細書中において「(メタ)アクリル−」はアクリル−及び/又はメタクリル−を意味し、例えば(メタ)アクリル酸はアクリル酸及び/又はメタクリル酸を、また(メタ)アクリルアミドはアクリルアミド及び/又はメタクリルアミドを意味するものとする。
<(A)ポリビニルアルコール系重合体にスチリルピリジニウム基もしくはスチリルキノリニウム基を導入してなる水溶性の感光性樹脂、又はポリビニルアルコール系重合体にN−アルキロール(メタ)アクリルアミドを付加してなる水溶性の感光性樹脂>
本発明の感光性樹脂組成物は、水溶性の感光性樹脂(A)として、ポリビニルアルコール系重合体にスチリルピリジニウム基もしくはスチリルキノリニウム基を導入してなる水溶性の感光性樹脂(A1)、又はポリビニルアルコール系重合体にN−アルキロール(メタ)アクリルアミドを付加してなる水溶性の感光性樹脂(A2)を含むものである。
【0008】
この感光性樹脂(A)の製造に用いられるポリビニルアルコール系重合体とは、例えばポリ酢酸ビニルを完全ケン化又は部分ケン化して得られるポリビニルアルコール、並びに完全ケン化或いは部分ケン化ポリビニルアルコール中の−OH基や−OCOCH3 基に酸無水物含有化合物、カルボキシ含有化合物、エポキシ基含有化合物もしくはアルデヒド基含有化合物等の種々の化合物を反応して得られる水溶性ポリビニルアルコール誘導体、並びにポリ酢酸ビニルを部分ケン化又は完全ケン化してなるビニルアルコール単位を有するビニルアルコール系共重合体であって、酢酸ビニルの共重合体成分として、例えば(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、スチレン、エチレン、プロピレン、無水マレイン酸、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸エステル等を用いたもの等が挙げられる。
【0009】
ここで、このポリビニルアルコール系重合体中には、その重合単位の内に、ビニルアルコール単位を60モル%以上含有することが望ましいものであり、80モル%以上含有するもの乃至ポリ酢酸ビニルの完全ケン化物の場合は特に水溶性に優れ、水性可能な感光性樹脂組成物を得るのに最適な結果が得られる。ここでビニルアルコール単位が60モル%に満たないとポリビニルアルコール系重合体は水に溶け難くなり、本発明の感光性樹脂組成物を良好な水性のものとし難い。
<(A1)ポリビニルアルコール系重合体にスチリルピリジニウム基もしくはスチリルキノリニウム基を導入してなる水溶性の感光性樹脂>
感光性樹脂(A)として用いられるポリビニルアルコール系重合体にスチリルピリジニウム基もしくはスチリルキノリニウム基を導入してなる水溶性の感光性樹脂(A1)の製造方法は公知であり、例えば特開昭55−23163号公報、特開昭55−62905号公報、特開昭56−11906号公報等に開示される方法により合成可能である。
【0010】
具体的には、例えばポリビニルアルコール系重合体に、これに含まれるアルコール性−OH基を利用して、アセタール化反応によりホルミルスチリルピリジニウム塩もしくはホルミルスチリルキノリニウム塩を付加させることにより、感光性樹脂(A1)が得られる。
このような感光性樹脂(A1)の、スチリルピリジニウム基が導入された部分の代表的な構造式の例を下記の一般式(1)に、スチリルキノリニウム基が導入された部分の代表的な構造式の例を下記の一般式(2)にそれぞれ示す。
【0011】
【化1】
Figure 0003771705
【0012】
ここで上記一般式(1)及び(2)においてR1 、R2 はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアラルキル基を示し、X- は酸の共役塩基を示し、mは1〜6の整数、nは0又は1を示す。
このような感光性樹脂(A1)中における、スチリルピリジニウム基及びスチリルキノリニウム基(共役塩基X- を含む。)の導入率は、感光性樹脂(A1)を構成するビニルアルコール重合単位当り0.3〜20モル%の割合が好ましいものであり、更に好ましくは、0.5〜10モル%とするものである。導入率が0.3モル%未満では感光性樹脂(A1)に充分な光架橋能を付与することができず、一方、20モル%を超えて導入すると感光性樹脂(A1)の水溶性が著しく低下し、本発明の感光性樹脂組成物を良好な水性のものとし難い。
<(A2)ポリビニルアルコール系重合体にN−アルキロール(メタ)アクリルアミドを付加してなる水溶性の感光性樹脂>
感光性樹脂(A)として用いられるポリビニルアルコール系重合体にN−アルキロール(メタ)アクリルアミドを付加してなる水溶性の感光性樹脂(A2)の製造方法は公知であり、例えば特公昭49−5923号公報、特開昭62−267302号公報等に開示される方法により合成可能である。
【0013】
具体的には、例えばN−メチルピロリドンや水のような、ポリビニルアルコール系重合体の良溶媒の溶液中又はポリビニルアルコール系重合体の貧溶媒懸濁液中で無機酸、スルホン酸誘導体等の酸触媒の存在下、ポリビニルアルコール系重合体とN−アルキロール(メタ)アクリルアミドとのエーテル化反応により感光性樹脂(A2)が得られる。
【0014】
N−アルキロール(メタ)アクリルアミドとしては、例えば、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−エチロール(メタ)アクリルアミド、N−プロピロール(メタ)アクリルアミド、N−ブチロール(メタ)アクリルアミド等を挙げることができる。これらのN−アルキロール(メタ)アクリルアミド系化合物は、ポリビニルアルコール系重合体に付加させる際、一種のみを付加させることができるほか、二種以上を適宜組み合わせたものを付加させることができる。
【0015】
この感光性樹脂(A2)においてN−アルキロール(メタ)アクリルアミドの現実の付加率は、感光性樹脂(A2)を構成するビニルアルコール重合単位当り、0.05〜25モル%であることが好ましい。0.05モル%よりも少ないと感光性樹脂の重合性が低下し、逆に25モル%よりも多くなると水溶性が乏しくなる。また、0.05〜15モル%の場合、光硬化性と水溶性のバランスが最適な結果が得られる。
【0016】
このようにして得られる感光性樹脂(A)を他の成分と共に水(D)もしくは水(D)と水性有機溶剤等の混合溶媒中に溶解、乳化、又は分散することにより、本発明の感光性樹脂組成物を調製できる。このように本発明の感光性樹脂組成物は水性化可能なものである。また感光性樹脂組成物を基材ヘ塗布した後予備乾燥皮膜を形成する過程において、感光性樹脂組成物の成分を各種有機溶剤に溶解もしくは分散させたものと比較して、有機溶剤の揮発を抑制し、有機溶剤に起因する労働安全衛生、環境汚染、火災防止等の問題を低減することができるものである。なお、溶解、乳化、分散の方法は特に限定するものではなく、例えば他の成分中に、感光性樹脂(A)の水溶液を加えることによって溶解、乳化、分散させても良いし、感光性樹脂(A)の水溶液に他の成分を加えることによって溶解、乳化、分散させても良い。また溶解、乳化、分散に際しては、ホモミキサー、パイプラインホモミキサー、ビーズミル、ロールミル、ボールミル等の各種の攪拌機、混練機を用いることができる。
【0017】
またこれらの感光性樹脂(A)の配合割合は、本発明の感光性樹脂組成物に用いる水(D)及び有機溶剤を除いた全成分中の合計量中で0.1〜50重量%であることが好ましいものであり、更に好ましくは1〜30重量%である。配合割合が0.1重量%に満たない場合は、本発明の感光性樹脂組成物の水性化が困難となり、また50重量%を超える場合、本発明の感光性樹脂組成物の光重合反応による硬化後の硬化皮膜の耐水性が不足し易く、硬化皮膜の形成時に硬化皮膜の剥がれを生じ易い。また0.5重量%以上配合した場合には、特に水による現像が容易となる。
<(B)分子中にカルボキシル基と、少なくとも2個のエチレン性不飽和基とを併せ持つ感光性プレポリマー>
本発明の感光性樹脂組成物は、分子中にカルボキシル基と少なくとも2個のエチレン性不飽和基を併せ持つ感光性プレポリマー(B)を含むものである。ここで感光性プレポリマーとは、プレポリマーの主鎖から、光により重合可能なエチレン性不飽和基を有する基が多数分岐してなるものである。
【0018】
この感光性プレポリマー(B)は分子中に充分なカルボキシル基を有するので、希アルカリ水溶液中で膨潤、分散もしくは溶解し得るが、光重合開始剤と共に露光することにより、分子中に存在するエチレン性不飽和基が反応し、分子量増加、一部架橋等を生じ希アルカリ水溶液に対する分散、溶解性等が低下するものである。
【0019】
従って、この感光性プレポリマー(B)を含む本発明の感光性樹脂組成物から形成される皮膜は、露光前は希アルカリ水溶液で膨潤、分散もしくは溶解し得るが、露光により光重合を起こして硬化した後は希アルカリ水溶液に対する分散、溶解性等が低下するものであり、この感光性樹脂組成物の皮膜の露光前と露光後における希アルカリ水溶液に対する溶解性等の差を利用して、感光性樹脂組成物の皮膜の選択的露光を行なった後、希アルカリ水溶液による現像を行って、感光性樹脂組成物の非露光部分を洗い流すと共に、露光部分を残すことにより、画像形成を可能とすることができるものである。
【0020】
また、感光性樹脂組成物を露光により光重合を起こさせて形成した硬化物は、過ヨウ素酸ソーダ等により剥離することができるものであるが、更に本発明の感光性樹脂組成物は、分子中に充分なカルボキシル基を有する感光性プレポリマー(B)を含むため、過ヨウ素酸ソーダ等により剥離することができるのみならず、アルカリ金属水酸化物等の水溶液により剥離することも可能なものである。
【0021】
また、感光性プレポリマー(B)はそれ自体皮膜形成可能であることが望ましいものであり、このような感光性プレポリマー(B)と上記の感光性樹脂(A)を組み合わせた本発明の感光性樹脂組成物を用いることにより、感光性樹脂組成物の予備乾燥皮膜は表面粘着性が無くなり、フォトツールアートワーク等を直接貼付した場合でも、フォトツールアートワーク等に感光性樹脂組成物が付着して汚れるようなことがないものである。
【0022】
ここで本発明の感光性樹脂組成物を希アルカリ水溶液で現像可能なものとし、また本発明の感光性樹脂組成物の硬化物をアルカリ水溶液で剥離可能なものとするためには、感光性プレポリマー(B)の酸価は20〜300mgKOH/gであることが好ましく、酸価が20mgKOH/gに満たない場合、希アルカリ溶液で短時間に現像することが困難となり、300mgKOH/gを超える場合には硬化物の希アルカリ溶液に対する耐性が低くなり過ぎて、良好なパターン形成が困難となる場合がある。また更に好ましくは、感光性プレポリマー(B)の酸価を40〜200mgKOH/gとするものであり、この場合は、短期間の現像が可能で、かつ特に良好なパターン形成が可能となり、最適な結果が得られる。
【0023】
また、感光性プレポリマー(B)の重量平均分子量は2000〜250000であることが好ましく、2000に満たない場合には、露光感度が充分高くなり難く、また予備乾燥後の皮膜に粘着性が残りやすく、フォトツールアートワークを予備乾燥皮膜に直接貼りつけて露光した場合にはフォトツールアートワークの貼り跡が硬化皮膜に残ってしまう可能性があるものであり、また250000を超える場合には、現像性の低下を招き易い。また感光性プレポリマー(B)の重量平均分子量が4000〜100000であるときには、予備乾燥後の皮膜の粘着性が高くなる問題も生じず、また良好な感度及び現像性を得ることができ、最適な結果を生じる。
【0024】
これらの性質は、本発明のインクをプリント配線板製造用のフォトエッチングレジストインク、画像形成可能なめっきレジストインク等として使用する場合に特に好適なものである。
なお、カルボキシル基の一部もしくは全部が、アルカノールアミン等の有機の塩基性化合物もしくはアルカリ金属の水酸化物、アンモニア等の無機の塩基性化合物によって中和されていても良い。
【0025】
また、感光性プレポリマー(B)の配合量は本発明の感光性樹脂組成物から、水(D)及び有機溶剤を除外した全成分中で30重量%以上であることが好ましい。感光性プレポリマー(B)の配合量が本発明の感光性樹脂組成物から、水及び有機溶剤を除外した全成分中で30重量%に満たない場合、予備乾燥後の皮膜に粘着性が残りやすく、フォトツールアートワークを予備乾燥皮膜に直接貼りつけて露光した場合にフォトツールアートワークの貼り跡が硬化皮膜に残ってしまう可能性がある。
【0026】
上記の感光性プレポリマー(B)の種類は特に限定するものではないが、その具体例として、以下の感光性プレポリマー(B1)〜(B6)の六種類のものを挙げることができる。
<(B1)少なくとも2個のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物にエチレン性不飽和モノカルボン酸及び不飽和又は飽和の多塩基酸無水物を付加して得られる感光性プレポリマー>
この感光性プレポリマー(B1)は公知であり、公知の方法を用いて合成可能である。
【0027】
感光性プレポリマー(B1)を得るために用いられる、少なくとも2個のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールA−ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、N−グリシジル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂(例えばダイセル化学工業社製「EHPE−3150」)、トリス(ヒドロキシフェニル)メタンベースの多官能エポキシ樹脂(日本化薬社製「EPPN−502H」、並びにダウケミカル社製「タクテックス−742」及び「XD−905」等)、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂及びナフタレン型エポキシ樹脂等が例示される。またエチレン性不飽和モノカルボン酸としては、(メタ)アクリル酸等が例示される。
【0028】
また不飽和又は飽和の多塩基酸無水物としては、無水コハク酸、無水メチルコハク酸、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水グルタル酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の二塩基酸無水物、並びに無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物等の三塩基酸以上の酸無水物が例示される。
<(B2)無水マレイン酸等の不飽和多塩基酸無水物と、スチレン等のビニル基を有する芳香族炭化水素又はビニルアルキルエーテル等との共重合体に、分子中に1個のヒドロキシル基及び1個の光反応性のエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られる感光性プレポリマー>
この感光性プレポリマー(B2)は公知であり、公知の方法を用いて合成可能である。
【0029】
上記の分子中に1個のヒドロキシル基及び1個の光反応性のエチレン性不飽和基を有する化合物としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ジブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等が例示される。
<(B3)カルボキシル基を有さないエチレン性不飽和単量体とカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体とからなる共重合体中のカルボキシル基の一部を、エポキシ基を1個のみ有するエチレン性不飽和化合物を反応して得られる感光性プレポリマー>
この感光性プレポリマー(B3)は公知であり、公知の方法を用いて合成可能である。
【0030】
上記のカルボキシル基を有さないエチレン性不飽和単量体としては、直鎖、分岐のアルキル(メタ)アクリレート或いは脂環族(但し、環中に一部不飽和結合を有してもよい)の(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート等のエチレングリコールエステル系(メタ)アクリレート、同様なプロピレングリコール系(メタ)アクリレート、グリセロール(モノ)メタクリレート、ベンジルメタクリレート等の芳香族系の(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミドジアセトン(メタ)アクリルアミド等のアクリルアミド系化合物、及びビニルピロリドン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルエーテル等が例示される。
【0031】
またカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体としては(メタ)アクリル酸、マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等が例示される。
またエポキシ基を1個のみ有するエチレン性不飽和化合物としてはグリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル(メタ)アクリレート類、並びに(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類等が例示される。
<(B4)エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体を重合単位として含む重合体又は共重合体に不飽和モノカルボン酸及び飽和もしくは不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られる感光性プレポリマー>
この感光性プレポリマー(B4)は公知であり、公知の方法を用いて合成可能である。
【0032】
上記のエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体としてはグリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル(メタ)アクリレート類、並びに(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類等が例示される。
【0033】
ここでエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体を重合単位として含む共重合体を用いるときは、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体と共重合可能な不飽和単量体を用いることができる。この例としては、上記感光性プレポリマー(B3)を得るために用いるものとして例示した、カルボキシル基を有さないエチレン性不飽和単量体を挙げることができる。
【0034】
また不飽和モノカルボン酸、飽和もしくは不飽和の多塩基酸無水物としては感光性プレポリマー(B1)に例示されるものを用いることができる。
<(B5)カルボキシル基を有するセルロース誘導体のカルボキシル基の一部をエポキシ基を一個有すると共にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物と反応させて得られる感光性プレポリマー>
この感光性プレポリマー(B5)を得るためにカルボキシル基を有するセルロース誘導体に、エポキシ基を1個のみ有すると共にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物を付加させる反応は、公知の方法を用いて行うことができる。例えば、カルボキシル基を有するセルロース誘導体の親水性溶剤溶液に、エポキシ基を1個のみ有すると共にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等の熱重合禁止剤、並びにベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン等の第3級アミン類、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩類、もしくはトリフェニルスチビン等の触媒とを加えて、撹拌混合し、常法により、好ましくは60〜150℃、特に好ましくは80〜120℃の反応温度で反応させるものである。
【0035】
ここで上記のカルボキシル基を有するセルロース誘導体としては、例えばヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート、セルロースアセテートヘキサヒドロフタレート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートフタレート及びヒドロキシプロピルメチルセルロースヘキサヒドロフタレート等が挙げられる。
【0036】
また上記のエポキシ基を一個のみ有すると共にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物としては、例えばグリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル(メタ)アクリレート類、並びに(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類等が挙げられる。ここでこのエポキシ基を一個のみ有すると共にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物は、上記のカルボキシル基を有するセルロース誘導体中のカルボキシル基を、合成後のプレポリマー中に残存させ得る量が用いられる。このようにするのは、このエポキシ基を一個有すると共にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物のエポキシ基はセルロース誘導体中のカルボキシル基と反応するものであるが、セルロース誘導体中のカルボキシル基のすべてがエポキシ基と反応してしまうと、反応により生じる感光性プレポリマー(B5)がアルカリ水溶液に対して不溶なものとなるため、これを防止するためである。
<(B6)カルボキシル基を有するセルロース誘導体に、エポキシ基を1個のみ有すると共にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物と飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる感光性プレポリマー>
この感光性プレポリマー(B6)は、具体的には、カルボキシル基を有するセルロース誘導体のカルボキシル基の一部又は全部をエポキシ基及びエチレン性不飽和基を各1個のみ有する化合物と反応させて得られる生成物に更に多塩基酸無水物を付加させて得られる。
【0037】
この感光性プレポリマー(B6)を得るためにカルボキシル基を有するセルロース誘導体に、エポキシ基を1個有すると共にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物と飽和又は不飽和多塩基酸無水物を付加させる反応は、公知の方法を用いて行うことができる。例えば、カルボキシル基を有するセルロース誘導体の親水性溶剤溶液に、エポキシ基を1個有すると共にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物、熱重合禁止剤としてハイドロキノンもしくはハイドロキノンモノメチルエーテル等、並びに触媒としてベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン等の第3級アミン類、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩類もしくはトリフェニルスチビン等を加え撹拌混合し、常法により、好ましくは60〜150℃、特に好ましくは80〜120℃の反応温度で反応させる。飽和又は不飽和多塩基酸無水物の付加反応も、上記と同様の方法で行うことができる。
【0038】
ここでカルボキシル基を有するセルロース誘導体、並びにエポキシ基を1個のみ有すると共にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物は、上記感光性プレポリマー(B5)を得るために用いるものとして例示したものを用いることができる。また飽和又は不飽和多塩基酸無水物としては上記感光性プレポリマー(B1)を得るために用いるものとして例示したものを用いることができる。
<(C)光重合開始剤>
本発明の感光性樹脂組成物は、光重合開始剤(C)を含むものである。この光重合開始剤(C)としては、極性溶媒溶解性のもの、或いは非溶解性のもののいずれも使用することが可能である。例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとそのアルキルエーテル類、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン等のアセトフェノン類、2−メチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン等のアントラキノン類、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン等のチオキサントン類、アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類、ベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(tert−ブチルペルオキシルカルボニル)ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド等のベンゾフェノン類やキサントン類、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2−ベンゾイル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、4,4’−ビス−ジエチルアミノベンゾフェノン等の窒素原子を含むもの、並びに2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等が挙げられ、これらの光重合開始剤(C)は各々単独で又は二以上のものを適宜互いに組み合わせて配合されたものを用いることができる。またこれらの光重合開始剤(C)は、安息香酸系又はp−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、2−ジメチルアミノエチルベンゾエート等の第三級アミン系等の公知の光重合促進剤及び増感剤等と併用しても良い。
【0039】
この光重合開始剤(C)の配合量は、本発明の感光性樹脂組成物から、水及び有機溶剤を除外した全成分中で0.1〜20重量%であることが望ましい。0.1重量%に満たない場合は、本発明の感光性樹脂組成物に十分な光硬化性を与えることが難しく、また、20重量%を越えて配合しても、光硬化性をより向上させることに寄与しない。
<(D)水>
本発明の感光性樹脂組成物は水(D)を必須の媒体としている。その配合割合は本発明の感光性樹脂組成物全成分に対して10〜97重量%であることが望ましい。配合割合が10重量%未満の場合、インクの流動性が不充分となり、塗布性等を良好なものとするのが困難であり、また97重量%を超えると本発明の感光性樹脂組成物を基材面に塗布した際の塗布皮膜が薄くなりすぎ、エッチングレジストインク、めっきレジストインク、ソルダーレジストインク等として充分な性能を発揮できなくなり好ましくない。
【0040】
また、任意成分として有機溶剤等の媒体を配合することもでき、具体的には、水に易溶性の溶剤のみならず、難溶性、非溶性の有機溶剤を用いることができる。これら有機溶剤の例としてはエタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、2−ブタノール、ヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコール、グリセリン、1,2,4−ブタントリオール、1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ダイアセトンアルコール等の直鎖、分岐、2級或いは多価のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル等のポリエチレングリコールアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のプロピレングリコールアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、グリセリンモノアセテート、グリセリンジアセテート等の酢酸エステル類、乳酸エチル、乳酸ブチル等の乳酸エステル類、ジエチレングリコールジエチルエーテル等のジアルキルグリコールエーテル類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、スワゾールシリーズ(丸善石油化学社製)、ソルベッソシリーズ(エクソン・ケミカル社製)等の石油系芳香族系混合溶剤、もしくはn−ヘキサン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらの媒体は、各々単独で又は二以上のものを適宜互いに組み合わせて配合される。
<(E)光重合可能なエチレン性不飽和単量体>
本発明の感光性樹脂組成物には、任意成分として光重合可能なエチレン性不飽和単量体(E)を配合することができる。
【0041】
この光重合可能なエチレン性不飽和単量体(E)としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4−((メタ)アクリロキシエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−((メタ)アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル〕プロパン、2−ヒドロキシ−1,3−ジ(メタ)アクリロキシプロパン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、1−メトキシシクロドデカジエニル(メタ)アクリレート、β−(メタ)アクロイルオキシエチルハイドロジェンフタレート、β−(メタ)アクロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ビスフェノールA−ジエポキシアクリル酸付加物、(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4−メタクリロイルオキシ・ポリエトキシフェニル〕プロパン等を挙げることができる。これらの化合物は単独又は二種以上を適宜組み合わせて用いることができるものである。
【0042】
この光重合可能なエチレン性不飽和単量体(E)は、上記感光性樹脂(A)及び感光性プレポリマー(B)と共に用いられることにより、本発明の感光性樹脂組成物の光反応性を高めることができる。
光重合可能なエチレン性不飽和単量体(E)の配合割合は、本発明の感光性樹脂組成物から水及び有機溶剤を除外した全成分に対して、0〜75重量%であることが望ましい。75重量%を超えると、本発明の感光性樹脂組成物の予備乾燥後の皮膜の表面粘着性が強くなり、フォトツールアートワーク等を直接貼付した場合に、汚れを生じ易くなる。
【0043】
さらに、本発明の水又は希アルカリ水溶液で現像可能な感光性樹脂組成物には、印刷適性を調節する等の目的で、必要に応じてシリコーン、(メタ)アクリレート共重合体、フッ素系界面活性剤等のレベリング剤、アエロジル等のチクソトロピー剤、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン等の重合禁止剤、ハレーション防止剤、難燃剤、耐めっき性向上剤、消泡剤、酸化防止剤、顔料湿潤剤、有機もしくは無機の顔料及び染料、天然もしくは合成ゴムの粉末等の各種添加剤、並びに分散安定性を向上させるための界面活性剤や高分子分散剤等をさらに加えても良い。
【0044】
本発明の感光性樹脂組成物の調製方法は特に限定されず、各成分を公知の方法を用いて混合することができる。例えば、他の配合成分中に、感光性樹脂(A)の水溶液を加えることによって混合、分散等させても良いし、感光性樹脂(A)の水溶液に他の配合成分を加えることによって混合、分散等させても良い。この分散、混合に際しては、ホモミキサー、パイプラインホモミキサー、ビーズミル、ロールミル、ボールミル等各種の撹拌機、混練機を用いることもできる。
【0045】
上記のように本発明の感光性樹脂組成物は、感光性樹脂(A)を用いて他の成分を水もしくは水と水性有機溶剤等の混合溶媒中に溶解、乳化又は分散することができて水性化可能なものであり、この感光性樹脂組成物を露光硬化させた後に非露光部分を水又は希アルカリ水溶液で除去することができるものであって、現像時に有機溶剤を使用する必要がなく、また感光性樹脂組成物を基材へ塗布した後予備乾燥皮膜を形成する過程において、感光性樹脂組成物からの有機溶剤の揮発を抑制することができ、有機溶剤に起因する労働安全性、環境汚染、火災等の問題を低減することができるものである。またこの感光性樹脂組成物の光重合反応により生成する硬化皮膜は皮膜硬度が高く、基材に対する密着性が良好であり、またエッチング液、めっき液等に対する耐水性及び耐熱性に優れたものとすることができる。またこの感光性樹脂組成物の硬化物は、過ヨウ素酸ソーダ等により剥離することができるのみならず、アルカリ金属水酸化物等の水溶液により剥離することも可能なものである。従って本発明の感光性樹脂組成物は、エッチングレジストインク、めっきレジストインク、ソルダーレジストインク、マーキングインク等のプリント配線板製造用フォトレジストインクや、グラビアロール蝕刻用フォトレジストインク、スクリーン印刷版製造用感光性組成物、カラーフィルタ画素製造用インク、カラーフィルタ保護膜製造用インク等として最適なものである。
【0046】
本発明の感光性樹脂組成物を用い、基板上にパターンを成形する方法としては、現像法を用いることができる。本発明の感光性樹脂組成物を用いて現像法により基材上にパターンを形成する方法は、特に限定されるものではないが、例えば、以下のような方法を採ることができる。
・塗布工程
基材上に感光性樹脂組成物を浸漬法、スプレー塗装、スピンコート法、ロール塗装、カーテンフロー塗装又はスクリーン印刷法等により塗布する。ここで本発明の感光性樹脂組成物をプリント配線板製造用インクとして用いる場合には、基材として銅張積層板等のプリント配線板製造用基板等が用いられる。
・予備乾燥工程
上記の感光性樹脂組成物を、熱風加熱、電磁誘導加熱、ホットプレス或いは遠赤外線乾燥等を用いて乾燥させ、予備乾燥皮膜を形成する。
・露光工程
フォトツールアートワークを上記の予備乾燥した感光性樹脂組成物の塗膜表面に直接又は間接的に当てがい、タングステンランプ、ケミカルランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等を用いて紫外線を照射して塗膜表面が選択的に露光される。また、ヘリウムカドミウムレーザー、アルゴンレーザー、YAGレーザー等を用いたレーザ直接描画法によって露光しても良い。
・現像工程
本発明の感光性樹脂組成物は露光工程の後、水もしくは希アルカリ溶液にて非露光部を洗浄除去することにより現像することが可能である。
【0047】
ここで、水による場合はその温度は特に限定はされないが常温水もしくは温水によるのが好ましい。
また希アルカリ溶液にて現像を行う場合には、例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム等の水酸化アルカリ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリの水溶液等を用いることができる。
【0048】
また水もしくは希アルカリ溶液としては、その溶媒として水単独のみならず、例えば水とアルコール系等の親水性のある有機溶媒を混合したものを用いることも可能である。
・エッチング、めっき工程
本発明の感光性樹脂組成物をプリント配線板のエッチングレジスト又はめっきレジストとして用いる場合には、例えば、上記の現像法によってプリント配線板製造用基板上に形成されたレジストパターンをマスクとして、露出している基板の表面を、エッチング、めっき等の公知の方法で処理する方法等が挙げられる。
【0049】
エッチングを行う場合は、基板上の導電性層の種類に応じて選択されたエッチング剤を用いることができる。例えば、塩化第二銅などの酸性エッチング液、アンモニア系エッチング液等を用いて行うことができる。
まためっきを行う場合には、例えば、硫酸銅めっき、ピロリン酸銅めっき等の銅めっき、ハイスローはんだめっき等のはんだめっき、スルファミン酸ニッケルめっき等のニッケルめっき、ソフト金めっき、ハード金めっき等の金めっき等を行うことができる。
・剥離工程
本発明の感光性樹脂組成物は、ソルダーレジスト、マーキングインクとして用いる場合、その硬化物を残存させて用いることもできるが、エッチングレジスト又はめっきレジスト等として用いる場合には、その硬化物を最終的に剥離することもできる。ここで硬化物は硬化物中の感光性樹脂(A)由来部分を過ヨウ素酸ソーダ、次亜塩素酸ソーダ等で分解することにより剥離できる。
【0050】
また、上記現像工程に用いるアルカリ溶液により剥離することもでき、この場合には現像に用いたものよりさらに強アルカリ性の溶液を用いることが好ましい。
【0051】
【実施例】
以下に本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下に使用される「部」及び「%」は、特に示さない限り、全て重量基準である。また、「重量平均分子量」は、下記測定条件に基づきGPC(ゲル・パーミテーション・クロマトグラフィー)により測定されたものである。
〔GPC測定法〕
各試料を固型分について10mg/mlとなる様にTHF(テトラヒドロフラン)溶液を調製し、各々インジェクション量100μlにて測定した。
測定条件
GPC測定装置:昭和電工社製、商品名「SHODEX SYSTEM 11」
カラム :昭和電工社製、商品名「SHODEX KF−800P」、「SHODEX KF−805」、「SHODEX KF−803」及び「SHODEX KF−801」の4本直列
移動層 :THF
流 量 :1ミリリットル/分
カラム温度 :45℃
検出器 :RI
換 算 :ポリスチレン
〔合成例1〕
部分ケン化ポリ酢酸ビニル(重合度1700、ケン化度88モル%、日本合成化学工業(株)製、商品名「ゴーセノールGH−17」)200gを1774gの水に溶解してから、20gのN−メチル−4−(p−ホルミルスチリル)ピリジニウムメトサルフェートを加え、6gの85%リン酸を添加し、80℃で7時間反応させ、ポリビニルアルコール系重合体のスチリルピリジニウム基付付加物(感光性樹脂(A1)に相当)の水溶液(S−1)を得た。
〔合成例2〕
部分ケン化ポリ酢酸ビニル(重合度2400、ケン化度88モル%、(株)クラレ製、商品名「PVA−224)200gを1774gの水に溶解してから20gのN−メチル−4−(p−ホルミルスチリル)キノリニウムメトサルフェートを加え溶解した。この溶液に6gの85%リン酸を添加し70℃で5時間反応させ、ポリビニルアルコール系重合体のスチリルキノリニウム付加物(感光性樹脂(A1)に相当)の水溶液(S−2)を得た。
〔合成例3〕
部分ケン化ポリ酢酸ビニル(重合度1700、ケン化度88モル%、日本合成化学工業(株)製、商品名「ゴーセノールGH−17」)200gを水1000gに溶解した。この水溶液にN−メチロールアクリルアミド40gを溶解し、0.1%メトキシハイドロキノン水溶液2g、85%リン酸3gを添加後、60℃で20時間反応させた。反応終了後、5%カセイソーダーで中和し、さらに水にて溶液の総量を1500gとなるように調整し、ポリビニルアルコール系重合体のN−メチロールアクリルアミド付加物(感光性樹脂(A2)に相当)の水溶液(N−1)を得た。
〔合成例4〕
酢酸ビニル重合体−不飽和カルボン酸Na共重合体部分ケン化物(重合度1800、ケン化度88モル%、(株)クラレ製、商品名「ポバールKL318」)に200gを水1000gに溶解した。この水溶液にN−メチロールアクリルアミド60gを溶解し、0.1%メトキシハイドロキノン水溶液2g、85%リン酸3gを添加後、80℃で5時間反応した。反応終了後、5%カセイソーダーで中和し、さらに水にて溶液の総量を1625gとなるように調整し、ポリビニルアルコール系重合体のN−メチロールアクリルアミド付加物(感光性樹脂(A2)に相当)の水溶液(N−2)を得た。
〔合成例5〕
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量214、大日本インキ化学工業(株)製、商品名「エピクロンN−680」)214部をメチルエチルケトン60部に加熱溶解したものに、撹拌下に空気を吹き込みながらアクリル酸74部、ハイドロキノン0.1部及びジメチルベンジルアミン2.0部を加え、常法により80℃で24時間反応させた。この反応液を冷却した後、メチルエチルケトン136及びテトラヒドロ無水フタル酸76部を加え、80℃に加熱して撹拌下に約10時間反応させ、65%感光性プレポリマー溶液(P−1)(感光性プレポリマー(B1)の溶液に相当)を得た。得られた感光性プレポリマーの重量平均分子量は12000、酸価は77mgKOH/gであった。
〔合成例6〕
スチレン−無水マレイン酸共重合体(エルフアトケム社製、商品名「SMA−1000A」)150部をメチルエチルケトン149部に加熱溶解したものに、空気を吹き込みながら、撹拌下に2−ヒドロキシエチルアクリレート51部、ハイドロキノン0.1部、ジメチルベンジルアミン3.0部を加え、常法により80℃で12時間反応させた。この反応液にさらにn−ブタノール22部を加え、更に約24時間反応させ、57%感光性プレポリマー溶液(P−2)(感光性プレポリマー(B2)の溶液に相当)を得た。得られた感光性プレポリマーの重量平均分子量は7500、酸価は156mgKOH/gであった。
〔合成例7〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、メタクリル酸20部、メチルメタクリレート80部、メチルエチルケトン100部、ラウリルメルカプタン0.5部、アゾビスイソブチロニトリル4部を加え、窒素気流下に加熱し、75℃において5時間重合を行ない、50%共重合体溶液を得た。
【0052】
上記50%共重合体溶液に、ハイドロキノン0.05部、グリシジルメタクリレート15部、ジメチルベンジルアミン2.0部を加え、80℃で空気を吹き込みながら24時間付加反応を行なった後、メチルエチルケトン13部を加えて50%感光性プレポリマー溶液(P−3)(感光性プレポリマー(B3)の溶液に相当)を得た。得られた感光性プレポリマーの重量平均分子量は15000、酸価は62mgKOH/gであった。
〔合成例8〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、グリシジルメタクリレート70部、メチルメタクリレート10部、tert−ブチルメタクリレート20部、メチルエチルケトン100部、ラウリルメルカプタン0.5部、アゾビスイソブチロニトリル3部を加え、窒素気流下に加熱し、75℃において5時間重合を行ない、50%共重合体溶液を得た。
【0053】
上記50%共重合体溶液に、ハイドロキノン0.05部、アクリル酸37部、ジメチルベンジルアミン2.0部を加え、80℃で空気を吹き込みながら24時間付加反応を行い、続いてテトラヒドロ無水フタル酸38部及びメチルエチルケトン73部を加えて80℃で10時間反応させ、50%感光性プレポリマー溶液(P−4)(感光性プレポリマー(B4)の溶液に相当)を得た。
【0054】
得られた感光性プレポリマーの重量平均分子量は22000、酸価は80mgKOH/gであった。
〔合成例9〕
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート(信越化学工業社製、商品名「AS−L」)30部、メチルエチルケトン80部、ハイドロキノン0.05部、グリシジルメタクリレート2.6部、ジメチルベンジルアミン2.0部を加え、80℃で24時間付加反応を行なった後、メチルエチルケトン8.4部を加えて35%感光性プレポリマー溶液(P−5)(感光性プレポリマー(B5)の溶液に相当)を得た。
【0055】
得られた感光性プレポリマーの重量平均分子量は63500、酸価は47.5mgKOH/gであった。
〔合成例10〕
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート(信越化学工業社製、商品名「AS−L」)40部、メチルエチルケトン100部、ハイドロキノン0.05部、グリシジルメタクリレート8.7部、ジメチルベンジルアミン2.0部を加え、80℃で24時間付加反応を行い、続いてテトラヒドロ無水フタル酸9.3部、メチルエチルケトン5.7部を加えて80℃で10時間反応させ、35%感光性プレポリマー溶液(P−6)(感光性プレポリマー(B6)の溶液に相当)を得た。
【0056】
得られた感光性プレポリマーの重量平均分子量は200000、酸価は59mgKOH/gであった。
〔合成例11〕
スチレン−無水マレイン酸共重合体(エルフアトケム社製、商品名「SMA−1000A」)150部をプロピレングリコールモトメチルエーテルアセテート149部に加熱溶解したものに、空気を吹き込みながら、撹拌下に2−ヒドロキシエチルアクリレート51部、ハイドロキノン0.1部、ジメチルベンジルアミン3.0部を加え、常法により80℃で12時間反応させた。この反応液にさらにn−ブタノール22部を加え、更に約24時間反応させ、57%感光性プレポリマー溶液(P’−1)を得た。
【0057】
得られた感光性プレポリマーの重量平均分子量は7500、酸価は156mgKOH/gであった。
〔合成例12〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、メタクリル酸20部、メチルメタクリレート80部、プロピレングリコールモトメチルエーテルアセテート100部、ラウリルメルカプタン0.5部、アゾビスジメチルバレロニトリル2部を加え、窒素気流下に加熱し、110℃において5時間重合を行ない、50%共重合体溶液を得た。
【0058】
上記50%共重合体溶液に、ハイドロキノン0.05部、グリシジルメタクリレート15部、ジメチルベンジルアミン2.0部を加え、80℃で空気を吹き込みながら24時間付加反応を行なった後、プロピレングリコールモトメチルエーテルアセテート11部を加えて50%感光性プレポリマー溶液(P’−2)を得た。
【0059】
得られた感光性プレポリマーの重量平均分子量は18000、酸価は62mgKOH/gであった。
〔実施例1乃至30〕
実施例1乃至30について、各成分を表1乃至3に示すような組成に調製したものを攪拌混合した後、ホモミキサーで充分に分散し、更に液温65℃にまで加熱し、空気を吹き込みながら有機溶剤成分を留去して、水性のフォトレジストインクを調製した。
〔比較例1及び2〕
比較例1及び2について、各成分を表3に示すような組成に調製したものを攪拌混合して、フォトレジストインクを調製した。
【0060】
【表1】
Figure 0003771705
【0061】
【表2】
Figure 0003771705
【0062】
【表3】
Figure 0003771705
【0063】
ここで表中において、
トリメチロールプロパントリアクリレート(*1)は、東亞合成化学工業(株)製、商品名「アロニックスM−309」である。
フェノール変性単官能アクリレート(*2)は、東亞合成化学工業(株)製、商品名「アロニックスM−101」である。
【0064】
光重合開始剤(*3)は、チバ・ガイギー(株)製、商品名「イルガキュアー907」である。
光重合開始剤(*4)は、日本化薬(株)製、商品名「カヤキュアーDETX」である。
有機染料(*5)は、保土ヶ谷化学工業(株)製、商品名「ビクトリアピュアブルーBOH」である。
【0065】
上記の実施例1乃至30に示す水性のフォトレジストインク及び比較例1及び2のフォトレジストインクについて、下記に示すような評価試験を行なった。
〔評価試験〕
〈塗布工程〉
[1]予備乾燥皮膜の膜厚測定
全ての実施例及び比較例のフォトレジストインクを、基材厚1.6mm、銅箔厚35μmのFR−4両面銅張積層板(住友ベークライト(株)社製、商品名「ELC 4762」)に縦型ロールコーター((株)ファーネス社製)を用いて両面に塗布し、熱風対流式乾燥機にて80℃の温度で、15分乾燥させた後、室温まで冷却した。このとき得られた予備乾燥皮膜の膜厚を測定した。
〈露光・現像工程〉
[2]予備乾燥皮膜の表面粘着性
[1]の操作に続いて、全ての実施例及び比較例について、予備乾燥皮膜が形成された積層板に配線パターンを描いたフォトツールアートワークを両面から直接貼付し、超高圧水銀灯を有する両面同時露光機((株)オーク製作所製、商品名「オークHMW−201GX」)を用いて積算光量200mJ/cm2 になるように露光し、露光後において、フォトツールアートワークを予備乾燥皮膜上からの剥離させる際の予備乾燥皮膜上の張り跡の有無を観察すると共に、フォトツールアートワークの予備乾燥皮膜上からの剥離容易性を評価し、予備乾燥皮膜の粘着性が小さいために張り跡が無く、フォトツールアートワークが容易に剥離できたものを「良好」として評価した。
[3]現像性
[2]の操作に続いて、全ての実施例及び比較例について、それぞれ下記(i)、(ii)の2条件を用いて現像性の評価を行った。
【0066】
(i)30℃、1重量%炭酸ソーダ水溶液を、スプレー圧1.5Kg/cm2 で1分間吹きつけて未露光部分を除去して現像した。
(ii)30℃の水をスプレー圧1.5kg/cm2 で3分間吹きつけて未露光部分を除去して現像した。
上記(i)及び(ii)について、現像性を目視で観察し、硬化皮膜が形成された露光部分が残存すると共に未露光部分が除去され、現像残りの全く無いものを「◎」と判定した。また未露光部分と露光部の境目のラインにわずかにギザが確認されたものを「○」として評価した。また露光部分と未露光部分が共に除去不能であったものを「×」として評価した。
[4]粘着テープ剥離試験による密着性の評価
得られたレジストの基材に対する密着性を確認するため、硬化皮膜の、JISD 0202−1988の4.15に準拠したクロスカットによるセロハン粘着テープ剥離試験を行い、分母に有効面に形成した碁盤目の数、分子にそれに対する完全に剥がれないで残った碁盤目の数を表して評価した。
〈エッチング工程〉
[5]耐エッチング液性(酸性の水溶液に対する耐水性)
[3]の現像処理の後、40重量%塩化第2鉄溶液で45℃、240秒エッチングを行い、硬化皮膜の剥がれの有無を観察し、剥がれの無いものを「良好」として評価した。
[6]硬化皮膜の皮膜剥離性
[5]の操作に続いて、
(i)実施例1乃至6、13乃至18、25、27、29、30、並びに比較例1及び2について、45℃、3%水酸化ナトリウム水溶液を、スプレー圧2kg/cm2 で吹きつけてレジストを剥離除去した場合の硬化皮膜の剥離を観察した。
【0067】
(ii)実施例7乃至12、19乃至24、26、28、並びに比較例1及び2について、20℃、3%過ヨウ素酸水溶液に2分間浸漬後、スプレー圧2kg/cm2 で吹きつけてレジストを剥離除去した場合の硬化皮膜の剥離を観察した。
上記(i)及び(ii)につき、硬化皮膜が完全に剥離されるのに要する時間を測定した。また剥離することができなかったものを「不可」として評価した。
[7]エッチング性の評価
[6]により硬化皮膜が剥離された積層板上に形成された導体パターンに、断線、欠線、線細り、ピンホール、ラインキザ(導体の直線パターンの直線性不良)及びエッチングのもぐり等がないものを「良好」として評価した。
〈めっき工程〉
[8]耐めっき液性
[3]の現像処理の後、
・脱脂(メルテックス(株)製、商品名「PC−455」の薬剤の25重量%水溶液に30℃で5分間浸漬)
・水洗
・ソフトエッチング(過硫酸アンモニウムタイプソフトエッチング剤(三菱ガス化学(株)社製、商品名「NPE−300」)20重量%水溶液に室温で2分浸漬)
・水洗
・硫酸洗浄(10重量%硫酸に室温で1分間浸漬)
の工程を経た後、ニッケルめっき浴(硫酸ニッケル 300g、塩化ニッケル40g、硼酸40g、水620g)に入れ、ニッケルめっきを45℃,1.5A/dm2 で10分間行った。ニッケルめっき終了後直ちに水洗し、続いて、金めっき浴(日本高純度化学(株)製、商品名「オーロブライトHS−2」)を用いて、液温40℃、1.0A/dm2 で10分間金めっきを行った。
【0068】
以上の工程の間における、硬化皮膜の剥がれの有無を観察し、剥がれの無いものを「良好」として評価した。
[9]めっき終了後の硬化皮膜の粘着テープ剥離試験
[8]の操作の後、水洗、乾燥を行い、乾燥後の硬化皮膜について、JIS
D 0202−1988の4.15に準拠したクロスカットによるセロハン粘着テープ剥離試験を行い、分母に有効面に形成した碁盤目の数、分子にそれに対する完全に剥がれないで残った碁盤目を表して評価した。
[10]めっき性評価
続いて、実施例1乃至30、比較例1及び2について、45℃の3%水酸化ナトリウム水溶液を、スプレー圧2kg/cm2 で吹きつけてレジストを剥離除去した後、拡大鏡で目視観察し、めっき性が良好で、めっきもぐりの無いものを「良好」として評価した。
[11]アルカリエッチング後の金の導体パターンの評価
続いて、アルカリエッチングを行い、銅を剥離した後のラインキザ(金の直線パターンの直線性不良)を光学顕微鏡にて確認し、凹部と凸部の幅の差を測定した。
【0069】
以上の結果を表4乃至7に示す。
【0070】
【表4】
Figure 0003771705
【0071】
【表5】
Figure 0003771705
【0072】
【表6】
Figure 0003771705
【0073】
【表7】
Figure 0003771705
【0074】
表4乃至7から判るように、比較例1、2では希アルカリ水溶液で現像でき、水では現像できなかったのに対して、実施例の全てのものでは、水と希アルカリ水溶液の双方によって現像可能であることが確認できた。
また比較例1、2では硬化皮膜が過ヨウ素酸ナトリウム溶液により剥離することができなかったのに対して、実施例のものでは、アルカリ溶液で剥離することができると共に、過ヨウ素酸ナトリウム溶液でも剥離することができることが確認できた。
【0075】
また水性化可能である実施例すべてのものは、予備乾燥皮膜の粘着性が小さく、また硬化皮膜の基材への密着性が高く、また耐エッチング性が高いことが確認でき、また硬化皮膜をアルカリ溶液により剥離することができ、更にエッチングレジストとして用いた場合、硬化皮膜が剥離された積層板上に形成された導体パターンに、断線、欠線、線細り、ピンホール、ラインキザ及びエッチングのもぐりが無くエッチング性が良好であり、まためっきレジストとして用いた場合、めっきもぐりが無くめっき性が良好であり、アルカリエッチング後の金回路パターンのラインキザが小さいことが確認され、これらの評価結果は、水性化可能ではない比較例1、2のものと同等なものであった。
【0076】
また光重合可能なエチレン性不飽和単量体(E)であるトリメチルプロパントリアクリレート及びフェノール変性単官能アクリレートを含む実施例1乃至24では、これらを含まない実施例25乃至30に対して炭酸ソーダ水溶液による現像性が向上したことが確認された。これは光重合可能なエチレン性不飽和単量体(E)を含ませると本発明の感光性樹脂組成物の光反応性が向上し、露光後の基板上の感光性樹脂組成物とその硬化皮膜との境界が明瞭となって、水による現像及びアルカリ水溶液による現像のいずれの場合にも現像性が向上したものである。
【0077】
従って実施例の全てのものは、現像法を用いたエッチングレジストインク、めっきレジストインク、ソルダーレジストインク、マーキングインク等として好適なものであることが確認された。
【0078】
【発明の効果】
上記のように本発明の請求項1に記載の感光性樹脂組成物は、
(A)ポリビニルアルコール系重合体にスチリルピリジニウム基もしくはスチリルキノリニウム基を導入してなる水溶性の感光性樹脂又はポリビニルアルコール系重合体にN−アルキロール(メタ)アクリルアミドを付加してなる水溶性の感光性樹脂、
(B)分子中にカルボキシル基と少なくとも2個のエチレン性不飽和基を併せ持つ感光性プレポリマー、
(C)光重合開始剤、及び
(D)水
を含んで成る水又は希アルカリ水溶液で現像可能なものであるため、感光性樹脂(A)を用いて他の成分を水もしくは水と水性有機溶剤等との混合溶媒中に溶解、乳化又は分散することができて水性化可能なものであり、この感光性樹脂組成物を露光硬化させた後に非露光部分を水又は希アルカリ水溶液で除去することができるものであって、現像時に有機溶剤を使用する必要がなく、また感光性樹脂組成物を基材へ塗布した後予備乾燥皮膜を形成する過程において、感光性樹脂組成物からの有機溶剤の揮発を抑制することができ、有機溶剤に起因する労働安全性、環境汚染、火災等の問題を低減することができるものである。またこの感光性樹脂組成物の光重合反応により生成する硬化皮膜は皮膜硬度が高く、基材に対する密着性が良好であり、またエッチング液、めっき液等に対する耐水性及び耐熱性に優れたものとすることができる。またこの感光性樹脂組成物の硬化物は、過ヨウ素酸ソーダ等により剥離することができるのみならず、アルカリ金属水酸化物等の水溶液により剥離することも可能なものである。
【0079】
また本発明の請求項2に記載の感光性樹脂組成物は、請求項1の構成に加えて、(E)光重合可能なエチレン性不飽和単量体を含むため、本発明の感光性樹脂組成物の光反応性を高めることができるものである。
また本発明の請求項3に記載のプリント配線板製造用フォトレジストインクは、請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物から成るため、エッチングレジストインク、めっきレジストインク、ソルダーレジストインク、マーキングインク等として好適なものである。

Claims (3)

  1. (A)ポリビニルアルコール系重合体にスチリルピリジニウム基もしくはスチリルキノリニウム基を導入してなる水溶性の感光性樹脂、又はポリビニルアルコール系重合体にN−アルキロール(メタ)アクリルアミドを付加してなる水溶性の感光性樹脂、
    (B)分子中にカルボキシル基と、少なくとも2個のエチレン性不飽和基とを併せ持つ感光性プレポリマー、
    (C)光重合開始剤、及び
    (D)水
    を含んで成る水又は希アルカリ水溶液で現像可能であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
  2. (E)光重合可能なエチレン性不飽和単量体を含んで成ることを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  3. 請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物から成ることを特徴とするプリント配線板製造用フォトレジストインク。
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US09/265,571 US6136507A (en) 1998-03-12 1999-03-10 Photosensitive resin composition and photoresist ink for manufacturing printed wiring boards
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CN99102894A CN1120858C (zh) 1998-03-12 1999-03-12 光敏树脂组合物和用于生产印刷电路板的光刻胶油墨
US09/584,492 US6322952B1 (en) 1998-03-12 2000-06-01 Photosensitive resin composition and photoresist ink for manufacturing printed wiring boards
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Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3771705B2 (ja) * 1998-03-12 2006-04-26 互応化学工業株式会社 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトレジストインク
US6808865B1 (en) * 1999-06-07 2004-10-26 Goo Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition of aqueous emulsion type
TW562844B (en) * 2001-01-19 2003-11-21 Kolon Inc Ink composition for solder resist
JP2003124613A (ja) * 2001-10-19 2003-04-25 Tamura Kaken Co Ltd レジストインキ組成物及びプリント配線板
EP1451640A1 (en) * 2001-12-03 2004-09-01 Showa Denko K.K. Photosensitive composition and production processes for photosensitive film and printed wiring board
ITTO20020362A1 (it) * 2002-04-30 2003-10-30 Metlac S P A Sistema multirivestimento con proprieta' di barriera ai gas, fotoreticolabile mediante radiazione uv particolarmente idoneo per la protezion
GB0318115D0 (en) * 2003-08-01 2003-09-03 Sericol Ltd A printing ink
US7544381B2 (en) * 2003-09-09 2009-06-09 Boston Scientific Scimed, Inc. Lubricious coatings for medical device
US8088546B2 (en) * 2004-07-02 2012-01-03 Nissan Chemical Industries, Ltd. Underlayer coating forming composition for lithography containing naphthalene ring having halogen atom
KR100733920B1 (ko) 2004-09-17 2007-07-02 주식회사 엘지화학 에칭 레지스트용 잉크 조성물, 이를 이용한 에칭 레지스트패턴 형성 방법 및 미세 유로 형성 방법
WO2006065608A2 (en) * 2004-12-17 2006-06-22 Bionovo, Inc. Estrogenic extracts of morus alba and uses thereof
CN100472324C (zh) * 2005-03-29 2009-03-25 上海中大科技发展有限公司 一种水乳型圆网感光胶
CN100447669C (zh) * 2005-03-29 2008-12-31 上海中大科技发展有限公司 水乳型圆网感光胶
JP2007072196A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Toppan Printing Co Ltd 着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルタ
US20070129748A1 (en) * 2005-12-07 2007-06-07 Tracee Eidenschink Selectively coated medical balloons
JP2007266191A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Nec Electronics Corp ウェハ処理方法
US20080161950A1 (en) * 2006-12-28 2008-07-03 Fujitsu Ten Limited Electronic system, electronic apparatus and method of operating audio unit
US20080162044A1 (en) * 2006-12-28 2008-07-03 Fujitsu Ten Limited In-vehicle electronic apparatus and in-vehicle electronic system
US7765046B2 (en) * 2006-12-28 2010-07-27 Fujitsu Ten Limited In-vehicle electronic apparatus and in-vehicle electronic system
US7904236B2 (en) * 2006-12-28 2011-03-08 Fujitsu Ten Limited Electronic apparatus and electronic system
US20080157999A1 (en) * 2006-12-28 2008-07-03 Fujitsu Ten Limited Electronic apparatus, electronic system and method of controlling audio output
US7684200B2 (en) * 2006-12-28 2010-03-23 Fujitsu Ten Limited Electronic apparatus and electronic system
US7774104B2 (en) * 2006-12-27 2010-08-10 Fujitsu Ten Limited Electronic apparatus and electronic system
JP4842785B2 (ja) * 2006-12-04 2011-12-21 富士通テン株式会社 車載用電子システム及び車載電子装置
US7860643B2 (en) * 2006-12-28 2010-12-28 Fujitsu Ten Limited In-vehicle detachably electronic apparatus and in-vehicle electronic system
US20080159557A1 (en) * 2006-12-27 2008-07-03 Fujitsu Ten Limited Electronic apparatus, electronic system and method of controlling sound output
US8706396B2 (en) * 2006-12-28 2014-04-22 Fujitsu Ten Limited Electronic apparatus and electronic system
US7869196B2 (en) * 2006-12-28 2011-01-11 Fujitsu Ten Limited Electronic apparatus
CN101241304B (zh) * 2007-02-09 2012-05-09 上海中大科技发展有限公司 一种耐水环保型圆网制版感光胶
TW200903160A (en) * 2007-04-27 2009-01-16 Sumitomo Chemical Co Photosensitive resin composition
CN101619110B (zh) * 2008-07-04 2011-05-04 北京化工大学 一种水溶性光聚合引发剂及其制备方法
CN102033431B (zh) * 2009-09-25 2012-11-07 上海洁润丝新材料股份有限公司 一种高分子蓝光制版新材料
JP2012053404A (ja) * 2010-09-03 2012-03-15 Murakami:Kk 感光性樹脂組成物およびこの感光性樹脂組成物を用いたスクリーン印刷用ステンシル
CN103279010B (zh) * 2013-06-20 2015-07-08 浙江荣生科技有限公司 一种双固化单组份丝网印刷感光胶的制备方法
JP6565535B2 (ja) * 2015-09-24 2019-08-28 日本製紙株式会社 複合体の製造方法
JP7057757B2 (ja) * 2016-11-25 2022-04-20 株式会社Adeka 硬化性組成物、その硬化物およびその硬化方法
CN110036343B (zh) * 2016-12-22 2023-06-13 株式会社Adeka 水溶性组合物、图案形成剂、使用了它们的固化物的制造方法和固化物
JPWO2018230564A1 (ja) * 2017-06-16 2020-04-30 株式会社Adeka コーティング組成物
CN108003704B (zh) * 2017-12-25 2020-11-10 广东三求光固材料股份有限公司 一种光致抗电镀油墨及其制备方法
CN111856876A (zh) * 2019-04-25 2020-10-30 田菱智能科技(昆山)有限公司 一种感光性树脂组合物
WO2022081652A1 (en) 2020-10-13 2022-04-21 Showa Kako Corporation Polyvinyl acetate based photopolymer

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5745785B2 (ja) * 1972-05-11 1982-09-29
JPS5276397A (en) * 1975-12-22 1977-06-27 Tokyo Ouka Kougiyou Kk Method of making aquaous sensitivs resin
US4272620A (en) * 1978-08-09 1981-06-09 Agency Of Industrial Science And Technology Polyvinyl alcohol-styrylpyridinium photosensitive resins and method for manufacture thereof
JPS5562905A (en) * 1978-11-06 1980-05-12 Agency Of Ind Science & Technol Photo-insolubilized resin and its preparation
JPS5523163A (en) * 1978-08-09 1980-02-19 Agency Of Ind Science & Technol Polyvinyl alcohol type photosensitive resin and its preparation
JPS5611906A (en) * 1979-07-11 1981-02-05 Agency Of Ind Science & Technol Photo-insolubilizable polyvinyl alcohol derivative and its preparation
JPS58115432A (ja) * 1981-12-29 1983-07-09 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
US4564580A (en) * 1983-06-30 1986-01-14 Kogyo Gijutsuin Photosensitive resin composition
GB8611454D0 (en) * 1986-05-10 1986-06-18 Autotype Int Ltd Manufacture of polymeric materials
JPH05224413A (ja) * 1992-02-14 1993-09-03 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体
JP2756623B2 (ja) * 1992-02-26 1998-05-25 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH06263832A (ja) * 1993-03-12 1994-09-20 Toagosei Chem Ind Co Ltd 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
JPH06289215A (ja) * 1993-03-30 1994-10-18 Oji Kako Kk 透明着色画像形成用感光性樹脂組成物およびカラーフィルター
CA2158915A1 (en) * 1994-09-30 1996-03-31 Dekai Loo Liquid photoimageable resist
JPH08328252A (ja) * 1995-03-31 1996-12-13 W R Grace & Co 水性感光性樹脂組成物
JPH08328251A (ja) * 1995-03-31 1996-12-13 W R Grace & Co 水性感光性樹脂組成物
JP2718007B2 (ja) * 1995-06-06 1998-02-25 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像可能な一液型フォトソルダーレジスト組成物及びそれを用いたプリント配線板の製造方法
JP3561061B2 (ja) * 1995-12-11 2004-09-02 東洋合成工業株式会社 ポリビニルアルコール系感光性樹脂および感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン形成方法
JPH09249823A (ja) * 1996-03-15 1997-09-22 Toagosei Co Ltd 光重合性樹脂組成物
JP3771705B2 (ja) * 1998-03-12 2006-04-26 互応化学工業株式会社 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトレジストインク

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