[go: up one dir, main page]

JP3452081B2 - フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類 - Google Patents

フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類

Info

Publication number
JP3452081B2
JP3452081B2 JP01308594A JP1308594A JP3452081B2 JP 3452081 B2 JP3452081 B2 JP 3452081B2 JP 01308594 A JP01308594 A JP 01308594A JP 1308594 A JP1308594 A JP 1308594A JP 3452081 B2 JP3452081 B2 JP 3452081B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
fluoro
acid
mol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP01308594A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06256257A (ja
Inventor
アルブレヒト・マルホルト
ペーター・アンドレス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bayer AG
Original Assignee
Bayer AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bayer AG filed Critical Bayer AG
Publication of JPH06256257A publication Critical patent/JPH06256257A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3452081B2 publication Critical patent/JP3452081B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/48Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • C07D215/54Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 3
    • C07D215/56Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 3 with oxygen atoms in position 4
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C63/00Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • C07C63/68Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings containing halogen
    • C07C63/70Monocarboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/73Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
    • C07C69/738Esters of keto-carboxylic acids or aldehydo-carboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/76Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、新規なフルオロ−トリフルオロ
メチル安息香酸誘導体類、新規な中間生成物、およびそ
れらの製造方法に関するものである。
【0002】新規なフルオロ−トリフルオロ安息香酸誘
導体類は、一般式(I)
【0003】
【化6】
【0004】[式中、Rはヒドロキシル、−OM、ハロ
ゲンまたはC1−C4-アルコキシを表し、ここでMはア
ルカリ金属、好適にはリチウム、ナトリウムまたはカリ
ウム、を表し、そして a)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または b)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または c)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がHを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または d)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または e)R1がFを表し、R2がHを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または f)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または g)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または h)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
4がCF3を表しそしてR5がFを表すか、または i)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
4がCF3を表しそしてR5がHを表すか、または k)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がFを表しそしてR5がHを表すか、または l)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表す]に相当する。
【0005】R=ヒドロキシルである式(I)の新規な
フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類は、そ
れ自体は既知である方法(例えば、M.シュロッサー(Sc
hlosser)、シンレット(Synlett)、1990、747参
照)で、適宜希釈剤の存在下での−150〜50℃、好
適には−80〜30℃、の温度における式(II)
【0006】
【化7】
【0007】[式中、Mはアルカリ金属、好適にはリチ
ウム、ナトリウムまたはカリウム、を表し、そして a)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または b)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または c)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がHを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または d)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または e)R1がFを表し、R2がHを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または f)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または g)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または h)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
4がCF3を表しそしてR5がFを表すか、または i)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
4がCF3を表しそしてR5がHを表すか、または k)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がFを表しそしてR5がHを表すか、または l)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表す]の含金属フル
オロ−トリフルオロメチルベンゼン誘導体類と二酸化炭
素との反応、およびその後の生成したR=OMである式
(I)のアルカリ金属炭酸エステル類と例えば塩酸の如
き酸との反応により、製造することができる。
【0008】Rがハロゲンを表す式(I)の新規なフル
オロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類は、それ自
体は既知である方法で、Rがヒドロキシルまたは−OM
を表す式(I)の化合物を適宜希釈剤の存在下で0〜1
60℃、好適には60〜120℃、の温度において例え
ばハロゲン化硫黄または燐の如きハロゲン化剤と反応さ
せる工程により、製造することができる。
【0009】R=C1−C4-アルコキシである式(I)
の新規な化合物は、それ自体は既知である方法で、Rが
ヒドロキシルまたはハロゲンを表す式(I)の化合物を
適宜希釈剤の存在下でそして適宜酸−結合剤の存在下で
20〜160℃、好適には50〜120℃、の温度にお
いて式(III)
【0010】
【化8】R6−OH (III) [式中、R6はC1−C4-アルキルを表す]のアルコール
と反応させる工程により、製造することができる。
【0011】式(II)の含金属化合物は新規でありそし
て本発明はそれらにも関するものである。
【0012】式(II)の含金属化合物は、それ自体は既
知である方法(例えば、M.シュロッサー、シンレッ
ト、1990、747参照)で、式(IV)
【0013】
【化9】
【0014】[式中、R1〜R5は式(I)に関してすで
に示されている意味を有する]のフルオロ−トリフルオ
ロメチルベンゼン類を適宜希釈剤の存在下で−150〜
30℃、好適には−100〜−20℃、の温度において
アルキル金属化合物、例えばメチルリチウム、n−ブチ
ルリチウム、−ナトリウムもしくは−カリウム、または
ターシャリー−ブチルリチウム、−ナトリウムもしくは
−カリウム、好適にはn−ブチルリチウム、と反応させ
る工程により、製造することができる。式(IV)の化合
物は有機化学において一般的に既知の化合物である。
【0015】含金属フルオロ−トリフルオロメチルベン
ゼン誘導体類(II)を好適には、中間生成物を単離せず
に、直接R=ヒドロキシルである本発明に従う化合物
(I)とさらに反応させる。
【0016】例えば、6−位置でリチウム化されている
1,3−ジフルオロ−2−トリフルオロメチルベンゼン
を出発化合物として使用する場合には、これを二酸化炭
素と反応させそして次に生成物を塩酸を用いて加水分解
する。ここでR=ヒドロキシルである化合物(I)の製
造に関する本発明に従う方法は下記の反応式により表す
ことができる:
【0017】
【化10】
【0018】含金属フルオロ−トリフルオロベンゼン誘
導体類の反応は気体状または固体の二酸化炭素のいずれ
を用いて行うこともできる。気体状二酸化炭素は好適に
は反応溶液中に大気圧で加えられる。
【0019】R=ヒドロキシルである化合物(I)の製
造に関する本発明に従う方法は好適には希釈剤の存在下
で行われる。原則的には、ここでは下記の希釈剤が適し
ている:低級炭化水素類、エーテル類またはこれらの2
種の混合物。
【0020】ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ジエチル
エーテルまたはテトラヒドロフランが希釈剤として好適
に使用される。
【0021】R=ヒドロキシルである化合物(I)の製
造に関する本発明に従う方法では、温度は広い範囲内で
変えることができる。一般的には、該方法は−150〜
50℃、好適には−80〜30℃、の温度において行わ
れる。
【0022】R=ヒドロキシルである化合物(I)の製
造に関する本発明に従う方法を行うためには、1モルの
化合物(II)当たり0.9〜10モル、好適には2.0〜
6.0モル、のCO2量の気体状CO2を、テトラヒドロ
フラン(THF)、ジエチルエーテルおよびヘキサンの
混合物中の化合物(II)の溶液の中に−80〜−20℃
の温度において通す。
【0023】次に加水分解を1〜1.5当量の塩酸を用
いて行う。水性条件下での抽出により、例えば相の分
離、ジエチルエーテルを用いる抽出、その後の塩酸およ
び水を用いる洗浄並びに硫酸ナトリウム上での有機相の
乾燥および濃縮により、処理が行われる。
【0024】例えば、2,4−ジフルオロ−3−トリフ
ルオロメチル安息香酸を出発化合物として使用しそして
これを塩化チオニルと反応させる場合には、R=ハロゲ
ンである化合物(I)の製造に関する本発明に従う方法
は下記の反応式により表すことができる:
【0025】
【化11】
【0026】R=ハロゲンである化合物(I)の製造に
関する本発明に従う方法は好適には希釈剤の添加なしで
行われる。
【0027】本発明に従う方法によるR=ハロゲンであ
る化合物(I)の製造用の温度は広い範囲内で変えるこ
とができる。一般的には、該製造は0〜160℃、好適
には60〜120℃、の温度において行われる。
【0028】R=ハロゲンである化合物(I)の製造に
関する本発明に従う方法を行うためには、R=ヒドロキ
シルである化合物(I)を最初に反応容器中に加えそし
て水分を除きながら且つ好適には0℃の温度において例
えば塩化チオニルの如きハロゲン化剤を1モルのR=O
Hである化合物(I)当たり1〜3モル、好適には2モ
ル、の量で滴々添加する。次に混合物を還流下で(60
−120℃)気体の発生が終わるまで撹拌し、過剰のS
OCl2を蒸留除去し、そして次に生成物を蒸留する。
【0029】例えば、2,4−ジフルオロ−3−トリフ
ルオロメチル安息香酸およびメタノールを出発化合物と
して使用する場合には、R=C1−C4-アルコキシであ
る化合物(I)の製造に関する本発明に従う方法は下記
の反応式により表すことができる:
【0030】
【化12】
【0031】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造に関する本発明に従う方法は好適には希釈
剤の不存在下で行われる。しかしながら、原則的には、
低級塩素化炭化水素類が使用可能な希釈剤であり、クロ
ロホルムが好適である。
【0032】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造用の本発明に従う方法を行う際の温度は広
い範囲内で変えることができる。一般的には、該方法は
20〜160℃、好適には50〜120℃、の温度にお
いて行われる。
【0033】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造に関する本発明に従う方法を行うために
は、1モルのR=ヒドロキシルである化合物(I)と5
モルの式(III)のアルコールとの混合物を最初に反応
容器中に加え、0.2mlの濃硫酸を加え、そして混合
物を還流下で且つ水分を除きながら5時間にわたり撹拌
する。次に過剰のアルコールの大部分を蒸留除去し、そ
して残渣を水性条件下での抽出により処理する。エステ
ルは精製用に蒸留することができる。
【0034】例えば、塩化2,4−ジフルオロ−3−ト
リフルオロメチルベンゾイルおよびメタノールを出発化
合物として使用する場合には、R=C1−C4-アルコキ
シである化合物(I)の製造に関する本発明に従う方法
は下記の反応式により表すことができる:
【0035】
【化13】
【0036】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造に関する本発明に従う方法は希釈剤なしで
または希釈剤の存在下で行われ、使用可能な希釈剤は原
則的にはエーテルおよび塩素化低級炭化水素類である。
【0037】好適な希釈剤はジエチルエーテルである。
【0038】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造用の本発明に従う方法は、適宜、酸−結合
剤の存在下で行われる。使用できる酸−結合剤は、例え
ば、第三級アミン類、例えばトリエチルアミン、であ
る。
【0039】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造に関する本発明に従う方法を行うために
は、R=ハロゲンである化合物(I)を最初にエーテル
中に溶解させ、そして式(III)のアルコールを1モル
当たり1モルの量でこの溶液に酸−結合剤としてのNE
tの存在下で好適には20−50℃の温度において滴々
添加する。次に固体を吸引濾別し、濾液を水性条件下で
の抽出により処理し、そして適宜、生成物を蒸留により
単離する。
【0040】例えば、1,3−ジフルオロ−2−トリフ
ルオロメチルベンゼンおよびn−ブチルリチウムを出発
化合物として使用する場合には、式(II)の化合物の製
造に関する本発明に従う方法は下記の反応式により表す
ことができる:
【0041】
【化14】
【0042】化合物(II)の製造に関する本発明に従う
方法は好適には希釈剤の存在下で行われる。原則的に
は、ここで使用可能な希釈剤は低級炭化水素類、エーテ
ル類またはこれらの2種の混合物である。
【0043】ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ヘキサンまたはそれらの混合物が好適に使用される。
【0044】化合物(II)の製造用の本発明に従う方法
は一般的には−150〜30℃、好適には−100〜2
0℃、特に好適には−80〜−50℃、の温度において
行われる。
【0045】化合物(II)の製造に関する本発明に従う
方法は好適には不活性気体雰囲気下で行われ、ここで使
用可能な不活性気体は例えばアルゴンまたは窒素であ
る。
【0046】好適には、化合物(II)の製造は式(IV)
のフルオロ−トリフルオロメチルベンゼンをTHFとE
2Oとの1:1混合物の中に溶解させ、そしてヘキサ
ン中に溶解されている有機金属化合物をこの溶液に不活
性気体雰囲気下で好適には−80〜−30℃の温度にお
いて滴々添加する。
【0047】式(II)の化合物は溶媒の除去(蒸留)に
より単離することができる。
【0048】式(I)のフルオロ−トリフルオロメチル
安息香酸誘導体類は、例えば、抗バクテリア剤および飼
料添加物の製造用に使用することができる。
【0049】すなわち、例えば、 1)2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチル安息
香酸を、例えば塩化チオニルの如きハロゲン化剤との反
応により、塩化2,4−ジフルオロメチルベンゾイルに
転化させ、それを 2)マロン酸ジエチルと反応させて、(2,4−ジフルオ
ロ−3−トリフルオロメチルベンゾイル)−マロン酸ジ
エチルを与え、引き続き 3)段階2)に従い得られた化合物を、加水分解および
脱カルボキシル化により、(2,4−ジフルオロ−3−ト
リフルオロメチルベンゾイル)−酢酸エチルに転化さ
せ、それを 4)オルト蟻酸エチルとの反応により、3−エトキシ−
2−(2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチルベン
ゾイル)−アクリル酸エチルに転化させ、 5)段階4)に従い得られた化合物をシクロプロピルア
ミンと反応させて、3−シクロプロピルアミノ−2−
(2,4−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルベンゾイ
ル)−アクリル酸エチルを与え、 6)段階5)に従い得られた化合物を、HFの分離によ
り、対応するキノロンカルボン酸エステル誘導体に転化
させ、それを 7)加水分解により、対応するキノロンカルボン酸誘導
体に転化させる。
【0050】他のキノロンカルボン酸誘導体類は本発明
に従う式(I)の化合物から対応する方法で製造するこ
とができる。
【0051】上記の反応順序は例えば下記の反応式によ
り表すことができる:
【0052】
【化15】
【0053】
【化16】
【0054】段階7)で得られるキノロンカルボン酸誘
導体類は一般式(V)
【0055】
【化17】
【0056】[式中、 n)R2′はCF3を表しそしてR3′はFを表しそして
4′はHを表しそしてR5′はHを表すか、または o)R2′はFを表しそしてR3′はFを表しそして
4′はHを表しそしてR5′はCF3を表すか、または p)R2′はCF3を表しそしてR3′はFを表しそして
4′はHを表しそしてR5′はFを表す]に相当する。
【0057】式(V)のキノロンカルボン酸誘導体類
は、式(VI)
【0058】
【化18】Z−H (VI) [式中、Zは構造式
【0059】
【化19】
【0060】を有する基を表し、ここでR7は水素、ヒ
ドロキシル、−NR1112、ヒドロキシルメチルまたは
−CH2−NR1112を表し、ここでR11は水素、任意
にヒドロキシル−置換されていてもよいC1−C3-アル
キル、アルコキシ部分中の炭素数が1〜4のアルコキシ
カルボニルまたはC1−C3-アシルを示し、そしてR12
は水素またはメチルを示し、R8は水素、直鎖もしくは
分枝鎖状のC1−C3-アルキルまたはシクロプロピルを
表し、R8′は水素またはメチルを表し、R9は水素また
はメチルを表し、R10は水素、メチルまたは構造式−C
H=CH−CO29′、−CH2−CH2−CO29′、
−CH2−CO−CH3もしくは−CH2−CH2−CNを
有する基を表し、R9′はメチルまたはエチルを表し、
そしてBは−CH2−、Oまたは直接結合を表す]の化
合物との反応により、式(VII)
【0061】
【化20】
【0062】[式中、R2′、R4′、R5′、R7および
Zは上記の意味を有する]のキノロンカルボン酸誘導体
類に転化させることができる。
【0063】
【実施例】製造実施例 実施例1 a)1,3−ジフルオロ−6−リチオ−トリフルオロメ
チルベンゼン
【0064】
【化21】
【0065】窒素雰囲気下で、0.5モルの1,3−ジフ
ルオロ−2−トリフルオロメチルベンゼンを300ml
の無水テトラヒドロフランと300mlの無水ジエチル
エーテルとの混合物の中に溶解させ、220ml(0.
55モル)のn−ブチルリチウムのヘキサン中2.5モ
ル溶液を−70℃において滴々添加し、そして混合物を
1時間にわたり撹拌した。
【0066】b)2,4−ジフルオロ−3−トリフルオ
ロメチル安息香酸
【0067】
【化22】
【0068】生成した1,3−ジフルオロ−6−リチオ
−トリフルオロメチルベンゼンを中間生成物を単離しな
がら2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチル安息
香酸に転化させた。このためには、200gの二酸化炭
素を−70℃において1a)で得られた溶液の中に通し
た。
【0069】次に混合物を自然に5℃に下げ、そして続
いて1時間にわたり撹拌しそして200mlの2N塩酸
を用いて加水分解した。水相を分離しそしてジエチルエ
ーテルで2回抽出した。一緒にした有機相を希塩酸およ
び水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして濃
縮した。
【0070】98gの融点が108−110℃の2,4
−ジフルオロ−3−トリフルオロメチル安息香酸が得ら
れ、それは86%の収率に相当していた。
【0071】表1に示されているフルオロ−トリフルオ
ロメチルカルボン酸類が実施例1b)と同様にして対応
する含リチウム化合物から得られた。
【0072】
【表1】
【0073】実施例7 塩化2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチルベン
ゾイル
【0074】
【化23】
【0075】19.3g(0.085モル)の実施例1
b)に従う2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチ
ル安息香酸を一部分ずつ130mlの塩化チオニル中に
室温において加えた。計量添加が終了した後に、気体の
発生が終わるまで混合物を80℃に加熱した。次に過剰
の塩化チオニルを蒸留により分離しそして生成物を直接
さらに反応させた。
【0076】収量:20.0g(理論値の90%)実施例8 塩化2,4,6−トリフルオロ−3−トリフルオロメチル
ベンゾイル
【0077】
【化24】
【0078】5.8g(0.024モル)の実施例5に従
う2,4,6−トリフルオロ−3−トリフルオロメチル安
息香酸を一部分ずつ40mlの塩化チオニル中に室温に
おいて加えた。計量添加が終了した後に、気体の発生が
終わるまで混合物を80℃に加熱した。その後に、過剰
の塩化チオニルを蒸留により分離しそして粗製生成物を
直接さらに反応させた。
【0079】収量:6.0g(理論値の95%)実施例9 塩化2,3,4−トリフルオロ−6−トリフルオロメチル
ベンゾイル
【0080】
【化25】
【0081】5.8g(0.024モル)の実施例4に従
う2,3,4−トリフルオロ−6−トリフルオロメチル安
息香酸を一部分ずつ40mlの塩化チオニル中に室温に
おいて加えた。計量添加が終了した後に、気体の発生が
終わるまで混合物を80℃に加熱した。次に過剰の塩化
チオニルを蒸留により分離しそして粗製生成物を直接さ
らに反応させた。
【0082】収量:5.0g(理論値の79%)実施例10 1−シクロプロピル−7−フルオロ−8−トリフルオロ
メチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリン
カルボン酸
【0083】
【化26】
【0084】a)(2,4−ジフルオロ−3−トリフルオ
ロメチルベンゾイル)−マロン酸ジエチル 2.15g(0.09モル)のマグネシウム屑を最初に
4.8mlのエタノール中に加え、反応を2、3滴の四
塩化炭素を用いて開始しそして次に12.8g(0.07
5モル)のマロン酸ジエチルの9mlのエタノールおよ
び35mlのトルエン中溶液を内部温度が50〜60℃
となるような方法で滴々添加した。次に混合物を引き続
き60℃において1時間撹拌した。20.0g(0.08
2モル)の実施例7に従う塩化2,4−ジフルオロ−3
−トリフルオロメチルベンゾイルの9mlのトルエン中
溶液を−10〜−5℃において滴々添加しそして混合物
を引き続き0℃において1時間撹拌しそして次に室温に
暖めた。それを35mlの氷−水上に注ぎ、5.7ml
の濃硫酸を加えそして混合物をトルエンで抽出した。有
機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそして溶媒を真
空中で除去した。
【0085】粗収量:30.0g b)(2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチルベン
ゾイル)酢酸エチル 30.0gのa)で得られた粗製生成物を還流下で30
mlの水中で0.96gのp−トルエンスルホン酸と共
に4.5時間加熱した。冷却された混合物を塩化メチレ
ンで抽出しそして有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮
した。
【0086】粗収量:22g c)3−エトキシ−2−(2,4−ジフルオロ−3−トリ
フルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸エチル 22gのb)で得られた生成物を17.4g(0.12モ
ル)のオルト蟻酸エチルおよび19.4g(0.19モ
ル)の無水酢酸と共に150−160℃に2時間加熱し
た。過剰の試薬を最初に真空中でそして次に高真空中で
100℃の浴温以下で除去した。
【0087】粗収量:23.1g d)3−シクロプロピルアミノ−2−(2,4−ジフルオ
ロ−4−トリフルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸
エチル 23.0gのc)で得られた生成物を最初に0℃におい
て140mlのエタノール中に加え、そして4.08g
(0.072モル)のシクロプロピルアミンを滴々添加
した。混合物を引き続き室温において一夜撹拌し、14
0mlの水を滴々添加し、そして沈澱した生成物を単離
した。それを水ですすぎそして約100℃で乾燥した。
【0088】収量:9.4g(理論値の39%) 融点:104−105℃ e)1−シクロプロピル−7−フルオロ−8−トリフル
オロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノ
リンカルボン酸エチル 9.0g(0.025モル)のd)で得られた生成物を
3.9g(0.028モル)の炭酸カリウムと共に50m
lのジメチルホルムアミド中で4時間にわたり100℃
に加熱した。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そして
生成物を単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥し
た。
【0089】収量:8.1g(理論値の98%) 融点:154−155℃ f)1−シクロプロピル−7−フルオロ−8−トリフル
オロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノ
リンカルボン酸 8.0g(0.023モル)のe)で得られた生成物を、
30mlの酢酸、30mlの水および3mlの濃硫酸の
混合物中で、2時間にわたり140℃に加熱した。冷却
した混合物を氷−水上に注ぎ、そして沈澱した生成物を
単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥した。
【0090】収量:7.0g(理論値の96%) 融点:209−210℃実施例11 1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8−トリフ
ルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キ
ノリンカルボン酸
【0091】
【化27】
【0092】a)(2,4,6−トリフルオロ−3−トリ
フルオロメチルベンゾイル)−マロン酸ジエチル 0.58g(0.024モル)のマグネシウム屑を最初に
1.3mlのエタノール中に加え、反応を2、3滴の四
塩化炭素を用いて開始しそして次に3.4g(0.019
モル)のマロン酸ジエチルの2.4mlのエタノールお
よび9mlのトルエン中溶液を内部温度が50〜60℃
となるような方法で滴々添加した。次に混合物を引き続
き60℃において1時間撹拌した。5.8g(0.027
モル)の実施例8に従う塩化2,4,6−トリフルオロ−
3−トリフルオロメチルベンゾイルの2.5mlのトル
エン中溶液を−10〜−5℃において滴々添加しそして
混合物を引き続き0℃において1時間撹拌しそして次に
室温に暖めた。それを10mlの氷−水上に注ぎ、1.
5mlの濃硫酸を加えそして混合物をトルエンで抽出し
た。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそして溶
媒を真空中で除去した。
【0093】粗収量:8.6g b)(2,4,6−トリフルオロ−3−トリフルオロメチ
ルベンゾイル)−酢酸エチル 8.6gのa)で得られた粗製生成物を還流下で9ml
の水中で0.26gのp−トルエンスルホン酸と共に4.
5時間加熱した。冷却された混合物を塩化メチレンで抽
出しそして有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。
【0094】粗収量:5.6g c)3−エトキシ−2−(2,4,6−トリフルオロ−3
−トリフルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸エチル 5.4g(0.017モル)のb)で得られた生成物を
4.0g(0.027モル)のオルト蟻酸エチルおよび
4.45g(0.043モル)の無水酢酸と共に150−
160℃に2時間加熱した。過剰の試薬を最初に真空中
でそして次に高真空中で100℃の浴温以下で除去し
た。
【0095】粗収量:3.8g d)3−シクロプロピルアミノ−2−(2,4,6−トリ
フルオロ−4−トリフルオロメチルベンゾイル)−アク
リル酸エチル 3.8g(0.01モル)のc)で得られた生成物を最初
に0℃において22mlのエタノール中に加え、そして
0.63g(0.011モル)のシクロプロピルアミンを
滴々添加した。混合物を引き続き室温において一夜撹拌
し、22mlの水を滴々添加し、そして沈澱した生成物
を単離した。それを水ですすぎそして約100℃で乾燥
した。
【0096】収量:3.3g(理論値の86%) 融点:146−148℃ e)1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸エチル 3.5g(9.2ミリモル)のd)で得られた生成物を
1.45g(0.01モル)の炭酸カリウムと共に18m
lのジメチルホルムアミド中で1時間にわたり100℃
に加熱した。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そして
生成物を単離しそして水ですすいだ。生成物をシリカゲ
ル上で可動相シクロヘキサン/テトラヒドロフラン7/
3を用いて精製した。
【0097】収量:1.4g(理論値の42%) 融点:197−198℃ f)1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸 1.4g(3.9ミリモル)のe)で得られた生成物を、
5mlの酢酸、5mlの水および0.5mlの濃硫酸の
混合物中で、2時間にわたり140℃に加熱した。冷却
した混合物を氷−水上に注ぎ、そして沈澱した生成物を
単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥した。
【0098】収量:1.1g(理論値の84%) 融点:208−210℃実施例12 1−シクロプロピル−7,8−ジフルオロ−5−トリフ
ルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キ
ノリンカルボン酸
【0099】
【化28】
【0100】a)(2,3,4−トリフルオロ−6−トリ
フルオロメチルベンゾイル)−マロン酸ジエチル 0.47g(0.019モル)のマグネシウム屑を最初に
1.0mlのエタノール中に加え、反応を2、3滴の四
塩化炭素を用いて開始しそして次に2.8g(0.016
モル)のマロン酸ジエチルの2.0mlのエタノールお
よび7.5mlのトルエン中溶液を内部温度が50〜6
0℃となるような方法で滴々添加した。次に混合物を引
き続き60℃において1時間撹拌した。4.8g(0.0
27モル)の実施例9に従う塩化2,3,4−トリフルオ
ロ−6−トリフルオロメチルベンゾイルの2.0mlの
トルエン中溶液を−10〜−5℃において滴々添加しそ
して混合物を引き続き0℃において1時間撹拌しそして
次に室温に暖めた。それを10mlの氷−水上に注ぎ、
1.25mlの濃塩酸を加えそして混合物をトルエンで
抽出した。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそ
して溶媒を真空中で除去した。
【0101】粗収量:6.6g b)(2,3,4−トリフルオロ−6−トリフルオロメチ
ルベンゾイル)−酢酸エチル 6.6gのa)で得られた粗製生成物を還流下で7.5m
lの水中で0.21gのp−トルエンスルホン酸と共に
4.5時間加熱した。冷却された混合物を塩化メチレン
で抽出しそして有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮し
た。
【0102】粗収量:4.2g c)3−エトキシ−2−(2,3,4−トリフルオロ−6
−トリフルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸エチル 4.0g(0.013モル)のb)で得られた生成物を
3.5g(0.024モル)のオルト蟻酸エチルおよび
3.4g(0.033モル)の無水酢酸と共に150−1
60℃に2時間加熱した。過剰の試薬を最初に真空中で
そして次に高真空中で100℃の浴温以下で除去した。
【0103】粗収量:2.7g d)3−シクロプロピルアミノ−2−(2,3,4−トリ
フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾイル)−アク
リル酸エチル 2.7g(7.3ミリモル)のc)で得られた生成物を最
初に0℃において16mlのエタノール中に加え、そし
て0.46g(8ミリモル)のシクロプロピルアミンを
滴々添加した。混合物を引き続き室温において一夜撹拌
し、16mlの水を滴々添加し、そして沈澱した生成物
を単離した。それを水ですすぎそして約100℃で乾燥
した。
【0104】収量:2.1g(理論値の75%) 融点:165−168℃ e)1−シクロプロピル−7,8−ジフルオロ−5−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸エチル 2.1g(5.5ミリモル)のd)で得られた生成物を
0.88g(6.4ミリモル)の炭酸カリウムと共に11
mlのジメチルホルムアミド中で1時間にわたり100
℃に加熱した。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そし
て生成物を単離しそして水ですすいだ。
【0105】収量:1.7g(理論値の85%) 融点:188−190℃ f)1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸 1.5g(4.2ミリモル)のe)で得られた生成物を、
5.5mlの酢酸、5.5mlの水および0.55mlの
濃硫酸の混合物中で、2時間にわたり140℃に加熱し
た。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そして沈澱した
生成物を単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥し
た。
【0106】収量:1.3g(理論値の92%) 融点:226−228℃実施例13 7−(4−アミノ−1,3,3a,4,7,7a−ヘキサヒド
ロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプロピル−8−
フルオロ−5−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
【0107】
【化29】
【0108】333mg(1ミリモル)の実施例12に
従う1−シクロプロピル−7,8−ジフルオロ−5−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸を一夜にわたり室温において16
5mg(1.2ミリモル)の4−アミノ−1,3,3a,
4,7,7a−ヘキサヒドロイソインドールおよび224
mg(2ミリモル)の1,4−ジアザビシクロ[2.2.
2]オクタンと共に10mlのジメチルスルホキシド中
で撹拌した。全ての揮発分を高真空下で除去し、そして
残渣をアセトニトリルと共に撹拌しそして100℃で乾
燥した。
【0109】収量:330mg(理論値の73%) 融点:248−249℃(分解を伴う)実施例14 7−(4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a
−ヘキサヒドロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプ
ロピル−8−フルオロ−5−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
【0110】
【化30】
【0111】実施例13と同様にして1−シクロプロピ
ル−7,8−ジフルオロ−5−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸と
4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a−ヘ
キサヒドロイソインドールとの反応により標記化合物が
得られた。
【0112】融点:242−244℃(分解を伴う)実施例15 7−(4−アミノ−1,3,3a,4,7,7a−ヘキサヒド
ロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプロピル−5−
フルオロ−8−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
【0113】
【化31】
【0114】実施例13と同様にして1−シクロプロピ
ル−5,7−ジフルオロ−8−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸と
4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a−ヘ
キサヒドロイソインドールとの反応により標記化合物が
得られた。
【0115】融点:238−240℃(分解を伴う)実施例16 7−(4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a
−ヘキサヒドロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプ
ロピル−5−フルオロ−8−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
【0116】
【化32】
【0117】実施例13と同様にして実施例11に従い
得られた1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8
−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
−3−キノリンカルボン酸と4−アミノ−7−メチル−
1,3,3a,4,7,7a−ヘキサヒドロイソインドール
との反応により標記化合物が得られた。
【0118】融点:234−236℃(分解を伴う)実施例17 7−(4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a
−ヘキサヒドロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプ
ロピル−8−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−
4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
【0119】
【化33】
【0120】315mg(1ミリモル)の実施例10に
従い得られた1−シクロプロピル−7−フルオロ−8−
トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−
3−キノリンカルボン酸を100℃において165mg
(1.2ミリモル)の4−アミノ−1,3,3a,4,7,7
a−ヘキサヒドロイソインドールおよび224mg(2
ミリモル)の1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタ
ンと共に10mlのジメチルスルホキシド中で2時間に
わたり撹拌した。全ての揮発分を高真空下で除去し、そ
して残渣をアセトニトリルと共に撹拌しそして100℃
で乾燥した。 収量:280mg(理論値の65%) 融点:168−170℃(分解を伴う)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−181251(JP,A) 特開 昭64−66180(JP,A) 特開 平2−178255(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(I) 【化1】 [式中、 Rはヒドロキシル、−OM、ハロゲンまたはC1−C4-
    アルコキシを表し、ここで Mはアルカリ金属を表し、そして a)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
    4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または b)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
    し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または c)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がHを表
    し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または d)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
    し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または e)R1がFを表し、R2がHを表し、R3がCF3を表
    し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または f)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
    4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または g)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
    し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または h)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
    4がCF3を表しそしてR5がFを表すか、または i)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
    4がCF3を表しそしてR5がHを表すか、または k)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
    し、R4がFを表しそしてR5がHを表すか、または l)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
    し、R4がHを表しそしてR5がFを表す]のフルオロ−
    トリフルオロメチル安息香酸誘導体類。
  2. 【請求項2】 式(IV) 【化2】 [式中、 a)R 1 がFを表し、R 2 がFを表し、R 3 がHを表し、
    4 がHを表しそしてR 5 がCF 3 を表すか、または b)R 1 がFを表し、R 2 がCF 3 を表し、R 3 がFを表
    し、R 4 がHを表しそしてR 5 がHを表すか、または c)R 1 がFを表し、R 2 がCF 3 を表し、R 3 がHを表
    し、R 4 がHを表しそしてR 5 がFを表すか、または d)R 1 がFを表し、R 2 がFを表し、R 3 がCF 3 を表
    し、R 4 がHを表しそしてR 5 がHを表すか、または e)R 1 がFを表し、R 2 がHを表し、R 3 がCF 3 を表
    し、R 4 がHを表しそしてR 5 がFを表すか、または f)R 1 がFを表し、R 2 がFを表し、R 3 がFを表し、
    4 がHを表しそしてR 5 がCF 3 を表すか、または g)R 1 がFを表し、R 2 がCF 3 を表し、R 3 がFを表
    し、R 4 がHを表しそしてR 5 がFを表すか、または h)R 1 がFを表し、R 2 がFを表し、R 3 がHを表し、
    4 がCF 3 を表しそしてR 5 がFを表すか、または i)R 1 がFを表し、R 2 がFを表し、R 3 がFを表し、
    4 がCF 3 を表しそしてR 5 がHを表すか、または k)R 1 がFを表し、R 2 がFを表し、R 3 がCF 3 を表
    し、R 4 がFを表しそしてR 5 がHを表すか、または l)R 1 がFを表し、R 2 がFを表し、R 3 がCF 3 を表
    し、R 4 がHを表しそしてR 5 がFを表す]のフルオロ−
    トリフルオロメチルベンゼン類を適宜希釈剤の存在下で
    −150〜30℃の温度においてアルキル金属化合物と
    反応させ、得られた式(II)の含金属フルオロ−トリ
    フルオロメチルベンゼン誘導体類と 【化3】 [式中、Mはアルカリ金属を表し、そしてR 1 、R 2 、R
    3 、R 4 およびR 5 は式(IV)に記載の意味を有する]
    二酸化炭素とを適宜希釈剤の存在下で−150〜50℃
    の温度で反応させ、次いで生成したR=OM(ここでM
    は請求項1に記載の意味を有する)である請求項1の、
    式(I)のアルカリ金属カルボン酸塩類と酸とを反応さ
    せることを特徴とするR=ヒドロキシルである請求項1
    に記載の式(I)のフルオロ−トリフルオロメチル安息
    香酸誘導体類の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項2記載された方法によりR=O
    HまたはOMである請求項1に記載の式(I)の化合物
    を製造し、得られた式(I)の化合物とハロゲン化剤と
    を適宜希釈剤の存在下で、0〜160℃の温度で更に反
    応させる、Rがハロゲンを表す請求項1に記載の
    (I)のフルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体
    類の製造方法。
  4. 【請求項4】a) 請求項2記載された方法により
    R=OHまたはOMである請求項1に記載の式(I)の
    化合物を製造し、得られた式(I)の化合物とハロゲン
    化剤とを適宜希釈剤の存在下で、0〜160℃の温度で
    更に反応させて、Rがハロゲンを表す請求項1に記載の
    式(I)の化合物を製造し、そして b) a)で得られたRがハロゲンを表す請求項1に記
    載の式(I)の化合物を適宜希釈剤の存在下でそして適
    宜酸−結合剤の存在下で20〜160℃の温度において
    式(III) 【化4】R6−OH (III) [式中、R6はC1−C4-アルキルを表す]のアルコール
    と更に反応させる工程による、R=C1−C4-アルコキ
    シである請求項1に記載の式(I)のフルオロ−トリフ
    ルオロメチル安息香酸誘導体類の製造方法。
  5. 【請求項5】 式 【化5】 [式中、 Mはアルカリ金属を表し、そして a)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
    4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または b)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
    し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または c)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がHを表
    し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または d)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
    し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または e)R1がFを表し、R2がHを表し、R3がCF3を表
    し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または f)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
    4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または g)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
    し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または h)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
    4がCF3を表しそしてR5がFを表すか、または i)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
    4がCF3を表しそしてR5がHを表すか、または k)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
    し、R4がFを表しそしてR5がHを表すか、または l)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
    し、R4がHを表しそしてR5がFを表す]の化合物。
JP01308594A 1993-01-19 1994-01-12 フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類 Expired - Fee Related JP3452081B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4301245A DE4301245A1 (de) 1993-01-19 1993-01-19 Fluor-trifluormethylbenzoesäure-Derivate
DE4301245.0 1993-01-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06256257A JPH06256257A (ja) 1994-09-13
JP3452081B2 true JP3452081B2 (ja) 2003-09-29

Family

ID=6478453

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP01308594A Expired - Fee Related JP3452081B2 (ja) 1993-01-19 1994-01-12 フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類

Country Status (4)

Country Link
US (2) US5493048A (ja)
EP (1) EP0607826B1 (ja)
JP (1) JP3452081B2 (ja)
DE (2) DE4301245A1 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0968994B1 (en) * 1996-08-19 2002-11-06 Ube Industries, Ltd. Process for producing substituted trifluorobenzoic acids and esters thereof
JP4669607B2 (ja) * 1997-09-15 2011-04-13 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 抗微生物キノロン類、その組成物およびその使用
JPWO2007021001A1 (ja) * 2005-08-18 2009-02-26 宇部興産株式会社 2,3,4−トリフルオロ−5−置換安息香酸化合物及びその製法
WO2007110836A1 (en) * 2006-03-28 2007-10-04 The Procter & Gamble Company A hydride reduction process for preparing quinolone intermediates
HRP20110558T1 (hr) * 2006-03-28 2011-09-30 Warner Chilcott Company Malatne soli i polimorfi od (3s, 5s)-7-[3-amino-5-metil-piperidinil]-1-ciklopropil-1, 4-dihidro-8-metoksi-4-okso-3-kinolinkarboksilne kiseline
US7456279B2 (en) * 2006-03-28 2008-11-25 The Procter & Gamble Company Coupling process for preparing quinolone intermediates
WO2009089310A1 (en) * 2008-01-11 2009-07-16 Dow Agrosciences Llc Process for the selective deprotonation and functionalization of 1-fluoro-2-substituted-3-chlorobenzenes
WO2009147068A1 (en) 2008-06-06 2009-12-10 F. Hoffmann-La Roche Ag Process for the preparation of halogenated benzoic acid derivatives
EP2371831B1 (en) 2008-12-25 2016-09-07 Nippon Soda Co., Ltd. Process for producing organolithium compound and process for producing substituted aromatic compound

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3985799A (en) * 1971-01-18 1976-10-12 Sandoz, Inc. 2-Fluoro-6-trifluoromethylbenzoic acid
US4780468A (en) * 1987-08-07 1988-10-25 Warner-Lambert Company 8-trifluoromethyl quinolones as antibacterial agents
US5194628A (en) * 1988-03-18 1993-03-16 Ciba-Geigy Corporation Process for the preparation of substituted difluorobenzo-1,3-dioxoles

Also Published As

Publication number Publication date
EP0607826A1 (de) 1994-07-27
JPH06256257A (ja) 1994-09-13
EP0607826B1 (de) 1997-05-07
DE59402621D1 (de) 1997-06-12
US5648567A (en) 1997-07-15
US5493048A (en) 1996-02-20
DE4301245A1 (de) 1994-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0916675B1 (en) Process for preparing sildenafil
KR100669823B1 (ko) 2-(4-클로로벤조일아미노)-3-[2(1h)-퀴놀리논-4-일]프로피온산의 제조방법 및 그 중간체
JPH07196621A (ja) 3−キノロンカルボン酸誘導体のワンポツト製造方法
KR950000642B1 (ko) 개선된 테트라플루오로벤조산의 제조 방법
JP3452081B2 (ja) フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類
EP1886998A1 (en) Purification process of montelukast and its amine salts
CA1333715C (en) Process for the preparation of quinolonecarboxylic acids
EP2066638B1 (en) Process for the purification of montelukast
US5659051A (en) Process of producing 2-cyano-4-oxo-4H-benzopyran compounds
RU2260000C2 (ru) Способ получения хинолилакрилонитрила и соответствующих промежуточных продуктов
JP2970923B2 (ja) o―カルボキシピリジル―およびo―カルボキシキノリルイミダゾリノンの改良製造法
KR100517632B1 (ko) 3-시아노-2,4-디할로게노-5-플루오로-벤조산의 제조방법
JPS6261948A (ja) テトラフルオロ安息香酸の改良された製法
EP1361215B1 (en) Process for producing quinoline carboxyaldehyde derivative and intermediate thereof
JPH0841029A (ja) 3−置換キノリン−5−カルボン酸誘導体およびその製造法
JP2886908B2 (ja) 3―クロロ―2,4,5―トリフルオロ安息香酸の改良合成方法
JP2000119221A (ja) (2,4,5−トリフルオロ−3−メトキシベンゾイル)酢酸エステル誘導体の製造方法及びその製造中間体
JP4148550B2 (ja) 5−アミノ−1−シクロプロピル−4−オキソキノリン−3−カルボン酸誘導体とその製造方法
EP0402561B1 (en) Process for the manufacture of anilinofumarate via chloromaleate or chlorofumarate or mixtures thereof
US5093515A (en) Fluorinated benzoyl compounds
JP2816855B2 (ja) ピリジン―2,3―ジカルボン酸誘導体の製造方法
EP0588372B1 (en) Process for preparing pyridine-2,3-dicarboxylic acid compounds
US7915418B2 (en) Intermediates and process for the production of optically active quinolonecarboxylic acid derivatives
JP2853929B2 (ja) 2−クロロ−4,5−ジフルオロ−3−メトキシ安息香酸の製造方法
KR890002639B1 (ko) 퀴놀린 유도체의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees